JP2022007884A - 紫外線吸収剤、組成物、成形体および積層体 - Google Patents
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
1または2または3個のナフタレン環と結合するトリアジン化合物である。
1または2または3個のナフタレン環と結合するトリアジン化合物である。
本発明の紫外線吸収剤は、トリアジン環に結合するナフタレン環の作用により、400nm未満の紫外線領域に加え400~420nm程度の可視光短波長領域の光を吸収できる。また、本発明の紫外線吸収剤は、従来よりも少量の添加で所望の波長吸収が可能になる予想外の効果を有している。また、少量で波長吸収が可能であるため添加量を抑制できるため、被膜や成形体の透明性を低下させない。透明性を改善する効果を有している。なお、ナフタレン環は、トリアジン環と連結基なしに直接結合することが好ましい。また、トリアジンに直接結合する1、2または3個のナフタレン環の内、少なくとも一つのナフタレン環の2位に水酸基を含むことがより好ましい。
R7は炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルケニル基、炭素数1~20のアルコシキ基、炭素数1~20のアルケニルオキシ基であり、水酸基、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、またはスルホ基の置換基を有してもよく、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルケニル基、炭素数1~20のアルコシキ基、炭素数1~20のアルケニルオキシ基の炭素原子と炭素原子の間が一つまたは複数の-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONH-、または-NHCO-で連結されていても良い。
Ar1は炭素数6~20のアリール基、炭素数6~20のアリールオキシ基、ビフェニル基であり、水酸基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルケニル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数1~20のアルコシキ基、炭素数1~20のアルケニルオキシ基、炭素数6~20のアリールオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、またはスルホ基の置換基を有してもよい。
また、一般式(2)~(3)中、R4、R5、R6は、水酸基、R7またはAr1である。
一般式(4-1)
一般式(4-2)
一般式(4-3)
ポリオレフィンは、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン-1、およびポリ-4-メチルペンテン、ならびにこれらの共重合体が挙げられる。
ポリエチレンは、例えば、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンが挙げられる。
ポリプロピレンは、例えば、結晶性または非晶性ポリプロピレンが挙げられる。
これらを用いた共重合体は、例えば、エチレン-プロピレンのランダム、ブロックあるいはグラフト共重合体、α-オレフィンとエチレンあるいはプロピレンの共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-アクリル酸メチル共重合体、エチレン-アクリル酸エチル共重合体およびエチレン-アクリル酸共重合体等が挙げられる。
これらの中でも結晶性または非晶性ポリプロピレン、エチレン-プロピレンのランダム、ブロックあるいはグラフト共重合体が好ましく、プロピレン-エチレンブロック共重合体がより好ましい。また安価で、比重が小さいために成形品を軽量化できる観点からはポリプロピレン系樹脂が好ましい。
ポリカーボネートは、2価のフェノールとカーボネート前駆体とを公知の方法で合成した化合物である。2価のフェノールは、例えば、ハイドロキノン、レゾルシノール、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4-ビドロキシフェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジブロモフェニル)プロパン、ビス(4-ビドロキシフェニル)サルファイド等が挙げられる。これらの中でビス(4-ビドロキシフェニル)アルカン系が好ましく、ビスフェノールAと称される2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンがより好ましい。
カーボネート前駆体は、例えば、ホスゲン、ジフェニルカーボネート、2価のフェノールのジハロホルメート等が挙げられる。この中でもジフェニルカーボネートが好ましい。
ポリアクリルは、メタクリル酸メチルおよび/またはメタクリル酸エチル等のモノマーおよび必要に応じて使用する他のモノマーを公知の方法で重合した化合物である。ポリアクリルは、例えば、エチレン-アクリル酸メチル共重合体、エチレン-アクリル酸エチル共重合体およびエチレン-アクリル酸共重合体等が挙げられる。前記モノマーの他に、例えば、ブタジエン、α-メチルスチレン、無水マレイン酸等のモノマーを加えて重合することもでき、モノマー量と分子量によって耐熱性、流動性、衝撃性を調整することができる。
ポリエステルは、分子の主鎖にエステル結合を有する樹脂であり、ジカルボン酸(その誘導体を含む)と、ジオール(2価アルコールまたは2価フェノール)とから合成した重縮合物;、ジカルボン酸(その誘導体を含む)と、環状エーテル化合物とから合成した重縮合物;、環状エーテル化合物の開環重合物等が挙げられる。ポリエステルは、ジカルボン酸とジオールでの重合体によるホモポリマー、複数の原料を使用するコポリマー、これらを混合するポリマーブレンド体が挙げられる。なお、ジカルボン酸の誘導体とは、酸無水物、エステル化物である。ジカルボン酸は、脂肪族および芳香族の2種類のジカルボン酸があるところ、耐熱性が向上する芳香族がより好ましい。
脂肪族ジカルボン酸は、例えば、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、コルク酸、マゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。
2価フェノールは、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノールA等が挙げられる。
環状エーテル化合物は、例えばエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等が挙げられる。
シクロオレフィン樹脂は、エチレン又はα-オレフィンと環状オレフィンとの重合体である。α-オレフィンはC4~C12のαオレフィンから誘導されるモノマーであり、例えば、1-ブテン、1-ペンテン、1-へキセン、3-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペンテン、3-エチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、4-メチル-1-へキセン、4,4-ジメチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ペンテン、4-エチル-1-へキセン、3-エチル-1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン等が挙げられる。環状オレフィンはノルボルネンから誘導されるモノマーであり、水素基、ハロゲン原子、1価又は2価の炭化水素基の置換物が挙げられる。これらの中でも無置換のノルボルネンが好ましい。
ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドでアセタール化して得られるポリビニルアセタール樹脂が好ましい。ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルブチラール樹脂より好ましい。ポリビニルブチラール樹脂は、例えば、ポリビニルアルコールとブチルアルデヒドを酸性条件化で反応させて合成できる。
マスターバッチは、例えば、紫外線吸収剤とポリオレフィンを溶融混練し、ペレタイザーを使用してペレット状に製造できる。なお、紫外線吸収剤の凝集を防ぐため、予め、紫外線吸収剤とワックスを溶融混練した分散体を作製した後、熱可塑性樹脂と共に、溶融混錬してマスターバッチを作製することが好ましい。ここで、分散体の作製は、ブレンドミキサーや3本ロールミルを用いることが好ましい。
液状マスターバッチは、紫外線吸収剤を液体樹脂に溶解もしくは分散させて得られる。
脂肪族多価カルボン酸と多価アルコールとの反応によって得られる樹脂である。
ポリエーテル樹脂は、アルキレンオキシ基の繰り返し単位を有する樹脂である。アルキレンオキシ基の炭素数は1~6が好ましい。ポリエーテル樹脂は、25℃における粘度が10,000mPa・s以下が好ましい。この粘度であれば、液状マスターバッチ用途の使用に適している。なお、アルキレンオキシ基の炭素数は、2~4が好ましい。これにより相溶性が向上する一方、吸水性を抑制できる。
ポリエーテルエステル樹脂は、脂肪族多価カルボン酸樹脂とアルキレングリコール樹脂とのエステル化合物である。
本発明の液状マスターバッチや、可塑剤分散液は樹脂型分散剤を含んでも良い。これにより、液状マスターバッチや可塑剤分散液中で、紫外線吸収剤がより均一に分散されるため、成形体はさらに高い透明性が得られる。また、樹脂型分散剤を含むことで、液状マスターバッチや可塑剤分散液の保存安定性が向上する。
液状マスターバッチは、紫外線吸収剤と液状樹脂を混合することで作製できる。なお、前記作製には、樹脂型分散剤を用いることが好ましい。前記混合は、例えば、ニーダー、2本ロールミル、3本ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、アニュラー型ビーズミル、またはアトライター等の装置を使用できる。
可塑剤分散液は、紫外線吸収剤と可塑剤を混合することで作製できる。なお、前記作製には、樹脂型分散剤を用いることが好ましい。前記混合は、前記「液状マスターバッチの製造方法」で説明した装置を使用できる。
粘着シートは、本発明の紫外線吸収剤を含むことで、バックライトや太陽光に含まれる紫外線や可視光の短波長領域の光を吸収し、目や人体への悪影響を抑制することやディスプレイの表示素子の劣化を抑制することができる。なお、シート、フィルムおよびテープは同義語である。
(C-1)ポリエチレン(サンテックLD M2270、MFR=7g/10min、旭化成ケミカルズ社製)
(C-2)ポリエチレン(ノバテックUJ790、MFR=50g/10min、日本ポリエチレン社製)
(C-3)ポリプロピレン(ノバテックPP FA3EB、MFR=10.5g/10min、日本ポリプロ社製)
(C-4)ポリプロピレン(プライムポリプロJ226T、MFR=20g/10min、プライムポリマー社製)
(E-1)ポリカーボネート(ユーピロンS3000、MFR=15g/10min、三菱エンジニアリングプラスチックス社製)
(E-2)ポリメタクリル樹脂(アクリペットMF、MFR=14g/10min、三菱レイヨン社製)
(E-3)ポリエステル(三井ペットSA135、三井化学社製)
(E-4)シクロオレフィン樹脂(TOPAS5013L-10、三井化学社製)
(E-5)ポリビニルブチラール樹脂(モビタールB20H、クラレ社製)
(B-1)ユニオールD-400(日油社製、ポリアルキレングリコール樹脂、ポリプロピレングリコール樹脂、数平均分子量400、粘度100mPa・s)
(B-2)アデカサイザーRS-107(ADEKA社製、エーテルエステル樹脂、アジピン酸エーテルエステル樹脂、数平均分子量430、粘度20mPa・s)
(B-3)アデカサイザーPN-6810(ADEKA社製、アセチルクエン酸トリブチル、数平均分子量190、粘度43mPa・s)
(B-4)アデカサイザーPN-250(ADEKA社製、脂肪族ポリエステル樹脂、アジピン酸ポリエステル樹脂、数平均分子量2100、粘度4,500mPa・s)
(G-1)トリエチレングリコール-ジ-2-エチルヘキサノエート
(G-2)トリエチレングリコール-ジ-n-ヘプタノエート
(樹脂型分散剤溶液(D-1)の製造)
不揮発分60%であるビックケミー・ジャパン社製のBYK-LPN6919に、BYK-LPN6919の不揮発分と同量の液体樹脂(B-2)を加え、100℃に加熱し減圧して溶剤を留去することにより、BYK-LPN6919の不揮発分/液体樹脂(B-2)=1/1の樹脂型分散剤溶液(D-1)を得た。
不揮発分40%であるビックケミー・ジャパン社製のDisperbyk-2000に、Disperbyk-2000の不揮発分と同量の液体樹脂(B-2)を加え、100℃に加熱し減圧して溶剤を留去することにより、Disperbyk-2000の不揮発分/液体樹脂(B-2)=1/1の樹脂型分散剤溶液(D-2)を得た。
300mL三角フラスコに、クロロベンゼンを170部、塩化シアヌルを43.4mmol、塩化アルミニウムを65.1mmol仕込み、撹拌して懸濁させた。次に、氷水で冷却しながら、2-ナフトールを151.8mmol、少しずつ添加した。その後、徐々に室温に戻しながら終夜撹拌した。一方、500mLビーカーに水を38.1部、35%塩酸を10.0部、メタノールを45.0部仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。さらに、メタノール45.0部を複数回に分けて三角フラスコに添加して洗浄しながら500mLビーカーに添加した。沈殿物をろ別し、水/メタノール=75部/75部の混合溶媒でふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水150部中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水150部でふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-1)を得た。
<測定条件>
装置:BRUKER AVANCE400
共振周波数:400MHz(1H-NMR)
溶媒:ジメチルスルホキシド-d8
1H-NMRの内部標準物質として、テトラメチルシランを用い、ケミカルシフト値はδ値(ppm)、カップリング定数はHertzで示した。またsはsinglet、dはdoublet、mはmultipletの略とする。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=12.05(s,3H),8.70(d,J=8.4Hz,3H),8.07(d,J=8.8Hz,3H),7.93(d,J=8.0Hz,3H),7.46-7.50(m,3H),7.38-7.42(m,3H),7.34(d,J=9.2Hz,3H)
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに1,3-ジヒドロキシナフタレンを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-2)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに6-ブロモ-2-ナフトールを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-3)を得た。
200mL三角フラスコに、N-メチル-2-ピロリドンを100g、紫外線吸収剤(A-1)を20.0mmol、炭酸カリウムを40.0mmol仕込み、撹拌しながら90℃まで加温した。次に、1-ヨードヘキサンを40.0mmol仕込み、90℃で4時間撹拌した。一方、1Lビーカーに水を500g仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。沈殿物をろ別し、水500gでふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水500g中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水500gでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-4)を得た。
200mL三角フラスコに、N-メチル-2-ピロリドンを100g、紫外線吸収剤(A-2)を20.0mmol、炭酸カリウムを60.0mmol仕込み、撹拌しながら90℃まで加温した。次に、1-ヨードブタンを60.0mmol仕込み、90℃で4時間撹拌した。一方、1Lビーカーに水を500g仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。沈殿物をろ別し、水500gでふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水500g中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水500gでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-5)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに6-ヒドロキシ-2-ナフトニトリルを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-6)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸を添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-7)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸メチルを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-8)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに2-ナフトール-6-スルホン酸ナトリウム水和物を添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-9)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸を添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-10)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸メチルを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-11)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに2,7-ジヒドロキシナフタレンを添加した以外は同様な方法で製造し、2,4,6-トリス(2,7-ジヒドロキシナフチル)-1,3,5-トリアジンを得た。
200mL三角フラスコに、N-メチル-2-ピロリドンを100g、2,4,6-トリス(2,7-ジヒドロキシナフチル)-1,3,5-トリアジンを20.0mmol、トリエチルアミンを60.0mmol仕込み、撹拌しながらアセチルクロリドを60.0mmol仕込み、室温で4時間撹拌した。一方、1Lビーカーに水を500g仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。沈殿物をろ別し、水500gでふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水500g中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水500gでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-12)を得た。
紫外線吸収剤(A-12)の製造において、アセチルクロリドの代わりにピバロイルクロリドを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-13)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに5-アセチル-2-ナフトールを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-14)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに3-ヒドロキシ-2-ナフトアニリドを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-15)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに3-ヒドロキシ-2’-メトキシ-2-ナフトアニリドを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-16)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに5’-クロロ-3-ヒドロキシ-2’-メチル-2-ナフトアニリドを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-17)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに5’-クロロ-3-ヒドロキシ-2’-メトキシ-2-ナフトアニリドを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-18)を得た。
紫外線吸収剤(A-1)の製造において、2-ナフトールの代わりに3-ヒドロキシ-3’-ニトロ-2-ナフトアニリドを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-19)を得た。
200mL三角フラスコに、N-メチル-2-ピロリドンを100部、紫外線吸収剤(A-1)を20.0mmol、トリエチルアミンを60.0mmol仕込み、撹拌しながら塩化アクリロイルを40.0mmol仕込み、室温で4時間撹拌した。一方、1Lビーカーに水を500部仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。沈殿物をろ別し、水500部でふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水500部中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水500部でふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-20)を得た。
200mL三角フラスコに、N-メチル-2-ピロリドンを100部、2-メタクリロイロキシエチルコハク酸(ライトエステルHO-MS(N)、共栄社化学製)を20.0mmol仕込み、氷冷しながら攪拌した。塩化チオニルを20mmol滴下し、氷冷しながら2時間攪拌した。その後、紫外線吸収剤(A-1)を20.0mmol仕込み、室温で4時間撹拌した。一方、1Lビーカーに水を500部仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。沈殿物をろ別し、水500部でふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水500部中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水500部でふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-21)を得た。
200mL三角フラスコに、N-メチル-2-ピロリドンを100部、2-メタクリロイロキシエチルコハク酸(ライトエステルHO-MS(N)、共栄社化学製)を40.0mmol仕込み、氷冷しながら攪拌した。塩化チオニルを40mmol滴下し、氷冷しながら2時間攪拌した。その後、紫外線吸収剤(A-1)を20.0mmol仕込み、室温で4時間撹拌した。一方、1Lビーカーに水を500部仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。沈殿物をろ別し、水500部でふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水500部中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水500部でふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-22)を得た。
紫外線吸収剤(A-22)の製造において、2-メタクリロイロキシエチルコハク酸(ライトエステルHO-MS(N)、共栄社化学製)の代わりにω―カルボキシーポリカプロラクトン(n≒2)モノアクリレート(アロニックスM-5300、東亜合成社製)を添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-23)を得た。
紫外線吸収剤(A-22)の製造において、2-メタクリロイロキシエチルコハク酸(ライトエステルHO-MS(N)、共栄社化学製)の代わりにフタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート(アロニックスM-5400、東亜合成社製)を添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-24)を得た。
300mL三角フラスコに、クロロベンゼンを170部、2-クロロ-4,6-ジ(ナフタレン-1-イル)-1,3,5-トリアジンを43.4mmol、塩化アルミニウムを65.1mmol仕込み、撹拌して懸濁させた。次に、氷水で冷却しながら、2-ナフトールを65.1mmol、少しずつ添加した。その後、徐々に室温に戻しながら終夜撹拌した。一方、500mLビーカーに水を38.1部、35%塩酸を10.0部、メタノールを45.0部仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。さらに、メタノール45.0部を複数回に分けて三角フラスコに添加して洗浄しながら500mLビーカーに添加した。沈殿物をろ別し、水/メタノール=75部/75部の混合溶媒でふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水150部中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水150部でふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-25)を得た。
300mL三角フラスコに、クロロベンゼンを170部、2,4-ジクロロ-6-フェニル-1,3,5-トリアジンを43.4mmol、塩化アルミニウムを65.1mmol仕込み、撹拌して懸濁させた。次に、氷水で冷却しながら、2-ナフトールを108.5mmol、少しずつ添加した。その後、徐々に室温に戻しながら終夜撹拌した。一方、500mLビーカーに水を38.1部、35%塩酸を10.0部、メタノールを45.0部仕込み、先の反応液を少しずつ滴下した。さらに、メタノール45.0部を複数回に分けて三角フラスコに添加して洗浄しながら500mLビーカーに添加した。沈殿物をろ別し、水/メタノール=75部/75部の混合溶媒でふりかけ洗浄した。得られたウエットケーキを水150部中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、水150部でふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-26)を得た。
紫外線吸収剤(A-26)の製造において、2,4-ジクロロ-6-フェニル-1,3,5-トリアジンの代わりに2-(4-ビフェニリル)-4,6-ジクロロ-1,3,5-トリアジンを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-27)を得た。
紫外線吸収剤(A-25)の製造において、2-クロロ-4,6-ジ(ナフタレン-1-イル)-1,3,5-トリアジンの代わりに2-クロロ-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジンを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-28-1)を得た。
500mL三角フラスコに、2-ヒドロキシ-1-ナフトエ酸メチルを420mmоl仕込み、撹拌しながら90℃まで加温した。次に、ベンゾアミジン塩酸塩を128mmоl、ナトリウムメチラートの30%溶液を26部仕込み、90℃で22時間攪拌した。このあと、メタノールを200部仕込み、室温まで冷却し、ろ過した。得られたウエットケーキをメタノール150部中に戻して室温で30分リスラリーを行い、ろ別した。その後、メタノール150部でふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを80℃で終夜乾燥し、紫外線吸収剤(A-28-2)を得た。なお、紫外線吸収剤(A-28-2)は、紫外線吸収剤(A-28-1)と異なる合成経路で同じ化合物を合成した。
紫外線吸収剤(A-28-2)の製造において、ベンゾアミジン塩酸塩の代わりにp-メチルベンゾアミジン塩酸塩を添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-29)を得た。
紫外線吸収剤(A-28-2)の製造において、ベンゾアミジン塩酸塩の代わりにp-ブトキシベンゾアミジン塩酸塩を添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-30)を得た。
紫外線吸収剤(A-25)の製造において、2-クロロ-4,6-ジ(ナフタレン-1-イル)-1,3,5-トリアジンの代わりに2-クロロ-4,6-ジメトキシ-1,3,5-トリアジンを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-31)を得た。
紫外線吸収剤(A-25)の製造において、2-クロロ-4,6-ジ(ナフタレン-1-イル)-1,3,5-トリアジンの代わりに2,4-ビス[4-(tert-ブチル)フ
ェニル]-6-クロロ-1,3,5-トリアジンを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-32)を得た。
紫外線吸収剤(A-25)の製造において、2-クロロ-4,6-ジ(ナフタレン-1-イル)-1,3,5-トリアジンの代わりに2-([1,1’-ビフェニル]-4-イル)-4-クロロ-6-フェニル-1,3,5-トリアジンを添加した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収剤(A-33)を得た。
(実施例1-1)
実施例1-1の紫外線吸収剤(A-1)1部、テトラヒドロフラン1000部を混合し、完全に溶解させた。続いて先の溶解液1部、テトラヒドロフラン99部を均一に混合し、濃度10ppmの溶液を調整した。
装置:U-3500(日立製作所社製)
測定波長:260~700nm
溶媒:テトラヒドロフラン
濃度:表1に記載
◎:波長400~420nmの吸光度が全領域にわたって0.3以上
〇:波長400~420nmの吸光度が一部0.3以上、その他が0.3未満
△:波長400~420nmの吸光度が一部0.1以上0.3未満、その他0.1未満
×:波長400~420nmの吸光度が全領域にわたって0.1未満
[マスターバッチの製造]
紫外線吸収剤(A-1)2部とポリオレフィン(C-1)100質量部とを同じ供給口からスクリュー径30mmの二軸押出機(日本製鋼所社製)に投入し、240℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングしてマスターバッチを作製した。
得られたマスターバッチ10質量部と、希釈樹脂としてポリオレフィン(C-1)100質量部を混合した。次いで、T-ダイ成形機(東洋精機社製)を用いて、温度180℃で溶融混合し成形を行い厚さ250μmのフィルムを得た。
実施例2-1の材料を表2に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例2-1と同様にしてマスターバッチを製造し、次いで実施例2-2~2-38、比較例2-1~2-6のフィルムをそれぞれ製造した。
得られたフィルムの透過率を、紫外可視近赤外分光光度計(島津製作所社製)を用いて測定し、以下の条件を満たすか否かを評価した。
◎:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって1%未満:良好
〇:波長400~420nmの光透過率が一部1%未満、その他が1%以上:実用域
△:波長400~420nmの光透過率が一部1%以上10%未満、その他が20%以上:実用不可
×:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって10%以上:実用不可
得られたフィルムの透明性を目視評価した。評価基準は以下の通りである。
○:濁りが全く認められない。良好
△:濁りが若干認められる。実用域
×:明らかに濁りが認められる。実用不可
得られたフィルムをキセノンウェザーメーターで、300~400nmが60W/m2の照度で100時間暴露した。
〇:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%未満
△:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%以上、20%未満
×:極大吸収波長の吸光度の減少率が20%以上
(マスターバッチの製造)
ポリカーボネート(E-1)100部と紫外線吸収剤(A-1)2部とを同じ供給口からスクリュー径30mmの二軸押出機(日本製鋼所社製)に投入し、280℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして組成物(マスターバッチ)
を作製した。
(フィルム成形)
希釈樹脂のポリカーボネート(E-1)100部に対して、得られた組成物10部を混合し、T-ダイ成形機(東洋精機製)を用いて、温度280℃で溶融混合し、厚さ250μmのフィルムを成形した。
実施例3-1の材料を表3-1に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例3-1と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例3-2~3-8、比較例3-1~3-6のフィルムをそれぞれ製造した。
(マスターバッチの製造)
ポリメタクリル樹脂(E-2)100部と紫外線吸収剤(A-1)2部とを同じ供給口からスクリュー径30mmの二軸押出機(日本製鋼所社製)に投入し、240℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして組成物(マスターバッチ)を作製した。
(フィルム成形)
希釈樹脂のメタクリル樹脂(E-2)100部に対して、得られた組成物10部を混合し、T-ダイ成形機(東洋精機製)を用いて、温度280℃で溶融混合し、厚さ250μmのT-ダイフィルムを成形した。
実施例3-9の材料を表3-1に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例3-9と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例3-10~3-16のフィルムをそれぞれ製造した。
(マスターバッチの製造)
ポリエステル(E-3)100部と紫外線吸収剤(A-1)2部とを同じ供給口からスクリュー径30mmの二軸押出機(日本製鋼所社製)に投入し、280℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして組成物(マスターバッチ)を作製した。
(フィルム成形)
希釈樹脂のポリエステル(E-3)100部に対して、得られた組成物10部を混合し、T-ダイ成形機(東洋精機製)を用いて、温度280℃で溶融混合し、厚さ250μmのフィルムを成形した。
実施例3-17の材料を表3-1に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例3-17と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例3-18~3-24のフィルムをそれぞれ製造した。
(マスターバッチの製造)
シクロオレフィン樹脂(E-4)100部と紫外線吸収剤(A-1)2部とを同じ供給口からスクリュー径30mmの二軸押出機(日本製鋼所社製)に投入し、240℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして組成物(マスターバッチ)を作製した。
(フィルム成形)
希釈樹脂のシクロオレフィン樹脂(E-4)100部に対して、得られた組成物10部を
混合し、T-ダイ成形機(東洋精機製)を用いて、温度280℃で溶融混合し、厚さ250μmのT-ダイフィルムを成形した。
実施例3-25の材料を表3-1に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例3-25と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例3-26~3-32のフィルムをそれぞれ製造した。
(マスターバッチの製造)
ポリビニルブチラール樹脂(E-5)100部と紫外線吸収剤(A-1)2部とを同じ供給口からスクリュー径30mmの二軸押出機(日本製鋼所社製)に投入し、240℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして組成物(マスターバッチ)を作製した。
(フィルム成形)
希釈樹脂のポリビニルブチラール樹脂(E-5)100部に対して、得られた組成物10部を混合し、T-ダイ成形機(東洋精機製)を用いて、温度280℃で溶融混合し、厚さ250μmのT-ダイフィルムを成形した。
実施例3-33の材料を表3-1に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例3-25と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例3-34~3-40のフィルムをそれぞれ製造した。
(液状マスターバッチの製造)
紫外線吸収剤(A-1)10部と液体樹脂(B-1)90部とをロールで混錬することにより、液状マスターバッチを作製した。
(フィルム成形)
希釈樹脂のポリカーボネート(E-1)98部に対して、得られた液状マスターバッチ2部を混合し、T-ダイ成形機(東洋精機製)を用いて、温度280℃で溶融混合し、厚さ250μmのT-ダイフィルムを成形した。
実施例3-41と同様に、表3-2記載の材料を用いて、液状マスターバッチを製造し、次いで実施例3-42~3-82のフィルムをそれぞれ製造した。
(可塑剤分散液の製造)
紫外線吸収剤(A-1)10部と可塑剤(G-1)90部とをビーズ分散することにより、可塑剤分散液を作製した。
(フィルム成形)
希釈樹脂のポリカーボネート(E-1)98部に対して、得られた可塑剤分散液2部を混合し、T-ダイ成形機(東洋精機製)を用いて、温度280℃で溶融混合し、厚さ250μmのT-ダイフィルムを成形した。
実施例3-83と同様に、表3-3記載の材料を用いて、可塑剤分散液を製造し、次いで実施例3-84~3-122のフィルムをそれぞれ製造した。
得られたフィルムの透過率を、紫外可視近赤外分光光度計(島津製作所社製)を用いて測定し、以下の条件を満たすか否かを評価した。
◎:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって1%未満:良好
〇:波長400~420nmの光透過率が一部1%未満、その他が1%以上:実用域
△:波長400~420nmの光透過率が一部1%以上10%未満、その他が20%以上:実用不可
×:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって10%以上:実用不可
得られたフィルムの透明性を目視評価した。なお評価基準は以下の通りである。
○:濁りが全く認められない。良好
△:濁りが若干認められる。実用域
×:明らかに濁りが認められる。実用不可
得られたフィルムをキセノンウェザーメーターで、300~400nmが60W/m2の照度で100時間暴露した。
〇:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%未満
△:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%以上、20%未満
×:極大吸収波長の吸光度の減少率が20%以上
得られたフィルムに対し、ヘーズメーターでヘーズ値を測定し、下記基準で評価した。
◎+:0.2未満 極めて良好
◎ :0.2以上0.5未満 非常に良好
〇 :0.5以上2未満 良好
△ :2以上5未満 良好
× :5以上 実用不可
攪拌機、還流冷却機、窒素導入管、温度計、滴下管を備えた反応装置を使用して、窒素雰囲気下にてn-ブチルアクリレート96.0部と、2-ヒドロキシルエチルアクリレート4.0部の合計量のうちの50%、及び重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチルニトリルを0.2部、溶剤として酢酸エチルを150部反応槽に仕込み、前記合計量の残りの50%と適量の酢酸エチルを滴下槽に仕込んだ。次いで、加熱を開始して反応槽内での反応開始を確認してから、還流下、滴下管の内容物、及び0.01部の2,2’-アゾビスイソブチルニトリルの酢酸エチル希釈液を滴下した。滴下終了後、還流状態を維持したまま5時間反応を行った。反応終了後、冷却し、適量の酢酸エチルを添加することで、アクリル系樹脂である粘着性樹脂の製造例F-1を得た。得られた製造例F-1の粘着剤樹脂の重量平均分子量は50万、不揮発分は40%、粘度は3,200mPa・sであった。
攪拌機、還流冷却機、窒素導入管、温度計、滴下管を備えた反応装置を使用して、窒素雰囲気下にてn-ブチルアクリレート96.0部と、アクリル酸4.0部の合計量のうちの50%、及び重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチルニトリルを0.2部、溶剤として酢酸エチルを150部反応槽に仕込み、前記合計量の残りの50%と適量の酢酸エチルを滴下槽に仕込んだ。次いで、加熱を開始して反応槽内での反応開始を確認してから、還流下、滴下管の内容物、及び0.01部の2,2’-アゾビスイソブチルニトリルの酢酸エチル希釈液を滴下した。滴下終了後、還流状態を維持したまま5時間反応を行った。反応終了後、冷却し、適量の酢酸エチルを添加することで、アクリル系樹脂である粘着性樹脂の製造例F-2を得た。得られた製造例F-2の粘着剤樹脂の重量平均分子量は60万、不揮発分は40%、粘度は4,000mPa・sであった。
粘着性樹脂として、製造例F-1の粘着性樹脂の不揮発分100部に対して、紫外線吸収剤(A-1)0.2部を混合し、シランカップリング剤としてKBM-403(信越化学工業製)を0.1部、硬化剤としてトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体(略号:TDI-TMP、NCO価=13.2、不揮発分=75%)を0.4部加え、よく攪拌し粘着剤を得た。その後、この粘着剤を厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート基材の剥離フィルム上に、乾燥後の厚みが50μmになるように塗布し、100℃の熱風オーブンで2分間乾燥させた。そして、粘着剤層側に25μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを貼り合せ、この状態で室温にて7日間エージングさせ、粘着シートを得た。
表4に示すように、実施例4-1と同様に調整して、それぞれ実施例4-2~4-7、比較例4-1~4-2の粘着シートを得た。
(1)粘着力
得られた粘着シートを幅25mm・縦150mmの大きさに準備した。23℃、相対湿度50%雰囲気下、前記粘着シートから剥離性フィルムを剥がして露出した粘着剤層をガラス板に貼り付け、2kgロールで1往復圧着した。24時間放置した後に引張試験機を用いて180度方向に300mm/分の速度で引き剥がす180°ピール試験において粘着力を測定し、下記の評価基準に基づいて評価を行った。(JISZ0237:2000に準拠)
○:「粘着力が10N以上であり、良好。」
×:「粘着力が10N未満であり、実用不可。」
得られた粘着シートを幅25mm・縦150mmの大きさに準備した。JISZ0237:2000に準拠して前記粘着シートから剥離性シートを剥がして、研磨した幅30mm・縦150mmのステンレス板の下端部幅25mm・横25mmの部分に粘着剤層を貼着し、2kgロールで1往復圧着した後、40℃雰囲気で1kgの荷重をかけ、7万秒放置することで保持力を測定した。評価は、粘着シート貼付面上端部が下にずれた長さを測定した。
評価基準
○:「粘着シートのずれた長さが0.5mm未満である。良好。」
×:「粘着シートのずれた長さが0.5mm以上である。実用不可。」
得られた粘着シートの透過率を、紫外可視近赤外分光光度計(島津製作所社製)を用いて測定し、以下の条件を満たすか否かを評価した。
◎:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって1%未満:良好
〇:波長400~420nmの光透過率が一部1%未満、その他が1%以上:実用域
△:波長400~420nmの光透過率が一部1%以上10%未満、その他が20%以上:実用不可
×:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって10%以上:実用不可
得られた粘着シートの透明性を目視評価した。なお評価基準は以下の通りである。
○:濁りが全く認められない。良好
△:濁りが若干認められる。実用域
×:明らかに濁りが認められる。実用不可
得られた粘着シートをキセノンウェザーメーターで、300~400nmが60W/m2の照度で100時間暴露した。
〇:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%未満
△:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%以上、20%未満
×:極大吸収波長の吸光度の減少率が20%以上
(実施例5-1)
以下の組成で、撹拌混合を行い塗料を調整した。
紫外線吸収剤(A-1) 0.2部
ポリエステル(バイロンGK250、東洋紡社製) 9.0部
メチルエチルケトン 90.0部
表5に示すように、実施例5-1と同様に調整し、それぞれ実施例5-2~5-7、比較
例5-1~5-2の塗料を得た。
得られた塗料を厚さ1000μmのガラス基板にバーコーターを用いて乾燥膜厚で6μmとなるよう塗布し、100℃2分で乾燥させて塗膜を形成した。
(塗工物の評価)
得られた塗工物を、以下の方法で評価した。
得られた塗工物の透過率を、紫外可視近赤外分光光度計(島津製作所社製)を用いて測定し、以下の条件を満たすか否かを評価した。
◎:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって1%未満:良好
〇:波長400~420nmの光透過率が一部1%未満、その他が1%以上:実用域
△:波長400~420nmの光透過率が一部1%以上10%未満、その他が20%以上:実用不可
×:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって10%以上:実用不可
得られた塗工物の透明性を目視評価した。なお評価基準は以下の通りである。
○:濁りが全く認められない。良好
△:濁りが若干認められる。実用域
×:明らかに濁りが認められる。実用不可
得られた塗工物をキセノンウェザーメーターで、300~400nmが60W/m2の照度で100時間暴露した。
〇:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%未満
△:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%以上、20%未満
×:極大吸収波長の吸光度の減少率が20%以上
(実施例6-1)
以下の組成で、各原料を撹拌混合し、光硬化性組成物を調整した。
紫外線吸収剤(A-1) 1.0部
光重合性化合物(多官能アクリレート「KAYARADDPHA」日本化薬社製)
18.0部
光重合開始剤(IGM ResinBV製「Omnirad184」)
1.0部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 80.0部
表6に示すように、実施例6-1と同様に調整し、それぞれ実施例6-2~6-11、比較例6-1~6-2の光硬化性組成物を得た。
上記の光硬化性組成物をバーコーターを用いて厚さ1mmのガラス基板に乾燥膜厚で6μmとなるよう塗布した。得られた塗布層を、100℃1分で乾燥したのち、高圧水銀ランプで400mJ/cm2の紫外線を照射して硬化し塗工物を作製した。
(塗工物の評価)
得られた塗工物を、以下の方法で評価した。
得られた塗工物の透過率を、紫外可視近赤外分光光度計(島津製作所社製)を用いて測定し、以下の条件を満たすか否かを評価した。
◎:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって1%未満:良好
〇:波長400~420nmの光透過率が一部1%未満、その他が1%以上:実用域
△:波長400~420nmの光透過率が一部1%以上10%未満、その他が20%以上:実用不可
×:波長400~420nmの光透過率が全領域にわたって10%以上:実用不可
得られた塗工物の透明性を目視評価した。なお評価基準は以下の通りである。
○:濁りが全く認められない。良好
△:濁りが若干認められる。実用域
×:明らかに濁りが認められる。実用不可
塗工物を学振試験機にセットし、スチールウールを用いて、荷重250gで10回学振させた。取り出した塗工物について、キズのつき具合を以下の5段階の目視評価に従って判断した。数値が大きいほど、硬化膜の耐擦傷性が良好であることを示す。
5:キズが全くない。
4:僅かにキズが付いている。
3:キズは付いているが、基材は見えていない。
2:キズが付き、一部硬化膜が剥がれている。
1:硬化膜が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態。
JIS-K5600に準拠し、鉛筆硬度試験機(HEIDON社製ScratchingTester HEIDON-14)を用い、鉛筆の芯の硬さを種々変えて、塗工物の硬化膜に対して荷重500gにて5回試験をした。5回中、1回も傷がつかない、もしくは1回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その硬化膜の鉛筆硬度とした。評価基準は以下の通りである。
A:2H以上。
B:H。
C:Hより低い。
得られた塗工物をキセノンウェザーメーターで、300~400nmが60W/m2の照度で100時間暴露した。
〇:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%未満
△:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%以上、20%未満
×:極大吸収波長の吸光度の減少率が20%以上
Claims (8)
- 400nm未満の紫外線領域および400~420nmの可視光短波長領域の光を吸収する紫外線吸収剤であって、1、2または3個のナフタレン環と結合するトリアジン化合物である、紫外線吸収剤。
- トリアジンに直接結合する1、2または3個のナフタレン環の内、少なくとも一つのナフタレン環の2位に水酸基を有する、請求項1記載の紫外線吸収剤。
- 下記一般式(1)、一般式(2)および一般式(3)からなる群より選択される化合物である、請求項2記載の紫外線吸収剤。
(一般式(1)~(3)中、R1b~R1g、R2a~R2g、R3a~R3gは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトリル基、ニトロ基、スルホ基、R7、Ar1、下記一般式(4-1)~(4-3)で示す基である。
R7は炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルケニル基、炭素数1~20のアルコシキ基、炭素数1~20のアルケニルオキシ基であり、水酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、またはスルホ基の置換基を有してもよく、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルケニル基、炭素数1~20のアルコシキ基、炭素数1~20のアルケニルオキシ基の炭素原子と炭素原子の間が一つまたは複数の-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONH-、または-NHCO-で連結されていても良い。
Ar1は炭素数6~20のアリール基、炭素数6~20のアリールオキシ基、ビフェニル基であり、水酸基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルケニル基、炭素
数6~20のアリール基、炭素数1~20のアルコシキ基、炭素数1~20のアルケニルオキシ基、炭素数6~20のアリールオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、またはスルホ基の置換基を有してもよい。
また、一般式(2)~(3)中、R4、R5、R6は、水酸基、R7またはAr1である。
一般式(4-1)
一般式(4-1)中、X1は-CO-、-COO-、-OCO-、-CONH-、または-NHCO-である。R8は、水素原子、水酸基、R7またはAr1である。ただし、一般式(4-1)中の*は、一般式(1)~(3)のナフタレン環との結合部位を表す。
一般式(4-2)
一般式(4-2)中、X2、X3はそれぞれ独立して-CO-、-COO-、-OCO-
、-CONH-、または-NHCO-である。R9は炭素数6~20のアリーレン基である。R10はR7またはAr1である。ただし、一般式(4-2)中の*は、一般式(1)~(3)のナフタレン環との結合部位を表す。
一般式(4-3)
一般式(4-3)中、X4、X5はそれぞれ独立して-CO-、-COO-、-OCO-、-CONH-、または-NHCO-である。R11は直鎖または分岐鎖状の炭素数1~20のアルキレン基、または炭素数6~20のアリーレン基である。R12はR7またはAr1である。nは1~20である。ただし、一般式(4-3)中の*は、一般式(1)~(3)のナフタレン環との結合部位を表す。) - 請求項1~3いずれか1項に記載の紫外線吸収剤、および樹脂を含む、組成物。
- 前記樹脂が熱可塑性樹脂である、請求項4記載の組成物。
- 請求項4または5に記載の組成物を含む、成形体。
- 請求項1~3いずれか1項に記載の紫外線吸収剤、光重合性化合物および光重合開始剤を含む、組成物。
- 基材、および請求項4、5または7に記載の組成物から形成されてなる紫外線吸収層を備える、積層体。
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