JP2021534008A - 研削機/研磨機のスプラッシュガード、及びスプラッシュガードを有する研削機/研磨機 - Google Patents

研削機/研磨機のスプラッシュガード、及びスプラッシュガードを有する研削機/研磨機 Download PDF

Info

Publication number
JP2021534008A
JP2021534008A JP2021507832A JP2021507832A JP2021534008A JP 2021534008 A JP2021534008 A JP 2021534008A JP 2021507832 A JP2021507832 A JP 2021507832A JP 2021507832 A JP2021507832 A JP 2021507832A JP 2021534008 A JP2021534008 A JP 2021534008A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
splash guard
wall
grinding machine
platen
rib
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021507832A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7344278B2 (ja
Inventor
ネルソン カルビン
シソウスキー スタニスロー
Original Assignee
イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド filed Critical イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド
Publication of JP2021534008A publication Critical patent/JP2021534008A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7344278B2 publication Critical patent/JP7344278B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B55/00Safety devices for grinding or polishing machines; Accessories fitted to grinding or polishing machines for keeping tools or parts of the machine in good working condition
    • B24B55/04Protective covers for the grinding wheel
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B11/00Machines or devices designed for grinding spherical surfaces or parts of spherical surfaces on work; Accessories therefor
    • B24B11/02Machines or devices designed for grinding spherical surfaces or parts of spherical surfaces on work; Accessories therefor for grinding balls
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/34Accessories
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/02Frames; Beds; Carriages

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Abstract

研削/研磨動作中の飛散を防止するために、基部と、ボウルと、外縁部を有するプラテンとを有する研削機/研磨機のためのスプラッシュガードから成る装置及びシステムが開示される。スプラッシュガードは、内側壁と、下部リブと、外側壁と、上部リブとを含む。下部リブは、プラテンとスプラッシュガードとの間に操作者の手が挟まらないように、プラテンの外縁部から少なくとも2.5センチメートル離れた内縁部を有する。スプラッシュガードは、上部リブ、外側壁、及び下部リブによって形成される凹部も有することができ、上部リブの内縁部の少なくとも一部は、下部リブの内縁部よりも内方に突出する。

Description

[関連出願の相互参照]
本願は、2018年8月14日付けで出願された米国仮特許出願第62/718,776号及び2019年8月12日付けで出願された米国特許出願第16/538,305号を引用することによりその全体が本明細書の一部をなす。
本開示は、研削機/研磨機のスプラッシュガードに関する。より詳細には、本開示は、研削機/研磨機の動作中に流体の飛散を最小にする、改善されたスプラッシュガードに関する。
実質的に図面のうちの少なくとも1つに示すとともに、これに関連して記載するように、特許請求の範囲においてより完全に記載するように、研削機/研磨機のスプラッシュガード、及びスプラッシュガードを有する研削機/研磨機が開示される。
本開示の態様に係るスプラッシュガードを備える一例示の研削機/研磨機の斜視図である。 頭部が基部から僅かに離れるように回転した状態の図1に例示する研削機/研磨機の正面図である。 図1の例示の研削機/研磨機の側面図である。 プラテンとD字形状の基部とスプラッシュガードとを示す図1に例示する研削機/研磨機の上面図であり、また、研削機/研磨機は、頭部が基部から僅かに離れるように回転した状態で示される。 図1の例示の駆動板の拡大図である。 プラテンへのアクセスを図示するために操作者の手とともに示す図1の例示のプラテンの拡大図である。 図1の例示のスプラッシュガードの斜視図である。 図1の例示のスプラッシュガードの切り欠き斜視図である。 研削機/研磨機のD字形状の基部及びボウルとの係合位置で示す図1の例示のスプラッシュガードの切り欠き斜視図である。
図面は必ずしも縮尺通りではない。適宜、同様又は同一の部品を指示するために同様又は同一の参照符号を使用する。
基部と、ボウルと、外縁部を有するプラテンとを有する研削機/研磨機の改善されたスプラッシュガードの例を開示する。開示する例示のスプラッシュガードは、研削/研磨動作による飛散を削減し、及び/又は、研削機/研磨機のプラテンとスプラッシュガードとの間に操作者の手が挟まり得る潜在的なピンチポイントを消去する。
開示する例示のスプラッシュガードは、第1の端部と第2の端部とを有するとともに、第1の端部が基部から延在するとともにボウルを包囲するように、基部に係合するように構成された内側壁を有する。開示する例示のスプラッシュガードは、内縁部と外縁部とを有するとともに、内側壁の第2の端部から延在する下部リブも有する。開示する例示のスプラッシュガードは、第1の端部と第2の端部とを有する外側壁であって、外側壁の第1の端部が下部リブの外縁部の近くにあるように下部リブの外縁部から延在する、外側壁を更に有する。開示する例示のスプラッシュガードは、内縁部と外縁部とを有する上部リブであって、上部リブの外縁部が外側壁の第2の端部の近くにあるように外側壁の第2の端部から延在する上部リブも有する。開示の例では、下部リブの内縁部は、プラテンの外縁部から少なくとも2.5センチメートル離隔している。
開示する例示のスプラッシュガードは、上部リブ、外側壁、及び下部リブによって形成される凹部を更に有することができる。上部リブの内縁部の少なくとも一部は、下部リブの内縁部よりもプラテンに向けて内方に延在する。いくつかの例では、下部リブの内縁部は、プラテンと実質的に同心円状である円形を形成する。他の例では、内側壁、外側壁、又は上部リブはD字形状を形成する。更なる例では、下部リブは、ボウルの上部リップに静置されるように構成される。いくつかの例では、外側壁は、高さ1.2センチメートル〜6.4センチメートルである。他の例では、下部リブの内縁部は、プラテンの外縁部から2.5センチメートル〜5.1センチメートル離隔している。更なる例では、外側壁は、ボウルの円周よりも大きい円周を有する。いくつかの例では、外側壁は、プラテンに向けて内方に傾斜する。更なる例では、スプラッシュガードは、弾性材料から作製される。
開示する例示の研削機/研磨機システムは、ボウルを有する基部と、外縁部を有するとともに、ボウルの近くに位置決めされるプラテンと、基部から延在するとともにボウルを包囲するスプラッシュガードとを備える。研削機/研磨機システムの開示する例示のスプラッシュガードは、第1の端部と第2の端部とを有するとともに、第1の端部が基部から延在するとともにボウルを包囲するように、基部に係合するように構成された内側壁を有する。研削機/研磨機システムの開示する例示のスプラッシュガードは、内縁部と外縁部とを有するとともに、内側壁の第2の端部から延在する下部リブも有する。研削機/研磨機システムの開示する例示のスプラッシュガードは、第1の端部と第2の端部とを有する外側壁であって、外側壁の第1の端部が下部リブの外縁部の近くにあるように下部リブの外縁部から延在する、外側壁を更に有する。研削機/研磨機システムの開示する例示のスプラッシュガードは、内縁部と外縁部とを有する上部リブであって、上部リブの外縁部が外側壁の第2の端部の近くにあるように外側壁の第2の端部から延在する、上部リブも有する。開示する例示の研削機/研磨機システムでは、下部リブの内縁部は、プラテンの外縁部から少なくとも2.5センチメートル離隔している。
研削機/研磨機システムの開示するスプラッシュガードは、上部リブ、外側壁、及び下部リブによって形成される凹部を更に有することができる。上部リブの内縁部の少なくとも一部は、下部リブの内縁部よりもプラテンに向けて内方に延在する。研削機/研磨機システムのスプラッシュガードのいくつかの例では、下部リブの内縁部は、プラテンと実質的に同心円状である円形を形成する。研削機/研磨機システムのスプラッシュガードの他の例では、内側壁、外側壁、又は上部リブはD字形状を形成する。研削機/研磨機システムのスプラッシュガードの更なる例では、下部リブは、ボウルの上部リップに静置されるように構成される。研削機/研磨機システムのスプラッシュガードのいくつかの例では、外側壁は、高さ1.2センチメートル〜6.4センチメートルである。研削機/研磨機システムのスプラッシュガードの他の例では、下部リブの内縁部は、プラテンの外縁部から2.5センチメートル〜5.1センチメートル離隔している。研削機/研磨機システムのスプラッシュガードの更なる例では、外側壁は、ボウルの円周よりも大きい円周を有する。研削機/研磨機システムのスプラッシュガードのいくつかの例では、スプラッシュガードは、弾性材料から作製される。いくつかの例では、研削機/研磨機システムのスプラッシュガードは、研削機研磨機の基部から取り外し可能である。
図1〜図4は、研削機/研磨機10に取り付けられた、改善されたスプラッシュガード100の例を示している。研削機/研磨機10は、概して、基部12と、頭部14と、制御パネル16とを備える。一例では、研削機/研磨機10は、鋳造アルミニウム等の鋳造材料から製造されたケーシング18を有する。鋳造本体(例えば、頭部14、基部12、及び制御パネルハウジング20)により、激しい研削状況下でも研削機/研磨機10の安定した支持構造がもたらされる。頭部14は、伸縮自在な支持体48によって基部12に取り付けられる。いくつかの例では、頭部14は、2つの駆動システム(図示せず)、すなわち、試料ホルダーを回転させる1つの駆動システムと、頭部14を上下運動させる高さ駆動システムとを収容する。本明細書において使用する場合、上下方向は、基部14から離れる及び/又はそこに向かう動きを指す。回転運動及び高さ移動は、別個の駆動システム50、52によって行われる。
基部12は、プラテン22と、プラテン駆動部(図示せず)と、流体供給、洗浄部品26とを収容する。プラテン22は、試料を手動及び/又は自動で研削及び/又は研磨するために、試料又は他の材料を保持する。プラテン22は、取り外し可能であり、プラテン駆動モーター(図示せず)からベルト(図示せず)によって駆動されるとともに、プラテン駆動部(図示せず)の一部をなす駆動板40に取り付けられる。駆動板40及びプラテン22は、時計回り又は反時計回りに回転(例えば、10rpm〜約500rpm)するように構成される。いくつかの例では、研削機/研磨機10は、高トルクモーター(図示せず)を使用して、加わる負荷に関係なく、プラテン22に実質的に一定の速度及び/又はトルクを提供する。
基部12は、流体と、研削/研磨動作中に生じるデブリとを収集する収集ボウル又はたらい28も収容する。理解されるように、研削機/研磨機10の動作中には大量のデブリが生じる可能性があり、したがって、ボウル28に溜まるデブリが問題になり得る。一例では、ボウル28は、洗浄を容易にするために基部12から取り外し可能である。他の例では、ボウル28は、洗浄を容易にするとともに、必要に応じて、研削機/研磨機10に新たな機能的なボウルライナーが容易に設置されるように、処分されるように意図された取り外し可能/交換可能/処分可能なボウルライナー30(図示せず)を含む。一例示のボウルライナー30は、必要に応じてボウルの視認を可能にするために透明なプラスチック材料から形成されることが好ましい。
図1〜図4の例では、研削機/研磨機10は、基部12に取り付けられたホース/ディスペンサー組立体32を含む流体供給、洗浄部26を備える。組立体32は、給水してボウル28にデブリが無い状態を維持する一助となるように、水をボウルに供給又は噴霧するのに使用される。一例では、研削機/研磨機10は、基部12内に保管される、柔軟なゴム材料から作製されたホース(図示せず)を備える。ホース34は、使用のために基部12からホース34を伸縮させることができるシステム(図示せず)内に保管することができる。別の例では、ホース34は、ホース34を保護するとともに、望むようにホース34の操作及び位置決めを可能にする織り込まれた金属シース(図示せず)を有する。
図5の例では、駆動板40は、駆動板44の底部に開口44を有するため、水は駆動板40を通りプラテン22の下側に上昇することができる。一例では、プラテン22は、下側に、プラテン22を下から冷却することを容易にするために、水を外方に向けるフィン又はスポーク(図示せず)を有する。研削が特に激しい場合、プラテン22は熱を持つ傾向があり得るが、これにより、さらに、調製されている試料に対して悪影響が及ぼされ得る。したがって、プラテン22の冷却は、プラテン22をより最適な動作温度に維持する一助となる。
図1〜図4および図6〜図9の例では、研削機/研磨機は、基部12に取り外し可能に係合するように構成されたスプラッシュガード100を備える。1つの例では、スプラッシュガード100は、摩擦嵌合によって基部12に係合する。このような例では、スプラッシュガード100は、基部12に押し付けられるとスプラッシュガード100が基部12に係合し、スプラッシュガード100と基部12との間の摩擦により適所に保持される。スプラッシュガード100を基部12から取り外すためには、スプラッシュガード100を基部12から引き抜き、摩擦嵌合を係脱する。別の例では、スプラッシュガード100は、スナップ嵌合によって基部12に係合することができる。
いくつかの例では、スプラッシュガード100は、基部12から上に延在し、ボウル28を包囲する。スプラッシュガード100と、スプラッシュガード100に係合する部分における基部12及びボウル28とは、開放されたコーナー領域109(図6を参照)を提供するD字形状を有するため、スプラッシュガード100によって境界を定められる領域内でボウル28内部の領域に操作者はアクセスすることができる。例示のスプラッシュガード100は、下部リブ103、外側壁105、及び上部リブ107によって形成される凹部120も有する。凹部120は、回転しているプラテン22から噴霧されている水を、ボウル28に向かって水を下かつ内方に偏らせることによって、捉える。
従来のスプラッシュガードと比較すると、例示のスプラッシュガード100は、高い安全性レベルを維持しつつも、研削/研磨動作中に生じる飛散の量を低減する(例えば、最小化する)。例示のスプラッシュガード100は、とりわけ、研削機/研磨機10のボウルと近接するように内側壁101を位置合わせすることで、プラテン22とスプラッシュリング100との間の空間が増え(例えば、幅が広がり)、隙間110が形成されることによって、安全な動作を確実にする。図6に示すように、隙間110は、スピン回転しているプラテン22と、ボウル28又は従来のスプラッシュリング等の別の物体との間に物体が挟まれ得る「ピンチポイント」として知られる潜在的な安全上の危険性を除去する一助となる。隙間110及び/又は開放されたコーナー領域38により、操作者は、ボウル28内に手を入れプラテン22を取り外すことが更に可能になる。
一例では、スプラッシュガード100は、水がスプラッシュガード100の表面のいずれかに当たる際に移動する水のエネルギーを低減する軟質のゴム材料等の弾性及び/又は衝撃吸収材料から作製される。換言すれば、軟質のゴム材料は、飛散する水のエネルギーを吸収する一助となり、スプラッシュガード100から跳ね返る水を低減する一助となる。例示のスプラッシュガード100を衝撃吸収材料で作製することによって、スプラッシュガード100は、硬質な剛性材料と比較して飛散を更に低減することができる。硬質な剛性材料は、衝撃吸収材料ほどに移動する水のエネルギーを低減しない。
図7、8は、一例示のスプラッシュガード100を示している。スプラッシュガードは、内側壁101と、外側壁105と、下部リブ103と、上部リブ107とを有する。図7、8の例に示すように、内側壁101、外側壁105、下部リブ103、及び上部リブ104は、D字形状を形成する。内側壁101は、第1の端部101a及び第2の端部101bを有する。一例では、内側壁101は、第1の端部101aが基部12に接触するスプラッシュガード100の最下部であるように、基部12の係合部60から第1の端部101aと第2の端部101bとの間で実質的に鉛直に延在する。更なる例では、内側壁101は、内側壁101が完全にボウル28を包囲するように、ボウル28の形状及び曲率に一致する。一例では、ボウル28はD字形状であるため、下部側壁101もD字形状である。ボウル28が丸形、正方形等の他の形状を有する例では、スプラッシュリング100は、ボウル28の形状に一致する。例えば、ボウル28が丸形である場合、スプラッシュリング100は実質的に丸形となる。ボウル28が正方形状である場合、スプラッシュガード100は実質的に正方形状となる。
図7、8の例では、下部リブ103は、内縁部103a及び外縁部103bを有する。下部リブ103は、内側壁101の第2の端部101bから内縁部103aと外縁部103bとの間に実質的に水平に延在する。内縁部103bは、円形状であり、プラテン22と略同心円状である。上述したように、内縁部103bは、プラテンの外縁部22aから一定の距離離間し、ピンチポイントを最小限にする隙間110が形成される。1つの例では、隙間110は、プラテン22とスプラッシュガード100との間にピンチポイントが存在する可能性を低減又は最小限にするように、2.5センチメートル〜5.1センチメートルである。この例では、2.5センチメートル〜5.1センチメートルの隙間110により、プラテン22とスプラッシュガード100との間で操作者の指に対して空間が十分になることによって、研削機/研磨機10及び/又はスプラッシュガード100の動作の安全性が高まる。隙間110が5.1センチメートルを超えると、スプラッシュガード100の全体サイズが不必要に増加するおそれがある。好ましい例では、隙間110は2.5センチメートルである。
スプラッシュガード100がD字形状である例では、下部リブ103の内縁部103aは、D字形状の下部側壁101の直角のコーナーからプラテン22に向けて突き出る突出ウェブ部108を有することにより、均一の円形状及び隙間110を維持する。対照的に、D字形状の下部側壁101の丸形部分において、下部側壁101の第2の端部101bは、下部リブ103の内縁部103aと一体化し、縁部102を形成する。下部側壁101が円形状である例では、下部側壁がプラテン22から2.5センチメートル〜5.1センチメートル離隔している場合、ウェブ部108が存在し得る。このような例では、下部側壁101の円周に沿って縁部102によって隙間110が維持される。下部側壁101がプラテン22から5.1センチメートルよりも離隔している場合、隙間110が確実に2.5センチメートル〜5.1センチメートルの状態に維持するために、下部側壁101の第2の端部101bからプラテン22に向けて内方に延在する連続的なウェブ部108が存在し得る。スプラッシュガード100が正方形状である例では、ウェブ部108が正方形状の下部側壁101の各コーナーから突出し、均一の隙間110と下部リブ103の円形の内縁部103aとを形成する。
図7、8の例に示すように、外側壁105は、第1の端部105a及び第2の端部105bを有する。外側壁105は、下部リブ103の外縁部103bから第1の端部105aと第2の端部105bとの間に延在する。このような例では、下部リブ103の外縁部103bは、外側壁105の第1の端部105aと一体化し、縁部104を形成する。一例では、外側壁105は、プラテン22に向けて内方に傾斜し、鉛直高さが1.2センチメートル〜6.4センチメートルである。このような例では、内方傾斜は、45度〜90度の任意の角度とすることができる。別の例では、外側壁105は、実質的に鉛直であり、高さ1.2センチメートル〜6.4センチメートルである。外側壁105の角度、長さ、及び円周は、基部12及び/又はボウル28の曲率及び形状によって影響を受け得る。図7、8の例に示すように、外側壁105は、内側壁101よりも円周が大きい。図1〜図3、図9に更に示すように、外側壁105は、基部12の曲率に従う。
図7、8の例では、上部リブ107は、内縁部107a及び外縁部107bを有する。上部リブ107は、外側壁105の第2の端部105bから内縁部107aと外縁部107bとの間に実質的に水平に延在する。このような例では、外側壁105の第2の端部105bは、上部リブ107の外縁部107bと一体化し、縁部106を形成する。一例では、上部リブ107はD字形状を有する。上部リブ107の形状は、ボウル28、内側壁101及び外側壁105の形状によって影響を受ける。スプラッシュガード100が円形である例では、上部リブ107も円形である。反対に、スプラッシュガード100が正方形状である例では、上部リブ107も正方形状である。更なる例では、上部リブ107の内縁部107aの少なくとも一部は、下部リブの内縁部103aよりもプラテン22に向けて延在し、張り出し部(overhang)を形成する。スプラッシュガード100がD字形状である例では、D字形状の上部リブ107の直角のコーナーのみが、下部リブ103の内縁部103aを超えて延在しない。1つの例では、上部リブ107の内縁部107aの少なくとも一部は、プラテン22を超えて延在する。
上述したように、下部リブ103、外側壁105、及び上部リブ107は、回転するプラテンによって噴霧されている水を捉える凹部120を形成する。スプラッシュガード100は、噴霧されている水が逃れ得る開口のサイズを縮小するために上部リブ107によってもたらされる張り出し部を利用し、したがって、飛散を大幅に低減する。凹部120は、下部リブ103、外側壁105、及び/又は上部リブから跳ね返る水を捉えることによって飛散を更に低減する。捉えられた水は、上部リップ107、外側壁105、及び下部リップ103によってボウルに向けて下かつ内方に向きを変えられる。
図9は、研削機/研磨機10の基部12及びボウル28に係合した一例示のスプラッシュガード100の切り欠き図を示している。上記の例で上述したように、スプラッシュガード100は、摩擦嵌合によって基部12及びボウル28に係合する。図9に示すように、スプラッシュガード100は、基部12の係合部60に係合する。1つの例では、ボウル28は、基部12と一体である。別の例では、ボウル28は別個の部品であり、基部12内に配置される。プラテン22はボウル28内に位置決めされる。
本装置及び/又はシステムを、或る特定の実施態様を参照して記載してきたが、当業者であれば、本方法及び/又はシステムの範囲から逸脱することなく、種々の変更を行うことができること及び均等物に置き換えることができることを理解するであろう。例えば、開示される例の構成要素は、結合、分割、再配置、及び/又は別様に改変することができる。加えて、本開示の範囲から逸脱することなく、本開示の教示に対して特定の状況又は材料を適合させるように多くの改変を行うことができる。したがって、本装置及び/又はシステムは、開示されている特定の実施態様に限定されない。代わりに、本装置及び/又はシステムは、文言上及び均等論の下において、添付の特許請求の範囲内に入る全ての実施態様を含むことが意図される。
10 研磨機
12 基部
14 頭部
16 制御パネル
18 ケーシング
20 制御パネルハウジング
22 プラテン
22a 外縁部
26 流体供給、洗浄部品
28 ボウル
30 ボウルライナー
32 ディスペンサー組立体
34 ホース
38 コーナー領域
40 駆動板
44 開口
48 支持体
50 駆動システム
52 駆動システム
60 係合部
100 スプラッシュガード
101 内側壁
101a 第1の端部
101b 第2の端部
102 縁部
103 下部リブ
103a 内縁部
103b 外縁部
104 上部リブ
105 外側壁
105a 第1の端部
105b 第2の端部
106 縁部
107 上部リブ
107a 内縁部
107b 外縁部
108 ウェブ部
109 コーナー領域
110 隙間
120 凹部

Claims (20)

  1. 基部と、ボウルと、外縁部を有するプラテンとを有する研削機研磨機のスプラッシュガードにおいて、
    第1の端部と第2の端部とを有するとともに、該第1の端部が前記基部から突出して前記ボウルを包囲するように前記基部に係合する内側壁と、
    内縁部と外縁部とを有し、前記内側壁の前記第2の端部から延在する下部リブと、
    第1の端部と第2の端部とを有する外側壁であって、該外側壁の前記第1の端部を前記下部リブの前記外縁部に隣接させて、該下部リブの該外縁部から延在する外側壁と、
    内縁部と外縁部とを有する上部リブであって、該上部リブの該外縁部を前記外側壁の前記第2の端部に隣接させて、該外側壁の該第2の端部から延在する上部リブとを具備し、
    前記下部リブの前記内縁部が、前記プラテンの前記外縁部から少なくとも2.5センチメートル離隔しているスプラッシュガード。
  2. 前記スプラッシュガードは、前記上部リブ、前記外側壁、及び前記下部リブによって形成される凹部を更に具備し、前記上部リブの前記内縁部の少なくとも一部は、前記下部リブの前記内縁部よりも前記プラテンに向けて内方に突出する請求項1に記載のスプラッシュガード。
  3. 前記下部リブの前記内縁部は、前記プラテンと実質的に同心円状である円形を形成する請求項1に記載のスプラッシュガード。
  4. 前記内側壁、前記外側壁、又は前記上部リブはD字形状を形成する請求項1に記載のスプラッシュガード。
  5. 前記下部リブは前記ボウルの上部リップに静置される請求項1に記載のスプラッシュガード。
  6. 前記外側壁は、高さ1.2センチメートル〜6.4センチメートルである請求項1に記載のスプラッシュガード。
  7. 前記下部リブの前記内縁部は、前記プラテンの前記外縁部から2.5センチメートル〜5.1センチメートル離隔している請求項1に記載のスプラッシュガード。
  8. 前記外側壁は、前記ボウルの円周よりも大きい円周を有する請求項1に記載のスプラッシュガード。
  9. 前記外側壁は、前記プラテンに向けて内方に傾斜する請求項1に記載のスプラッシュガード。
  10. 前記スプラッシュガードは弾性材料から成る請求項1に記載のスプラッシュガード。
  11. 研削機研磨機システムにおいて、
    研削機研磨機であって、
    ボウルを有する基部と、
    外縁部を有し、前記ボウルに隣接させて配置されたプラテンと
    を具備する研削機研磨機と、
    前記基部から延在し前記ボウルを包囲するスプラッシュガードであって、
    第1の端部と第2の端部とを有するとともに、該第1の端部が前記基部から突出して前記ボウルを包囲するように前記基部に係合する内側壁と、
    内縁部と外縁部とを有し、前記内側壁の前記第2の端部から延在する下部リブと、
    第1の端部と第2の端部とを有する外側壁であって、該外側壁の前記第1の端部を前記下部リブの前記外縁部に隣接させて、該下部リブの該外縁部から延在する外側壁と、
    内縁部と外縁部とを有する上部リブであって、該上部リブの該外縁部を前記外側壁の前記第2の端部に隣接させて、該外側壁の該第2の端部から延在する上部リブとを具備し、
    前記下部リブの前記内縁部が、前記プラテンの前記外縁部から少なくとも2.5センチメートル離隔しているスプラッシュガードと、
    を具備する研削機研磨機システム。
  12. 前記スプラッシュガードは、前記上部リブ、前記外側壁、及び前記下部リブによって形成される凹部を更に具備し、前記上部リブの前記内縁部の少なくとも一部は、前記下部リブの前記内縁部よりも前記プラテンに向けて内方に突出する請求項11に記載の研削機研磨機システム。
  13. 前記下部リブの前記内縁部は前記プラテンと実質的に同心円状である円形を形成する請求項11に記載の研削機研磨機システム。
  14. 前記内側壁、前記外側壁、又は前記上部リブはD字形状を形成する請求項11に記載の研削機研磨機システム。
  15. 前記下部リブは前記ボウルの上部リップに静置される請求項11に記載の研削機研磨機システム。
  16. 前記外側壁は、高さ1.2センチメートル〜6.4センチメートルである請求項11に記載の研削機研磨機システム。
  17. 前記下部リブの前記内縁部は、前記プラテンの前記外縁部から2.5センチメートル〜5.1センチメートル離隔している請求項11に記載の研削機研磨機システム。
  18. 前記外側壁は前記ボウルの円周より大きい円周を有する請求項11に記載の研削機研磨機システム。
  19. 前記スプラッシュガードは弾性材料から成る請求項10に記載の研削機研磨機システム。
  20. 前記スプラッシュガードは、前記研削機研磨機の前記基部から取り外し可能である請求項10に記載の研削機研磨機システム。
JP2021507832A 2018-08-14 2019-08-13 研削機/研磨機のスプラッシュガード、及びスプラッシュガードを有する研削機/研磨機 Active JP7344278B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201862718776P 2018-08-14 2018-08-14
US62/718,776 2018-08-14
US16/538,305 US11491611B2 (en) 2018-08-14 2019-08-12 Splash guards for grinder/polisher machines and grinder/polisher machines having splash guards
US16/538,305 2019-08-12
PCT/US2019/046341 WO2020036953A1 (en) 2018-08-14 2019-08-13 Splash guards for grinder/polisher machines and grinder/polisher machines having splash guards

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021534008A true JP2021534008A (ja) 2021-12-09
JP7344278B2 JP7344278B2 (ja) 2023-09-13

Family

ID=69524355

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021507832A Active JP7344278B2 (ja) 2018-08-14 2019-08-13 研削機/研磨機のスプラッシュガード、及びスプラッシュガードを有する研削機/研磨機

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11491611B2 (ja)
EP (1) EP3837087B1 (ja)
JP (1) JP7344278B2 (ja)
CN (1) CN113286681B (ja)
WO (1) WO2020036953A1 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0732263A (ja) * 1993-07-20 1995-02-03 Speedfam Co Ltd 研磨液飛散防止機構付き平面研磨装置
JPH07223142A (ja) * 1993-12-14 1995-08-22 Ebara Corp ポリッシング装置
JP2011524820A (ja) * 2008-06-20 2011-09-08 イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド 改良された研削/研磨装置

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3549439A (en) * 1967-09-15 1970-12-22 North American Rockwell Chemical lapping method
US3611654A (en) * 1969-09-30 1971-10-12 Alliance Tool & Die Corp Polishing machine or similar abrading apparatus
US3857123A (en) * 1970-10-21 1974-12-31 Monsanto Co Apparatus for waxless polishing of thin wafers
US4244775A (en) * 1979-04-30 1981-01-13 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Process for the chemical etch polishing of semiconductors
US4423568A (en) * 1981-10-05 1984-01-03 Gould Larry L Splash shield and cuttings guard for glass router
US4869779A (en) * 1987-07-27 1989-09-26 Acheson Robert E Hydroplane polishing device and method
CA2012878C (en) * 1989-03-24 1995-09-12 Masanori Nishiguchi Apparatus for grinding semiconductor wafer
US5280663A (en) * 1991-07-29 1994-01-25 Proulx Linda L Scrubber guard
JP2894153B2 (ja) * 1993-05-27 1999-05-24 信越半導体株式会社 シリコンウエーハの製造方法、およびその装置
US5534106A (en) * 1994-07-26 1996-07-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus for processing semiconductor wafers
FR2723704B1 (fr) * 1994-08-17 1996-09-20 Commissariat Energie Atomique Dispositif de polissage avec porte-echantillons
JPH11254298A (ja) * 1998-03-06 1999-09-21 Speedfam Co Ltd スラリー循環供給式平面研磨装置
JPH11320406A (ja) * 1998-05-06 1999-11-24 Speedfam-Ipec Co Ltd 研磨装置における排液・排気の処理方法及び装置
US6860406B2 (en) * 2001-08-13 2005-03-01 Illinois Tool Works Inc. Flexible pouch fitment structure
DE10162632A1 (de) 2001-12-20 2003-07-03 Hilti Ag Schleifgerät mit Absaughaube
US6837983B2 (en) * 2002-01-22 2005-01-04 Applied Materials, Inc. Endpoint detection for electro chemical mechanical polishing and electropolishing processes
KR100445634B1 (ko) * 2002-01-28 2004-08-25 삼성전자주식회사 반도체 웨이퍼의 평탄화 설비
US6896601B2 (en) * 2002-04-05 2005-05-24 Techniglass Corporation Grinding apparatus with splash protector and improved fluid delivery system
JP4698407B2 (ja) * 2005-12-20 2011-06-08 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理方法
US8282447B1 (en) * 2006-01-27 2012-10-09 John Buser Adaptive dust shield device
CN100467221C (zh) * 2006-08-14 2009-03-11 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 化学机械研磨设备和用于化学机械研磨设备的防溅装置
DE102007008353B4 (de) * 2007-02-20 2014-07-10 Illinois Tool Works Inc. Rohrtrennvorrichtung
DE102007052684A1 (de) 2007-11-05 2009-05-07 Robert Bosch Gmbh Handwerkzeugmaschine
MX345079B (es) * 2007-12-27 2017-01-16 3M Innovative Properties Co Dispositivo de recolección de polvo para herramienta de esmerilar.
KR101004435B1 (ko) * 2008-11-28 2010-12-28 세메스 주식회사 기판 연마 장치 및 이를 이용한 기판 연마 방법
CN102615583A (zh) * 2011-01-28 2012-08-01 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 研磨装置
CN202174102U (zh) * 2011-06-28 2012-03-28 美的集团有限公司 一种食物垃圾处理器的防溅罩结构
JP6239354B2 (ja) * 2012-12-04 2017-11-29 不二越機械工業株式会社 ウェーハ研磨装置
JP6634248B2 (ja) * 2015-09-10 2020-01-22 株式会社マキタ グラインダ及びカバー
CN106881670A (zh) * 2015-12-15 2017-06-23 哈尔滨万向迎欣科技开发有限公司 安全环保的切割机五金配件

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0732263A (ja) * 1993-07-20 1995-02-03 Speedfam Co Ltd 研磨液飛散防止機構付き平面研磨装置
JPH07223142A (ja) * 1993-12-14 1995-08-22 Ebara Corp ポリッシング装置
JP2011524820A (ja) * 2008-06-20 2011-09-08 イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド 改良された研削/研磨装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP7344278B2 (ja) 2023-09-13
EP3837087B1 (en) 2023-10-11
US11491611B2 (en) 2022-11-08
CN113286681B (zh) 2023-11-24
CN113286681A (zh) 2021-08-20
WO2020036953A1 (en) 2020-02-20
EP3837087A1 (en) 2021-06-23
US20200055163A1 (en) 2020-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6429754B2 (ja) 自律的床清掃ロボット
JP4226871B2 (ja) スクラブ機受動再循環
CA2365790C (en) Range hood with grease collecting motor housing
JP2009502401A (ja) 食品加工装置
JP2021534008A (ja) 研削機/研磨機のスプラッシュガード、及びスプラッシュガードを有する研削機/研磨機
JP2011036767A (ja) 厨芥処理装置
US5608939A (en) Motor and driver mount diaphragm burnisher
KR101893257B1 (ko) 진공 청소기
KR101872103B1 (ko) 진공 청소기
CN210435943U (zh) 气动研磨机的集尘罩
JPH075802Y2 (ja) 吸取り器
KR20180080646A (ko) 진공 청소기
KR101872099B1 (ko) 진공 청소기
KR101952634B1 (ko) 진공 청소기
KR101909337B1 (ko) 진공 청소기
GB2380543A (en) Range hood with grease collecting motor housing
JP2002360486A (ja) 床磨き機用洗浄液飛散防止装置
KR101852407B1 (ko) 진공 청소기
KR101872102B1 (ko) 진공 청소기 및 진공 청소기의 제어 방법
JPH075801Y2 (ja) 床面等処理装置
JPH0725161Y2 (ja) 床面等処理装置
JP2005313288A (ja) ディスクサンダ
KR20180042991A (ko) 진공 청소기
JP2004237192A (ja) 精米器
KR20170131157A (ko) 진공 청소기

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220617

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230131

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230501

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230822

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230901

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7344278

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150