JP2021533996A - レーザービームの機械内プロファイリングのためのシステム、方法および装置 - Google Patents
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Abstract
レーザーシステムは、プロセッサと非一時的な機械可読メモリとを含んでいるコントローラと、レーザービームを出力するように構成されているレーザーヘッドと、レーザーヘッドの反対側に位置付けられている加工用ベッドと、電子制御ユニットに通信可能に接続されており、かつ加工用ベッド内に統合されているパワーメータとを含んでいる。レーザーシステムはさらに、パワーメータとレーザーヘッドとの間に位置付けられているナイフエッジプレートと、非一時的な機械可読メモリに格納されている機械可読命令セットとを含んでおり、機械可読命令セットはプロセッサによる実行時に、レーザーシステムに、少なくとも、パワーメータからのある距離にレーザーヘッドを位置付けること、レーザーヘッドにレーザービームを出力させること、パワーメータにわたってレーザーヘッドを並進移動させること、レーザービームがパワーメータにわたって並進移動させられているときに、パワーメータからパワー信号を受信すること、およびパワー信号に基づいてスポットサイズを計算することを実行させる。
Description
本願は、2018年8月9日に出願された米国仮特許出願第62/716,589号明細書の優先権の利益を主張し、その内容は本明細書の依拠するところであって、その内容全体を参照により本明細書に援用するものとする。
本明細書は、広く、レーザービームのプロファイルを決定および制御するシステムおよび方法に関し、より詳細には、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる機械内システムおよび方法に関する。
レーザー切断システムは、基材内に熱応力を誘発し、基材材料を分断するために、レーザーによって材料を局所的に加熱する。幾つかのシステムは、基材材料に孔をあけるためにピコ秒レーザーを利用し、これによってダメージトラックを作製する。次に、このようなシステムは、基材材料を分断するためにこのダメージトラックに沿って熱応力を誘発するCO2レーザーを利用し得る。しかし、効果的に基材材料を切断するため、またはダメージトラックを有している基材材料を分断するためには、基材内での熱応力の誘発に最適なスポットサイズが基材の表面に入射するようにレーザー加工ヘッドが位置付けられるべきである。
したがって、切断レーザービームのスポットサイズを、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる代替的なシステムおよび方法に対するニーズが存在している。
実施形態では、レーザーシステムは、電子制御ユニットと、操縦可能な支持体と、レーザーヘッドと、加工用ベッドと、パワーメータと、ナイフエッジプレートと、機械可読命令セットとを含んでいてよく、電子制御ユニットは、プロセッサと非一時的な機械可読メモリとを含んでおり、操縦可能な支持体は、電子制御ユニットによって生成された制御信号が操縦可能な支持体の動きを制御するように電子制御ユニットに通信可能に接続されており、レーザーヘッドは、レーザービームを出力するように構成されており、加工用ベッドは、レーザーヘッドによって出力されたレーザービームが加工用ベッド上に配向されるようにレーザーヘッドの反対側に位置付けられており、パワーメータは、電子制御ユニットに通信可能に接続されており、かつ加工用ベッド内に統合されており、ナイフエッジプレートは、パワーメータとレーザーヘッドとの間に位置付けられており、ここでナイフエッジプレートは、パワーメータにわたって延在しているナイフエッジによって定められる阻止部分と透過部分とを形成し、機械可読命令セットは非一時的な機械可読メモリに格納されている。機械可読命令セットは、プロセッサによる実行時に、レーザーシステムに、少なくとも、次のことを実行させてよい。すなわち、パワーメータからの第1の距離にレーザーヘッドを位置付けること、レーザーヘッドにレーザービームを出力させること、レーザービームが阻止部分からナイフエッジを横断して透過部分へ並進移動させられるように、またはレーザービームが透過部分からナイフエッジを横断して阻止部分へ並進移動させられるように、パワーメータにわたってレーザーヘッドを並進移動させること、レーザービームがパワーメータにわたって並進移動させられているときに、パワーメータからパワー信号を受信すること、およびパワーメータから受信したパワー信号に基づいてレーザービームのスポットサイズを計算することを実行させてよい。
実施形態では、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる方法は、加工用ベッドからの第1の距離にレーザーヘッドを位置付けること、レーザーヘッドにレーザービームを出力させること、レーザービームが阻止部分からナイフエッジを横断して透過部分へ並進移動させられるように、またはレーザービームが透過部分からナイフエッジを横断して阻止部分へ並進移動させられるように、パワーメータにわたってレーザーヘッドを並進移動させること、レーザービームがパワーメータにわたって並進移動させられているときに、パワーメータからパワー信号を受信すること、パワーメータから受信したパワー信号に基づいてレーザービームのスポットサイズを計算することを含んでいてよい。ここで、加工用ベッドは、加工用ベッド内に統合されているパワーメータを含んでいてよい。
実施形態では、レーザー切断装置は操縦可能な支持体と、レーザーヘッドと、加工用ベッドと、パワーメータと、ナイフエッジプレートとを含んでいてよく、レーザーヘッドは、操縦可能な支持体に結合されており、かつレーザービームを出力するように構成されており、加工用ベッドは、レーザーヘッドによって出力されたレーザービームが加工用ベッド上に配向されるようにレーザーヘッドの反対側に位置付けられており、パワーメータは、加工用ベッド内に統合されており、ナイフエッジプレートは、パワーメータとレーザーヘッドとの間に位置付けられており、ここでナイフエッジプレートは、パワーメータにわたって延在しているナイフエッジによって定められる阻止部分と透過部分とを形成する。
本明細書において説明される実施形態によって提供されるこれらの特徴および付加的な特徴は、図面と併せて以下の詳細な説明を考察することでより完全に理解されるだろう。
図示されている実施形態は、本質的に例示的かつ模範的であり、特許請求の範囲によって定められている対象を制限することを意図するものではない。以下の図面と併せて読むことで、例示的実施形態の以下の詳細な説明を理解することができる。図面では、同じ構造体には同じ参照番号が付けられている。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、基材を切断するためのレーザー機械を概略的に示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる例示的なシステムを概略的に示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、レーザー機械の加工用ベッドからの第1の距離にあるレーザーヘッドの断面図を概略的に示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、レーザー機械の加工用ベッドからの第2の距離にあるレーザーヘッドの断面図を概略的に示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる例示的な方法のフローチャートを示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる別の例示的な方法のフローチャートを示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、パワーメータによって測定されたパワー値からスポットサイズを決定する実例を示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、阻止部分からナイフエッジを横断して透過部分へ並進移動させられるときの、阻止部分上に位置付けられたレーザービームの実例を示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、阻止部分からナイフエッジを横断して透過部分へ並進移動させられるときの、ナイフエッジ上に位置付けられたレーザービームの実例を示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、阻止部分からナイフエッジを横断して透過部分へ並進移動させられるときの、透過部分上に位置付けられたレーザービームの実例を示している。
本明細書において図示および説明されている1つ以上の実施形態に従った、スポットサイズと、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離との間の相関の例示的な表現を示している。
本開示の実施形態は、レーザービームのプロファイルを決定および制御するシステムおよび方法に関し、より詳細には、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる機械内システムおよび方法に関する。基材を切断するためのレーザーは、波長、パワー、スポットサイズ等の幾つかの調整可能なパラメータを含んでいてよく、これらは、基材内の吸収および/または熱応力の誘発のために最適化されてよい。たとえば、幾つかの切断システムは、熱応力を導入し、基材材料を分断するために、CO2レーザーによって基材を局所的に加熱する。所望の切断サイズおよび切断深さ、材料のタイプ等に関連して、レーザービームが基材の表面上に特定のスポットサイズを生成するように構成されてよい。レーザービームのスポットサイズは全般的に、レーザービームによって内部に熱応力が導入される、基材の表面領域に対応する。たとえば、基材上のCO2レーザースポットサイズの直径は、切断される基材に関連して、1mm〜10mm変化してよい。
レーザービームのスポットサイズは、本明細書において「レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離」と称される、レーザーヘッドと基材との間の距離を制御することによって調整されてよい。本明細書において説明される実施形態は、レーザー切断機械内で、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離を自動的に決定するシステムおよび方法に関する。さらに、このシステムおよび方法は、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離に対する、レーザービームのスポットサイズの1つ以上の相関係数を生成する。本明細書において説明されるシステムおよび方法は、全般的に切断操作の実行前に必要とされる、単調で時間のかかる較正プロシージャおよび設定プロシージャを排除する。さらに、このシステムおよび方法によって操作者は、基材の加工のために開発されたコンピュータ数値制御(CNC)コードが機械間で自由に転送され得るように1つ以上の相関係数を決定するために、自動的にレーザー切断機械を初期化することが可能になる。すなわち、1つ以上の相関係数によって、スポットサイズパラメータは、直接的に比較可能かつ機械間で転送可能であり得るパラメータになる。たとえば、切断操作用の、レーザーヘッドから基材までの距離を定めるCNCコードの代わりに、CNCコードが所望のスポットサイズを定めてよく、CNCコードがロードされている特定のレーザー切断機械は、所望のスポットサイズを生成するために、レーザーヘッドから基材までの必要な距離を内部で決定してよい。
全般的に、本明細書において説明されるシステムおよび方法は、統合されているパワーメータとナイフエッジプレートとを有しているレーザー切断機械を利用する。ナイフエッジプレートは、パワーメータの部分にわたるナイフエッジを形成する。コントローラによって実行される事前構成された初期化プロセスは、レーザー切断機械に、レーザーをアクティブ化させ、レーザーヘッドから出力されたレーザービームがナイフエッジを横断して、ナイフエッジプレートからパワーメータのセンシング領域上に移動するようにレーザーヘッドを並進移動させてよい。パワーメータは、パワーメータのセンシング領域に入射するレーザービームに対応する1つ以上の信号を生成してよい。ナイフエッジを横断してレーザービームが並進移動させられるときにパワーメータによって生成される信号は、レーザービームのスポットサイズを計算するために使用されてよい。次にスポットサイズがレーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させられてよい。レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離は幾つかの方法のうちの1つを通じて決定されてよい。たとえば、レーザー機械は、レーザー機械の加工用ベッドに関して原点復帰させられてよい。幾つかの実施形態では、レーザー機械内に測距デバイスが含まれていてよく、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離測定値を提供してよい。ナイフエッジを横断してレーザービームを並進移動させることによってスポットサイズを決定するプロセスは、レーザー機械の作業範囲にわたって、スポットサイズと、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離との間の相関を決定するために、種々の距離で繰り返されてよい。
自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる種々の実施形態を以降で、添付の図面に具体的に言及して、より詳細に説明する。
ここで図1を参照すると、図1は、本明細書において説明されている1つ以上の実施形態に従った、基材を切断するためのレーザー機械を概略的に示している。示されているように、レーザー機械100は、操縦可能な支持体105に結合されているレーザーヘッド110を含んでいる。操縦可能な支持体105は、ガントリタイプのシステム、ロボットアーム等であってよい。操縦可能な支持体105はレーザーヘッド110の支持と、1つ以上の自由度を伴ったレーザーヘッド110の制御された動きとを提供する。たとえば、示されているように、操縦可能な支持体105は水平部材120を含んでおり、ここでこの水平部材120は第1の端部でレーザーヘッド110に結合されており、第1の端部とは反対側の第2の端部で垂直部材130に結合されている。さらに、垂直部材130は支持構造体140と結合しており、ここでこの支持構造体140は、レーザー機械100の加工用ベッド160の幅または長さにまたがって延在している。水平部材120が垂直部材130の長さに沿って+Z方向および−Z方向において移動し得るように水平部材120が垂直部材130に結合されていてよい。たとえば、実施形態では、ねじ歯車等を動かすステッピングモータが上方への方向(すなわち、矢印Aによって示されている方向)または下方への方向(すなわち、矢印Bによって示されている方向)において水平部材120を動かしてよく、これによってレーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dが調整される。さらに、垂直部材130が支持構造体140の長さに沿って+X方向および−X方向において移動するように垂直部材130が支持構造体140に可動に結合されていてよい。たとえば、実施形態では、レーザー機械のナイフエッジ185および(本明細書において以下で詳細に説明する)加工用ベッド160内に統合されているパワーメータ170にわたってレーザーヘッドを並進移動させるために、ステッピングモータ等が左の方への方向(すなわち、矢印Cによって示されている方向)または右の方への方向(すなわち、矢印Dによって示されている方向)において垂直部材130を動かしてよい。
レーザーヘッド110は、レーザーと、基材を切断することができるレーザービーム150を生成し、出力するための光学系とを含んでいてよい。レーザーヘッド110によって出力されるレーザービーム150はレーザービームスポット155を含んでおり、ここでこのレーザービームスポット155のサイズは、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dに関連して変化し得る。レーザーは、意図されている基材の加工、たとえば切断、彫刻、溶接等に関連して、CO2レーザー、Ndレーザー、Nd:YAGレーザー、高出力ダイオードレーザー等を含んでいてよい。
本明細書に記載されているように、レーザー機械100は、加工用ベッド160内に統合されているパワーメータ170を有している加工用ベッド160を含んでいる。パワーメータ170は、レーザービームを受け取り、レーザービームによって出力されるレーザーエネルギおよび/またはレーザーパワーに応じて1つ以上の信号を生成することができる任意のセンサまたはセンサシステムであってよい。たとえば、パワーメータは、フォトダイオード、サーモパイルパワーセンサ等を含んでいてよい。切断の適用中に、加工用ベッドはガラスプレート、ガラスセラミックプレート等の基材(図示されていない)を支持してよい。ナイフエッジプレート180も加工用ベッド160の表面上に支持されていてよく、かつパワーメータ170にわたってナイフエッジ185が形成され得るようにパワーメータ170の部分を覆うように位置付けられていてよい。すなわち、ナイフエッジプレート180は、パワーメータ170の一部を阻止し、これによって、ナイフエッジ185に沿って分けられている阻止部分172と透過部分174と定める。ナイフエッジ185は、剃刀の刃等のエッジによって定められていてよい。
幾つかの実施形態では、レーザー機械100は、測距デバイス115を含んでいてよい。測距デバイス115は、レーザー機械100に結合されていてよく、かつレーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dから距離を決定するように構成されていてよい。たとえば、測距デバイス115は、レーザーヘッド110に結合されていてよく、かつレーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dに対応する信号を生成するように加工用ベッド160に向けて配向されていてよい。図1には測距デバイス115が示されているが、幾つかのレーザー機械100は、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dを決定するための他の手段を利用してよい。たとえば、レーザー機械100は、加工用ベッド160に関してレーザーヘッド110を原点復帰させる較正ステップを実施してよい。原点復帰させられると、レーザー機械100は、ステッピングモータの回転度に基づいてレーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dを決定することができる。ステッピングモータは、垂直部材130の長さに沿って水平部材120およびレーザーヘッド110の位置を制御する。すなわち、ステッピングモータの回転度は、+Z方向および−Z方向における、垂直部材130に関する水平部材120の所定の線形変位に対応し得る。
ここで図2を参照すると、1つ以上の実施形態に従った、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる例示的なシステムが示されている。システム200は全般的に、レーザー機械100と計算デバイス201とを含んでいる。図1および図2を参照すると、レーザー機械は、通信経路220と、プロセッサ232と非一時的なコンピュータ可読メモリ234とを有している電子制御ユニット230と、操縦可能な支持体105と、ネットワークインターフェースハードウェア210と、レーザー212と、測距デバイス115と、パワーメータ170とを含んでいる。レーザー機械100は、ネットワークインターフェースハードウェア210を経由してネットワーク205に通信可能に接続されていてよい。システム200のコンポーネントはレーザー機械100内に含まれていてよい、またはネットワーク205を通じて相互に相互接続されていてよい。システム200の種々のコンポーネントおよびそれらの相互作用を以降に詳細に説明する。
通信経路220は、信号を伝送することができる任意の媒体、たとえば導線、配線、光ウェーブガイド等から形成されていてよい。通信経路220が、その中で電磁放射線およびそれらの対応する電磁波が交差する広域を指していてもよい。さらに、通信経路220が、信号を伝送することができる媒体の組み合わせから形成されていてよい。1つの実施形態では、通信経路220は、配線、導線、コネクタおよびバスの組み合わせを含んでおり、これらは、プロセッサ、メモリ、センサ、入力デバイス、出力デバイスおよび通信デバイス等のコンポーネントへの電気データ信号の伝送を可能にするために協働する。したがって、通信経路220はバスを含んでいてよい。さらに、用語「信号」は、媒体を通じて移動可能な、(たとえば電気的な、光学的な、磁気的な、機械的なまたは電磁的な)波形を意味するということに留意されたい。これはたとえば、DC、AC、正弦波、三角波、方形波、振動等である。通信経路220は、システム200の種々のコンポーネントと通信可能に接続している。本明細書において使用するとき、用語「通信可能に接続されている」とは、接続されているコンポーネントが信号を相互に交換することができることを意味しており、たとえば、導電性の媒体を介して電気信号を交換することができ、空気を介して電磁信号を交換することができ、光ウェーブガイドを介して光信号を交換することができる等である。
引き続き図1および図2を参照すると、電子制御ユニット230は、プロセッサ232と非一時的なコンピュータ可読メモリ234とを含んでいる任意のデバイスまたはコンポーネントの組み合わせであってよい。システム200のプロセッサ232は、非一時的なコンピュータ可読メモリ234に格納されている機械可読命令セットを実行することができる任意のデバイスであってよい。したがって、プロセッサ232は、電気的なコントローラ、集積回路、マイクロチップ、コンピュータまたは任意の他の計算デバイスであってよい。プロセッサ232は、通信経路220によって、システム200の他のコンポーネントに通信可能に接続されていてよい。したがって、通信経路220は、任意の数のプロセッサ232を互いに通信可能に接続してよく、これによって、通信経路220に接続されているコンポーネントが分散コンピューティング環境において動作することが可能になる。特に、各コンポーネントは、データを送信および/または受信し得るノードとして動作してよい。図2に示されている実施形態が含んでいるプロセッサ232は1つであるが、他の実施形態は1つ以上のプロセッサ232を含んでいてよい。
システム200の非一時的なコンピュータ可読メモリ234は、通信経路220に接続されていてよく、かつプロセッサ232に通信可能に接続されていてよい。非一時的なコンピュータ可読メモリ234は、RAM、ROM、フラシュメモリ、ハードドライブを含んでいてよい、または機械可読命令がプロセッサ232によってアクセス可能でありかつ実行可能であるように機械可読命令を格納することができる任意の非一時的なメモリデバイスを含んでいてよい。機械可読命令セットは、任意の世代(たとえば1GL、2GL、3GL、4GLまたは5GL)の任意のプログラミング言語で書かれたロジックまたはアルゴリズムを含んでいてよく、これはたとえば、プロセッサ232によって直接的に実行され得る機械語またはアセンブリ言語、オブジェクト指向プログラミング(OOP)、スクリプト言語、マイクロコード等であり、これは機械可読命令にコンパイルされてよく、またはアセンブルされてよく、かつ非一時的なコンピュータ可読メモリ234に格納されてよい。あるいは、機械可読命令セットは、ハードウェア記述言語(HDL)で書かれていてよく、これはたとえばフィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)構成または特定用途向け集積回路(ASIC)またはそれらの等価物を介して実装されるロジックである。したがって、本明細書において説明される機能性は、任意の従来のコンピュータプログラミング言語で、事前にプログラムされたハードウェア要素として、またはハードウェアコンポーネントとソフトウェアコンポーネントとの組み合わせとして実装されてよい。図2に示された実施形態が含んでいる非一時的なコンピュータ可読メモリ234は1つであるが、他の実施形態は1つ以上のメモリモジュールを含んでいてよい。
操縦可能な支持体105が、通信経路220を介して電子制御ユニット230に通信可能に接続されていてよい。上述のように、操縦可能な支持体105は、レーザーヘッド110を支持し、レーザーヘッド110の動きを制御する。操縦可能な支持体105は、ガントリタイプのシステム、ロボットアーム等であってよい。操縦可能な支持体105は1つ以上の自由度内でレーザーヘッド110の動きを制御するために1つ以上のステッピングモータ等を含んでいてよい。操縦可能な支持体105の動きを制御するために電子制御ユニット230が制御信号を1つ以上のステッピングモータに伝送するように、1つ以上のステッピングモータが電子制御ユニット230に通信可能に接続されていてよい。図1および図2は、ガントリタイプの構造に関して操縦可能な支持体105を示し、説明しているが、レーザーヘッド110の支持および制御された動きを実現するために他の構造が実装されてよいことを理解されたい。
引き続き図1および図2を参照すると、レーザー212は任意選択的に、レーザーヘッド110内にハウジングされており、かつ電子制御ユニット230に通信可能に接続されている。レーザー212は、CO2レーザー、Ndレーザー、Nd:YAGレーザー、高出力ダイオードレーザー等であってよい。レーザーのタイプは、実行されるレーザープロセスに関連する。たとえば、ガラス基材を切断する場合にはCO2レーザーが選択されてよい。電子制御ユニット230は、レーザー212を制御するために制御信号を生成してよい。たとえば、制御信号は、レーザー212のアクティブ化または非アクティブ化、レーザーのパワー出力の調整等を行ってよい。
レーザー機械100は測距デバイス115を含んでいてよい。測距デバイス115は、対象物または表面までの距離を決定することができる任意のデバイスであってよい。たとえば、測距デバイス115は、能動的な測距方法を実行してよく、これはレーザー、レーダー、ソナー、LIDARおよび/または超音波測距等である。実施形態では、測距デバイス115は、レーザー(たとえばレーザー距離測定器)を、レーザー放射を出力するために含んでいてよく、かつレーザー検出器を、対象物または表面からのレーザー放射の反射を検出するために含んでいてよい。本明細書において説明されるシステムおよび方法では、測距デバイス115はレーザーヘッド110に接続されていてよく、レーザー機械100の加工用ベッド160までの距離の決定に応じて信号を生成するように位置付けられていてよい。
システム200はさらに、図1に関して上述したようにパワーメータ170を含んでいる。レーザービーム150の検出されたパワーに対応する、パワーメータ170によって生成された信号が電子制御ユニット230に伝送されるように、パワーメータ170は、電子制御ユニット230に通信可能に接続されていてよい。パワーメータ170は、レーザービーム150を検出し、パワーメータ170のセンサに入射するレーザービーム150のパワーに対応する電子信号を生成することができる任意のデバイスであってよい。たとえば、パワーメータ170は、CCDアレイ、フォトダイオード、サーモパイルパワーセンサ等を、透過部分174を通じて透過されたレーザービーム150を測定するために含んでいてよい。幾つかの実施形態では、パワーメータ170は、ビームプロファイリングセンサまたはエネルギーセンサであってよい。
図1を参照して説明したように、レーザーヘッド110から出力されたレーザービーム150がパワーメータ170上に焦点合わせされ得るように、パワーメータ170がレーザー機械100の加工用ベッド160内に統合されていてよい。このような構成によって、レーザービームによって生成されたレーザービームスポット155のスポットサイズを、その使用可能な構成において測定することが可能になる。すなわち、基材は、レーザー加工されるべきときに、加工用ベッド160上に配置されてよい。したがって、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dと相関させられたスポットサイズを、基材の厚さを考慮することによって、加工用ベッド160および基材に関して、測定されたスポットサイズと言い換えることができる。
ネットワークインターフェースハードウェア210が、通信経路220に接続されていてよく、かつプロセッサ232に通信可能に接続されていてよい。ネットワークインターフェースハードウェア210は、ネットワーク205を介してデータを伝送および/または受信することができる任意のデバイスであってよい。したがって、ネットワークインターフェースハードウェア210は、任意の有線通信または無線通信を送信および/または受信するために通信トランシーバを含むことができる。たとえば、ネットワークインターフェースハードウェア210は、アンテナ、モデム、LANポート、Wi−Fiカード、WiMaxカード、移動体通信ハードウェア、近距離無線通信ハードウェア、衛星通信ハードウェアおよび/または他のネットワークおよび/またはデバイスとの通信のための任意の有線ハードウェアまたは無線ハードウェアを含んでいてよい。1つの実施形態では、ネットワークインターフェースハードウェア210は、Bluetooth(登録商標)無線通信プロトコールにしたがって動作するように構成されているハードウェアを含んでいる。別の実施形態では、ネットワークインターフェースハードウェア210は、ネットワーク205への/ネットワーク205からのBluetooth(登録商標)通信の送信および受信のためにBluetooth(登録商標)送信/受信モジュールを含んでいてよい。
幾つかの実施形態では、システム200は、ネットワーク205を介して計算デバイス201に通信可能に接続されていてよい。幾つかの実施形態では、ネットワーク205は、システム200と計算デバイス201とを通信可能に接続するためにBluetooth(登録商標)技術を利用するパーソナルエリアネットワークであってよい。ネットワーク205は、1つ以上のコンピュータネットワーク(たとえばパーソナルエリアネットワーク、ローカルエリアネットワークまたはワイドエリアネットワーク)、セルラネットワーク、衛星ネットワークおよび/または全地球測位システムおよびそれらの組み合わせを含んでいてよい。したがって、システム200を、線、ワイドエリアネットワーク、ローカルエリアネットワーク、パーソナルエリアネットワーク、セルラネットワーク、衛星ネットワーク等を介して、ネットワーク205に通信可能に接続することができる。適切なローカルエリアネットワークは、有線イーサネットおよび/または無線技術、たとえばワイヤレス・フィディリティ(Wi−Fi)を含んでいてよい。適切なパーソナルエリアネットワークは無線技術、たとえばIrDA(登録商標)、Bluetooth(登録商標)、ワイヤレスUSB、Z−Wave(登録商標)、ZigBee(登録商標)および/または他の近距離無線通信プロトコールを含んでいてよい。適切なパーソナルエリアネットワークは、同様に、有線コンピューターバス、たとえばUSBおよびFireWire(登録商標)を含んでいてよい。適切なセルラネットワークは、LTE(登録商標)、WiMAX(登録商標)、UMTS、CDMAおよびGSM(登録商標)等の技術を含んでいてよいが、これに制限されない。
引き続き図2を参照すると、上述のように、ネットワーク205は、システム200、より詳細にはレーザー機械100を計算デバイス201と通信可能に接続するために利用されてよい。計算デバイス201は、処理ユニット202、入力デバイス203およびディスプレイ204を含んでいてよく、これらのそれぞれは相互に通信可能に接続されていてよい、かつ/またはネットワーク205に通信可能に接続されていてよい。計算デバイス201は、レーザー機械100とインターフェースで接続するために使用されてよい。たとえば、ユーザーが、計算デバイス201を使用して、レーザー機械100によって基材を加工するためにCNCコードを選択し、ロードしてよい。自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させるために、計算デバイス201が、パワーメータ170から信号を受信してもよい。計算デバイス201は、レーザー機械100を制御するために使用されてもよく、そうでなければシステム200の機能性を監視するために使用されてもよい。
計算デバイス201は、プロセッサとメモリとを有している処理ユニット202、入力デバイス203およびディスプレイ204を含んでいてよい。メモリは機械可読メモリ(これは非一時的なプロセッサ可読メモリとも称され得る)であってよい。メモリは揮発性のメモリおよび/または不揮発性のメモリ等として構成されていてよく、(SRAM、DRAMおよび/または他のタイプのランダムアクセスメモリを含んでいる)ランダムアクセスメモリ、フラシュメモリ、レジスタ、コンパクトディスク(CD)、デジタル多用途ディスク(DVD)および/または他のタイプのストレージコンポーネントを含んでいてよい。さらに、メモリは、CNCコード、レーザー機械のための相関係数および本明細書においてより詳細に説明されるように動作ロジックを格納するように構成されていてよい。
プロセッサは、(データストレージコンポーネントおよび/またはメモリ等から)プログラミング命令を受け取って実行するように構成されている任意の処理コンポーネントを含んでいてよい。命令は、データストレージコンポーネントおよび/またはメモリに格納されている機械可読命令セットの形態であってよい。入力デバイス203は、キーボード、マウス、カメラ、マイクロフォン、スピーカおよび/またはデータを受信する他のデバイスを含んでいてよい。計算デバイス201は、ネットワーク205およびレーザー機械100との通信を可能にするためにネットワークインターフェースハードウェアを含んでいてもよい。
計算デバイス201がパーソナルコンピュータとして示されているが、これらは単に例であるということを理解されたい。より詳細には、幾つかの実施形態では、任意のタイプの計算デバイス(たとえばモバイル計算デバイス、パーソナルコンピュータ、サーバ等)が、計算デバイス201に対して利用されてよい。さらに、図2では、計算デバイス201はハードウェアの1つの部品として示されているが、これも例である。より詳細には、計算デバイス201は、複数のコンピュータ、サーバ、データベース等であってよい。
ここで以降の段落は、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させるシステム200の動作の実施形態を説明する。
図3Aおよび図3Bを参照すると、本明細書において説明されている1つ以上の実施形態に従った、レーザー機械100の加工用ベッド160からの種々の距離(d1,d2)にあるレーザーヘッド110の概略的な断面図が示されている。図3Aおよび図3Bは、レーザービーム150を出力するレーザーヘッド110を示している。レーザービーム150は、上部にレーザースポットが形成される加工用ベッド160の表面に入射する。図3Aに示されているように、レーザーヘッド110が加工用ベッド160からの第1の距離d1に位置付けられている場合、第1のスポットサイズを有するビームスポット155aが、第1の幅w1を有するレーザービーム150によって形成されてよい。同様に、図3Bに示されているように、レーザーヘッド110が加工用ベッド160からの第2の距離d2に位置付けられている場合、第2のスポットサイズを有するビームスポット155bが、第2の幅w2を有するレーザービーム150によって形成されてよい。したがって、幾つかの実施形態では、レーザーヘッド110と加工用ベッド160(または、レーザー加工操作の間は場合によっては基材)との間の距離(d1,d2)が増大するときに、スポットサイズ(w1,w2)が低減され得る。幾つかの実施形態では、示されてはいないが、レーザーヘッド110と加工用ベッド160(または、レーザー加工操作の間は場合によっては基材)との間の距離(d1,d2)が低減されるときに、スポットサイズ(w1,w2)が増大し得る。幾つかの実施形態では、示されてはいないが、レーザーヘッド110と加工用ベッド160との間の距離(d1,d2)が増大するときに、スポットサイズ(w1,w2)も増大し得る。さらに別の実施形態では、レーザーヘッド110と加工用ベッド160との間の距離(d1,d2)が低減されるときに、スポットサイズ(w1,w2)も低減され得る。
レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させるために、レーザー機械100は、所定の距離d(図1)で1つ以上のパワープロファイリング測定を完了するように構成されていてよい。さらに、レーザー機械の作業範囲にわたってレーザー機械を特徴付けるために、2つ以上のパワープロファイリング測定が、少なくとも2つの異なる距離(d1,d2)で完了されてよい。
ここで、1つ以上のパワープロファイリング測定を利用することによって、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dと相関させる方法を詳細に説明する。全般的に、加工用ベッド160および/またはパワーメータ170に入射したスポットサイズ(すなわちビーム幅)を決定するために、パワーメータ170によって生成されたパワー信号からパワープロファイルが作成され得るように、レーザービーム150がナイフエッジ185上で動かされてよい。レーザービーム150のスポットサイズ(すなわちビーム幅)をパワープロファイルから計算することができる。
ここで、図4を参照すると、1つ以上の実施形態に従った、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる例示的な方法のフローチャートが示されている。この方法のステップは、プロセッサがこれらのステップにアクセスし、これらのステップを実行し得るように電子制御ユニットまたは計算デバイスのメモリに格納されている機械可読命令のセットにおいて定められていてよい。ステップ402において、レーザーヘッドが、パワーメータからの距離dに位置付けられてよい。これは、水平部材の上方への動きおよび/または下方への動きを制御することによって実現されてよく、これによって、加工用ベッドからのレーザーヘッドの距離を調整する。上述のように、この距離は、原点復帰させられた位置からのステッピングモータの回転度に基づいて、または測距デバイスを利用することによって確認されてよい。測距デバイスは、レーザーヘッドから加工用ベッド(たとえば、パワーメータが加工用ベッド内に統合されているときにはパワーメータ)までの距離dに対応する信号を提供してよい。ステップ404において、電子制御ユニットが、レーザーヘッドからレーザービームを出力させてよい。ステップ406において、レーザービームがパワーメータの阻止部分からナイフエッジを横断してパワーメータの透過部分へ並進移動させられ得るように、レーザーヘッドがパワーメータにわたって並進移動させられてよい。幾つかの実施形態では、ステップ406において、レーザービームがパワーメータの透過部分からナイフエッジを横断してパワーメータの阻止部分へ並進移動させられ得るように、レーザーヘッドがパワーメータにわたって並進移動させられてよい。すなわち、レーザーヘッドを通じて出力されたレーザービームのプロファイルを生成するために、レーザーヘッドを阻止部分と透過部分との間でナイフエッジを横断して並進移動させるようにシステムおよび/または装置が構成されていてよい。手短に再び図1を参照すると、たとえば、レーザーヘッドとレーザーヘッドから出力されたレーザービームとが、加工用ベッド内に統合されているパワーメータとナイフエッジとにわたって並進移動させられるように、操縦可能な支持体の垂直部材が自動的に、ステッピングモータ等によって、支持構造体に沿って、+X方向および−X方向において動かされてよい。ステップ408において、レーザービームがパワーメータにわたって並進移動させられているときに、パワーメータは、レーザービームのパワー値に相応するパワー信号を生成する。パワーメータによって生成された各パワー信号は、レーザービームにおける(たとえば図1における−X方向における)シフト(たとえばマイクロメータステップ)に対応する。電子制御ユニットおよび/または計算デバイスは、パワー信号を受信してよい。ステップ410において、電子制御ユニットおよび/または計算デバイスは、パワーメータから受信したパワー信号に基づいてレーザービームのスポットサイズ(これはビーム幅とも称され得る)を計算してよい。レーザービームのスポットサイズを計算する方法は、図5を参照してより詳細に説明する。
ステップ412において、計算されたスポットサイズと、対応する、パワーメータまでのレーザーヘッドの距離dとが電子制御ユニットおよび/または計算デバイスのメモリまたはデータストレージデバイスに格納されてよい。計算されたスポットサイズは、後に、特定のレーザー機械に対する、スポットサイズと距離との相関に対応する線形回帰モデルおよび関数を生成するために使用されてよい。単に1つの距離に対してではなく、特定の機械の作業可能範囲に対して、スポットサイズと、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離との間の相関が所望されている場合には、この方法はステップ414に進んでよい。ステップ414において、レーザー機械の作業範囲に対して線形回帰を生成するために、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離のセットに対して十分な数のスポットサイズ測定値が存在するか否かが判定されてよい。たとえば、2つ以上のスポットサイズ測定値と距離測定値とが、線形回帰を計算するために必要となり得る。線形回帰は、レーザー機械の作業範囲にわたるすべてのスポットサイズと距離とに対する相関を提供するだろう。幾つかの実施形態では、レーザー機械の作業範囲にわたる、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と、レーザービームスポットサイズとの間の相関を確立させるために、少なくとも3つまたは少なくとも4つの異なる距離に対して、少なくとも3つまたは少なくとも4つのスポットサイズ測定値が使用されてよい。本明細書において使用するとき、「作業範囲」は特定のレーザー機械のレーザーヘッドの潜在的な+Z変位および−Z変位を指す。
種々の、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離に対して、十分なスポットサイズ測定値が存在する場合には、次にステップ416において、距離に対するスポットサイズの関係の線形回帰が計算される。特定のレーザー機械に対する電子制御ユニットおよび/または計算デバイスに格納されている種々の距離に対して不十分な数のスポットサイズ測定値が存在している場合には、ステップ418において、別のレーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dが決定されてよく、第2のレーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離dに対する別のスポットサイズ測定値を取得するために、プロセスはステップ402に戻る。
幾つかの実施形態では、システムは、並進移動と、複数の距離からのレーザービームパワーの測定とを順に自動的に実行するように事前構成されていてよい。たとえば、切断プロセスの前にレーザー機械が初期化されると、これらのステップが実行されて、相関(すなわち、レーザー機械の作業範囲内の、加工用ベッドまでのレーザーヘッドのすべての距離と、各々に対する、生成されたスポットサイズとの間の関係を表す線形関数または多項式関数)が計算されてよい。線形回帰の計算に基づいた、計算された相関は線形関数を表していてよく、計算された相関は古い相関と比較可能である、または後続の切断プロセス中の使用のために、レーザーシステムに格納可能である。新たな相関と古い相関とが異なっている場合には、古い相関が棄却されるべきか、または新たな相関またはレーザー設定に問題があり得るのかを判定するために、第3の相関が計算されてよい。
ここで図5を参照すると、1つ以上の実施形態に従った、自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる例示的な方法のフローチャートが示されている。特に、このフローチャートに示されている方法は、パワーメータから受信したパワー信号からレーザービームのスポットサイズを計算するより詳細な例を提供する。ステップ502において、電子制御ユニットおよび/または計算デバイスは、パワーメータから受信したパワー信号からパワー値を決定してよい。ステップ504において、レーザービームの任意の部分がナイフエッジを横断して、レーザービームが完全にパワーメータの透過部分内にある(すなわち、パワーの最大量が、パワーメータによってセンシングされている)ポイントへ並進移動させられる前に収集されたパワー値から、パワー値の選択間隔が抽出される。幾つかの実施形態では、パワー値は、測定された最大パワーの第1のパーセンテージと測定された最大パワーの第2のパーセンテージとによって定められた間隔内で収集される。たとえば、第1のパーセンテージ値と第2のパーセンテージ値とが異なるように、第1のパーセンテージは、測定された最大パワーの0%から、測定された最大パワーの100%までの任意の値であってよく、第2のパーセンテージは、測定された最大パワーの0%から、測定された最大パワーの100%までの任意の値であってよい。より詳細には、第1のパーセンテージは測定された最大パワーの約5%、6%、7%、8%、9%、10%、11%、12%、13%、14%、15%、16%、17%、18%、19%または20%であってよい。実施形態では、第1のパーセンテージは測定された最大パワーの約15.0%、15.1%、15.2%、15.3%、15.4%、15.5%、15.6%、15.7%、15.8%、15.9%または16.0%または任意選択的に15.87%であってよい。第2のパーセンテージは測定された最大パワーの約75%、76%、77%、78%、79%、80%、81%、82%、83%、84%、85%、86%、87%、88%、89%、90%、91%、92%、93%、94%または95%であってよい。実施形態では、第2のパーセンテージは測定された最大パワーの約84.0%、84.1%、84.2%、84.3%、84.4%、84.5%、84.6%、84.7%、84.8%、84.9%、85.0%または任意選択的に84.14%であってよい。
ステップ506において、スポットサイズを決定するために、パワー値が誤差関数または多項式へとフィッティングされてよい。より詳細には、パワー値が誤差関数または多項式にフィッティングされると、第1のパーセンテージ値と関連するパワー値から第2のパーセンテージ値と関連するパワー値へのレーザービームのシフト(たとえばx方向のシフト、図1を参照)の絶対値によってスポットサイズが決定されてよい。誤差関数は以下の式1によって定められてよい。
幾つかの実施形態では、以下の式2を利用して、2つの隣接するデータポイントを微分することによって、スポットサイズの幅が決定されてよい。
式2によって、ビームにおける、特定のポイントxでのパワーが表される。このタイプの導関数は、1/e2半径、すなわちrを見つけるための2つの選択肢を起点として計算されてよい。第1の選択肢では、e2によって、最大値を微分プロットに分割し、ポイント間の直線外挿によって対応するr値を見つけ出すことによって見積もりが行われてよい。第2の選択肢は、データへのガウス関数のフィッティングを伴う。これによって、このフィッティングに関連する実験誤差を評価することが可能になる。
図6は、種々の、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離で生成されたパワープロファイル曲線(すなわち、誤差関数を使用してフィッティングされたパワー値)を示すグラフを通じてプロセスを説明することによって、スポットサイズの決定のより包括的な説明を提供している。さらに、後で説明される図7A、図7Bおよび図7Cは、レーザービームが阻止部分から、ナイフエッジを横断して透過部分へと並進移動する際のレーザービームの実例を提供している。図7A、図7Bおよび図7Cの各々は、図6に示された例示的なグラフ上に示されている場所A、BおよびCに対応する。図6を参照すると、例示的なグラフは、4つの異なる、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離(d1,d2,d3,d4)に対する、4つのパワープロファイル曲線を含んでいる。スポットサイズ(たとえばスポットサイズの幅および/または直径)を決定するために、最大パワー値の第1のパーセンテージに対するパワー値および第2のパーセンテージに対するパワー値が決定される。たとえば、18Wが最大パワー値であり、第1のパーセンテージが15.87%であると想定する場合、第1のパワー値は2.856Wである。実例のために、水平な線が、15.87%によって示されている、グラフ上の2.856Wの第1のパワー値に引かれている。次に、84.14%の第2のパーセンテージが、15.14Wの第2のパワー値を定めている。ここでも、実例のために、第2のパワー値15.14Wに線が引かれており、これはパワープロファイル曲線と交差する(すなわち、84.14%によって示されている)。最大パワーの第1のパーセンテージおよび第2のパーセンテージと、各距離(d1,d2,d3,d4)でレーザーヘッドによって出力された各レーザービームに対するパワープロファイル曲線との交差点を取ることによって、対応するレーザースポットサイズが決定されてよい。すなわち、レーザーヘッドが距離d1にある場合、レーザービームはスポットサイズw1を有し、レーザーヘッドが距離d2にある場合、レーザービームはスポットサイズw2を有し、レーザーヘッドが距離d3にある場合、レーザービームはスポットサイズw3を有し、レーザーヘッドが距離d4にある場合、レーザービームはスポットサイズw4を有する。
スポットサイズ(w1,w2,w3,w4)は、パワーメータが第1のパワー値を測定した第1のX軸値から、パワーメータが第2のパワー値を測定した第2のX軸値への、(たとえば図1に示されている)X軸に沿ったレーザーヘッドの横方向の動きに対応する、レーザービームの変位から決定されてよい。本明細書において言及するとき、第2のX軸値と第1のX軸値との間の差は、「X方向のシフト」と称される。例として、距離d1でのレーザービームに対するパワープロファイル曲線を取ると、第1のパワー値での第1のX軸値は約2.7であり、第2のパワー値での第2のX軸値は約3.8である。したがって、第1のX軸値(すなわち2.7)から第2のX軸値(すなわち3.8)を減算することによってX方向のシフトが決定されてよく、これは結果として1.1になる。距離d1でのレーザービームのスポットサイズは1.1単位である。図6が測定の単位を含んでいないことに留意されたい。なぜなら、この図表は単に、スポットサイズを決定するための実例だからである。しかし、X方向のシフトは、測定されるレーザーのタイプおよび集光光学系に関連して、マイクロメートル、ミリメートル、センチメートル等のオーダーでの距離の測定の単位を指定してよい。
上述したように、図7A、図7Bおよび図7Cは、レーザービームが阻止部分からナイフエッジを横断して透過部分へと並進移動する際のレーザービームの実例を示している。図7A、図7Bおよび図7Cの各々は、図6に示された例示的なグラフ上に示されている場所A、BおよびCに対応する。図7Aは、図6のグラフ上の場所Aに対応し、これは、ゼロのパワー値を示している。なぜなら、レーザービーム150は完全に、ナイフエッジプレート180の阻止部分172上にあるからである。ナイフエッジプレート180は、パワーメータ170へのレーザービームの透過を阻止する。図7Bは、図6のグラフ上の場所Bに対応し、これは、レーザービームの半分が阻止部分172内にあり、残りの半分が透過部分174の方へナイフエッジ185を超えたポイントを表している。透過部分174によって、レーザービームがパワーメータ170へ透過することが可能になり、したがって、グラフは、約9Wのパワー値を示している(すなわち、最大パワー値の約1/2)。図7Cは、図6のグラフ上の場所Cに対応し、これは、レーザービームが完全に透過部分174内にあり、パワーメータが最大パワーレベルを検出している位置を表している。
図8を手短に参照すると、スポットサイズと、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離との間の相関の例示的な表現が示されている。特に、線形回帰710が決定され、グラフを用いて示されている。ここでは、スポットサイズの実際の測定値が存在していないことがあっても、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離各々に対して、対応するスポットサイズが決定されていてよい。
幾つかの実施形態では、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と、特定の機械のレーザービームのスポットサイズとの間の相関が決定されると、この相関が電子制御ユニットのメモリ内に格納され、基材の加工時に使用されてよい。たとえば、レーザー機械上でのレーザー切断プロセスのためにCNCコードがアップロードされてよい。CNCコードは、レーザー切断プロセスの間に使用するために1つ以上のスポットサイズを指定してよく、これと並んで切断操作を実行するためにX軸並進移動ステップ幅およびY軸並進移動ステップ幅を指定してよい。レーザー機械の電子制御ユニットがCNCコードを実行すると、レーザー機械は、レーザービームの必要なスポットサイズを生成するためにレーザーヘッドのZ軸位置(すなわち、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離)を設定するために、レーザー機械に対して決定された相関係数または式を利用してよい。
上述のように、Z軸の位置付けとともに、またはZ軸の位置付けの代わりに、スポットサイズをパラメータとして使用することによって、レーザーによって特定のスポットサイズを生成するために、種々の、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離を必要とし得る種々のレーザー機械にCNCコードが容易に実装されてよい。たとえば、第1のレーザー機械は、幅Wを有するレーザービームスポットサイズを生成するために、Z軸位置が第1の距離に設定されていることを必要とし得る。第2のレーザー機械は、同じ幅Wを有するレーザービームスポットサイズを生成するために、Z軸位置が第2の距離に設定されていることを必要とし得る。全般的に、CNCコードは、各レーザー機械に対して特有に書かれる必要があるだろう、または各レーザー機械へのアップロード時に手動で更新および/また較正される必要があるだろう。しかし、本明細書において説明されたシステムおよび方法を使用することによって、付加的な較正ステップまたは調整ステップを行わず、同じCNCコードが種々のレーザー機械にアップロードされてよい。
さらなる例として、基材を加工するためのレーザー機械の初期化時に、機械が自動的に、加工用ベッドから異なる距離にあるレーザーヘッドによる、ナイフエッジおよびパワーメータ上のレーザーの2回以上の通過を実行してよい。レーザー機械の電子制御ユニットは、パワーメータからパワー信号を受信し、初期化プロセス中の各距離走行に対するスポットサイズを決定してよい。次に、各距離に対する、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離とスポットサイズとの間の相関が決定され、電子制御ユニットのメモリ内に格納されてよい。所定の厚さを有する基材が、加工用ベッド上に位置付けられ、基材の所望の加工のためのCNCコードが電子制御ユニット内へロードされてよい。電子制御ユニットがCNCコードを実行し、基材を加工するときに、基材を加工するためのCNCコードにおいて定められているレーザービームスポットサイズの生成に必要な、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離(たとえばZ軸位置)を決定するために、電子制御ユニットは、相関(たとえば係数または式)にアクセスし得る。ある状況では、レーザービームスポットサイズを加工用ベッドの表面から基材の表面へ(すなわちZ軸に沿って)並進移動させるために、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離が、基材の所定の厚さぶんオフセットされてよい。なぜなら、ナイフエッジおよびパワーメータが統合されている、加工用ベッドの表面で、相関が決定されていることがあるからである。
ここで、レーザービームを阻止部分172からナイフエッジを横断して透過部分174へ並進移動させることによって、パワープロファイルがレーザービームに対して生成されてよいということを理解されたい。このパワープロファイルから、レーザービームのスポットサイズ(すなわち幅または直径)が、特定の、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離に対して決定されてよい。このようなデータポイントは、後の照合または分析のために、電子制御ユニットおよび/または計算デバイスのメモリ内に格納されていてよい。データポイントの分析は、データポイントのセットに対する線形回帰の決定を含んでいてよく、これによって、距離値とスポットサイズとの間の相関が、レーザー機械の作業範囲に対して生成される。この相関によって、基材を加工(たとえば切断)するためのCNCコードを、あるレーザー機械から別のレーザー機械へと自由に移すことが可能になる。すなわち、スポットサイズが、対応する、特定の機械に対するレーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させられてよい。たとえば、実施形態では、1つの機械が第1の距離を使用してスポットサイズを生成してよく、他方で第2のレーザー機械が、第2の距離を使用して同じスポットサイズを生成してよい。相関(たとえば、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離とスポットサイズとの間の計算された関係を表す線形関数または多項式関数)を使用することによって、種々のレーザー機械によって所望のスポットサイズが生成されてよい。この際に、各特定のレーザー機械に対するCNCコードを変更する必要はない。
用語「実質的に」および「約」は、本明細書では、任意の定量的な比較、値、測定値または他の表現に帰属し得る固有の不確実性の程度を表すために利用されていてよいということに留意されたい。これらの用語は、本明細書において、論争の対象の基本的な機能の変化を結果としてもたらすことなく、記載された基準から定量的な表現が変化し得る程度を表すためにも利用される。
本明細書において特定の実施形態を図示し、説明したが、特許請求の範囲に記載された対象の精神および範囲を逸脱することなく、種々の他の変更および修正が行われ得るということを理解されたい。さらに、本明細書において、特許請求の範囲に記載された対象の種々の態様が説明されたが、このような態様が組み合わせて利用される必要はない。したがって、従属請求項が、特許請求の範囲に記載された対象の範囲内のすべてのこのような変更および修正を包含することが意図されている。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態1
レーザーシステムであって、
電子制御ユニットと、
操縦可能な支持体と、
レーザーヘッドと、
加工用ベッドと、
パワーメータと、
ナイフエッジプレートと、
機械可読命令セットとを含んでおり、
前記電子制御ユニットは、プロセッサと非一時的な機械可読メモリとを含んでおり、
前記操縦可能な支持体は、前記電子制御ユニットによって生成された制御信号が前記操縦可能な支持体の動きを制御するように前記電子制御ユニットに通信可能に接続されており、
前記レーザーヘッドは、レーザービームを出力するように構成されており、
前記加工用ベッドは、前記レーザーヘッドによって出力された前記レーザービームが前記加工用ベッド上に配向されるように前記レーザーヘッドの反対側に位置付けられており、
前記パワーメータは、前記電子制御ユニットに通信可能に接続されており、かつ前記加工用ベッド内に統合されており、
前記ナイフエッジプレートは、前記パワーメータと前記レーザーヘッドとの間に位置付けられており、ここで前記ナイフエッジプレートは、前記パワーメータにわたって延在しているナイフエッジによって定められる阻止部分と透過部分とを形成し、
前記機械可読命令セットは前記非一時的な機械可読メモリに格納されており、前記プロセッサによる実行時に、前記レーザーシステムに、少なくとも
前記パワーメータからの第1の距離に前記レーザーヘッドを位置付けること、
前記レーザーヘッドに前記レーザービームを出力させること、
前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記パワーメータにわたって前記レーザーヘッドを並進移動させること、
前記レーザービームが前記パワーメータにわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータからパワー信号を受信すること、および
前記パワーメータから受信した前記パワー信号に基づいて前記レーザービームのスポットサイズを計算すること
を実行させる、レーザーシステム。
レーザーシステムであって、
電子制御ユニットと、
操縦可能な支持体と、
レーザーヘッドと、
加工用ベッドと、
パワーメータと、
ナイフエッジプレートと、
機械可読命令セットとを含んでおり、
前記電子制御ユニットは、プロセッサと非一時的な機械可読メモリとを含んでおり、
前記操縦可能な支持体は、前記電子制御ユニットによって生成された制御信号が前記操縦可能な支持体の動きを制御するように前記電子制御ユニットに通信可能に接続されており、
前記レーザーヘッドは、レーザービームを出力するように構成されており、
前記加工用ベッドは、前記レーザーヘッドによって出力された前記レーザービームが前記加工用ベッド上に配向されるように前記レーザーヘッドの反対側に位置付けられており、
前記パワーメータは、前記電子制御ユニットに通信可能に接続されており、かつ前記加工用ベッド内に統合されており、
前記ナイフエッジプレートは、前記パワーメータと前記レーザーヘッドとの間に位置付けられており、ここで前記ナイフエッジプレートは、前記パワーメータにわたって延在しているナイフエッジによって定められる阻止部分と透過部分とを形成し、
前記機械可読命令セットは前記非一時的な機械可読メモリに格納されており、前記プロセッサによる実行時に、前記レーザーシステムに、少なくとも
前記パワーメータからの第1の距離に前記レーザーヘッドを位置付けること、
前記レーザーヘッドに前記レーザービームを出力させること、
前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記パワーメータにわたって前記レーザーヘッドを並進移動させること、
前記レーザービームが前記パワーメータにわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータからパワー信号を受信すること、および
前記パワーメータから受信した前記パワー信号に基づいて前記レーザービームのスポットサイズを計算すること
を実行させる、レーザーシステム。
実施形態2
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、前記スポットサイズおよび前記第1の距離を前記非一時的な機械可読メモリに格納することを実行させる、実施形態1記載のレーザーシステム。
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、前記スポットサイズおよび前記第1の距離を前記非一時的な機械可読メモリに格納することを実行させる、実施形態1記載のレーザーシステム。
実施形態3
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記パワーメータからの第2の距離に前記レーザーヘッドを位置付けること、
前記レーザーヘッドに前記レーザービームを出力させること、
前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記パワーメータにわたって前記レーザーヘッドを並進移動させること、
前記レーザービームが前記パワーメータにわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータから前記パワー信号を受信すること、
前記パワーメータから受信した前記パワー信号に基づいて前記第2の距離での前記レーザービームの第2のスポットサイズを計算すること、および
前記第2のスポットサイズおよび前記第1の距離を前記非一時的な機械可読メモリに格納すること
を実行させる、実施形態1または2記載のレーザーシステム。
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記パワーメータからの第2の距離に前記レーザーヘッドを位置付けること、
前記レーザーヘッドに前記レーザービームを出力させること、
前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記パワーメータにわたって前記レーザーヘッドを並進移動させること、
前記レーザービームが前記パワーメータにわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータから前記パワー信号を受信すること、
前記パワーメータから受信した前記パワー信号に基づいて前記第2の距離での前記レーザービームの第2のスポットサイズを計算すること、および
前記第2のスポットサイズおよび前記第1の距離を前記非一時的な機械可読メモリに格納すること
を実行させる、実施形態1または2記載のレーザーシステム。
実施形態4
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記スポットサイズと、前記第1の距離と、前記第2のスポットサイズと、前記第2の距離とに対応するデータポイントを検索すること、および
前記データポイントの間の線形回帰を計算すること
を実行させ、前記線形回帰は、前記レーザーヘッドから前記加工用ベッドまでとして定められた距離に対する前記スポットサイズの相関係数を定める、実施形態3記載のレーザーシステム。
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記スポットサイズと、前記第1の距離と、前記第2のスポットサイズと、前記第2の距離とに対応するデータポイントを検索すること、および
前記データポイントの間の線形回帰を計算すること
を実行させ、前記線形回帰は、前記レーザーヘッドから前記加工用ベッドまでとして定められた距離に対する前記スポットサイズの相関係数を定める、実施形態3記載のレーザーシステム。
実施形態5
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記パワーメータから受信した前記パワー信号からパワー値を決定すること、
最大パワー値の第1のパーセンテージで生じている第1のパワー値と、前記最大パワー値の第2のパーセンテージで生じている第2のパワー値とを決定すること、および
前記第1のパワー値から前記第2のパワー値への移行の間の前記レーザービームの変位に基づいて前記スポットサイズを決定すること
を実行させる、実施形態1記載のレーザーシステム。
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記パワーメータから受信した前記パワー信号からパワー値を決定すること、
最大パワー値の第1のパーセンテージで生じている第1のパワー値と、前記最大パワー値の第2のパーセンテージで生じている第2のパワー値とを決定すること、および
前記第1のパワー値から前記第2のパワー値への移行の間の前記レーザービームの変位に基づいて前記スポットサイズを決定すること
を実行させる、実施形態1記載のレーザーシステム。
実施形態6
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記パワー信号からの前記パワー値を誤差関数へとフィッティングすること
を実行させる、実施形態5記載のレーザーシステム。
前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記パワー信号からの前記パワー値を誤差関数へとフィッティングすること
を実行させる、実施形態5記載のレーザーシステム。
実施形態7
測距デバイスをさらに含んでおり、
前記測距デバイスは、前記レーザーヘッドから前記加工用ベッドまでの前記第1の距離に対応する距離信号を生成するように構成されており、前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記測距デバイスからの前記距離信号に基づいて前記パワーメータからの前記第1の距離に前記レーザーヘッドを調整することを実行させる、実施形態1から6までのいずれか1つ記載のレーザーシステム。
測距デバイスをさらに含んでおり、
前記測距デバイスは、前記レーザーヘッドから前記加工用ベッドまでの前記第1の距離に対応する距離信号を生成するように構成されており、前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサに、
前記測距デバイスからの前記距離信号に基づいて前記パワーメータからの前記第1の距離に前記レーザーヘッドを調整することを実行させる、実施形態1から6までのいずれか1つ記載のレーザーシステム。
実施形態8
前記レーザーヘッドはレーザーを含んでおり、前記レーザーはCO2レーザーである、実施形態1から7までのいずれか1つ記載のレーザーシステム。
前記レーザーヘッドはレーザーを含んでおり、前記レーザーはCO2レーザーである、実施形態1から7までのいずれか1つ記載のレーザーシステム。
実施形態9
前記パワーメータはサーモパイルパワーセンサを含んでいる、実施形態1から8までのいずれか1つ記載のレーザーシステム。
前記パワーメータはサーモパイルパワーセンサを含んでいる、実施形態1から8までのいずれか1つ記載のレーザーシステム。
実施形態10
自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる方法であって、前記方法は、
加工用ベッド内に統合されているパワーメータを含んでいる前記加工用ベッドからの第1の距離にレーザーヘッドを位置付けるステップ、
前記レーザーヘッドに前記レーザービームを出力させるステップ、
前記レーザービームが阻止部分からナイフエッジを横断して透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記パワーメータにわたって前記レーザーヘッドを並進移動させるステップ、
前記レーザービームが前記パワーメータにわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータからパワー信号を受信するステップ、および
前記パワーメータから受信した前記パワー信号に基づいて前記レーザービームの前記スポットサイズを計算するステップ
を含んでいる、方法。
自動的に、レーザービームのスポットサイズを測定し、レーザーヘッドから加工用ベッドまでの距離と相関させる方法であって、前記方法は、
加工用ベッド内に統合されているパワーメータを含んでいる前記加工用ベッドからの第1の距離にレーザーヘッドを位置付けるステップ、
前記レーザーヘッドに前記レーザービームを出力させるステップ、
前記レーザービームが阻止部分からナイフエッジを横断して透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記パワーメータにわたって前記レーザーヘッドを並進移動させるステップ、
前記レーザービームが前記パワーメータにわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータからパワー信号を受信するステップ、および
前記パワーメータから受信した前記パワー信号に基づいて前記レーザービームの前記スポットサイズを計算するステップ
を含んでいる、方法。
実施形態11
前記スポットサイズおよび前記第1の距離を非一時的な機械可読メモリに格納するステップをさらに含んでいる、実施形態10記載の方法。
前記スポットサイズおよび前記第1の距離を非一時的な機械可読メモリに格納するステップをさらに含んでいる、実施形態10記載の方法。
実施形態12
前記パワーメータからの第2の距離に前記レーザーヘッドを位置付けるステップ、
前記レーザーヘッドに前記レーザービームを出力させるステップ、
前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記パワーメータにわたって前記レーザーヘッドを並進移動させるステップ、
前記レーザービームが前記パワーメータにわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータから前記パワー信号を受信するステップ、
前記パワーメータから受信した前記パワー信号に基づいて前記第2の距離での前記レーザービームの第2のスポットサイズを計算するステップ、および
前記第2のスポットサイズおよび前記第2の距離を非一時的な機械可読メモリに格納するステップ
をさらに含んでいる、実施形態10または11記載の方法。
前記パワーメータからの第2の距離に前記レーザーヘッドを位置付けるステップ、
前記レーザーヘッドに前記レーザービームを出力させるステップ、
前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記パワーメータにわたって前記レーザーヘッドを並進移動させるステップ、
前記レーザービームが前記パワーメータにわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータから前記パワー信号を受信するステップ、
前記パワーメータから受信した前記パワー信号に基づいて前記第2の距離での前記レーザービームの第2のスポットサイズを計算するステップ、および
前記第2のスポットサイズおよび前記第2の距離を非一時的な機械可読メモリに格納するステップ
をさらに含んでいる、実施形態10または11記載の方法。
実施形態13
前記スポットサイズと、前記第1の距離と、前記第2のスポットサイズと、前記第2の距離とに対応するデータポイントを検索するステップ、および
前記データポイントの間の線形回帰を計算するステップ
をさらに含んでおり、前記線形回帰は、前記加工用ベッドまでの前記レーザーヘッドの距離に対する前記スポットサイズの相関係数を定める、実施形態12記載の方法。
前記スポットサイズと、前記第1の距離と、前記第2のスポットサイズと、前記第2の距離とに対応するデータポイントを検索するステップ、および
前記データポイントの間の線形回帰を計算するステップ
をさらに含んでおり、前記線形回帰は、前記加工用ベッドまでの前記レーザーヘッドの距離に対する前記スポットサイズの相関係数を定める、実施形態12記載の方法。
実施形態14
前記パワーメータから受信した前記パワー信号からパワー値を決定するステップ、
最大パワー値の第1のパーセンテージで生じている第1のパワー値と、前記最大パワー値の第2のパーセンテージで生じている第2のパワー値とを決定するステップ、および
前記第1のパワー値から前記第2のパワー値への移行の間の前記レーザービームの変位に基づいて前記スポットサイズを決定するステップ
をさらに含んでいる、実施形態10記載の方法。
前記パワーメータから受信した前記パワー信号からパワー値を決定するステップ、
最大パワー値の第1のパーセンテージで生じている第1のパワー値と、前記最大パワー値の第2のパーセンテージで生じている第2のパワー値とを決定するステップ、および
前記第1のパワー値から前記第2のパワー値への移行の間の前記レーザービームの変位に基づいて前記スポットサイズを決定するステップ
をさらに含んでいる、実施形態10記載の方法。
実施形態15
前記パワー信号からの前記パワー値を誤差関数へとフィッティングするステップをさらに含んでいる、実施形態14記載の方法。
前記パワー信号からの前記パワー値を誤差関数へとフィッティングするステップをさらに含んでいる、実施形態14記載の方法。
実施形態16
前記加工用ベッドまでの前記レーザーヘッドからの前記第1の距離に対応する前記距離信号を生成するように構成されている測距デバイスからの距離信号に基づいて前記第1の距離に前記レーザーヘッドを調整するステップをさらに含んでいる、実施形態10から15までのいずれか1つ記載の方法。
前記加工用ベッドまでの前記レーザーヘッドからの前記第1の距離に対応する前記距離信号を生成するように構成されている測距デバイスからの距離信号に基づいて前記第1の距離に前記レーザーヘッドを調整するステップをさらに含んでいる、実施形態10から15までのいずれか1つ記載の方法。
実施形態17
前記レーザーヘッドはレーザーを含んでおり、前記レーザーはCO2レーザーである、実施形態10から16までのいずれか1つ記載の方法。
前記レーザーヘッドはレーザーを含んでおり、前記レーザーはCO2レーザーである、実施形態10から16までのいずれか1つ記載の方法。
実施形態18
前記パワーメータはサーモパイルパワーセンサを含んでいる、実施形態10から17までのいずれか1つ記載の方法。
前記パワーメータはサーモパイルパワーセンサを含んでいる、実施形態10から17までのいずれか1つ記載の方法。
実施形態19
レーザー切断装置であって、
操縦可能な支持体と、
レーザーヘッドと、
加工用ベッドと、
パワーメータと、
ナイフエッジプレートとを含んでおり、
前記レーザーヘッドは、前記操縦可能な支持体と結合されており、かつレーザービームを出力するように構成されており、
前記加工用ベッドは、前記レーザーヘッドによって出力された前記レーザービームが前記加工用ベッド上に配向されるように前記レーザーヘッドの反対側に位置付けられており、
前記パワーメータは、前記加工用ベッド内に統合されており、
前記ナイフエッジプレートは、前記パワーメータと前記レーザーヘッドとの間に位置付けられており、ここで前記ナイフエッジプレートは、前記パワーメータにわたって延在しているナイフエッジによって定められる阻止部分と透過部分とを形成する、レーザー切断装置。
レーザー切断装置であって、
操縦可能な支持体と、
レーザーヘッドと、
加工用ベッドと、
パワーメータと、
ナイフエッジプレートとを含んでおり、
前記レーザーヘッドは、前記操縦可能な支持体と結合されており、かつレーザービームを出力するように構成されており、
前記加工用ベッドは、前記レーザーヘッドによって出力された前記レーザービームが前記加工用ベッド上に配向されるように前記レーザーヘッドの反対側に位置付けられており、
前記パワーメータは、前記加工用ベッド内に統合されており、
前記ナイフエッジプレートは、前記パワーメータと前記レーザーヘッドとの間に位置付けられており、ここで前記ナイフエッジプレートは、前記パワーメータにわたって延在しているナイフエッジによって定められる阻止部分と透過部分とを形成する、レーザー切断装置。
実施形態20
前記レーザーヘッドは、前記レーザービームを出力し、
前記操縦可能な支持体は、前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記レーザーヘッドを前記パワーメータにわたって自動的に並進移動させるように構成されており、
前記パワーメータは、前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられているときに、前記レーザービームに対応するパワー信号を生成する、実施形態19記載のレーザー切断装置。
前記レーザーヘッドは、前記レーザービームを出力し、
前記操縦可能な支持体は、前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられるように、または前記レーザービームが前記透過部分から前記ナイフエッジを横断して前記阻止部分へ並進移動させられるように、前記レーザーヘッドを前記パワーメータにわたって自動的に並進移動させるように構成されており、
前記パワーメータは、前記レーザービームが前記阻止部分から前記ナイフエッジを横断して前記透過部分へ並進移動させられているときに、前記レーザービームに対応するパワー信号を生成する、実施形態19記載のレーザー切断装置。
Claims (5)
- レーザーシステム(100)であって、
電子制御ユニット(230)と、
操縦可能な支持体(105)と、
レーザーヘッド(110)と、
加工用ベッド(160)と、
パワーメータ(170)と、
ナイフエッジプレート(180)と、
機械可読命令セットとを含んでおり、
前記電子制御ユニット(230)は、プロセッサ(232)と非一時的な機械可読メモリ(234)とを含んでおり、
前記操縦可能な支持体(105)は、前記電子制御ユニット(230)によって生成された制御信号が前記操縦可能な支持体(105)の動きを制御するように前記電子制御ユニット(230)に通信可能に接続されており、
前記レーザーヘッド(110)は、レーザービーム(150)を出力するように構成されており、
前記加工用ベッド(160)は、前記レーザーヘッド(110)によって出力された前記レーザービーム(150)が前記加工用ベッド(160)上に配向されるように前記レーザーヘッド(110)の反対側に位置付けられており、
前記パワーメータ(170)は、前記電子制御ユニット(230)に通信可能に接続されており、かつ前記加工用ベッド(160)内に統合されており、
前記ナイフエッジプレート(180)は、前記パワーメータ(170)と前記レーザーヘッド(110)との間に位置付けられており、ここで前記ナイフエッジプレート(180)は、前記パワーメータ(170)にわたって延在しているナイフエッジ(185)によって定められる阻止部分(172)と透過部分(174)とを形成し、
前記機械可読命令セットは前記非一時的な機械可読メモリ(234)に格納されており、前記プロセッサ(232)による実行時に、前記レーザーシステム(100)に、少なくとも
前記パワーメータ(170)からの第1の距離に前記レーザーヘッド(110)を位置付けること、
前記レーザーヘッド(110)に前記レーザービーム(150)を出力させること、
前記レーザービーム(150)が前記阻止部分(172)から前記ナイフエッジ(185)を横断して前記透過部分(174)へ並進移動させられるように、または前記レーザービーム(150)が前記透過部分(174)から前記ナイフエッジ(185)を横断して前記阻止部分(172)へ並進移動させられるように、前記パワーメータ(170)にわたって前記レーザーヘッド(110)を並進移動させること、
前記レーザービーム(150)が前記パワーメータ(170)にわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータ(170)からパワー信号を受信すること、および
前記パワーメータ(170)から受信した前記パワー信号に基づいて前記レーザービーム(150)のスポットサイズを計算すること
を実行させる、レーザーシステム(100)。 - 前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサ(232)に、
前記パワーメータ(170)からの第2の距離に前記レーザーヘッド(110)を位置付けること、
前記レーザーヘッド(110)に前記レーザービーム(150)を出力させること、
前記レーザービーム(150)が前記阻止部分(172)から前記ナイフエッジ(185)を横断して前記透過部分(174)へ並進移動させられるように、または前記レーザービーム(150)が前記透過部分(174)から前記ナイフエッジ(185)を横断して前記阻止部分(172)へ並進移動させられるように、前記パワーメータ(170)にわたって前記レーザーヘッド(110)を並進移動させること、
前記レーザービーム(150)が前記パワーメータ(170)にわたって並進移動させられているときに、前記パワーメータ(170)から前記パワー信号を受信すること、
前記パワーメータ(170)から受信した前記パワー信号に基づいて前記第2の距離での前記レーザービーム(150)の第2のスポットサイズを計算すること、および
前記第2のスポットサイズおよび前記第1の距離を前記非一時的な機械可読メモリ(234)に格納すること
を実行させる、請求項1記載のレーザーシステム(100)。 - 前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサ(232)に、
前記スポットサイズと、前記第1の距離と、前記第2のスポットサイズと、前記第2の距離とに対応するデータポイントを検索すること、および
前記データポイントの間の線形回帰を計算すること
を実行させ、前記線形回帰は、前記レーザーヘッド(110)から前記加工用ベッド(160)までとして定められた距離に対する前記スポットサイズの相関係数を定める、請求項2記載のレーザーシステム(100)。 - 前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサ(232)に、
前記パワーメータ(170)から受信した前記パワー信号からパワー値を決定すること、
最大パワー値の第1のパーセンテージで生じている第1のパワー値と、前記最大パワー値の第2のパーセンテージで生じている第2のパワー値とを決定すること、および
前記第1のパワー値から前記第2のパワー値への移行の間の前記レーザービーム(150)の変位に基づいて前記スポットサイズを決定すること
を実行させる、請求項1記載のレーザーシステム(100)。 - 前記機械可読命令セットは、実行時に、さらに、前記プロセッサ(232)に、
前記パワー信号からの前記パワー値を誤差関数へとフィッティングすること
を実行させる、請求項4記載のレーザーシステム(100)。
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