JP2021529150A - 応力プロファイルが改善されたガラス系物品 - Google Patents
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Abstract
Description
比較用の1ステップイオン交換処理によって上述のリチウムベースのガラス系基板から形成されたガラス系物品を、拡散経過モデルを用いてモデリングした。様々なIOX浴をモデリングしたが、ベース組成中のLi及びNaと化学平衡状態にあるものはなかった。イオン交換される金属は、K、Li、及びNaで構成されていた。
1ステップ(「準化学量論的」)イオン交換処理によって上述のリチウムベースのガラス系基板から形成されるガラス系基板を、拡散経過モデルを用いてモデリングした。3つのイオン(そのうちの2つが、基礎となるガラス系基板のベース組成のイオンと化学平衡状態となる)を含有する、2つの「準化学量論的」IOX浴をモデリングした。実際の拡散時間は、380℃の温度においておよそ20時間であった。
「準化学量論的」浴と従来の拡散浴とを含む2ステップイオン交換処理によって、上述のリチウムベースのガラス系基板から形成されるガラス系基板を、拡散経過モデルを用いてモデリングした。
1つの「準化学量論的」浴と2つの従来の拡散浴とを含む3ステップイオン交換処理によって、上述のリチウムベースのガラス系基板から形成されるガラス系基板を、拡散経過モデルを用いてモデリングした。
「準化学量論的」浴と従来の拡散浴とを含む2ステップイオン交換処理によって、上述のリチウムベースのガラス系基板から形成されるガラス系基板を、拡散経過モデルを用いてモデリングした。
2つの「準化学量論的」浴と1つの従来の拡散浴とを含む3ステップイオン交換処理によって、上述のリチウムベースのガラス系基板から形成されるガラス系基板を、拡散経過モデルを用いてモデリングした。
カリウム(又はガラス中に存在しない他のイオン)がガラスの内部の元々のイオンの濃度に影響を及ぼすことなく拡散できる、概ね準化学量論的な条件の様相をもたらす混合浴条件を実験によって発見するために、実験を実施した。既に説明したように、これは、ガラスの内部のイオンの比が、上述のリチウムベースのガラス系基板に関して、表面境界でNaモル%/Liモル%=0.62/0.38=〜1.63の比に維持されることを意味する。他のベース組成の基板に関して、表面境界における目標比は異なることに留意されたい。様々な浴組成を用いて多数の実験を実施し、所望の比をもたらす組成、即ちこの例の第1及び第2のIOX浴を、実験によって同定した。上述したように表面境界における上記比は、浴中の比と同一ではないため、適切な浴の組成を同定するために複数回の反復を行う可能性がある。物品内部のイオン分布は、GDOES(グロー放電発光分析装置)で測定した。ここで、混合浴に由来するカリウム(基板内に存在しないイオン)は、基板の中央のイオンを概ね不変のままとしながら、表面付近に拡散した。カリウムが拡散している領域の外側では、物品は元々のベース組成を維持し、カリウムイオンだけが、直近の外側表面にゆっくりと拡散する。
1つの「準化学量論的」浴と2つの従来の拡散浴とを含む3ステップイオン交換処理によって、上述のリチウムベースのガラス系基板からガラス物品を形成した。3つの異なる「準化学量論的」浴を試験した。得られた応力プロファイルは、屈折近接場と、表面応力に関する折原製作所製FSM‐6000LEとの組み合わせで測定した。
試験
実施例7のガラス系物品を、制御下落下プロセスで試験した。(粗面をシミュレーションするための)180グリットのサンドペーパー上に落下させられる、電話機のサイズのパックを用いて、ガラスの複数回の落下を実施した。落下試験は、周囲条件(空気、室温)で実施した。第1の落下は20cmの開始高さで実施され、この開始高さは、カバーガラスの露出面から落下面の上面までの距離を表す。カバーガラスの破損が発生しない場合、落下高さを10cm増大させてパックを再度落下させた。カバーガラスが破損するまで、10cm刻み(例えば10cm、次に20cm、次に30cm等)でパックを連続して落下させた。
1つの「準化学量論的」浴と1つの従来の拡散浴とを含む2ステップイオン交換処理によって、上述のリチウムベースのガラス系基板からガラス物品を形成した。2つの異なる「準化学量論的」浴を試験した。得られた応力プロファイルは、屈折近接場と、表面応力に関する折原製作所製FSM‐6000LEとの組み合わせで測定した。
ガラス系物品であって、
上記ガラス系物品は:
厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面;
2つのアルカリ金属酸化物を含有する、上記ガラス系物品の中央の中央組成;
上記第1の表面及び上記第2の表面のうちの一方又は両方においてゼロでない、上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの表面濃度;並びに
上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる金属酸化物であって、ゼロでない濃度を有し、上記ゼロでない濃度は、上記第1の表面から、上記金属酸化物に関する層深さ(DOL)まで変化する、金属酸化物
を含み、
上記DOLの約3倍の深さにおいて、上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度は、上記中央組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度の10%以内である、ガラス系物品。
上記DOLの約3倍の深さにおける上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの上記濃度は、上記中央組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの上記濃度の±5%である、実施形態1に記載のガラス系物品。
上記第1の表面において、上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの上記表面濃度は、上記中央組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの上記濃度の±5%である、実施形態1又は2に記載のガラス系物品。
上記ガラス系物品は、アルカリアルミノシリケート、アルカリ含有ボロシリケート、アルカリ含有アルミノボロシリケート、又はアルカリ含有ホスホシリケートを含む、実施形態1〜3のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記中央組成は、1モル%以下の、上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる金属酸化物を含む、実施形態1〜4のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物は:リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Cs)、フランシウム(Fr)、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態1〜5のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物は、リチウム及びナトリウムを含み、上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物は、カリウムである、実施形態1〜6のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記第1の表面から移行領域まで延在するスパイク領域;
テール領域まで延在する上記移行領域;及び
上記ガラス系物品の中央まで延在する上記テール領域を含む応力プロファイルを備え、
上記スパイク領域内に位置する上記応力プロファイルの全ての点は、絶対値が20MPa/マイクロメートル以上である正接を備え、
上記移行領域内に位置する上記応力プロファイルの全ての点は、絶対値が20MPa/マイクロメートル未満である正接を備え、
上記テール領域内に位置する上記応力プロファイルの全ての点は、絶対値が上記移行領域の上記正接の上記絶対値未満である正接を備える、実施形態1〜7のいずれか1つに記載のガラス系物品。
tは50マイクロメートル〜5ミリメートルである、実施形態1〜8のいずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラス系物品であって、
上記ガラス系物品は:
厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面;
2つのアルカリ金属酸化物を含有する、上記ガラス系物品の中央の中央組成;
上記第1の表面及び上記第2の表面のうちの一方又は両方においてゼロでない、上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの表面濃度;
上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる金属酸化物であって、ゼロでない濃度を有し、上記ゼロでない濃度は、上記第1の表面及び第2の表面から、上記金属酸化物の層深さ(DOL)まで変化する、金属酸化物;並びに
応力プロファイルであって、上記第1の表面から移行領域まで延在するスパイク領域と、テール領域まで延在する上記移行領域と、上記ガラス系物品の中央まで延在する上記テール領域とを含む、応力プロファイル
を含み、
上記移行領域は、上記第1の表面から約0.00625・t以上の深さにおける、少なくとも約150MPaである第1の圧縮応力と、上記第1の表面から約0.025・t以上の深さにおける、少なくとも約120MPaである第2の圧縮応力とを含む、ガラス系物品。
上記第1の圧縮応力は、上記第1の表面から約5〜10マイクロメートルの深さに位置し、かつ約150MPa〜約300MPaであり、
上記第2の圧縮応力は、上記第1の表面から約15〜20マイクロメートルの深さに位置し、かつ約120MPa〜約240MPaである、実施形態10に記載のガラス系物品。
上記ガラス系物品は、アルカリアルミノシリケート、アルカリ含有ボロシリケート、アルカリ含有アルミノボロシリケート、又はアルカリ含有ホスホシリケートを含む、実施形態10又は11に記載のガラス系物品。
上記中央組成は、1モル%以下の、上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物を含む、実施形態10〜12のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物は:リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Cs)、フランシウム(Fr)、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態10〜13のいずれか1つに記載のガラス系物品。
0.13・t以上の圧縮深さ(DOC)を備える、実施形態10〜14のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記スパイク領域内に位置する上記応力プロファイルの全ての点は、絶対値が20MPa/マイクロメートル以上である正接を備える、実施形態10〜15のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記移行領域内に位置する上記応力プロファイルの全ての点は、絶対値が20MPa/マイクロメートル未満であり、上記テール領域内に位置する上記応力プロファイルの全ての点の正接の絶対値より大きい、正接を備える、実施形態10〜16のいずれか1つに記載のガラス系物品。
約15マイクロメートル〜約20マイクロメートルの深さに位置する上記応力プロファイルの全ての点は、絶対値が20MPa/マイクロメートル未満かつ2.0MPa/マイクロメートル超である正接を備える、実施形態10〜16のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記第1の表面における表面圧縮応力は400MPa以上である、実施形態10〜18のいずれか1つに記載のガラス系物品。
上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物は、リチウム及びナトリウムを含み、上記中央組成の上記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物は、カリウムである、実施形態10〜19のいずれか1つに記載のガラス系物品。
tは50マイクロメートル〜5ミリメートルである、実施形態10〜20のいずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラス系物品であって、
上記ガラス系物品は:
厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面;
リチウム及び1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物を含有する、上記ガラス系物品の中央の中央組成;
上記第1の表面及び上記第2の表面のうちの一方又は両方においてゼロでない、リチウム及び上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物それぞれの表面濃度;
リチウム及び上記中央組成の上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる金属酸化物であって、ゼロでない濃度を有し、上記ゼロでない濃度は、上記第1の表面及び第2の表面から、上記金属酸化物の層深さ(DOL)まで変化する、金属酸化物;
約0.13・t以上の圧縮深さ(DOC);並びに
上記第1の表面から約5マイクロメートル〜10マイクロメートルの深さにおける、少なくとも150MPaである第1の圧縮応力、及び上記第1の表面から約15マイクロメートル〜約20マイクロメートルの深さにおける、少なくとも約120MPaである第2の圧縮応力を含む、ガラス系物品。
上記ガラス系物品は、アルカリアルミノシリケート、アルカリ含有ボロシリケート、アルカリ含有アルミノボロシリケート、又はアルカリ含有ホスホシリケートを含む、実施形態22に記載のガラス系物品。
上記中央組成は、1モル%以下の、リチウム及び上記中央組成の上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物を含む、実施形態22又は23に記載のガラス系物品。
リチウム及び上記中央組成の上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物は:ナトリウム(Na)、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Cs)、フランシウム(Fr)、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態22〜24のいずれか1つに記載のガラス系物品。
3〜10マイクロメートル以上の深さにおいて、リチウム及び上記中央組成の上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物の濃度は、上記ガラス系物品中の全てのアルカリ金属の5重量%以上である、実施形態22〜25のいずれか1つに記載のガラス系物品。
リチウム及び上記中央組成の上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物はカリウムであり、上記深さは10マイクロメートルである、実施形態26に記載のガラス系物品。
リチウム及び上記中央組成の上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物は、ルビジウム、セシウム、又はフランシウムであり、上記深さは3マイクロメートルである、実施形態26に記載のガラス系物品。
20マイクロメートル以上の深さにおいて、リチウム及び上記中央組成の上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物の濃度は、上記ガラス系物品中の全てのアルカリ金属の0.3重量%以上である、実施形態22〜25のいずれか1つに記載のガラス系物品。
リチウム及び上記中央組成の上記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる上記金属酸化物は、銀、金、又は銅である、実施形態29に記載のガラス系物品。
tは50マイクロメートル〜5ミリメートルである、実施形態22〜30のいずれか1つに記載のガラス系物品。
消費者向け電子製品であって、
上記消費者向け電子製品は:
前面、背面、及び側面を有する、ハウジング;
少なくとも一部が上記ハウジング内に設けられた電子部品であって、上記電子部品は少なくともコントローラ、メモリ、及びディスプレイを含み、上記ディスプレイは、上記ハウジングの上記前面に又は上記前面に隣接して設けられる、電子部品;並びに
上記ディスプレイを覆うように配置されたカバー
を備え、
上記ハウジング及び上記カバーのうちの少なくとも一方の少なくとも一部分は、実施形態1〜31のいずれか1つに記載のガラス系物品を含む、消費者向け電子製品。
ガラス系物品の製造方法であって、
上記方法は:
ベース組成中に2つのアルカリ金属酸化物を含有するガラス系基板であって、上記ガラス系基板は、基板厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面を有する、ガラス系基板を、イオン交換処理に曝露して、上記ガラス系物品を形成するステップ
を含み、
上記イオン交換処理は媒体を含み、上記媒体は:
上記ベース組成中の上記アルカリ金属酸化物の2つのアルカリ金属とは異なる第1の金属イオン;及び
上記ベース組成中の上記2つのアルカリ金属酸化物の上記2つのアルカリ金属のイオンであって、各上記アルカリ金属のイオンが、上記ベース組成中の上記アルカリ金属酸化物の各上記アルカリ金属と、化学平衡状態となるような比率の、イオン
を含む、方法。
上記第1の金属イオンに関する層深さ(DOL)の約3倍の深さにおいて、上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度は、上記ベース組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度の10%以内である、実施形態33に記載の方法。
上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの表面濃度は、上記第1の表面及び上記第2の表面のうちの一方又は両方においてゼロでない、実施形態33又は34に記載の方法。
上記第1の金属イオンは、上記第1の表面から上記第1の金属イオンに関する上記層深さ(DOL)まで変化する、第1のゼロでない濃度を有し、
上記第1の表面において、上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの上記表面濃度は、上記ベース組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの上記濃度の±5%である、実施形態33〜35のいずれか1つに記載の方法。
上記ベース組成は、1モル%以下の、上記第1の金属イオンの酸化物を含む、実施形態33〜36のいずれか1つに記載の方法。
tは50マイクロメートル〜5ミリメートルである、実施形態33〜37のいずれか1つに記載の方法。
イオン交換、熱アニーリング、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、追加の強化処理を更に含む、実施形態33〜38のいずれか1つに記載の方法。
ガラス系物品の製造方法であって、
上記方法は:
ベース組成中に2つのアルカリ金属酸化物を含有するガラス系基板であって、上記ガラス系基板は、基板厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面を有する、ガラス系基板を、第1のイオン交換処理に曝露して、ドープ済みガラス系基板を形成するステップであって、上記第1のイオン交換処理は第1の媒体を含み、上記第1の媒体は、
上記ベース組成中の上記アルカリ金属酸化物の2つのアルカリ金属とは異なる第1の金属イオン、及び
上記ベース組成中の上記2つのアルカリ金属酸化物の上記2つのアルカリ金属のイオンであって、各上記アルカリ金属のイオンが、上記ベース組成中の上記アルカリ金属酸化物の各上記アルカリ金属と、化学平衡状態となるような比率の、イオン
を含む、ステップ;
その後、上記ドープ済みガラス系基板を、第2の金属イオンを含む第2の媒体を含む第2のイオン交換処理に曝露して、上記ガラス系物品を形成するステップ
を含む、方法。
上記第1の金属イオンに関する層深さ(DOL)の約3倍の深さにおいて、上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度は、上記ベース組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度の10%以内である、実施形態40に記載の方法。
上記ドープ済みガラス系基板中において、上記第1の金属イオンは、上記第1の表面から上記第1の金属イオンに関する上記層深さ(DOL)まで変化する、第1のゼロでない濃度を有し、
上記第1の表面において、上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの上記表面濃度は、上記ベース組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの上記濃度の±5%である、実施形態40又は41に記載の方法。
上記ベース組成は、1モル%以下の、上記第1の金属イオンの酸化物を含む、実施形態40〜42のいずれか1つに記載の方法。
上記第2の媒体は、上記ベース組成中の上記2つのアルカリ金属酸化物の上記2つのアルカリ金属の上記イオンを、各上記アルカリ金属酸化物のイオンが、上記ベース組成中の上記アルカリ金属酸化物の各上記アルカリ金属と、化学平衡状態となるような比率で含み;
上記第2の金属イオンは、上記ベース組成中の上記2つのアルカリ金属とは異なり;
上記第2の金属イオンに関する層深さ(DOL)の3倍の深さにおいて、上記2つのアルカリ金属それぞれの濃度は、上記ベース組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度の10%以内である、実施形態40〜43のいずれか1つに記載の方法。
上記第2の媒体は、上記ベース組成中の上記2つのアルカリ金属酸化物の上記2つのアルカリ金属の上記イオンを、各上記アルカリ金属酸化物のイオンが、上記ベース組成中の上記アルカリ金属酸化物の各上記アルカリ金属と、化学平衡状態とならないような比率で含み;
上記第2の金属イオンは、上記ベース組成中の上記2つのアルカリ金属酸化物の2つのアルカリ金属とは異なり;
上記第2の金属イオンに関する層深さ(DOL)の3倍の深さにおいて、上記2つのアルカリ金属それぞれの濃度は、上記ベース組成中での上記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度から10%より大きく異なる、実施形態40〜43のいずれか1つに記載の方法。
イオン交換、熱アニーリング、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、追加の強化処理を更に含む、実施形態40〜45のいずれか1つに記載の方法。
22、32、42、62、72 テール領域、テール
31、41 移行領域
63、73 ニー
100 消費者向け電子デバイス
102 ハウジング
104 前面
106 背面
108 側面
110 ディスプレイ
112 カバープレート
Claims (10)
- ガラス系物品であって、
前記ガラス系物品は:
厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面;
2つのアルカリ金属酸化物を含有する、前記ガラス系物品の中央の中央組成;
前記第1の表面及び前記第2の表面のうちの一方又は両方においてゼロでない、前記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの表面濃度;並びに
前記中央組成の前記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる金属酸化物であって、ゼロでない濃度を有し、前記ゼロでない濃度は、前記第1の表面から、前記金属酸化物に関する層深さ(DOL)まで変化する、金属酸化物
を含み、
前記DOLの約3倍の深さにおいて、前記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度は、前記中央組成中での前記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの濃度の10%以内である、ガラス系物品。 - 前記第1の表面において、前記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの前記表面濃度は、前記中央組成中での前記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの前記濃度の±5%である、請求項1に記載のガラス系物品。
- ガラス系物品であって、
前記ガラス系物品は:
厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面;
2つのアルカリ金属酸化物を含有する、前記ガラス系物品の中央の中央組成;
前記第1の表面及び前記第2の表面のうちの一方又は両方においてゼロでない、前記2つのアルカリ金属酸化物それぞれの表面濃度;
前記中央組成の前記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる金属酸化物であって、ゼロでない濃度を有し、前記ゼロでない濃度は、前記第1の表面及び第2の表面から、前記金属酸化物の層深さ(DOL)まで変化する、金属酸化物;並びに
応力プロファイルであって、前記第1の表面から移行領域まで延在するスパイク領域と、テール領域まで延在する前記移行領域と、前記ガラス系物品の中央まで延在する前記テール領域とを含む、応力プロファイル
を含み、
前記移行領域は、前記第1の表面から約0.00625・t以上の深さにおける、少なくとも約150MPaである第1の圧縮応力と、前記第1の表面から約0.025・t以上の深さにおける、少なくとも約120MPaである第2の圧縮応力とを含む、ガラス系物品。 - 前記中央組成の前記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる前記金属酸化物は:リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Cs)、フランシウム(Fr)、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス系物品。
- 前記中央組成の前記2つのアルカリ金属酸化物は、リチウム及びナトリウムを含み、前記中央組成の前記2つのアルカリ金属酸化物とは異なる前記金属酸化物は、カリウムである、請求項1〜4のいずれか1項に記載のガラス系物品。
- ガラス系物品であって、
前記ガラス系物品は:
厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面;
リチウム及び1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物を含有する、前記ガラス系物品の中央の中央組成;
前記第1の表面及び前記第2の表面のうちの一方又は両方においてゼロでない、リチウム及び前記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物それぞれの表面濃度;
リチウム及び前記中央組成の前記1つ以上の追加のアルカリ金属酸化物とは異なる金属酸化物であって、ゼロでない濃度を有し、前記ゼロでない濃度は、前記第1の表面及び第2の表面から、前記金属酸化物の層深さ(DOL)まで変化する、金属酸化物;
約0.13・t以上の圧縮深さ(DOC);並びに
前記第1の表面から約5マイクロメートル〜10マイクロメートルの深さにおける、少なくとも150MPaである第1の圧縮応力、及び前記第1の表面から約15マイクロメートル〜約20マイクロメートルの深さにおける、少なくとも約120MPaである第2の圧縮応力を含む、ガラス系物品。 - 前記ガラス系物品は、アルカリアルミノシリケート、アルカリ含有ボロシリケート、アルカリ含有アルミノボロシリケート、又はアルカリ含有ホスホシリケートを含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載のガラス系物品。
- 消費者向け電子製品であって、
前記消費者向け電子製品は:
前面、背面、及び側面を有する、ハウジング;
少なくとも一部が前記ハウジング内に設けられた電子部品であって、前記電子部品は少なくともコントローラ、メモリ、及びディスプレイを含み、前記ディスプレイは、前記ハウジングの前記前面に又は前記前面に隣接して設けられる、電子部品;並びに
前記ディスプレイを覆うように配置されたカバー
を備え、
前記ハウジング及び前記カバーのうちの少なくとも一方の少なくとも一部分は、請求項1〜7のいずれか1項に記載のガラス系物品を含む、消費者向け電子製品。 - ガラス系物品の製造方法であって、
前記方法は:
ベース組成中に2つのアルカリ金属酸化物を含有するガラス系基板であって、前記ガラス系基板は、基板厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面を有する、ガラス系基板を、イオン交換処理に曝露して、前記ガラス系物品を形成するステップ
を含み、
前記イオン交換処理は媒体を含み、前記媒体は:
前記ベース組成中の前記アルカリ金属酸化物の2つのアルカリ金属とは異なる第1の金属イオン;及び
前記ベース組成中の前記2つのアルカリ金属酸化物の前記2つのアルカリ金属のイオンであって、各前記アルカリ金属のイオンが、前記ベース組成中の前記アルカリ金属酸化物の各前記アルカリ金属と、化学平衡状態となるような比率の、イオン
を含む、方法。 - ガラス系物品の製造方法であって、
前記方法は:
ベース組成中に2つのアルカリ金属酸化物を含有するガラス系基板であって、前記ガラス系基板は、基板厚さ(t)を画定する対向する第1の表面及び第2の表面を有する、ガラス系基板を、第1のイオン交換処理に曝露して、ドープ済みガラス系基板を形成するステップであって、前記第1のイオン交換処理は第1の媒体を含み、前記第1の媒体は、
前記ベース組成中の前記アルカリ金属酸化物の2つのアルカリ金属とは異なる第1の金属イオン、及び
前記ベース組成中の前記2つのアルカリ金属酸化物の前記2つのアルカリ金属のイオンであって、各前記アルカリ金属のイオンが、前記ベース組成中の前記アルカリ金属酸化物の各前記アルカリ金属と、化学平衡状態となるような比率の、イオン
を含む、ステップ;
その後、前記ドープ済みガラス系基板を、第2の金属イオンを含む第2の媒体を含む第2のイオン交換処理に曝露して、前記ガラス系物品を形成するステップ
を含む、方法。
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