JP2021523516A

JP2021523516A - 光システム、特に、表面領域に均一なｕｖ光を供するためのシステムおよび方法

Info

Publication number: JP2021523516A
Application number: JP2020561882A
Authority: JP
Inventors: スティーブン・アール・ウィルク; サアド・アハメド
Original assignee: Xenon Corp
Current assignee: Xenon Corp
Priority date: 2018-05-04
Filing date: 2019-05-06
Publication date: 2021-09-02
Also published as: US20210254810A1; US10865959B2; US20190338919A1; CN112351841B; WO2019213651A1; US11365866B2; CN112351841A; EP3814022A4; EP3814022A1

Abstract

処理面上のアイテムに紫外線（ＵＶ）エネルギーを提供するためのシステムを開示する。前記システムは、前記処理面の上方に配置されて前記処理面にＵＶエネルギーを提供するためのランプと、前記処理面から離れる方向に前記ランプから放出されたＵＶエネルギーを前記処理面に向かって反射させるように配置された反射セルとを含む。前記システムは、前記ランプの上方に配置された反射キャップと、前記反射キャップからコンベアに向かって下方に延在するシュラウドとを有する反射セルとを含み、水平寸法および長手寸法がコンベア上の処理領域を規定するように、シュラウドは垂直寸法と、長手寸法と、前記コンベアの方向に沿った水平寸法とを有し、前記ランプは、処理面に供給されるエネルギーが処理領域全体で実質的に均一になるように、処理領域にエネルギーを供給するように構成される。

Description

関連案件の相互参照

本願は、「均一なエネルギーを供するための反射器」と題された２０１８年５月４日に出願された米国仮出願第６２／６６７，１３６号の優先権を主張し、その内容はその全体が本明細書に組み込まれる。

技術分野
本開示は、一般に、光システム、特に、表面領域に均一なＵＶ光を供するためのシステムおよび方法に関する。

背景
標的アイテムにＵＶ光を供するいくつかのシステムでは、ＵＶランプはエンベロープに収容され、処理されるアイテムに提供されるＵＶ光を放出し、場合によっては、しばしば石英と呼ばれるＵＶ透過性ヒュームド・シリカ窓を通して提供される。あるタイプのシステムでは、コンベア・ベルトが放射されるアイテムをキセノン・フラッシュランプ・システムに運び、１または複数のフラッシュランプが処理されるアイテムに１または複数の広帯域光のフラッシュを提供する。ＵＶ処理は、接着剤の硬化、アニーリング、または微生物の不活性化など、異なる目的に使用することができる。

発明の概要
本開示は紫外線（ＵＶ）エネルギーを供するために処理面の上方に配置されたランプと、処理面から離れる方向にランプから放出されるＵＶエネルギーが処理面に向かって反射されるように配置された反射セルとを含み、処理面上のアイテムにＵＶエネルギーを供するためのシステムを含む。いくつかの実施形態では、反射セルは、ランプの上方に配置された反射キャップと、反射キャップからコンベアに向かって下方に延在する（または延びる；extending）シュライドとを含む。いくつかの実施形態では、シュラウドは、コンベアの方向に沿って垂直寸法、長手（または縦；longitudinal）寸法、および水平寸法を有し、これにより、水平寸法と長手寸法は、コンベア上の処理領域を規定する（または定義する；defining）。いくつかの実施形態では、ランプは、処理領域および反射キャップにエネルギーを供給する（deliver）ように構成され、シュラウドは処理面に給されるエネルギーが処理領域全体で実質的に均一になるように構成される。

いくつかの実施形態では、システムのランプは、少なくとも１つのフラッシュランプを含み、処理領域におけるエネルギーは実質的に均一で５％以内である。前記システムのいくつかの実施形態では、処理面はコンベアによって規定されている。いくつかの実施形態では、反射キャップおよびシュラウドは、処理体積を規定し、含んでいる。いくつかの実施形態では、反射キャップおよびシュラウドは、処理領域に面するそれぞれの内面に沿って反射材料を有する。いくつかの実施形態では、反射キャップは、第１パネルおよび第２パネルを含み、第１パネルおよび第２パネルは、処理面から離れて上向きに、処理面に対してそれぞれ正および負の約４５度の角度で延在する。いくつかの実施形態では、第１および第２のパネルは、第１パネルと第２パネルとの間の角度が約９０度となるように、ランプの上方で交差する。いくつかの実施形態では、ランプは間隔をおいて配置された第１ランプおよび第２ランプを含み、第１および第２のパネルは第１ランプの上方に延在する。いくつかの実施形態では、システムは、第３パネルおよび第４パネルをさらに含み、第３パネルおよび第４パネルは処理面から離れて上向きに、処理面に対してそれぞれ正および負の約４５度の角度で延在する。いくつかの実施形態では、第３および第４のパネルは、第３パネルと第４パネルとの間の角度が約９０度になるように第２ランプの上方で交差する。

前記システムのいくつかの実施形態では、反射キャップは、処理面に平行でランプから処理面までの第２線に垂直な第１線に沿った主軸を有する第１楕円の一部を規定する第１楕円形状を含む。いくつかの実施形態では、ランプは前記楕円の第１焦点に配置され、前記楕円の第２焦点は、第１線に沿って第１焦点から離間している。いくつかの実施形態では、反射キャップは、第１線に沿った主軸を有する第２楕円の一部を規定する第２楕円形状を含み、それにより、第２楕円は、第１楕円の第１焦点と同じ箇所に配置された第１焦点と、第１焦点からおよび第１線に沿った第１楕円の第２焦点から離間している前記楕円の第２焦点とを有する。いくつかの実施形態では、反射キャップは処理面に垂直な主軸を有する楕円を規定する楕円部を含む。いくつかの実施形態では、ランプは楕円の第１焦点に配置され、前記システムはシュラウドが反射キャップの第２焦点と同じ箇所に配置された焦点を有する放物線形状を有すように、第１焦点の下方に第２焦点を含む。いくつかの実施形態では、前記システムは、ランプと処理面との間に配置されたＵＶ透過窓をさらに含む。

いくつかの実施形態では、前記システムは、処理面の上方に配置された少なくとも１つの紫外線（ＵＶ）エネルギーランプを含み、処理面の平面は第１方向を規定し、ランプからコンベアへの方向は第１方向に垂直な第２方向である。いくつかの実施形態では、前記システムは、処理面から離れる方向にランプから放出されたＵＶエネルギーを処理面に向かって反射させるように配置された反射セルを含む。いくつかの実施形態では、反射セルは、処理面から離れてフラッシュランプの上方に配置された反射キャップを含み、反射キャップは、第２方向に対してある角度で処理面から離れて延在し、ランプの上方の位置で合流しＶ形状の断面を形成する第１および第２の平面パネルを有する。いくつかの実施形態では、前記システムは、第１パネルからコンベアに向かって下向きに延在する第３パネルと、ランプが第１および第２の側面の下方で第３および第４のパネルで囲まれている処理領域において処理面にエネルギーを提供するように、処理面に向かって延在し第３側面に平行な第４側面とを少なくとも有するシュラウドを含む。

いくつかの実施形態では、ランプはフラッシュランプを含む。いくつかの実施形態では、反射キャップおよびシュラウドは処理体積を規定し、反射キャップおよびシュラウドは処理体積に面する内面に沿って反射材料を含む。いくつかの実施形態では、第１および第２のパネルは、Ｖ形状が約９０度になるように交差する。いくつかの実施形態では、処理面はコンベアを含み、前記システムはランプとコンベアとの間に配置されたＵＶ透過窓をさらに含む。いくつかの実施形態では、前記システムは、第２ランプと、第２方向に対してある角度で処理面から離れて延在し、ランプの上方の位置で合流し第２Ｖ形状の断面を形成する第５および第６の平面パネルを有する第２反射キャップとを含む。いくつかの実施形態では、第４パネルは、第１、第２、第３および第４のパネルが断面でホームプレート形状を規定するように、第２パネルから下向きに延在する。

いくつかの実施形態では、前記システムは平面処理面の上方に配置された少なくとも１つの紫外線（ＵＶ）エネルギーランプを含み、ランプから処理面への方向は処理面に垂直な第１方向である。いくつかの実施形態では、前記システムは、処理面から離れる方向にランプから放出されたＵＶエネルギーを処理面に向かって反射させるように配置された反射セルを含む。他の実施形態では、反射セルは、フラッシュランプの上方に配置され処理面から離れた反射キャップを含み、反射キャップは、処理面に平行で第１方向に垂直な主軸を有する第１楕円形状を規定する第１楕円部を含む。いくつかの実施形態では、ランプは第１楕円形状の１つの焦点に配置され、第１楕円形状の第２焦点は、第２方向に沿って第１焦点から離間している。いくつかの実施形態では、前記システムは、反射キャップから処理面に向かって延在するシュラウドを含む。

いくつかの実施形態では、前記システムは、第１楕円形状の主軸と同一直線上に存在する主軸を有する第２楕円形状を規定する第２楕円部を含む。いくつかの実施形態では、ランプは第２楕円形状の第１焦点に配置され、第２楕円形状の第２焦点は、第１楕円形状の両方の焦点から離間している。いくつかの実施形態では、シュラウドは、間隔がおかれかつ反射キャップから処理面に向かって延在する第１および第２のパネルを含む。いくつかの実施形態では、第１および第２のパネルの間隔はＵＶエネルギーの処理領域の寸法を規定する。

開示された主題のこれらおよび他の機能（または性質または能力；capabilities）は、以下の図、詳細な説明、および特許請求の範囲を検討した後に完全に理解されるであろう。本明細書で使用される表現および用語は、説明を目的とするものであり、限定的なものとみなされるべきではないことを理解されたい。

図面の簡単な説明
図１は、本開示のいくつかの実施形態に係る、ＵＶ透過窓を備えたフラッシュランプを使用してアイテムを処理するためのシステムのシステム図である。

図２は、本開示のいくつかの実施形態に係る、単一セル・フラッシュランプ・システムを使用して回路構成要素を処理するためのシステムの平面図である。

図３Ａは、本開示のいくつかの実施形態に係る、楕円反射キャップを有するフラッシュランプ反射セルを備えるフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。

図３Ｂは、本開示のいくつかの実施形態に係る、複数の楕円部で構成されるフラッシュランプ反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。

図４は、本開示のいくつかの実施形態に係る、単一フラシュランプ角度反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。

図５は、本開示のいくつかの実施形態に係る、単一フラシュランプ角度反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの上面図である。

図６は、本開示のいくつかの実施形態に係る、複数のフラッシュランプ角度反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。

図７は、本開示のいくつかの実施形態に係る、複数の重なり合う円形セグメント反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。

詳細な説明
ＵＶエネルギーのいくつかの用途、例えば、ナノ粒子を用いた導電線のトレースの焼結では、既知の均一なエネルギーが供給される大きなカバレッジ領域（または被覆面積；coverage area）を有することが有用であり得る。本明細書で説明するシステムおよび方法は、大きな領域全体に実質的に均一なＵＶエネルギーを供する反射器システム用である。本明細書で使用される場合、「ＵＶエネルギー」および「光」の両方が、本開示の様々な実施形態におけるランプシステムの出力を説明するために使用される。

前記システムは、マサチューセッツ州ウィルミントンのキセノンコーポレーションが供するシステムなどのＵＶフラッシュランプ・システムのコンテキストで説明されているが、１もしくは複数の水銀ランプを備えた連続光ＵＶシステム、または他のタイプの光システムで使用できる。

そのようなシステムは、光源が反射器と処理されるアイテムとの間に存在するように配置された反射器をしばしば有する。反射器は、処理するアイテムにＵＶ光エネルギーを向ける。円形、台形のフード、放物線の焦点に配置されたランプを備える放物線、ランプが１つの焦点に配置され、標的領域が別の焦点にある楕円方向（すなわち、主軸が垂直）、ランプのすぐ後ろに隆起がある反射器のような、いくつかの反射器構成が知られている。以前の反射器の例は、例えば、米国特許第４，２６４，９４７号および第６，０３０，０８６号に示されている。

図１は、本開示のいくつかの実施形態に係る、ＵＶ透過窓を備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムのシステム図である。図１は、制御システム１６に連結したＵＶフラッシュランプ１２、反射器１８、ＵＶ透過窓２０、アイテム２２およびコンベア２３を備えたＵＶシステム１０を示している。制御システム１６は、例えば、単位時間当たりにＵＶフラッシュランプ１２がパルスする周波数と、ＵＶフラッシュランプ１２がパルスする強度とを含む、ＵＶフラッシュランプ１２の動作を制御する。いくつかの実施形態では、反射器１８は、ＵＶフラッシュランプ１２の一部を取り囲み、ＵＶフラッシュランプ１２からの光出力をＵＶ透過窓２０を通して所望の方向に向けるのを助け、その主要部分はヒュームド・シリカで構成されている。ＵＶフラッシュランプ１２からの光出力は、ＵＶ透過窓２０を通過して、光出力によって処理されるアイテム２２に到達する。アイテム２２は、コンベア・ベルト２３上に供することができ、これは処理中に定期的に停止するか、または連続的に移動させることができる。

いくつかの実施形態では、アイテム２２は硬化する必要のある接着剤を備えた光メモリディスク、または硬化もしくはアニールする必要のある表面処理を備えたアイテムであり得る。アイテム２２は、殺菌する食品（ＵＶ−Ｃ範囲の波長のＵＶは病原菌のＤＮＡに損傷を与えることが知られているため）、または電気回路を製造するために焼結されるナノ粒子を含む導電性インクのトレースを含む基板でもあり得る。導電性インクを備える基板を焼結するこの最後の例は、説明の目的で使用されるであろう。この場合、基板は、プラスチックフィルム、もしくは紙、またはその他の非導電性材料で構成され得る。導電性インクの線のパターンは基板上に形成され、回路パスを作製する。基板は、図１におけるアイテム２２に示されるように、個々のピースにすることができ、または回路が連続的な基板内に形成され、後のプロセスを使用して分離されるような連続ロールであり得る。

図２は、本開示のいくつかの実施形態に係る、単一セル・フラッシュランプ・システムを使用して回路構成要素を処理するためのシステムの平面図である。図２は、細長い円筒形フラッシュランプ３０と、導電性電子トレース３４および３６を有する基板３２とを含むランプシステムを示している。本明細書で後述するように、反射器はしばしば図２のランプシステムと共に使用され得るが、ここには示されてない。基板３２は、図２の左側から右側に向かって移動する方向に示されており、コンベア（図示せず）によってその方向に移動することができる。基板３２の位置は、システムの処理領域を占め、オペレータによって手動で、コンベアによって自動的に、または他の処理手段によって、処理領域に出入りすることができる。導電性電子トレース３４および３６は、ナノ粒子を含む導電性インクから作製することができる。基板３２が停止および開始または連続的な方法の何れかで左から右に移動されると、フラッシュランプ３０は、オペレータまたは制御システムで決定された、設定周波数（例えば、毎秒３回のフラッシュ）および設定パルス持続時間（例えば、マイクロ秒からミリ秒までのオーダー）でＵＶエネルギー出力を放ってもよい。いくつかの実施形態では、フラッシュランプ３０は、直径「ｄ」および長さ「ｌ」を有する。図２に示すようなシステムの実施形態では、ＵＶエネルギー出力に不均一性があり得、よって、基板３２に供給されるエネルギーは、全処理領域内のより高い強度およびより低い強度の領域を含み得る。フラッシュランプ３０は、距離「ｄ」よりわずかに大きい幅を有する領域で構成される、基板３２へのＵＶエネルギー出力の特定のフットプリント（または実装面積または取り付け面積；footprint）を製造することができる。単一光源から生成される光の分散性のため、前記表面の光強度は、フラッシュランプのフットプリント内でピーク強度を有し、その強度はフットプリントのさらに外側の場所で急速にゼロに向かって低下するであろう。ランプ３０からのＵＶエネルギー出力は、電子トレース３４および３６を生成するために使用されるインクを焼成し、粒子を溶融させる。米国特許出願公開第２００３／１４８０２４号に記載されているように、焼結は電子トレース３４および３６の予備焼結された導電率の増加を引き起こす。示されている回路要素の代わりに、図２におけるシステムはまた、写真プロセス、硬化用途、またはＵＶエネルギーが広い処理領域全体のアイテムに適用される他の用途に使用され得る。

図２に示されるシステムのいくつかの反復において、前記システムは、一列または二次元配列に配置された複数のランプを有し得る。各ランプは、円形、細長い、らせん状、またはその他の所望の形状にすることができる。ランプを所望のパルス周波数で所望の持続時間に放つプロセスは、一般に良く知られている。ただし、裸のランプからのＵＶエネルギーは、ランプからの最小距離で、上記のランプのフットプリントとして説明されている照射面（illuminated plane）上のポイントから離れるにつれて急速に低下する。複数のランプを使用するシステムには小さな均一領域が存在するが、均一なＵＶエネルギー出力領域は、ランプ自体の表面積よりもはるかに広い領域（例えば、フットプリントの外側）を占めない。例えば、直径が「ｄ」で長さが「ｌ」の円筒形の細長い線形電球である場合、電球の２次元領域は、ｌ×ｄとして表される。以下で説明する前記システムの実施形態では、均一なＵＶエネルギー出力の領域は、ｌ×ｄよりもはるかに大きく、その領域の少なくとも１０倍、または１０×ｌ×ｗであるか、またはフラッシュランプ３０の領域の１５倍、２０倍もしくは２５倍を超え得る。直径８ｍｍの円筒形ランプである場合、カバレッジ領域は少なくともランプの長さであり、１０倍のカバレッジ領域ではｌ×８０ｍｍであり、または、２０倍のカバレッジ領域でではｌ×１６０ｍｍである。本明細書に開示され、図３〜６に関して詳細に説明されるように、適切なＵＶエネルギー方向転換設計を使用することによって、より大きく規定された領域にわたる照射を均一にすることができる。いくつかの実施形態では、これは反射面を使用することのみによって達成される。反射面を独占的に使用することで、吸収または使用する屈折媒体からのフレネル反射によって失われるフラッシュランプからの出力量を最小限に抑え、波長によって屈折率が変化することによる色の分散の影響を受けない。

いくつかの実施形態では、回路構成要素３４、３６などの処理されたアイテムに入射するＵＶエネルギーの均一性は、エネルギーがカバレッジ領域全体で約５％以下の変動を有するようなものでなければならない。他の実施形態では、オペレータの所望の変動は、意図される用途または用途に応じて、約２％から１０％の間の変動の範囲であり得る。カバレッジ領域全体の変動は、例えば、処理領域全体にわたる平均照射強度と、処理領域の個別のサブユニットで測定された平均照射強度との間の比較として測定され得る。この均一性は、例えば、ＵＶフラッシュに応答して青の色合いに代わる青写真の紙で測定できる。シートをスキャンして均一性のレベルを決定できる。ランプシステムからの均一性は、他の指示紙製品を使用して、または領域検出器を使用して、処理領域に入射するＵＶ光強度を決定するために測定できる。

図３Ａは、本開示のいくつかの実施形態に係る、楕円反射キャップを有するフラッシュランプ反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。図３Ａは、コンベア４９の上方に配置されたフラッシュランプ３９および反射セル４１を示す。反射セル４１は、楕円反射キャップ４３およびシュラウド壁４５、４７（本明細書では反射セル４１の「構成要素」とも呼ばれる）を含む。シュラウド壁４５および４７の間の距離５１が、コンベア４９×距離５１として定量化されたカバレッジ領域を規定するように、コンベア４９はコンベア４９の平面に沿って図３Ａに延在する幅（図示せず）を有する。コンベア４９は、アイテムを輸送するように構成することができ、例えば、オペレータによる手動の移動を含む他の処理手段によって置き換えることができる。反射セル４１はまた、距離５１にわたってコンベア４９のカバレッジ領域を完全に囲む壁４５および４７（図示せず）に垂直な壁などの追加のシュラウド壁を含み得る。反射セル４１は、距離５１と同じ方向に測定される水平寸法、コンベア４９とフラッシュランプ３９との間で測定される垂直寸法、およびフラッシュランプ３９の同じ縦軸に沿って測定される長手寸法を有するシュラウド壁を含み得る（例えば、図３Ａに示されるようなページに）。いくつかの実施形態では、反射セル４１の長手寸法は、コンベア４９の幅と同じ距離であり得る。シュラウド壁４５および４７は、カバレッジ領域のいずれかの側面にあり、下向きに延在し、コンベア４９に実質的に垂直である。シュラウド壁４５および４７は、シュラウド壁４５、４７とコンベア４９との間に最小限の空間が存在するように、大半の方法でコンベア４９へ延在することができる。この構成の利点の少なくとも１つは、環境からの最小限の光が反射セル４１の内部空間に入ることができ、フラッシュランプ３９からコンベア４９の前記面またはその上で処理されるアイテムに出力されたＵＶエネルギーの正確な供給を可能にする。いくつかの実施形態では、反射セル４１は、図１に関して上記で説明したものと同様に、フラッシュランプ３９とコンベア４９との間の窓（図示せず）を含み得る。

図３Ａでは、楕円反射キャップ４３は、シュラウド壁４５からフラッシュランプ３９を超えてシュラウド壁４７まで延在する楕円の一部である。楕円反射キャップ４３に対応する楕円は、２つの焦点を有する；フラッシュランプ３８が配置され得る場所であるが物理的アイテムではないｆ１および第２焦点ｆ２。２つの焦点の位置によって作製された主軸は、フラッシュランプ３９から処理されるアイテムまでの線に垂直であり、例えば、描かれた方向で水平である。まるで、ＵＶエネルギー出力が、フラッシュランプ３９自体から物理的に発せられる光出力に加えて、真の光源の上の別個の平面にある２つの仮想光源の１つから発せられるように、フラッシュランプ３９は、フラッシュランプからのＵＶエネルギー出力が楕円反射キャップ４３から反射し、コンベア４９に現れるように、焦点ｆ１に配置される。第１仮想光源５１は、第１焦点ｆ１の上方に十分に近い位置での楕円反射キャップ４３内のフラッシュランプ３９の反射から生じるであろう。第２仮想光源５３は、第２焦点ｆ２の上方に十分に近い位置での楕円反射キャップ４３内のフラッシュランプ３９の反射から生じるであろう。その効果は、個々のエネルギー源を作ることであり、例えば、フラッシュランプ３９は３つの別々のＵＶエネルギー源のように動作するが、仮想光源の２つは照射面からやや離れた１つの面にあり、一方、３つ目のリテラル源は第１焦点ｆ１にある。フラッシュランプ３９はまた、焦点ｆ２に配置され得、上記の虚像は、第１および第２の焦点ｆ１およびｆ２の上方のそれらの位置の間で向きを逆にするであろう。

図３Ｂは、本開示のいくつかの実施形態に係る、複数の楕円部で構成されるフラッシュランプ反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。図３Ｂは、フラッシュランプ３８と、コンベア５０の上方に配置された反射セル４０とを示している。反射セル４０は、シュラウド壁４２および４４、ならびに楕円反射キャップ４６および４８（本明細書では、反射セル４０の「構成要素」とも呼ばれる）を含む。シュラウド壁４２および４４の間の距離５２が距離５２の５０倍のコンベアの幅として定量化されたカバレッジ領域を規定するように、コンベア５０は、平面に沿って図３Ｂに延在する幅（図示せず）を有する。コンベア５０は、アイテムを輸送するように構成されている（図示せず）。オペレータまたは他の処理手段によって手動でアイテムを移動することを含む、他の処理手段をコンベア５０の代わりに使用することができる。反射セル４０はまた、距離５２にわたってコンベア５０のカバレッジ領域を完全に囲む追加のシュラウド壁（図示せず）を含み得る。反射セル４０は、距離５２と同じ方向に測定される水平寸法、コンベア５０とフラッシュランプ３８との間で測定される垂直寸法、およびフラッシュランプ３８の同じ縦軸に沿って測定される長手寸法を有するシュラウド壁を含み得る（例えば、図３Ｂに示されるようなページ）。いくつかの実施形態では、反射セル４０の長手方向の寸法は、コンベア５０の幅と同じ距離であり得る。シュラウド壁４２および４６は、カバレッジ領域のいずれかの側面にあり、下向きに延在し、コンベア５０に対して実質的に垂直である。シュラウド壁４２および４６は、シュラウド壁４２、４６とコンベア５０との間に最小のスペースが存在するように、コンベア５０まで大半の方法で延在することができる。この構成の利点の一つは、環境からの最小限の光が反射セル４０の内部空間に入る可能性があることであり、フラッシュランプ３８からコンベア５０の表面またはその上で処理されたアイテムの表面へのＵＶエネルギー出力の正確な供給を可能にする。

いくつかの実施形態では、シュラウド壁４２および４６は、実質的にほぼ完全な鏡面反射（または鏡面；specular）鏡で構成される平面壁であり、非常には高い反射率を有し、実質的に平面で機械的に安定した壁を有する。フラッシュランプ３８とコンベア５０との間の距離のために、ＵＶエネルギー出力強度は、それがフラッシュランプ３８から伝播する間に減少し、また反射数の増加によって影響を受ける。しかしながら、その時までに、ＵＶエネルギー出力は、処理領域に入射する光出力の均一なシートとして動作する、これまで以上に離れた仮想ランプから来ているように見える。いくつかの実施形態では、反射セル４０の構成要素は、単一の材料片を使用して構築され得る。他の実施形態では、反射セル４０の構成要素は、クリップ、バックル、ブラケット、ねじ、または他の留め具を使用して連結することができる。いくつかの実施形態では、反射セル４０は、図１に関して上記で説明したものと同様に、フラッシュランプ３８とコンベア５０との間に窓（図示せず）を含み得る。

楕円形の反射キャップ４６および４８は、それぞれ異なる楕円の部分である。楕円反射キャップ４６は、フラッシュランプ３８の真上の点５４からシュラウド壁４２と接触する点５６まで延在する楕円の一部である。楕円反射キャップ４６に対応する楕円は、２つの焦点を有する；位置であるが、物理的アイテムではないｆ１と、フラッシュランプ３８を配置することができる第２ｆ２とである。２つの焦点の位置によって作られた主軸は、フラッシュランプ３８から処理されるアイテムまでの線に垂直である。楕円反射キャップ４８は、フラッシュランプ３８の真上の点５４から楕円形反射器キャップ４８がシュラウド壁４４に連結する点５８まで延在する楕円の一部である。楕円反射キャップ４８に対応する楕円は、２つの焦点を有し、その第１焦点は、フラッシュランプ３８および楕円反射キャップ４６の焦点ｆ２によって形成されるものと同時の（または一致した；concurrent）位置の焦点ｆ２に見られる。楕円反射キャップ４８の第２焦点は、別の非物理的位置であるｆ３に見られる。ｆ１とｆ２との間の距離は、ｆ２とｆ３との間の距離に等しく、示されるように焦点ｆ１、ｆ２およびｆ３は、ランプ３８から処理されるアイテムへの方向に対して垂直に向けられている。

いくつかの実施形態では、楕円反射キャップ４６、４８は、フラッシュランプ３８から放出されたＵＶエネルギー出力をリダイレクト（または向け直し；redirect）し、コンベア５０上の距離５２によって規定される処理領域を照射する前に、１または複数の反射を必要とする。このようにしてＵＶエネルギー出力は、フラッシュランプ３０のＵＶエネルギー出力からの照射がアイテムを処理するために必要な閾値を下回る場所を「充填する（fill in）」。さらに、反射セル４０の構成要素は、フラッシュランプ３８から直接照射によって既に十分に覆われている実質的に飽和した場所なしにコンベア５０を照射し、照射の変動が正確に補償されるようにそうする。処理面の均一な照射は、十分に遠い距離から、単一の光源からのＵＶエネルギー出力が、十分に離れたその場所でのＵＶエネルギー検出の均一な分布として現れる可能性があるという理解によってサポートされる。光源の縦軸に垂直な方向に沿って照射に小さな変動がある場合があるが、距離が長くなると、ＵＶエネルギー分布の異常（anomaly）は十分に小さくなり、処理領域への適用に影響を与えなくなるまで急速に減少する。これについては、以下で詳しく説明する。いくつかの実施形態では、反射セルは、単一または有限の数のランプが等間隔で無限に長いＵＶエネルギー源の無限に広いアレイによって供されるかのように、照射面に現れるように機能する。

いくつかの実施形態では、反射セル４０は、上記のようにフラッシュランプの表面積よりも少なくとも１０倍大きい処理領域を生成する。さらに、反射セル４０によって覆われた（canvassed）処理領域は、実質的に均一である。前記システム内の反射は無限の数のＵＶエネルギー源の出現（appearance）を生み出す。複数の反射セル４０を組み合わせて使用して、個々の反射セル４０の幅の合計に等しい全幅を有する領域を処理することができる。

いくつかの実施形態では、反射器はいくつかの方法のうちの１つ、例えば、反射率の高い金属シート（または板金；sheet metal）を用いて製造することができ、または材料のブロックからはじめて材料を除去して輪郭を形成することによって形成することができ、または３Ｄ印刷技術を使用することができる。

図４は、いくつかの実施形態に係る、フラッシュランプ角度反射セル（flash lamp angular reflector cell）を備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。図４は、フラッシュランプ７０と、角度反射キャップ８２と、シュラウド壁７２および７４と、処理面８８とを含む角度反射セル６０を示している。処理面８８は、図１〜３で上述したように、コンベアを含み得る。角度反射上部８２は、垂直方向に対してある角度で上方に延在し、フラッシュランプ７０の上方で角度８４で交わる上部角部７６および７８を含む。これにより、Ｖ形状の断面が形成される。いくつかの実施形態では、上部角部７６および７８の間のＶ形状の角度８４は直角である。反射キャップおよびシュラウドは、コンベアとともに、通常、断面で「ホームプレート」形状をトレースする。フラッシュランプ７０は、シュラウド壁７２および７４の上部の間の線８０より上方にある垂直位置８６を有する。いくつかの実施形態では、窓（図示せず）は、図１に関して上記で説明したものと同様に、線８０に沿って配置することができる。いくつかの実施形態では、角付反射セル（angled reflector cell）６０は、処理面８８の上方に開口部を備え５つの側面に囲まれた角付反射セル６０内に領域が存在するように、追加のシュラウド構成要素（図示せず）を含み得る。いくつかの実施形態では、角度反射セルは、図１に関して上記で説明したものと同様の窓（図示せず）を含み得る。

いくつかの実施形態では、まるでフラッシュランプ７０からのＵＶエネルギー出力が、複数のＵＶエネルギー源と、フラッシュランプ７０からのＵＶエネルギー出力により処理面８８上で処理されるアイテム（図示せず）からの複数の距離とから生じるかのように、角付反射セルの構成は仮想出現を供する。フラッシュランプ７０と角度反射キャップ８２の部分との間の第２距離ならびに角度反射キャップ８２の部分の幅は、フラッシュランプ７０から出力されたＵＶエネルギーが角度反射キャップ８２から反射し、処理面８８に現れるように選択され、まるでＵＶエネルギー出力が、３つの仮想光源のうちの１つから放射されているかのように、フラッシュランプ７０自体からの物理的に放射される光出力に加えて、真の光源の上方の２つの別個の平面にある。第１仮想光源（図示せず）は、上部角部７６におけるフラッシュランプ７０の反射から生じるであろう。第２仮想光源（図示せず）は、上部角部７８におけるフラッシュランプ７０の反射から生じるであろう。最後に、第３仮想光源（図示せず）は、フラッシュランプ７０の真上の上部角部７６、７８の連結部でのフラッシュランプ７０の反射から生じるであろう。効果は、個々のＵＶエネルギー源を作ることであり、例えば、３つの仮想光源は照射された平面からいくらか離れた１つの平面にある一方、第３仮想光源は照射された平面からさらに離れた別の平面にあるが、まるで４つの別個のＵＶエネルギー源のように動作する。

いくらかの実施形態では、角度反射セルは、直角または４５度の倍数である他の任意の角度で交わる現在の製造技術で機器的に可能な限り平坦な平面のみを使用する。そのような角度反射セルカバーは、例えば、楕円面よりも構築するのがより簡単でより安価であり得る。いくつかの実施形態では、上部角部７６、７８は、水平に対して（例えば、処理面または線８０に対して）角度をつけることができ、「正」角度という用語の使用は、相対的な開始点から反時計回りに測定された角度を示す。逆に、「負」角度という用語は、相対的な開始点から時計回りに測定された角度を示す。例えば、図４に示すように、上部角部７６は、水平（例えば、線８０）に対して測定された場合に４５度の正の角度に向けられ得る。さらに、上部角部７８は、水平に対して測定した場合４５度の負の角度に向けられ得る。

図３Ｂに関して上述したように、フラッシュランプ７０のようなフラシュランプからのＵＶエネルギー出力を反射することは、フラッシュランプ７０の出力を効果的に増加する（または乗算する；multiplying）プロセスを採用する。その増加（または乗算；multiplication）は、角度反射キャップ８２の反射面およびシュラウド壁７２、７４によって生成された仮想光源から生じ得る。フラッシュランプ７０から、または角度反射キャップ８２によって生成された仮想線源から下向きに発するＵＶエネルギーは、シュラウド壁７２、７４と処理面８８の幅との間の距離によって規定される処理領域に下向きに伝播する。フラッシュランプ７０からのＵＶエネルギー出力はまた、処理面８８上の処理領域に到達する前に、シュラウド壁７２、７４で１回または複数回反射することができる。シュラウド構成要素（図示せず）は、フラッシュランプ７０が無限に長い線に沿って仮想的に延在するように見えるように、フラッシュランプ７０の縦軸に垂直に提供され得る。処理面８８のいずれかの端に配置されたシュラウド壁７２、７４は、角付反射セルの何れかの近位端のシュラウド壁７２、７４の位置を超えて延在するように見えるフラッシュランプ７０の虚像を生成する。シュラウド壁７２、７４は、まるでそれらが縦軸に垂直な両方向に沿って無限の距離にわたって延在するかのように、効果的に３倍の数の光源が機能するフラッシュランプ７０の縦軸に平行であり得る。

図５は、本開示の実施形態に係る、図４に示すタイプの角度反射セル内に単一のフラッシュランプを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの上面図である。図５は、フラッシュランプ７０と、処理面８８と、シュラウド壁７２、７３、７４、７５とを示す。いくつかの実施形態では、シュラウド壁７２および７４は互いに実質的に平行であり、シュラウド壁７３および７５は互いに実質的に平行である。シュラウド壁７２、７３、７４、７５は均一に照射される処理面８８の処理領域を規定するボックスを形成するように連結されている。シュラウド壁７２、７３、７４、７５は、それらが「ミラーホール（hall of mirrors）」効果を生じ、フラッシュランプ７０、および角度反射キャップ８２によって生成された仮想対応物を、すべての方向に沿って無限に延在しているように見えるようにし、そのため、上記のように、一定の垂直距離でコンベア表面に平行な無限に長く幅の広いＵＶエネルギー源に似るであろう。いくつかの実施形態では、シュラウド壁７２、７４は、それらの連結間の角度が直角を形成するように、シュラウド壁７３、７５に連結されている。いくつかの実施形態では、シュラウド壁７２〜７５のそれぞれは、処理面８８に垂直である。シュラウド壁７２〜７５の内部の鏡面からの複数の反射があるので、シュラウド壁７２〜７５の内部の反射率は、フラッシュランプ７０によって放出されるＵＶエネルギーの波長に必要とされる現在の製造技術で可能な限り高く成り得る。

シュラウド壁が長いほど、所望の平面での照射がより均一になる。ただし、壁が長いほど、反射が多くなり、それぞれの入射ＵＶエネルギーの一部を厳密に計算する。また、シュラウド壁が長いほど、デバイス全体が大きくなる。全体的な照射とサイズに対して均一性のバランスをとるために、トレードオフ分析を行う必要がある。いくつかの実施形態では、シュラウドは上記のように、１桁のパーセンテージ範囲まで均一にするために、セル幅「ｗ」の少なくとも２〜３倍でなければならない。このレベルの均一性を犠牲にして、より短いシュラウドを使用することができる。

いくつかの実施形態では、シュラウド壁７２〜７５は、高度な鏡面反射体であり得る。シュラウド壁７２〜７５は、反射率が高く、またはテクスチャーがつけられていてもよく、それらは、マグネシウムコーティングを施したアルミニウムなどの金属、例えば、Ｃｏｉｌｚａｋとして知られている製品または例えば、発泡ＰＴＦＥで貼合または被覆された材料のような他の被覆材料で構成され得る。いくつかの実施形態では、角付反射キャップ８２の内部は、テクスチャーがつけられ、反射しすぎない場合がある。いくつかの実施形態では、反射セル８２は、反射要素の間隔が照射された処理面８８の観点から、互いに等距離にあるフラッシュランプの虚像をもたらすように対称であり得る。それらの非限定的な実施形態における対称性が破られた場合（例えば、異なるサイズの構成要素、隣接する構成要素間の不適切な角度）、処理面８８の照射は均一ではない場合がある。

図６は、いくつかの実施形態に係る、複数のフラッシュランプ角度反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。図６は、図４および図５に示される単一セルシステムと多くの点で実質的に類似しているが、実装されたシステムに複数の単一セルを組み合わせることによって異なる。図５は、複数の角付反射セル８５を示しており、それぞれは、上部角部７６、７８で構成される角付反射キャップ８２と、幅「Ｗ」を有する処理領域８７を備えた処理面８８の上方の複数のフラッシュランプとを含む。図６で識別された寸法を使用し、例えば、複数のフラッシュランプ角度反射セル８５は、幅Ｗを有する照射される処理領域８７の全幅を有するＮ領域をカバーすることができる。示されるように、各角付反射セル８５は、処理領域８７の所望のセルの数で割ったＷ／Ｎとして計算される幅８９（ｗとして示されている）を有する。

いくつかの実施形態では、図４に記載されているように、各角度反射セル８５は、角度反射キャップ８２を含み得る。角度反射キャップ８２は、角度を形成するように連結された上部角部７６、７８を含み、長さｑを有する上部角部７６、７８のそれぞれによって可能になる。長さｑは、上部角部７６，７８のそれぞれが次の式

で与えられる長さを有するように算出される。いくつかの実施形態では、上部角部７６、７８は、照射される平面の角度に対して測定されるときの４５°の角度で配置される。上部角部７６、７８のそれぞれの下端（bottom edge）は、２つの上部角部の下端が交わる間の平面が処理面８８に平行でなければならず、角度反射キャップ８２の頂点がフラッシュランプ７０から距離「ｄ」であるべきであるように整列し得る。いくつかの実施形態では、両方の上部角部７６、７８の長さｑは同じである。いくつかの実施形態では、距離「ｄ」は、ｄ＝ｗ／４となるように、幅８９の４分の１として算出され得る。距離「ｄ」は処理領域８７の方向と反対方向でフラッシュランプ７０より上であり得る。いくつかの実施形態では、フラッシュランプ７０のそれぞれは、その上に対応する角度反射キャップ８２を有し得る。いくつかの実施形態では、複数の角度反射キャップ８２は、単一の材料片を使用して構築され得る。

図７は、本開示のいくつかの実施形態に係る、複数の重なり合う円形セグメント反射セルを備えたフラッシュランプ・システムを使用してアイテムを処理するためのシステムの側面図である。図７は、楕円部９２および放物線部９４を含む楕円反射セル９０を示す。楕円部９２は、第１焦点ｆ１と第２焦点ｆ２との仮想連結によって生成された垂直方向の主軸を有する。フラッシュランプ９６は、第２焦点の上方にある第１焦点に配置される。楕円部９２は、放物線部９４に連結されている。放物線部９４は、楕円部９２の第２楕円焦点ｆ２と同じ位置にある焦点を有する。いくつかの実施形態では、図１に関して説明したような窓（図示せず）は、線９８に沿って放物線部９４の底に配置され得る。いくつかの実施形態では、楕円反射セル９０内のフラッシュランプ９６のＵＶエネルギー出力は、フラッシュランプ９６の表面積と比較して１０倍以上のカバレッジ領域にわたって均一であるが、より広いカバレッジ領域の外縁に沿っていくらかの増加があるかもしれない。

上記の説明では、ランプは単一の円筒形ランプであると一般に想定されているが、スパイラル、ヘリカル、またはＵ形状のランプを使用することもできる。円筒形の構成と同様に、ランプの輪郭の前記領域と比較して最低１０倍のカバレッジ領域、または１５倍、２０倍もしくは２５倍のカバレッジ領域が望まれる。「上（above）」および「下方（below）」、ならびに「上方（over）」および「下（under）」という用語は、相対的な位置を示すために使用される。ランプは、重力方向に対してコンベアの上または下方に設けることができるが、ここでの目的のために、ランプはコンベアの上（over）または上方（above）にあるとされる。

したがって、本明細書に記載の発明には、反射器、反射器を備えたＵＶエネルギーシステム、反射器を製造する方法、およびＵＶエネルギーシステムで反射器を使用する方法が含まれる。開示された主題は、その適用において、構造の詳細および以下の説明に記載されているかまたは図面に示される構成要素の配置（または配列；arrangement）に限定されないことを理解されたい。開示された主題は、他の実施形態が可能であり、様々な方法で実施および実行することができる。また、本明細書で使用される表現および用語は、説明を目的とするものであり、限定的なものとしてみなされるべきではないことを理解されたい。

したがって、当業者は本開示の基礎となる概念が、開示された主題のいくつかの目的を実行するための他の構造、方法およびシステムの設計の基礎として容易に利用できることを理解するであろう。したがって、特許請求の範囲は、開示された主題の精神および範囲から逸脱しない限り、そのような同等の構成を含むとみなされることが重要である。

開示された主題は、前述の例示的な実施形態で説明および図示されているが、本開示の一例としてのみ行われたものであり、開示された主題の精神および範囲から逸脱することなく、開示された主題の実施の詳細に多数の変更を加えることができ、これは以下の特許請求の範囲によってのみ制限されることを理解されたい。

Claims

処理面のアイテムに紫外線（ＵＶ）エネルギーを供するシステムであって、
前記システムは、
前記処理面にＵＶエネルギーを供するために、前記処理面の上方に配置されたランプと、
前記処理面から離れる方向に前記ランプから放出されたＵＶエネルギーが前記処理面に向かって反射されるように配置された反射セルと
を備え、
前記反射セルは、
前記ランプの上方に配置された反射キャップと、
前記反射キャップからコンベアに向かって下方に延在するシュラウドと
を含み、
前記シュラウドは、垂直寸法と、長手寸法と、前記コンベアの前記方向に沿った水平寸法とを有し、前記水平寸法および前記長手寸法は、前記コンベア上の処理領域を規定し、
前記ランプは、前記処理領域にエネルギーを供給するように構成され、前記反射キャップおよび前記シュラウドは、前記処理面に供給されるエネルギーが前記処理領域全体で実質的に均一になるように構成されている、システム。
前記ランプが少なくとも１つのラッシュランプを含み、前記処理領域の前記エネルギーは実質的に均一で５％以内である、請求項１に記載のシステム。
前記処理面はコンベヤーにより規定されている、請求項２に記載のシステム。
前記反射キャップおよび前記シュラウドは処理体積を規定し囲み、前記反射キャップおよび前記シュラウドは前記処理領域に面するそれらの内面に沿った反射材を有する、請求項１に記載のシステム。
前記反射キャップは、第１パネルおよび第２パネルを含み、
前記第１パネルおよび前記第２パネルは、前記処理面から離れて前記処理面に対してそれぞれ正および負の約４５度の角度で上方へ延在し、
前記第１パネルと前記第２パネルとの間の角度が約９０度となるように前記ランプの上方で交差する、請求項１に記載のシステム。
前記ランプは、間隔を置いて配置された第１ランプと第２ランプとを含み、
前記第１パネルおよび前記第２パネルは、前記第１ランプの上方に延在し、
前記システムは、第３パネルおよび第４パネルをさらに含み、
前記第３パネルおよび前記第４パネルは、前記処理面から離れて前記処理面に対してそれぞれ正および負の約４５度の角度で上方へ延在し、
前記第３パネルと前記第４パネルとの間の角度が約９０度となるように、前記第３パネルと前記第4パネルは前記第２ランプの上方で交差する、請求項５に記載のシステム。
前記反射キャップは、前記処理面に平行で前記ランプから前記処理面までの第２線に垂直である第１線に沿った主軸を有する第１楕円の一部を規定する第１楕円形を含み、
前記ランプは、前記楕円の第１焦点に配置され、
前記楕円の第２焦点は、前記第１線に沿って前記第１焦点から離間している、請求項１に記載のシステム。
前記反射キャップは、前記第１線に沿った主軸を有する第２楕円の一部を規定する第２楕円形状を含み、
第２楕円は、前記第１楕円の前記第１焦点と同じ場所に配置された第１焦点を有し、
前記楕円の第２焦点は、前記第１焦点から、および前記第１線に沿った前記第１楕円の前記第２焦点から離間している、請求項７に記載のシステム。
前記反射キャップは、前記処理面に垂直な主軸を有する楕円を規定する楕円部を含み、
前記ランプは、前記楕円の第１焦点に配置されて、前記第１焦点の下方に前記第２焦点を有し、
前記シュラウドは、前記反射キャップの前記第２焦点と同じ位置に焦点を配置された放物線形状を有する、請求項１に記載のシステム。
前記ランプと前記処理面との間に配置されたＵＶ透過窓をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
処理面の上方に配置された少なくとも１つの紫外線（ＵＶ）エネルギーランプと、
前記処理面から離れる方向に前記ランプから放出されたＵＶエネルギーが前記処理面に向かって反射されるように配置された反射セルと
を備えるシステムであって、
前記処理面の前記平面は第１方向を規定し、前記ランプから前記コンベアへの前記方向は前記第１方向に垂直な第２方向であり、
前記反射セルは、
前記フラッシュランプの上方で前記処理面から離れて配置され、前記処理面から前記第２方向に対してある角度で延在し前記ランプの上方に位置で接触しＶ形状の断面を有する第１および第２の平面パネルを有する反射キャップと、
前記第１パネルから前記コンベアに向かって下方に延在する少なくとも１つの第３パネルと、前記処理面に向かって延在し前記第３側面に平行である第４パネルと、前記第１および前記第２の側面の下方にあり前記第３および前記第４のパネルによって囲まれた処理領域の前記処理面にエネルギーを供するランプとを有するシュラウドと
を含む、システム。
前記ランプはフラッシュランプを含む、請求項１１に記載のシステム。
前記反射キャップおよび前記シュラウドは、処理体積を規定し、
前記反射キャップおよび前記シュラウドは、前記処理体積に面する内面に沿った反射材を含む、請求項１１に記載のシステム。
前記第１および前記第２のパネルは、Ｖ形状が約９０度になるように交差する、請求項１１に記載のシステム。
前記処理面はコンベアを含み、
前記システムは前記ランプと前記コンベアとの間に配置されたＵＶ透過窓をさらに含んで成る、請求項１１に記載のシステム。
第２ランプと、
前記第２方向に対してある角度で前記処理面から離れて延在し前記ランプの上方で交わり、および第２Ｖ形状の断面を形成する第５および第６の平面パネルを有する第２反射キャップと、
をさらに含む、請求項１０に記載のシステム。
前記第１、第２、第３および第４のパネルがホームプレート形状の断面を規定するように、前記第４パネルが前記第２パネルから下方へ延在する、請求項１１に記載のシステム。
平面状の処理面の上方に配置された少なくとも１つの紫外線（ＵＶ）エネルギーランプと、
前記処理面から離れる方向に前記ランプから放出されるＵＶエネルギーが前記処理面に向かって反射するように配置された反射セルと
を備えるシステムであって、
前記反射セルは、
前記フラッシュランプの上方で前記処理面から離れて配置された反射キャップと、
前記反射キャップから前記処理面に向かって延在するシュラウドと
を含み、
前記ランプから前記処理面への方向は、前記処理面に垂直な第１方向であり、
前記反射キャップは、前記処理面に平行でかつ前記第１方向に垂直な主軸を有する第１楕円形状を規定する第１楕円部を含み、
前記ランプは、前記第１楕円形状の１つの焦点に配置され、前記第１楕円形状の第２焦点は、第２方向に沿って前記第１方向から離間している、システム。
前記第１楕円形状の前記主軸と同一直線状に存在する主軸を有する第２楕円形状を規定する第２楕円部をさらに含んで成り、
前記ランプは、前記第２楕円形状の第１焦点に配置され、前記第２楕円形の第２焦点は、前記第１楕円形状の両方の焦点から離間している、請求項１７に記載のシステム。
前記シュラウドは、間隔をあけて前記反射キャップから前記処理面に向かって延在する第１および第２のパネルを含み、
前記第１および第２のパネルの前記間隔は、前記ＵＶエネルギーのために処理領域の寸法を規定する、請求項１７に記載のシステム。