JP2021512481A - クリーム半田のレーザー誘起前方転写装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、クリーム半田のレーザー誘起前方転写装置及び方法であり、該装置は、レーザー、ビーム整形モジュール、光路調整モジュール、クリーム半田転写モジュール及びコンピュータ制御システムを備え、前記レーザーは、ビーム整形モジュールに接続され、光路調整モジュールに隣接し、クリーム半田転写モジュールは、光路調整モジュールの下方に位置する。ビーム整形モジュールは、ビーム拡大レンズ、絞り、フラットトップビーム整形器及び空間光変調器を備える。光路調整モジュールは、2次元ガルバノメータ及びf−θレンズを備える。前記クリーム半田転写モジュールは、透明基板、クリーム半田膜、チャック、Z軸昇降台、受け基板、XYZ精密移動プラットフォームから構成される。コンピュータ制御システムは、コンピュータ及びほかの装置のドライバーから構成される。本発明は、マスクを必要とせずに非接触式でクリーム半田を高精度で転写することができる。生産周期を大幅に短縮させて、生産コストを削減させる。【選択図】図1
Description
本発明は、レーザー誘起前方転写技術(Laser induced forward transfer、略語LIFT)を利用してクリーム半田を転写するプロセス及び装置であり、レーザー光の応用及びクリーム半田印刷の技術分野に属し、特にクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置及び方法に関する。
SMT(Surface Mount Technology)は、ピンがないか、又は引き出し線が短い表面実装デバイス、たとえば抵抗、コンデンサ、トランジスタ、集積回路などをプリント回路基板に実装して、リフローにより電気的に接続する回路組立技術である。クリーム半田印刷は、SMT加工過程の第1ステップである。従来のクリーム半田印刷技術は、主にスクリーン印刷方法を用いており、スクリーン印刷では、異なるPCB基板に対しては異なるスクリーンが必要であるため、コストが高く、周期が長く、小規模で高速に生産するようなニーズに応えられない。
レーザー誘起前方転写技術(LIFT技術)は、材料堆積技術である。LIFT技術は、ターゲット材料を膜として透明基板に予め塗布しておき、ターゲット材料の膜面を下向きにして受け基板と所定の距離を保持し、レーザー光が透明基板を透過してターゲット材料に照射されるようにし、局所領域で材料転写を引き起こす。このため、LIFT技術は、マスクを必要としない非接触式の高精度微細転写技術である。
LIFT技術では、マスクを製造する必要がないため、クリーム半田印刷に適用すると、小規模生産の場合の生産周期を大幅に短縮させて、生産コストを低下させ、特に実験室研究及び工業的な小規模試作に適している。レーザーガルバノメータが使用されることにより、ビームが機械運動よりも遥かに高い速度で走査を行うことが可能になり、大規模生産に求められる生産速度を満たす。
本発明は、上記従来技術の欠点及び不備を解決して、クリーム半田のレーザー誘起前方転写装置及び方法を提供することを目的とする。
本発明は、下記技術案によって実現される。
レーザー光ユニット、コンピュータ制御システムを備えるクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置であって、クリーム半田転写モジュールをさらに備え、前記コンピュータ制御システムは、レーザー光ユニットのレーザー光ビームの出射及びクリーム半田転写モジュールの運動を制御し、
前記クリーム半田転写モジュールは、透明基板、チャック、Z軸昇降台、受け基板、XYZ軸移動プラットフォームを備え、
前記透明基板の下面が、クリーム半田膜を収容するための凹面であり、
前記受け基板及びZ軸昇降台は、XYZ軸移動プラットフォームに配置されて、受け基板とレーザー光ビームスポットの相対的作業位置を調整し、
前記チャックは、Z軸昇降台に取り付けられ、透明基板は、凹面が下向きであり、且つ受け基板の上方に平行に配置され、前記チャックは、透明基板の縁部を挟持し、Z軸昇降台に搭載されて受け基板の上方に垂直に昇降運動し、受け基板に対する透明基板の距離を調整することを特徴とする。
レーザー光ユニット、コンピュータ制御システムを備えるクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置であって、クリーム半田転写モジュールをさらに備え、前記コンピュータ制御システムは、レーザー光ユニットのレーザー光ビームの出射及びクリーム半田転写モジュールの運動を制御し、
前記クリーム半田転写モジュールは、透明基板、チャック、Z軸昇降台、受け基板、XYZ軸移動プラットフォームを備え、
前記透明基板の下面が、クリーム半田膜を収容するための凹面であり、
前記受け基板及びZ軸昇降台は、XYZ軸移動プラットフォームに配置されて、受け基板とレーザー光ビームスポットの相対的作業位置を調整し、
前記チャックは、Z軸昇降台に取り付けられ、透明基板は、凹面が下向きであり、且つ受け基板の上方に平行に配置され、前記チャックは、透明基板の縁部を挟持し、Z軸昇降台に搭載されて受け基板の上方に垂直に昇降運動し、受け基板に対する透明基板の距離を調整することを特徴とする。
前記レーザー光ユニットは、順次光路接続されたレーザー、ビーム整形モジュール、光路調整モジュールを備え、
前記レーザー、ビーム整形モジュール、光路調整モジュール、クリーム半田転写モジュールは、それぞれコンピュータ制御システムに接続される。
前記レーザー、ビーム整形モジュール、光路調整モジュール、クリーム半田転写モジュールは、それぞれコンピュータ制御システムに接続される。
前記ビーム整形モジュールは、順次光路接続されたビーム拡大レンズ、絞り、フラットトップビーム整形器、空間光変調器を備え、
前記光路調整モジュールは、順次光路接続された2次元ガルバノメータ、f−θレンズを備える。
前記光路調整モジュールは、順次光路接続された2次元ガルバノメータ、f−θレンズを備える。
前記収容クリーム半田膜の凹面の深さが、20μm〜150μmである。
前記受け基板は、PCB基板である。
クリーム半田のレーザー誘起前方転写方法であって、
印刷対象の受け基板の回路設計図をコンピュータ制御システムに入力し、コンピュータ制御システムによって印刷対象の受け基板におけるボンディングバッドの位置に基づいてレーザー光の走査経路、走査速度を設定し、各ボンディングバッドの形状及び寸法に応じてレーザー光のパラメータ及びビーム整形モジュールのパラメータを選択するステップ1と、
実際の生産に必要なクリーム半田の厚さに応じて、所望の凹面の深さを有する透明基板を選択し、ブレードコート方法でクリーム半田を凹面全体に塗布して、凹面にクリーム半田膜9を形成し、クリーム半田膜の面を下向きにして、次に、透明基板をZ軸昇降台に接続されたチャックに固定し、透明基板と受け基板との距離を調整するステップ2と、
レーザー光パルスが放射される前に、コンピュータ制御システムは、予め設定された経路に従って、2次元ガルバノメータを回転させ、レーザー光ビームの路径を変えるステップ3と、
レーザー1からのビームがビーム整形モジュールにより整形された後、2次元ガルバノメータとf−θレンズからなる光路調整モジュールに入り、2次元ガルバノメータにより光路を変化され、最終的にf−θレンズを透過してステップの前記クリーム半田膜の上方に集束し、レーザー光が透明基板を透過してクリーム半田膜により吸収された後、照射部位が部分的に気化し、クリーム半田膜の内部に気泡が形成され、次に、気泡の持続的な膨張に伴い、周辺の気化部分が受け基板へ押され、透明基板と受け基板の間に安定的なブリッジ構造が形成されるステップ4と、
受け基板におけるすべてのボンディングバッドと透明基板の間に安定的なブリッジ構造が形成されるまでステップ3及びステップ4を繰り返し、次に、コンピュータ制御システムは、Z軸昇降台11が上昇し、透明基板が垂直に受け基板から離れるように制御し、すべてのブリッジ構造を破断して、点状クリーム半田18を残し、さらに受け基板全体の印刷を完了するステップ5と、を含む。
印刷対象の受け基板の回路設計図をコンピュータ制御システムに入力し、コンピュータ制御システムによって印刷対象の受け基板におけるボンディングバッドの位置に基づいてレーザー光の走査経路、走査速度を設定し、各ボンディングバッドの形状及び寸法に応じてレーザー光のパラメータ及びビーム整形モジュールのパラメータを選択するステップ1と、
実際の生産に必要なクリーム半田の厚さに応じて、所望の凹面の深さを有する透明基板を選択し、ブレードコート方法でクリーム半田を凹面全体に塗布して、凹面にクリーム半田膜9を形成し、クリーム半田膜の面を下向きにして、次に、透明基板をZ軸昇降台に接続されたチャックに固定し、透明基板と受け基板との距離を調整するステップ2と、
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レーザー1からのビームがビーム整形モジュールにより整形された後、2次元ガルバノメータとf−θレンズからなる光路調整モジュールに入り、2次元ガルバノメータにより光路を変化され、最終的にf−θレンズを透過してステップの前記クリーム半田膜の上方に集束し、レーザー光が透明基板を透過してクリーム半田膜により吸収された後、照射部位が部分的に気化し、クリーム半田膜の内部に気泡が形成され、次に、気泡の持続的な膨張に伴い、周辺の気化部分が受け基板へ押され、透明基板と受け基板の間に安定的なブリッジ構造が形成されるステップ4と、
受け基板におけるすべてのボンディングバッドと透明基板の間に安定的なブリッジ構造が形成されるまでステップ3及びステップ4を繰り返し、次に、コンピュータ制御システムは、Z軸昇降台11が上昇し、透明基板が垂直に受け基板から離れるように制御し、すべてのブリッジ構造を破断して、点状クリーム半田18を残し、さらに受け基板全体の印刷を完了するステップ5と、を含む。
従来技術に比べて、本発明は、下記利点及び効果を有する。
本発明のクリーム半田転写モジュールは、透明基板、チャック、Z軸昇降台、受け基板、XYZ軸移動 プラットフォームを備え、透明基板の下面には、クリーム半田膜を収容する凹面が形成されており、受け基板及びZ軸昇降台は、XYZ軸移動プラットフォームに配置されて受け基板とレーザー光ビームスポットの相対的作業位置を調整し、作動するときに、チャックをZ軸昇降台に取り付け、透明基板の凹面を下向きにして、受け基板の上方に平行に配置し、チャックで透明基板の縁部を挟持して、チャックをZ軸昇降台に搭載して受け基板の上方に垂直に昇降運動させ、受け基板に対する透明基板の距離を調整する。高エネルギーのパルスレーザー光を利用して、レーザー光及び移動プラットフォームが連携して運動することにより、透明基板8におけるクリーム半田膜を設定された路径に従って受け基板に転写させ、それによって、クリーム半田の局所転写及び印刷を正確に制御する。
本発明のクリーム半田転写モジュールは、透明基板、チャック、Z軸昇降台、受け基板、XYZ軸移動 プラットフォームを備え、透明基板の下面には、クリーム半田膜を収容する凹面が形成されており、受け基板及びZ軸昇降台は、XYZ軸移動プラットフォームに配置されて受け基板とレーザー光ビームスポットの相対的作業位置を調整し、作動するときに、チャックをZ軸昇降台に取り付け、透明基板の凹面を下向きにして、受け基板の上方に平行に配置し、チャックで透明基板の縁部を挟持して、チャックをZ軸昇降台に搭載して受け基板の上方に垂直に昇降運動させ、受け基板に対する透明基板の距離を調整する。高エネルギーのパルスレーザー光を利用して、レーザー光及び移動プラットフォームが連携して運動することにより、透明基板8におけるクリーム半田膜を設定された路径に従って受け基板に転写させ、それによって、クリーム半田の局所転写及び印刷を正確に制御する。
本発明では、透明基板の下面にクリーム半田膜を収容する凹面を形成するとともに、受け基板とZ軸昇降台をXYZ軸移動プラットフォームに配置して受け基板とレーザー光ビームスポットの相対的作業位置を調整することに加えて、高エネルギーのパルスレーザー光を利用することによって、マスクを必要としない非接触式の高精度クリーム半田転写技術案を実現する。
本発明は、技術的手段が実施されやすく、生産プロセスを効果的に簡素化させ、且つ生産周期を大幅に短縮させて、生産コストを削減させる。
以下、特定の実施例にて本発明をさらに詳細に説明する。
実施例
図1−4に示されるように、本発明は、レーザー光ユニット、コンピュータ制御システム14を備えるクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置であって、クリーム半田転写モジュールをさらに備え、前記コンピュータ制御システム14は、レーザー光ユニットのレーザー光ビームの出射及びクリーム半田転写モジュールの運動を制御し、
前記クリーム半田転写モジュールは、透明基板8、チャック10、Z軸昇降台11、受け基板12、XYZ軸移動プラットフォーム13を備え、
前記透明基板8の下面が、クリーム半田膜9を収容する凹面であり、透明基板8は、石英ガラス又はほかの透明物品であることを特徴とするクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置を開示する。
図1−4に示されるように、本発明は、レーザー光ユニット、コンピュータ制御システム14を備えるクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置であって、クリーム半田転写モジュールをさらに備え、前記コンピュータ制御システム14は、レーザー光ユニットのレーザー光ビームの出射及びクリーム半田転写モジュールの運動を制御し、
前記クリーム半田転写モジュールは、透明基板8、チャック10、Z軸昇降台11、受け基板12、XYZ軸移動プラットフォーム13を備え、
前記透明基板8の下面が、クリーム半田膜9を収容する凹面であり、透明基板8は、石英ガラス又はほかの透明物品であることを特徴とするクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置を開示する。
前記受け基板12及びZ軸昇降台11は、XYZ軸移動プラットフォーム13に配置されて、受け基板12とレーザー光ビームスポットの相対的作業位置を調整し、
前記チャック10は、Z軸昇降台11に取り付けられ、透明基板8は、凹面が下向きであり、且つ受け基板12の上方に平行に配置され、前記チャック10は、透明基板8の縁部を挟持し、Z軸昇降台11に搭載されて受け基板12の上方に垂直に昇降運動し、受け基板12に対する透明基板8の距離を調整する。
前記チャック10は、Z軸昇降台11に取り付けられ、透明基板8は、凹面が下向きであり、且つ受け基板12の上方に平行に配置され、前記チャック10は、透明基板8の縁部を挟持し、Z軸昇降台11に搭載されて受け基板12の上方に垂直に昇降運動し、受け基板12に対する透明基板8の距離を調整する。
前記レーザー光ユニットは、順次光路接続されたレーザー1、ビーム整形モジュール、光路調整モジュールを備え、レーザー1、ビーム整形モジュール、光路調整モジュール、クリーム半田転写モジュールは、それぞれコンピュータ制御システム14に接続される。ビーム整形モジュールは、順次光路接続されたビーム拡大レンズ2、絞り3、フラットトップビーム整形器4、空間光変調器5を備え、ビームは、ビーム拡大レンズ2、絞り3を透過した後、スポットの不純物が除去され、フラットトップビーム整形器4を透過した後、スポットの元のガウスエネルギー分布が均一な円形分布又は方形分布になる。次に、空間光変調器5を透過して、コンピュータ制御システム14の制御により、空間光変調器5は、スポットをユーザに必要な形状及び寸法に変化する。
前記光路調整モジュールは、順次光路接続された2次元ガルバノメータ6、f−θレンズ7を備える。コンピュータ制御システム14は、2次元ガルバノメータ6を制御することによってビームのXY平面での位置を移動させ、最終的にビームをf−θレンズ7で目標平面に集束させる。f−θレンズ7は、355nm又は532nmの反射防止膜、±15°の走査角、120mmの有効焦点距離を有する。
前記収容クリーム半田膜9の凹面の深さが、20μm〜150μmである。
前記受け基板12は、PCB基板、即ち、クリーム半田の印刷を必要とするPCB基板である。
クリーム半田膜9には、クリーム半田としてType5〜7のクリーム半田が使用されており、Type5である場合、クリーム半田の粒子寸法は、15μm〜25μmであり、Type6である場合、クリーム半田の粒子寸法は、5μm〜15μmであり、Type7である場合、粒子寸法は、2μm〜11μmである。
レーザー1は、パルスレーザーであり、出力光源の波長が355nm又は532nmであり、パルス幅が10ns〜50nsであり、繰り返し周波数が10khz〜100khzである。
本発明がレーザー前方転写方法を利用してクリーム半田を転写させる具体的な原理は、図3に示されており、レーザー1からのレーザー光は、ビーム整形モジュール及び光路調整モジュールを透過した後、透明基板8を介してクリーム半田膜9に照射され、クリーム半田を部分的に気化させて、気泡16を発生させる。気泡16の持続的な膨張に伴い、クリーム半田膜9が受け基板12と接触し、安定的なブリッジ構造17が形成される。透明基板8が垂直に受け基板12から離れたとき、ブリッジ構造17は、破断するまで引っ張られて、受け基板12に点状クリーム半田18を残す。
図4は、本発明により転写された点状クリーム半田の共焦点顕微鏡像を示している。
本発明のクリーム半田のレーザー誘起前方転写方法は、下記ステップによって実現される。
ステップ1:印刷対象の受け基板12の回路設計図をコンピュータ制御システム14に入力し、コンピ ュータ制御システム14によって印刷対象の受け基板12におけるボンディングバッドの位置に基づいてレーザー光15の走査経路、走査速度を設定し、各ボンディングバッドの形状及び寸法に応じてレーザー光のパラメータ及びビーム整形モジュールのパラメータを選択する。
ステップ2:実際の生産に必要なクリーム半田の厚さに応じて、所望の凹面の深さを有する透明基板8を選択し、ブレードコート方法でクリーム半田を凹面全体に塗布して、凹面にクリーム半田膜9を形成し、クリーム半田膜9の面を下向きにして、次に、透明基板8をZ軸昇降台11に接続されたチャック10に固定し、透明基板8と受け基板12との距離を調整し、距離の調整を完了した後、クリーム半田を転写し始める。
ステップ3:レーザー光パルスが放射される前に、コンピュータ制御システム14は、予め設定された経路に従って、2次元ガルバノメータ6を回転させ、レーザー光ビームの路径を変え、予め設定されたレーザー光のパラメータ、及びビーム整形モジュールのパラメータに基づいて、レーザー光スポットのエネルギー分布を調整する。
ステップ4:パラメータが調整された後、レーザー1からのビームがビーム整形モジュールにより整形された後、2次元ガルバノメータ6とf−θレンズ7からなる光路調整モジュールに入り、2次元ガルバノメータ6により光路を変化され、最終的にf−θレンズ7を透過してステップ2の前記クリーム半田膜9の上方に集束し、レーザー光15が透明基板8を透過してクリーム半田膜9により吸収された後、照射部位が部分的に気化し、クリーム半田膜9の内部に形気泡16が成され、気泡16の持続的な膨張に伴い、周辺の未気化部分が受け基板12へ押され、透明基板8と受け基板12の間に安定的なブリッジ構造17が形成される。
ステップ5:受け基板12におけるすべてのボンディングバッドと透明基板8の間に安定的なブリッジ構造17が形成されるまでステップ3及びステップ4を繰り返し、次に、コンピュータ制御システム14は、Z軸昇降台11が上昇し、透明基板8が垂直に受け基板12から離れるように制御し、すべてのブリッジ構造17を破断して、点状クリーム半田18を残し、さらに受け基板12全体の印刷を完了する。
ステップ1:印刷対象の受け基板12の回路設計図をコンピュータ制御システム14に入力し、コンピ ュータ制御システム14によって印刷対象の受け基板12におけるボンディングバッドの位置に基づいてレーザー光15の走査経路、走査速度を設定し、各ボンディングバッドの形状及び寸法に応じてレーザー光のパラメータ及びビーム整形モジュールのパラメータを選択する。
ステップ2:実際の生産に必要なクリーム半田の厚さに応じて、所望の凹面の深さを有する透明基板8を選択し、ブレードコート方法でクリーム半田を凹面全体に塗布して、凹面にクリーム半田膜9を形成し、クリーム半田膜9の面を下向きにして、次に、透明基板8をZ軸昇降台11に接続されたチャック10に固定し、透明基板8と受け基板12との距離を調整し、距離の調整を完了した後、クリーム半田を転写し始める。
ステップ3:レーザー光パルスが放射される前に、コンピュータ制御システム14は、予め設定された経路に従って、2次元ガルバノメータ6を回転させ、レーザー光ビームの路径を変え、予め設定されたレーザー光のパラメータ、及びビーム整形モジュールのパラメータに基づいて、レーザー光スポットのエネルギー分布を調整する。
ステップ4:パラメータが調整された後、レーザー1からのビームがビーム整形モジュールにより整形された後、2次元ガルバノメータ6とf−θレンズ7からなる光路調整モジュールに入り、2次元ガルバノメータ6により光路を変化され、最終的にf−θレンズ7を透過してステップ2の前記クリーム半田膜9の上方に集束し、レーザー光15が透明基板8を透過してクリーム半田膜9により吸収された後、照射部位が部分的に気化し、クリーム半田膜9の内部に形気泡16が成され、気泡16の持続的な膨張に伴い、周辺の未気化部分が受け基板12へ押され、透明基板8と受け基板12の間に安定的なブリッジ構造17が形成される。
ステップ5:受け基板12におけるすべてのボンディングバッドと透明基板8の間に安定的なブリッジ構造17が形成されるまでステップ3及びステップ4を繰り返し、次に、コンピュータ制御システム14は、Z軸昇降台11が上昇し、透明基板8が垂直に受け基板12から離れるように制御し、すべてのブリッジ構造17を破断して、点状クリーム半田18を残し、さらに受け基板12全体の印刷を完了する。
前記のように、本発明を効果的に実現できる。
本発明の実施形態は、上記実施例により制限されず、本発明の趣旨及び原理から逸脱せずに行われる修正、修飾、置換、組み合わせ、簡素化は、すべて等価の置換形態であり、いずれも本発明の特許範囲に属する。
Claims (6)
- レーザー光ユニット、コンピュータ制御システム(14)を備えるクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置であって、
クリーム半田転写モジュールをさらに備え、前記コンピュータ制御システム(14)は、レーザー光ユニットのレーザー光ビームの出射及びクリーム半田転写モジュールの運動を制御し、
前記クリーム半田転写モジュールは、透明基板(8)、チャック(10)、Z軸昇降台(11)、受け基板(12)、XYZ軸移動プラットフォーム(13)を備え、
前記透明基板(8)の下面が、クリーム半田膜(9)を収容するための凹面であり、
前記受け基板(12)及びZ軸昇降台(11)は、XYZ軸移動プラットフォーム(13)に配置されて、受け基板(12)とレーザー光ビームスポットの相対的作業位置を調整し、
前記チャック(10)は、Z軸昇降台(11)に取り付けられ、透明基板(8)は、凹面が下向きであり、且つ受け基板(12)の上方に平行に配置され、前記チャック(10)は、透明基板(8)の縁部を挟持し、Z軸昇降台(11)に搭載されて受け基板(12)の上方に垂直に昇降運動し、受け基板(12)に対する透明基板(8)の距離を調整する、
ことを特徴とするクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置。 - 前記レーザー光ユニットは、順次光路接続されたレーザー(1)、ビーム整形モジュール、光路調整モジュールを備え、
前記レーザー(1)、ビーム整形モジュール、光路調整モジュール、クリーム半田転写モジュールは、それぞれコンピュータ制御システム(14)に接続される、
ことを特徴とする請求項1に記載のクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置。 - 前記ビーム整形モジュールは、順次光路接続されたビーム拡大レンズ(2)、絞り(3)、フラットトップビーム整形器(4)、空間光変調器(5)を備え、
前記光路調整モジュールは、順次光路接続された2次元ガルバノメータ(6)、f−θレンズ(7)を備える、
ことを特徴とする請求項2に記載のクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置。 - 前記収容クリーム半田膜(9)の凹面の深さが、20μm〜150μmである、
ことを特徴とする請求項3に記載のクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置。 - 前記受け基板(12)は、PCB基板である、
ことを特徴とする請求項4に記載のクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置。 - クリーム半田のレーザー誘起前方転写方法であって、
請求項5に記載のクリーム半田のレーザー誘起前方転写装置を用いて実現され、
印刷対象の受け基板(12)の回路設計図をコンピュータ制御システム(14)に入力し、コンピュータ制御システム(14)によって印刷対象の受け基板(12)におけるボンディングバッドの位置に基づいてレーザー光(15)の走査経路、走査速度を設定し、各ボンディングバッドの形状及び寸法に応じてレーザー光のパラメータ及びビーム整形モジュールのパラメータを選択するステップ(1)と、
実際の生産に必要なクリーム半田の厚さに応じて、所望の凹面の深さを有する透明基板(8)を選択し、ブレードコート方法でクリーム半田を凹面全体に塗布して、凹面にクリーム半田膜(9)を形成し、クリーム半田膜(9)の面を下向きにして、次に、透明基板(8)をZ軸昇降台(11)に接続されたチャック(10)に固定し、透明基板(8)と受け基板(12)との距離を調整するステップ(2)と、
レーザー光パルスが放射される前に、コンピュータ制御システム(14)は、予め設定された経路に従って、2次元ガルバノメータ(6)を回転させ、レーザー光ビームの路径を変えるステップ(3)と、
レーザー(1)からのビームがビーム整形モジュールにより整形された後、2次元ガルバノメータ(6)とf−θレンズ(7)からなる光路調整モジュールに入り、2次元ガルバノメータ(6)により光路の方向を変化され、最終的にf−θレンズ(7)を透過してステップ(2)の前記クリーム半田膜(9)の上方に集束し、レーザー光(15)が透明基板(8)を透過してクリーム半田膜(9)により吸収された後、照射部位が部分的に気化し、クリーム半田膜(9)の内部に気泡(16)が形成され、気泡(16)の持続的な膨張に伴い、周辺の未気化部分が受け基板(12)へ押され、透明基板(8)と受け基板(12)の間に安定的なブリッジ構造(17)が形成されるステップ(4)と、
受け基板(12)におけるすべてのボンディングバッドと透明基板(8)の間に安定的なブリッジ構造(17)が形成されるまでステップ(3)及びステップ(4)を繰り返し、次に、コンピュータ制御システム(14)は、Z軸昇降台(11)が上昇し、透明基板(8)が垂直に受け基板(12)から離れるように制御し、すべてのブリッジ構造(17)を破断して、点状クリーム半田(18)を残し、さらに受け基板(12)全体の印刷を完了するステップ(5)と、を備える、
ことを特徴とするクリーム半田のレーザー誘起前方転写方法。
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