JP2021504276A - ガラスリボンを成形するためにエッジ誘導部材を備える装置 - Google Patents

Abstract

ガラスリボンを下方へ延伸するための装置は、外表面のペアを有する上部と、下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部とを含む形成槽を備える。円錐台又は円錐形状の一部から形成された流れ誘導部を含むエッジ誘導部材が設けられている。

Description

関連出願

本出願は、２０１７年１１月２２日に出願された米国仮特許出願第６２／５８９６５１号の優先権の利益を主張するものであり、その内容全体を本明細書に下記に完全に明記されているかのように援用する。

本明細書は概ね、ガラスリボンを作製するための方法及び装置、特にガラスリボンを成形するためにエッジ誘導部材を含む方法及び装置に関する。

ガラス形成装置は様々なガラス製品、例えばＬＣＤディスプレイなどに使用されるガラスシートを形成するために通常使用される。これらのガラスシートは成形ウェッジを覆って溶融ガラスを下方に流し連続するガラスリボンを形成すること（融合プロセスと呼ばれる）で製造されてもよい。従来から、融合プロセスはエッジ誘導部材を使用してきた。エッジ誘導部材の主目的はガラスシートの全体の幅を増加させることである。通常、シート幅の上限は形成槽の垂直断面上の「ダムとダムの」距離により限定される。形成槽の根元部上にどんな種類のエッジ誘導部材もない場合、２つの向かい合うガラス層の４つのエッジは、各層は全体としてその２層がそこで融合する根元線に向かって流れながら、形成槽の中央に向かって流れる傾向がある。この場合に得られるシートの最大幅は減少するであろう。

現在のエッジ誘導部材はガラスシートのこの幅損失の幾らかを低減する場合があるが、そうしながらも、Ｙ字形状のエッジを生成することがあり、Ｙの足を押して融合するエッジロールの使用を必要とする。融合ドロー装置が経年変化すると共に、エッジロールでもＹ字形状エッジはより融合し難くなり、ついにはガラスリボンのエッジ部に空気穴、いわゆる中空エッジができうる。時間と共に成長するＹ字形状のどんな非対称性もエッジでの不整合、いわゆるエッジ不整合となりうる。中空エッジとエッジ不整合の両方はリボンの安定性問題を引き起こし融合ドロー装置の寿命を制限しうる。

１つの実施形態によれば、ガラスリボンを下方へ延伸するための装置は、形成槽を備え、前記形成槽は、互いに平行に延在する外表面のペアを有する上部であって、前記外表面のペアは前記形成槽の幅を画定する、上部と、下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部と、前記成形ウェッジに並んで延在する流れ阻止部と、エッジ誘導部材とを備え、前記エッジ誘導部材は第１円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第１流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該第１流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第１流れ誘導部と、第２円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第２流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第２流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の他方と交わり該第２流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第２流れ誘導部とを備える。前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記流れ阻止部との交線の最下端点同士の距離は前記形成槽の幅の８０パーセント以下である。

別の実施形態では、ガラスリボンを下方へ延伸するための装置は、形成槽を備え、前記形成槽は、互いに平行に延在する外表面のペアを有する上部であって、前記外表面間に前記形成槽の幅を画定する上部と、下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部と、前記成形ウェッジに並んで延在するダムを提供する流れ阻止部と、エッジ誘導部材とを備え、前記エッジ誘導部材は円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる流れ誘導部を備える。前記円錐台又は円錐形状は少なくとも２０度の円錐角を有し、前記円錐角は前記円錐台又は円錐形状の中心軸から前記円錐台又は円錐形状の外表面まで測られる。

更に別の実施形態では、ガラスリボンを作製する方法は、互いに平行に延在する外表面のペアを有する形成槽の上部であって、前記外表面間に前記形成槽の幅を画定する上部と、下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部とを覆って溶融ガラスを流すステップと、前記成形ウェッジに並んで延在するダムを提供する流れ阻止部を覆って溶融ガラスを流すステップと、第１円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第１流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該第１流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第１流れ誘導部を備えるエッジ誘導部材を覆って溶融ガラスを流すステップと、第２円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された前記エッジ誘導部材の第２流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第２流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の他方と交わり該第２流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第２流れ誘導部を覆って溶融ガラスを流すステップとを含む。前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記流れ阻止部との交線の最下端点同士の距離は前記形成槽の幅の８０パーセント以下である。

ガラスリボンを形成するための方法及び装置の追加の特徴と利点は下記の詳細な説明において記述され、その説明から当業者にとって容易に明白となるか、又は下記の詳細な説明、請求項、及び添付図面を含めて本明細書に記載した実施形態を実施することにより認識されるであろう。

上記概要説明と下記の詳細な説明の両方とも様々な実施形態を説明し、請求項に記載された対象物の特質及び特性を理解するための概観又は枠組みを提供するよう意図されていることは理解されるべきである。添付図面はそれら様々な実施形態の更なる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれ一部をなしている。図面は本明細書に記載された様々な実施形態を例示し、記述内容と共に請求項に記載された対象物の原理と動作を説明するよう働く。

本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るガラスリボンを形成するための装置を概略的に描く。 図１の線２‐２に沿った断面斜視図を概略的に描く。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係る図１の装置で使用するためのエッジ誘導部材の側面斜視図である。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るエッジ誘導部材を形成する方法を例示する。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るエッジ誘導部材を形成する方法を例示する。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るエッジ誘導部材を形成する方法を例示する。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るエッジ誘導部材の側面斜視図である。 図７のエッジ誘導部材の側面図である。 図７のエッジ誘導部材の底面図である。 図７のエッジ誘導部材の前面図である。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るエッジ誘導部材の側面斜視図である。 図１１のエッジ誘導部材の側面図である。 図１１のエッジ誘導部材の底面図である。 図１１のエッジ誘導部材の前面図である。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るエッジ誘導部材の側面斜視図である。 図１５のエッジ誘導部材の側面図である。 図１５のエッジ誘導部材の底面図である。 図１５のエッジ誘導部材の前面図である。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るエッジ誘導部材の側面斜視図である。 図１９のエッジ誘導部材の側面図である。 図１９のエッジ誘導部材の底面図である。 図１９のエッジ誘導部材の前面図である。 本書に示され説明される１つ以上の実施形態に係るエッジ誘導部材の側面斜視図である。 図２３のエッジ誘導部材の側面図である。 図２３のエッジ誘導部材の底面図である。 図２３のエッジ誘導部材の前面図である。

ガラスリボンを形成するための方法及び装置とそれで使用するためのエッジ誘導部材との実施形態を詳細に記述し、それらの例を添付図面に示す。ガラスリボンを作製するための装置の実施形態が図１に示され、概ね全体を通して符号１０により示される。装置１０は形成槽の両端に位置する両側のエッジ誘導部材のペアを通常含む。下記にもっと詳細に記載されるように、エッジ誘導部材は形成プロセスの間、ガラスリボンの幅損失を低減するように構成されている。ガラスリボンを形成するための方法及び装置とそれで使用するためのエッジ誘導部材との様々な実施形態が添付図面を参照して本明細書に更に詳細に記述される。

本明細書では範囲は、「約」特定の値から及び／又は「約」別の特定の値までとして表されうる。そのような範囲が表された時、別の実施形態はその１つの特定の値から及び／又はその別の特定の値までを含む。同様に、値が先行する「約」を使って近似値として表された時、その特定の値は別の実施形態を形成することは理解されよう。また、各範囲の端点は他方の端点と関係して、また他方の端点とは独立して意味があることは理解されよう。

本明細書で使用される方向の用語、例えば上へ、下へ、右へ、左へ、前、後、上部、底部は描かれた図を参照してのみ使用され、絶対的な向きを意味するように意図されていない。

そうでないと明確に記述されていない限り、本明細書で明らかにされるどんな方法も、特定の順序でそのステップが実行されることを要求していると解釈されることも、どんな装置も特定の向きが要求されることも決して意図していない。従って、方法請求項がそのステップが従う順序を実際に明記しない場合、又はどんな装置請求項も個々の構成要素の順序も向きも実際に明記しない場合、又は請求項又は説明でステップが特定の順序に限定されるべきであると明確に記述されていない場合、又は装置の構成要素の特定の順序も向きも明記されていない場合、順序や向きが推測されることはいかなる点でも全く意図されていない。この事は、ステップの配列、動作フロー、構成要素の順序、又は構成要素の向きに関する論理事項、文法構成又は句読点から導出される平易な意味、及び本明細書で説明される実施形態の数又は種類を含む、解釈のためのどんな可能な非明示の根拠にも当てはまる。

本明細書で使用されるように、文脈からそうでないと明らかに指示されない限り、英語の単数形「a」、「an」、及び「the」は複数の指示対象を含む。従って、例えば、１つの構成要素への言及は、文脈からそうでないと明らかに示されない限り、２つ以上のそのような構成要素を有する態様を含む。

図１を参照すると、ガラスリボン１２を形成するためのガラス形成装置１０の実施形態が概略的に描かれている。ガラス形成装置１０は、貯蔵容器１８からガラスを形成するために使用されるバッチ材料１６を受け取るように構成された溶融槽１５を通常含む。バッチ材料１６はモーター２２により動力が供給されるバッチ送出装置２０により溶融槽１５に導入されうる。任意選択のコントローラ２４がモーター２２を作動させるために設けられてもよく、溶融ガラスレベル探針２８が立て管３０内の溶融ガラスレベルを測定し測定された情報をコントローラ２４に通信するために使用されうる。

ガラス形成装置１０は、溶融槽１５の下流に位置し溶融槽１５に第１接続管３６を介して結合された清澄槽３８を含む。混合槽４２は清澄槽３８の下流に位置する。送出槽４６が混合槽４２の下流に位置していてもよい。描かれているように、第２接続管４０は清澄槽３８を混合槽４２に結合し、第３接続管４４は混合槽４２を送出槽４６に結合する。更に例示されているように、下降管４８は溶融ガラスを送出槽４６から形成槽６０の入口５０に送出するように配置されている。

溶融槽１５は耐火性（例えば、セラミック）煉瓦などの耐火性材料で通常できている。ガラス形成装置１０は白金又は白金含有金属、例えば白金ロジウム、白金イリジウム、及びそれらの組み合わせから通常できている構成要素を更に含んでもよい。しかし、それらの構成要素はモリブデン、パラジウム、レニウム、タンタル、チタン、タングステン、ルテニウム、オスミウム、ジルコニウム、及びそれらの合金、及び／又は二酸化ジルコニウムなどの耐火性材料も含んでよい。白金含有構成要素は第１接続管３６、清澄槽３８、第２接続管４０、立て管３０、混合槽４２、第３接続管４４、送出槽４６、下降管４８、及び入口５０のうち１つ以上を含みうる。形成槽６０も耐火性材料でできていて、溶融ガラスをガラスリボン１２に成形するよう作られうる。

図２はガラス形成装置１０の図１の線２‐２に沿った断面斜視図である。図示のように、形成槽６０は成形ウェッジ部６２及び開放上部６１を含む。上部６１は平行な外表面部７３、７５を含み、成形ウェッジ部６２は形成槽６０の両端７０、７２間に延在する一対の下方（即ち、図２に描かれた座標軸の−ｙ方向）傾斜成形表面部６６、６８を含む。下方傾斜成形表面部６６、６８は下流方向７４に沿って集束して底縁又は根元７６を形成する。根元７６は下方傾斜成形表面部６６、６８が交わる又は集束する境界である。延伸平面７８は根元７６を通って延在する。ガラスリボン１２は成形ウェッジ部６２から下流方向７４に延伸平面７８に沿って延伸されてもよい。描かれているように、延伸平面７８は傾斜成形表面部６６、６８間の角度σを２等分し、根元７６を通って延在する。しかし、延伸平面７８は根元７６に対して角度σを２等分する以外の他の様々な向きに延在してもよいことは理解されるべきである。図１及び２はガラス形成装置及び形成槽の実施形態を概ね描くが、本開示の態様は様々な他の形成槽構成で使用されてよいことも理解されるべきである。

図１及び２を参照すると、幾つかの実施形態では、形成槽６０の両端７０、７２はそれぞれ保持ブロック組立体９０、９２を備えうる。垂直向き平面状表面９４及び９６が設けられ、平行な外表面部７３、７５及び下方傾斜成形表面部６６、６８の両方と交差する。それらの表面９４、９６（図２）はエッジ誘導部材８０及び８２用の垂直支持表面として働き、ガラスリボン１２の両側の側面障壁を提供しうる。表面９４及び９６とエッジ誘導部材８０及び８２とはガラスリボンの移動を制限しガラスリボンを下方へ根元７６に向けて誘導するのに使用される。特に図２で分かりうるように、表面９４及び９６は成形ウェッジ部６２の全高さに亘って又は全高さを超えて延在（即ち、根元７６及び上部６１の両方を越えてｙ方向に延在）してもよい。

形成槽６０は外表面部７３及び７５（図３参照）とそれぞれ交差するエッジ誘導部材８０及び８２のペアと、下方傾斜成形表面部６６、６８のペアとを含む。エッジ誘導部材８０、８２は形成槽６０の根元７６に近い溶融ガラスを誘導することで、所望のガラスリボン幅及びエッジ特性を達成するのを助ける。別の実施形態では、エッジ誘導部材８０及び８２は下方傾斜成形表面部６６、６８の両方と交差しうる。また、エッジ誘導部材８０、８２は成形ウェッジ部６２の両端７０、７２のそれぞれに配置されうる。例えば、図１に示すように、エッジ誘導部材８０、８２は成形ウェッジ部６２の両端７０、７２のそれぞれに配置され、各エッジ誘導部材８０、８２は下方傾斜成形表面部６６、６８の両方と交差するように構成されうる。エッジ誘導部材８０及び８２はまた、ダムを形成するそれぞれの表面９４、９６に沿って垂直に延在する。エッジ誘導部材８０及び８２は互いに概ね同一であってよい。しかし、別の実施形態では、エッジ誘導部材８０、８２はガラス形成装置の特定の特性に依って異なる構成及び／又は幾何形状を有してよいことは理解されるべきである。エッジ誘導部材８０及び８２は下記にもっと詳細に記載される。

まだ図１を参照すると、ガラス形成装置１０はガラスリボンを形成槽６０の根元７６から引っ張るための少なくとも１つのエッジローラー組立体８６を随意に含みうる。様々なエッジローラー組立体構成が本開示の態様に応じて使用されてもよいことは理解されるべきである。

ハウジング１４は形成槽６０を囲む。ハウジング１４は鋼から形成され耐火材料及び／又は絶縁体を含んでよく、形成槽６０及び形成槽６０内及び回りを流れる溶融ガラスを周囲環境から熱的に絶縁する。

図１及び２を再び参照すると、動作時、バッチ材料１６、具体的にはガラス形成のためのバッチ材料が貯蔵容器１８から溶融槽１５内にバッチ送出装置２０により供給される。バッチ材料１６は溶融槽１５内で溶融ガラスに溶融される。溶融ガラスは溶融槽１５から清澄槽３８内に第１接続管３６を通って移動する。溶解した気体はガラス欠陥を生じさせる場合があり、溶融ガラスから清澄槽３８において除去される。次に溶融ガラスは清澄槽３８から混合槽４２内に第２接続管４０を通って移動する。混合槽４２は、例えば撹拌により溶融ガラスを均質化し、均質化された溶融ガラスは第３接続管４４を通って送出槽４６へ移動する。送出槽４６は均質化された溶融ガラスを下降管４８を通って入口５０内へ放出し、入口５０は次に均質化された溶融ガラスを形成槽６０の上部６１内に送る。

溶融ガラス１７は形成槽６０の上方開放上部６１を満たすと、上部６１から溢れて傾斜成形表面部６６、６８を覆って流れ、成形ウェッジ部６２の根元７６において再合流し、これによりガラスリボン１２を形成する。図２に描かれているように、ガラスリボン１２は根元７６を通って延在する延伸平面７８に沿って下流方向７４に延伸されてよい。

図３を参照すると、エッジ誘導部材８０が分離して例示され、エッジ誘導部１００ａ及び１００ｂを通常含む。先ずエッジ誘導部１００ａを参照すると、エッジ誘導部１００ａは流れ阻止部１０２ａに（例えば、溶接で）接続された流れ誘導部１０４ａを含む。流れ阻止部１０２ａ（時にはダムと呼ばれる）は、例えば保持ブロック組立体９０の表面９４であってもよい。幾つかの実施形態では、流れ阻止部１０２ａはエッジ誘導部１００ａの一部で、保持ブロック組立体９０の表面９４に接続されてもよい。流れ阻止部１０２ａは概ね平面状で保持ブロック組立体９０と並んで延在する形状を持つ。流れ阻止部１０２ａの高さの一部だけが図３に例示されているが、流れ阻止部１０２ａは保持ブロック組立体９０の上面１０７（図２）まで又は越えて延在してもよい。流れ誘導部１０４ａは流れ阻止部１０２ａから外方へ概ね下方傾斜成形表面部６６に向かって延在する。流れ誘導部１０４ａは流れ阻止部１０２ａから外方へ流れ誘導部１０４ａの頂点１０６ａから流れ阻止部１０２ａの底縁１０８ａへ向かって増加するように延在し、それにより流れ阻止部１０２ａから外方へ形成槽６０の中心に向かう方向に頂点１０６ａから底縁１０８ａまで増加する長さを持つ傾斜した流れ誘導部１０４ａを形成しうる。

同様に、エッジ誘導部１００ｂは流れ阻止部１０２ｂに（例えば、溶接で）接続された流れ誘導部１０４ｂを含む。流れ阻止部１０２ｂ（時にはダムと呼ばれる）は、例えば保持ブロック組立体９０の表面９６であってもよい。幾つかの実施形態では、流れ阻止部１０２ｂはエッジ誘導部１００ｂの一部で、保持ブロック組立体９０の表面９６に接続されてもよい。流れ阻止部１０２ｂは概ね平面状で保持ブロック組立体９０と並んで延在する形状を持つ。流れ阻止部１０２ｂの高さの一部だけが図３に例示されているが、流れ阻止部１０２ｂは保持ブロック組立体９０の上面１０７（図２）まで又は越えて延在してもよい。流れ誘導部１０４ｂは流れ阻止部１０２ｂから外方へ概ね下方傾斜成形表面部６８に向かって延在する。流れ誘導部１０４ｂは流れ阻止部１０２ｂから外方へ流れ誘導部１０４ｂの頂点１０６ｂから流れ阻止部１０２ｂの底縁１０８ｂへ向かって増加するように延在し、それにより流れ阻止部１０２ｂから外方へ形成槽６０の中心に向かう方向に頂点１０６ｂから底縁１０８ｂまで増加する長さを持つ傾斜した流れ誘導部１０４ｂを形成しうる。

エッジ誘導部１００ａ及びエッジ誘導部１００ｂは成形ウェッジ部６２の根元７６において互いに接続される。特に、流れ誘導部１０４a及び流れ誘導部１０４ｂは互いに向かって延在し浸漬エッジ１１０において交わる。浸漬エッジ１１０は外方へ形成槽６０の中心に向かって浸漬点１１２まで延在する。浸漬エッジ１１０は水平及び垂直成分の両方を有し浸漬点１１２から尾部１１５まで下方へ延在しうる。図３には示されていないが、各流れ誘導部は浸漬エッジから流れ阻止部１０２に向かって互いから分離する尾部１１５を含む。尾部１１５は外方へ底縁１０８から形成槽６０の中心に向かって浸漬エッジ１１０との交点１１７まで延在する。従って、浸漬エッジ１１０及び尾部１１５は、根元線の形状を真っ直ぐな水平根元線部分から下方へ曲がったエッジを持つ根元線（図２に鎖線１１４で表される）に変わってよい。

流れ誘導部１０４ａ及び１０４ｂは流れ阻止部１０２ａ及び１０２ｂと交わるエッジ１２０ａ及び１２０ｂから内方へ前記根元の中心に向かって浸漬エッジ１１０まで曲面状であってもよい。特に、図４〜６を参照すると、流れ誘導部１０４の形状は予め選択された寸法の円錐形（要素１２２で表される）により画定されてもよい。図４〜６の例では、円錐１２２は、円錐１２２の両側１２４及び１２６間で測られる頂角θの半分である所定の円錐角αを有するよう選択される。言い換えると、円錐角αは円錐１２２の中心軸と円錐表面１３０の間の角度である。理解されうるように、円錐角がゼロに近づく極限において、円錐１２２は線に近づき、円錐角が９０度に近づく極限において、円錐１２２は平面に近づく。本書で使用されるように、用語「大きな円錐角」は大きな円錐エッジ誘導部材（ＬＣＥＤ）を形成する２０度超の円錐角を指す。主に円錐形状が下記に記載されるが、円錐台形状が使用されてもよい。

図４を参照すると、円錐１２２は予め選択された円錐角αを有するように選択されている。流れ誘導部形状を生成するために、円錐１２２の頂点１３２は、成形ウェッジ部６２と開放上部６１の交線１３４がダム又は流れ阻止部１０２と交わる所に配置される。円錐１２２は下方へ高さに関して根元７６の下まで延在する。流れ阻止部１０２は明確さのために取り除かれている。円錐１２２は、頂点１３２が固定されてｚ軸の回りに予め選択された浸漬深さ（図９の要素１４６を参照）まで傾斜している。浸漬深さは図３に示された浸漬点１１２と流れ阻止部１０２の距離である。図５及び６を参照すると、円錐１２２は次に、再び頂点１３２が固定されてｘ軸の回りに傾斜成形表面部６６との予め選択された角度の交線まで回転される（例えば、２度と１０度の間）。円錐１２２は延伸平面７８(図２)でダムの下方で切断され、尾深さ１２７（図９参照）は形成槽６０の高さの予め選択された割合である（例えば、１０パーセントと３０パーセントの間）。尾深さ１２７は流れ阻止部１０２から浸漬エッジ１１０との交点１１７までのｚ方向距離である。形成槽の高さは根元から成形ウェッジ部６２と開放上部６１の交線１３４までの垂直距離である。円錐の残された部分は斜線領域Ａで示されていて、特定の円錐角の円錐台又は円錐形状から得られる流れ誘導部１０４を画定する円錐台又は円錐形状の弓形部分に一致する。

図７を参照すると、エッジ誘導部材１４０が分離して例示されている。エッジ誘導部材１４０は、エッジ誘導部材８０に関して上述したのと同様に接続されたエッジ誘導部１４０ａ及び１４０ｂを含む。エッジ誘導部材１４０は流れ誘導部１４４ａ及び１４４ｂを含む。流れ誘導部１４４ａ及び１４４ｂは流れ阻止部１４２ａ及び１４２ｂと交わってもよい。流れ阻止部１４２ａ及び１４２ｂは、例えば保持ブロック組立体９０（図２）の表面９４及び９６であってもよい。簡単さのため、保持ブロック組立体９０なしで流れ阻止部１４２ａ及び１４２ｂだけが図７〜１０に示されている。

流れ誘導部１４４ａ及び１４４ｂは予め選択された円錐角を有する円錐から上述したように形成される。この実施形態では、流れ誘導部１４４ａ及び１４４ｂは２０度未満、例えば１９．８１度の円錐角を有する円錐から形成される。１９．８１度の円錐角は、浸漬深さ１４６（図９）と浸漬点１５１から頂点１５５までの垂直距離である成形ウェッジ部の高さ１４８との比０．３７を提供する。１９．８１度の円錐角はまた、交点１５３と浸漬点１５１の垂直距離である尾高さ１５０（図８）と成形ウェッジ部の高さ１４８との比０．２２を提供する。頂点１５５、浸漬点１５１、及び交点１５３の座標が分かると、円錐角αは決められうる。図９で最も良く分かりうるように、流れ誘導部１４４ａ及び１４４ｂは交点１４５ａ及１４５ｂにおいて流れ阻止部１４２ａ及び１４２ｂに接し、ＬＣＥＤと比べ形成槽と同じ幅１５８（図１０）の比較的広いエッジ誘導部材幅１５２を提供する。「エッジ誘導部材幅」は、尾部１１５が流れ阻止部１４２と交わる最下交点１４５ａ及び１４５ｂ間の流れ阻止部１４２に沿った距離を指す。本書で使用されるように、用語「接する」は１０度未満の交角を指す。図１０の破線１５４及び１５６はガラス流路を例示し、安定状態動作条件下でガラス流の端同士が根元において合流することを例示している。

理論に縛られるのを望まなければ、比較的狭い円錐幅を提供することは広い円錐幅に比べて改善された安定性及びビーズ品質を提供できると考えられる。ＬＣＥＤは、増加した円錐角により形成槽の流れ誘導部と接線又はほぼ接線状であるが、ダム又は流れ阻止部と非接線的に交わることで、そのような狭い円錐幅を提供できる。

図１１〜１４を参照すると、例えば別のエッジ誘導部材１６０は、流れ誘導部１６４a及び１６４ｂ及び流れ阻止部１６２ａ及び１６２ｂを有するエッジ誘導部１６０a及び１６０ｂを含む。しかし、この実施形態では、流れ誘導部１６４a及び１６４ｂはそれぞれ図７〜１０に比べて増加した円錐角の円錐を使用して形成される。この実施形態では、流れ誘導部１６４a及び１６４ｂはそれぞれ４０．０８度の円錐角を有する円錐を使用して形成される。図１２及び１３を参照すると、浸漬深さ１６６は成形ウェッジ部の高さ１６８の３７パーセントに維持され、尾高さ１７０と成形ウェッジ部の高さ１６８の比は図７〜１０のエッジ誘導部材１４０と同様０．２２に維持される。エッジ誘導部材１４０と違い、エッジ誘導部材１６０のエッジ誘導部材幅１７２は形成槽の開放上部における幅１７４(図１４)よりかなり狭い。特に、エッジ誘導部材幅１７２と形成槽の幅１７４の比は０．３０である。図１４の破線１７６及び１７８はガラス流路を例示し、安定状態動作条件下でガラス流の端同士が根元７６において合流することを例示している。

図１５〜１８を参照すると、別のエッジ誘導部材１８０は、流れ誘導部１８４a及び１８４ｂ及び流れ阻止部１８２ａ及び１８２ｂを有するエッジ誘導部１８０a及び１８０ｂを含む。この実施形態では、流れ誘導部１８４a及び１８４ｂはそれぞれ図７〜１０に比べて増加した円錐角、しかし図１１〜１４に比べてより小さい円錐角の円錐を使用して形成される。この実施形態では、流れ誘導部１８４a及び１８４ｂはそれぞれ２５．９０度の円錐角を有する円錐を使用して形成される。図１６及び１７を参照すると、浸漬深さ１８６は成形ウェッジ部の高さ１８８の３７パーセントに維持され、尾高さ１９０と成形ウェッジ部の高さ１８８の比は０．２２に維持される。エッジ誘導部材１８０のエッジ誘導部材幅１９２も形成槽の開放上部における幅１９４(図１８)よりかなり狭い。特に、エッジ誘導部材幅１９２と形成槽の幅１９４の比は０．５０である。図１８の破線１９６及び１９８はガラス流路を例示し、安定状態動作条件下でガラス流の端同士が根元７６において合流することを例示している。

下記の表は複数の代表的な円錐角についてエッジ誘導部材幅と形成槽の幅の比を提供する。表は厚みゼロの円錐を仮定して作成されている。分かりうるように、エッジ誘導部材幅と形成槽の幅の比は円錐角の増加と共に減少する。

図１９〜２２を参照すると、より大きな円錐角に加えて、ＬＣＥＤは追加の流れ制御特徴を備えてもよい。図１９は台構造体２０８ａ及び２０８ｂを含むエッジ誘導部材１８０のバリエーションを例示する。このエッジ誘導部材２００も２５．９度の円錐角と円錐幅２０８と形成槽の幅２１０の比０．５とを有する円錐からそれぞれ得られる流れ誘導部２０６a及び２０６ｂを有するエッジ誘導部２００a及び２００ｂを含む。

この例では、各エッジ誘導部２００a及び２００ｂは流れ阻止部２１０ａ及び２１０ｂの平面から延びる台構造体２０８ａ及び２０８ｂを備えている。図２０を参照すると、台構造体２０８ａ及び２０８ｂは流れ阻止部２１０ａ及び２１０ｂの平面から外方へ予め選択され、垂直流れ阻止部２１０ａ及び２１０ｂから台構造体２０８ａ及び２０８ｂの表面２１１ａ及び２１１ｂまで測った台傾斜角２１２（例えば、約４度など２度と１０度の間）で延在してもよい。また、台構造体２０８ａ及び２０８ｂは流れ阻止部２１０ａ及び２１０ｂの底２１４から離れた位置において縁２１３ａ及び２１３ｂに沿って終端し、下方へ浸漬エッジ２１６まで図２２で示すように水平から測った台カット角２２０（例えば、３５度など２０度と４５度の間）で延在してもよい。台構造体２０８ａ及び２０８ｂはガラス流を融合平面に向け誘導する。図２２の破線２２２及び２２４はガラス流路を例示し、安定状態動作条件下でガラス流の端同士が根元７６において合流することを例示している。

図２３〜２６は他の流れ制御特徴を含む別の実施形態のエッジ誘導部材２３０を例示する。図２３を参照すると、エッジ誘導部材は、チャネル構造体２３２ａ及び２３２ｂと板構造体２３４ａ及び２３４ｂの両方を流れ誘導特徴として含むエッジ誘導部材１８０のバリエーションである。チャネル構造体２３２ａ及び２３２ｂは流れ阻止部２３６ａ及び２３６ｂの高さに沿って延在し、浸漬エッジ２３８において互いに向かって延在する。チャネル構造体２３２ａ及び２３２ｂはガラス流を融合平面及びに板構造体２３４ａ及び２３４ｂに向け運ぶ。

板構造体２３４ａ及び２３４ｂは流れ誘導部２４２a及び２４２ｂの尾部２４０ａ、２４０ｂに沿って延在する。板構造体２３４ａ及び２３４ｂは融合平面に垂直な水平成分を有し、ガラス流に水平に働く力に対抗しガラス流を融合平面に向け誘導する追加の表面を提供する。図２６の破線２４８及び２５０はガラス流路を例示し、安定状態動作条件下でガラス流の端同士が根元７６において合流することを例示している。台構造体、チャネル構造体、及び板構造体のいずれも単独で又はＬＣＥＤと一緒に使用されてよい。

上述したエッジ誘導部材は、自由リボン境界（即ち、根元線又は底縁）の始めにかなり良い融合エッジを生成できる。ガラスリボンは、粘性リボン幅が時間と共に不安定に変化するシート幅変動不安定にかなりなり難くなりうる。シート幅変動のこの低減は、先端質量流低減により薄いビーズを生成する能力を可能にでき、薄いシート能力のための融合ガラスリボンの増加した引張り速さも可能にできる。円錐角は、エッジ誘導部材が存在しない９０度まで選択可能であり、様々な状況に対して設計最適化を可能にする。本書に開示されたＬＣＥＤはより少ない面外突出を有し、エッジ誘導部材失透軽減のための低減された熱損失を可能にできる。

本明細書に記載された実施形態に対して様々な部分変更及び変形が請求項に記載された対象物の要旨及び範囲から逸脱することなくされうることは当業者には明らかであろう。従って、本明細書は、そのような部分変更及び変形が添付の請求項とそれらの等価物の範囲内に入る場合、本明細書に記載された様々な実施形態の部分変更及び変形を包含することが意図されている。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
ガラスリボンを下方へ延伸するための装置であって、
形成槽を備え、
前記形成槽は
互いに平行に延在する外表面のペアを有する上部であって、前記外表面のペアは前記形成槽の幅を画定する、上部と、
下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部と、
前記成形ウェッジに並んで延在する流れ阻止部と、
エッジ誘導部材と
を備え、
前記エッジ誘導部材は
第１円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第１流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該第１流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第１流れ誘導部と、
第２円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第２流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第２流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の他方と交わり該第２流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第２流れ誘導部と
を備え、
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記流れ阻止部との交線の最下端点同士の距離は前記形成槽の幅の８０パーセント以下である、装置。

実施形態２
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記第１縁同士は前記成形ウェッジの前記底縁において交わり、浸漬点及び浸漬エッジを形成する実施形態１記載の装置。

実施形態３
前記第１流れ誘導部は前記浸漬エッジとの交点で前記浸漬エッジから延在し前記流れ阻止部と前記第１流れ誘導部の最下端交点で交わる尾部を有する、実施形態２記載の装置。

実施形態４
前記第２流れ誘導部は前記浸漬エッジとの交点で前記浸漬エッジから延在し前記流れ阻止部と前記第２流れ誘導部の最下端交点で交わる尾部を有する、実施形態３記載の装置。

実施形態５
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記尾部の尾奥行きは前記成形ウェッジ部の高さの１０パーセントと３０パーセントの間である、実施形態４記載の装置。

実施形態６
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記尾部の少なくとも一方は、前記成形ウェッジから離れる方向に外方へ延在する板構造体を備える、実施形態４記載の装置。

実施形態７
前記流れ阻止部は、前記流れ阻止部の高さに沿って延在し前記浸漬エッジに向かって角度付けされたチャネル構造体を備える、実施形態２記載の装置。

実施形態８
前記流れ阻止構造体は、前記流れ阻止部の平面から予め選択され垂直から測った台傾斜角で出て前記流れ阻止部に沿ってこれと同じ広さに延在する台構造体であって、前記浸漬エッジに向かって予め選択され水平から測った台カット角で下方へ延在する縁において終端される台構造体を備える、実施形態２記載の装置。

実施形態９
前記予め選択された台傾斜角は２度と１０度の間であり、前記予め選択された台カット角は２０度と４５度の間である、実施形態８記載の装置。

実施形態１０
前記第１及び第２円錐形状は２０度超の円錐角を有し、前記円錐角は前記第１及び第２円錐台又は円錐形状の中心軸から前記第１及び第２円錐台又は円錐形状の外表面まで測られる、実施形態１記載の装置。

実施形態１１
前記第１流れ誘導部の前記第１縁は前記傾斜成形表面の前記一方と接する、実施形態１０記載の装置。

実施形態１２
前記第２流れ誘導部の前記第１縁は前記傾斜成形表面の前記他方と接する、実施形態１１記載の装置。

実施形態１３
ガラスリボンを下方へ延伸するための装置であって、
形成槽を備え、
前記形成槽は
互いに平行に延在する外表面のペアを有する上部であって、前記外表面間に前記形成槽の幅を画定する上部と、
下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部と、
前記成形ウェッジに並んで延在するダムを提供する流れ阻止部と、
エッジ誘導部材と
を備え、
前記エッジ誘導部材は
円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる流れ誘導部
を備え、
前記円錐台又は円錐形状は少なくとも２０度の円錐角を有し、前記円錐角は前記円錐台又は円錐形状の中心軸から前記円錐台又は円錐形状の外表面まで測られる、装置。

実施形態１４
前記流れ誘導部は第１流れ誘導部であり、前記円錐台又は円錐形状は第１円錐台又は円錐形状であり、前記エッジ誘導部材は第２円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第２流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第２流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の他方と交わり該第２流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第２流れ誘導部を備え、前記第２円錐台又は円錐形状は少なくとも２０度の円錐角を有し、前記第２円錐台又は円錐形状の前記円錐角は前記第２円錐台又は円錐形状の中心軸から前記第２円錐台又は円錐形状の外表面まで測られる、実施形態１３記載の装置。

実施形態１５
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記第１縁同士は前記成形ウェッジの前記底縁において交わり、浸漬点及び浸漬エッジを形成する実施形態１４記載の装置。

実施形態１６
前記第１流れ誘導部は前記浸漬エッジとの交点で前記浸漬エッジから延在し前記流れ阻止部と前記第１流れ誘導部の最下端交点で交わる尾部を有する、実施形態１５記載の装置。

実施形態１７
前記第２流れ誘導部は前記浸漬エッジとの交点で前記浸漬エッジから延在し前記流れ阻止部と前記第２流れ誘導部の最下端交点で交わる尾部を有する、実施形態１６記載の装置。

実施形態１８
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記流れ阻止部との交線の最下端点同士の距離は前記形成槽の幅の８０パーセント以下である、実施形態１７記載の装置。

実施形態１９
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記尾部の尾奥行きは前記成形ウェッジの高さの１０パーセントと３０パーセントの間である、実施形態１７記載の装置。

実施形態２０
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記尾部の少なくとも一方は、前記成形ウェッジから離れる方向に外方へ延在する板構造体を備える、実施形態１７記載の装置。

実施形態２１
前記流れ阻止部は、前記流れ阻止部の高さに沿って延在し前記浸漬エッジに向かって角度付けされたチャネル構造体を備える、実施形態１５記載の装置。

実施形態２２
前記流れ阻止構造体は、前記流れ阻止部の平面から予め選択され垂直から測った台傾斜角で出て前記流れ阻止部に沿ってこれと同じ広さに延在する台構造体であって、前記浸漬エッジに向かって予め選択され水平から測った台カット角で下方へ延在する縁において終端される台構造体を備える、実施形態１５記載の装置。

実施形態２３
前記予め選択された台傾斜角は２度と１０度の間であり、前記予め選択された台カット角は２０度と４５度の間である、実施形態２２記載の装置。

実施形態２４
前記第１流れ誘導部の前記第１縁は前記傾斜成形表面の前記一方と接する、実施形態１３記載の装置。

実施形態２５
ガラスリボンを作製する方法であって、
互いに平行に延在する外表面のペアを有する形成槽の上部であって、前記外表面間に前記形成槽の幅を画定する上部と、下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部とを覆って溶融ガラスを流すステップと、
前記成形ウェッジに並んで延在するダムを提供する流れ阻止部を覆って溶融ガラスを流すステップと、
第１円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第１流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該第１流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第１流れ誘導部を備えるエッジ誘導部材を覆って溶融ガラスを流すステップと、
第２円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された前記エッジ誘導部材の第２流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第２流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の他方と交わり該第２流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第２流れ誘導部を覆って溶融ガラスを流すステップと
を含み、
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記流れ阻止部との交線の最下端点同士の距離は前記形成槽の幅の８０パーセント以下である、方法。

実施形態２６
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記第１縁同士が前記成形ウェッジの前記底縁において交わり形成される浸漬エッジを覆って溶融ガラスを流すステップを更に含む実施形態２５記載の方法。

実施形態２７
前記第１流れ誘導部は前記浸漬エッジとの交点で前記浸漬エッジから延在し前記流れ阻止部と前記第１流れ誘導部の最下端交点で交わる尾部を有する、実施形態２６記載の方法。

実施形態２８
前記第２流れ誘導部は前記浸漬エッジとの交点で前記浸漬エッジから延在し前記流れ阻止部と前記第２流れ誘導部の最下端交点で交わる尾部を有する、実施形態２７記載の方法。

実施形態２９
前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記尾部の尾奥行きは前記成形ウェッジの高さの１０パーセントと３０パーセントの間である、実施形態２８記載の方法。

実施形態３０
前記第１及び第２円錐形状は２０度超の円錐角を有し、前記円錐角は前記第１及び第２円錐台又は円錐形状の中心軸から前記第１及び第２円錐台又は円錐形状の外表面まで測られる、実施形態２５記載の方法。

１０ ガラス形成装置
１２ ガラスリボン
１４ ハウジング
１５ 溶融槽
１６ バッチ材料
１８ 貯蔵容器
２０ バッチ送出装置
２２ モーター
２４ コントローラ
２８ 溶融ガラスレベル探針
３０ 立て管
３６ 第１接続管
３８ 清澄槽
４０ 第２接続管
４２ 混合槽
４４ 第３接続管
４６ 送出槽
４８ 下降管
５０ 入口
６０ 形成槽
６１ 上部
６２ 成形ウェッジ部
６６、６８ 下方傾斜成形表面部
７０、７２ 両端
７３、７５ 外表面部
７４ 下流方向
７６ 根元
７８ 延伸平面
８０、８２ エッジ誘導部材
８６ エッジローラー組立体
９０、９２ 保持ブロック組立体
９４、９６ 表面
１００ａ、１００ｂ エッジ誘導部
１０２ａ、１０２ｂ 流れ阻止部
１０４ａ、１０４ｂ 流れ誘導部
１０６ａ、１０６ｂ 頂点
１０８ａ、１０８ｂ 底縁
１１０ 浸漬エッジ
１１２ 浸漬点
１１４ 根元線
１１５ 尾部
１１７ 交点
１２０ａ、１２０ｂ エッジ
１２２ 円錐
１３０ 円錐表面
１３２ 頂点
１３４ 交線
１４０ エッジ誘導部材
１４０ａ、１４０ｂ エッジ誘導部
１４２ａ、１４２ｂ 流れ阻止部
１４４ａ、１４４ｂ 流れ誘導部
１４５ａ、１４５ｂ 交点
１５１ 浸漬点
１５３ 交点
１５５ 頂点

Claims (10)

1. ガラスリボンを下方へ延伸するための装置であって、
   形成槽を備え、
   前記形成槽は
   互いに平行に延在する外表面のペアを有する上部であって、前記外表面のペアは前記形成槽の幅を画定する、上部と、
   下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部と、
   前記成形ウェッジに並んで延在する流れ阻止部と、
   エッジ誘導部材と
   を備え、
   前記エッジ誘導部材は
   第１円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第１流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該第１流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第１流れ誘導部と、
   第２円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第２流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第２流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の他方と交わり該第２流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第２流れ誘導部と
   を備え、
   前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記流れ阻止部との交線の最下端点同士の距離は前記形成槽の幅の８０パーセント以下である、装置。
2. 前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記第１縁同士は前記成形ウェッジの前記底縁において交わり、浸漬点及び浸漬エッジを形成する請求項１記載の装置。
3. 前記第１流れ誘導部は前記浸漬エッジとの交点で前記浸漬エッジから延在し前記流れ阻止部と前記第１流れ誘導部の最下端交点で交わる尾部を有する、請求項２記載の装置。
4. 前記流れ阻止部は、前記流れ阻止部の高さに沿って延在し前記浸漬エッジに向かって角度付けされたチャネル構造体を備える、請求項２記載の装置。
5. 前記流れ阻止構造体は、前記流れ阻止部の平面から予め選択され垂直から測った台傾斜角で出て前記流れ阻止部に沿ってこれと同じ広さに延在する台構造体であって、前記浸漬エッジに向かって予め選択され水平から測った台カット角で下方へ延在する縁において終端される台構造体を備える、請求項２記載の装置。
6. ガラスリボンを下方へ延伸するための装置であって、
   形成槽を備え、
   前記形成槽は
   互いに平行に延在する外表面のペアを有する上部であって、前記外表面間に前記形成槽の幅を画定する上部と、
   下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部と、
   前記成形ウェッジに並んで延在するダムを提供する流れ阻止部と、
   エッジ誘導部材と
   を備え、
   前記エッジ誘導部材は
   円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる流れ誘導部
   を備え、
   前記円錐台又は円錐形状は少なくとも２０度の円錐角を有し、前記円錐角は前記円錐台又は円錐形状の中心軸から前記円錐台又は円錐形状の外表面まで測られる、装置。
7. 前記流れ誘導部は第１流れ誘導部であり、前記円錐台又は円錐形状は第１円錐台又は円錐形状であり、前記エッジ誘導部材は第２円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第２流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第２流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の他方と交わり該第２流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第２流れ誘導部を備え、前記第２円錐台又は円錐形状は少なくとも２０度の円錐角を有し、前記第２円錐台又は円錐形状の前記円錐角は前記第２円錐台又は円錐形状の中心軸から前記第２円錐台又は円錐形状の外表面まで測られる、請求項６記載の装置。
8. ガラスリボンを作製する方法であって、
   互いに平行に延在する外表面のペアを有する形成槽の上部であって、前記外表面間に前記形成槽の幅を画定する上部と、下流方向に沿って集束し底縁を形成する下方傾斜成形表面のペアを有する成形ウェッジ部とを覆って溶融ガラスを流すステップと、
   前記成形ウェッジに並んで延在するダムを提供する流れ阻止部を覆って溶融ガラスを流すステップと、
   第１円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された第１流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第１流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の一方と交わり該第１流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第１流れ誘導部を備えるエッジ誘導部材を覆って溶融ガラスを流すステップと、
   第２円錐台又は円錐形状の弓形部分から形成された前記エッジ誘導部材の第２流れ誘導部であって、前記弓形部分は該第２流れ誘導部の第１縁に沿って前記傾斜成形表面の他方と交わり該第２流れ誘導部の第２縁に沿って前記流れ阻止部と交わる第２流れ誘導部を覆って溶融ガラスを流すステップと
   を含み、
   前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記流れ阻止部との交線の最下端点同士の距離は前記形成槽の幅の８０パーセント以下である、方法。
9. 前記第１流れ誘導部及び前記第２流れ誘導部の前記第１縁同士が前記成形ウェッジの前記底縁において交わり形成される浸漬エッジを覆って溶融ガラスを流すステップを更に含む請求項８記載の方法。
10. 前記第１流れ誘導部は前記浸漬エッジとの交点で前記浸漬エッジから延在し前記流れ阻止部と前記第１流れ誘導部の最下端交点で交わる尾部を有する、請求項９記載の方法。

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