JP2021500746A - インプリントリソグラフィプロセスにおける光学層の構成 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2017年10月20日に出願された米国仮出願第62/574,826号の出願日の利益を主張する。米国出願第62/574,826号の内容は、参照することによってその全体として本明細書に組み込まれる。
(技術分野)
Claims (24)
- 光学層を構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
基板の有効屈折率を変化させるために前記基板に適用されるべきナノ層の1つ以上のパラメータを選択することと、
前記基板上に前記ナノ層をインプリントすることと
を含み、
前記ナノ層は、前記基板の前記有効屈折率を変化させ、それによって、前記基板を透過可能な相対的な光の量は、選択された量だけ変化させられる、インプリントリソグラフィ方法。 - 前記相対的な光の量は、第1の相対的な光の量であり、前記基板上に前記ナノ層をインプリントし、前記基板の前記有効屈折率を変化させることは、前記基板の表面から反射される第2の相対的な光の量を変化させることを含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記ナノ層の形状、寸法、および材料調合のうちの1つ以上のものを選択することをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に平坦なナノインプリントをインプリントすることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に特徴付けられたナノインプリントをインプリントすることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に1つ以上の反射防止(AR)特徴をインプリントすることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記1つ以上のAR特徴は、約10nm〜約300nmの範囲内の高さを有する、請求項6に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記1つ以上のAR特徴は、約10nm〜約150nmの範囲内の幅を有する、請求項7に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 約20nm〜約200nmの範囲内のピッチで前記1つ以上のAR特徴を分配することをさらに含む、請求項7に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に柱を形成することをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に孔を形成することをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に連続格子および不連続格子のうちの一方または両方を形成することをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の第1の側に機能的パターンを形成することと、
前記基板の前記第1の側および前記基板の前記第1の側と反対側の前記基板の第2の側のうちの一方または両方に沿って前記ナノ層をインプリントすることと
をさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記機能的パターンに対する特定の方向に沿って前記ナノ層のAR特徴のアレイを形成することをさらに含む、請求項13に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板を透過させられる光が前記選択された量だけ変化させられるように、光伝搬の方向に基づいて前記基板の有効屈折率を変化させるために、前記基板上に前記ナノ層のAR特徴を形成することをさらに含む、請求項14に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- フィルムコーティングを前記基板に適用することと、
前記フィルムコーティング上に前記ナノ層をインプリントすることと
をさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記基板を透過可能な前記相対的な光の量を約0.5%〜約15%だけ変化させることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記ナノ層は、第1のナノ層であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記第1のナノ層上に第2のナノ層をインプリントすることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第1のナノ層に基づいて、前記有効屈折率を第1の値に変化させることと、前記第2のナノ層に基づいて、前記有効屈折率を第2の値に変化させることとをさらに含む、請求項18に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 光学層であって、前記光学層は、
基板と、
前記基板上にインプリントされたナノ層と
を備え、
前記ナノ層は、前記基板の有効屈折率を決定し、それによって、前記ナノ層は、前記基板を透過可能な相対的な光の量をもたらす、光学層。 - 光学デバイスであって、前記光学デバイスは、
第1の光学層であって、前記第1の光学層は、
第1の基板と、
前記第1の基板上にインプリントされたナノ層と
を備えている、第1の光学層と、
第2の光学層であって、前記第2の光学層は、
第2の基板と、
前記第2の基板に沿って配置された機能的パターンと
を備えている、第2の光学層と
を備え、
前記第1の基板上にインプリントされた前記ナノ層は、前記第1の基板の有効屈折率を決定し、それによって、前記ナノ層は、前記第2の光学層まで前記第1の基板を透過可能な相対的な光の量を増加させる、光学デバイス。 - 前記第2の基板に沿って配置された前記機能的パターンは、第1の機能的パターンであり、前記光学デバイスは、第3の光学層をさらに備え、前記第3の光学層は、第3の基板と、前記第3の基板に沿って配置された第2の機能的パターンとを備えている、請求項21に記載の光学デバイス。
- 前記第1の基板上にインプリントされた前記ナノ層は、第1のナノ層であり、前記第1の基板の有効屈折率は、第1の屈折率であり、前記相対的な光の量は、第1の相対的な光の量であり、前記第2の光学層は、前記第2の基板上にインプリントされた第2のナノ層を備え、前記第2のナノ層は、前記第2の基板の第2の有効屈折率を決定し、それによって、前記第2のナノ層は、前記第3の光学層まで前記第2の基板を透過可能な第2の相対的な光の量を増加させる、請求項22に記載の光学デバイス。
- 前記第1および第2のナノ層は、前記第3の光学層まで前記第1および第2の基板を透過させられる最終の光の量が、源から前記第1のナノ層に向けられた光の量から、前記第1の基板から反射された第1の光の量を差し引き、前記第2の基板から反射された第2の光の量を差し引いた光の量にほぼ等しいように構成されている、請求項23に記載の光学デバイス。
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