JP2021192506A - アンテナ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ガラス基板を用いたアンテナ装置において、製造ばらつきなどに起因する特性の変動を抑える。【解決手段】アンテナ装置1は、ガラス基板10,20と、ガラス基板10の表面11に形成された放射電極31と、ガラス基板10の表面12に形成され、平面視で放射電極31と重なる給電電極32と、ガラス基板20の表面21に形成されたグランド電極34とを備える。ガラス基板10,20は、ガラス基板10の表面12とガラス基板20の表面22を向かい合わせて重ねられている。このように、ガラス基板10の表裏に放射電極31と給電電極32が形成されていることから、製造ばらつきによって放射電極31と給電電極32の距離が変化することがない。これにより、製造ばらつきなどに起因する特性の変動を抑えることが可能となる。【選択図】図1

Description

本開示はアンテナ装置に関する。
高周波帯域のアンテナ装置は、基板の材料として、誘電率の低い絶縁材料を用いる必要がある。誘電率の低い絶縁材料としてはポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂が知られているが、フッ素系樹脂は一般に剛性が不十分であるとともに、熱膨張係数が大きいことから、パターン精度を確保することは困難である。例えば、300GHz帯のアンテナ装置においては±1μmのパターン精度が求められるところ、基板の材料としてフッ素系樹脂を用いた場合、このような精度を確保するのは現実的ではない。
一方、フッ素系樹脂ほど誘電率が低くないものの、熱膨張係数が小さく且つ剛性の高い絶縁材料としてガラスなどの溶融固化材料やHTCCなどの焼成材料が挙げられる。基板の材料としてガラスを用いたアンテナ装置の例は、特許文献1に記載されている。
特許第6159407号公報 特開2020−36220号公報 WO2018/116867
しかしながら、基板の材料としてガラスなどの溶融固化材料やHTCCなどの焼成材料を用いた場合、樹脂からなるプリント基板や、セラミックからなるLTCC基板において一般的な積層工法を用いることができない。このため、放射電極、給電電極及びグランド電極をそれぞれ異なる層に設ける場合、溶融固化材料や焼成材料からなる複数の成形基板を重ねて使用する必要がある。
溶融固化材料や焼成材料からなる成形基板を用いたアンテナ装置に関するものではないが、特許文献2の図2には、一方の表面にグランド電極が設けられ、他方の表面に給電電極が設けられた基板と、一方の表面に放射電極が設けられた基板を用い、これらを重ねることによってアンテナ装置を構成する例が開示されている。しかしながら、この方法では、製造ばらつきなどに起因して放射電極と給電電極の距離が変動するおそれがあり、特に300GHz帯といった高周波帯域のアンテナ装置に応用した場合、安定した特性を維持することが困難である。
また、溶融固化材料や焼成材料からなる成形基板を用いたアンテナ装置に関するものではないが、特許文献3には、放射電極が設けられた基板と給電電極が設けられた基板の間に、開口部を有する別の基板を挟み込む構造が開示されている。しかしながら、この方法においても、製造ばらつきなどに起因して放射電極と給電電極の距離が変動するおそれがあった。
したがって、本開示は、ガラスなどの溶融固化材料やHTCCなどの焼成材料からなる成形基板を用いたアンテナ装置において、製造ばらつきなどに起因する特性の変動を抑えることを目的とする。
本開示の一実施態様によるアンテナ装置は、第1及び第2の成形基板と、第1の成形基板の一方の表面に形成された第1電極と、第1の成形基板の他方の表面に形成され、平面視で第1電極と重なる給電電極と、第2の成形基板の一方の表面に形成された第1のグランド電極とを備え、第1及び第2の成形基板は、第1の成形基板の他方の表面と第2の成形基板の他方の表面を向かい合わせて重ねられていることを特徴とする。
このように、本開示の一実施態様によれば、ガラスなどの溶融固化材料やHTCCなどの焼成材料からなる成形基板を用いたアンテナ装置において、製造ばらつきなどに起因する特性の変動を抑えることが可能となる。
図1は、本開示の第1の実施形態によるアンテナ装置1の構造を説明するための側面図である。 図2は、第1の実施形態によるアンテナ装置1に用いるガラス基板10の構造を示す図であり、(a)はガラス基板10を一方の表面11側から見た平面図、(b)はガラス基板10を横から見た側面図、(c)はガラス基板10を他方の表面12側から見た底面図である。 図3は、第1の実施形態によるアンテナ装置1に用いるガラス基板20の構造を示す図であり、(a)はガラス基板20を他方の表面22側から見た平面図、(b)はガラス基板20を横から見た側面図、(c)はガラス基板20を一方の表面21側から見た底面図である。 図4は、本開示の第2の実施形態によるアンテナ装置2の構造を説明するための側面図である。 図5は、第2の実施形態によるアンテナ装置2に用いるガラス基板10の構造を示す図であり、(a)はガラス基板10を一方の表面11側から見た平面図、(b)はガラス基板10を横から見た側面図、(c)はガラス基板10を他方の表面12側から見た底面図である。 図6は、第2の実施形態によるアンテナ装置3に用いるガラス基板20の構造を示す図であり、(a)はガラス基板20を他方の表面22側から見た平面図、(b)はガラス基板20を横から見た側面図、(c)はガラス基板20を一方の表面21側から見た底面図である。 図7は、本開示の第3の実施形態によるアンテナ装置3に用いるガラス基板10の構造を示す図であり、(a)はガラス基板10を一方の表面11側から見た平面図、(b)はガラス基板10を横から見た側面図、(c)はガラス基板10を他方の表面12側から見た底面図である。 図8は、本開示の第4の実施形態によるアンテナ装置4の構造を説明するための側面図である。 図9は、本開示の第5の実施形態によるアンテナ装置5の構造を説明するための側面図である。 図10は、第5の実施形態によるアンテナ装置5に用いるガラス基板20の構造を示す図であり、(a)はガラス基板20を他方の表面22側から見た平面図、(b)はガラス基板20を横から見た側面図、(c)はガラス基板20を一方の表面21側から見た底面図である。 図11は、誘電体層40を表面42側から見た底面図である。 図12は、本開示の第6の実施形態によるアンテナ装置6の構造を説明するための側面図である。 図13は、本開示の第7の実施形態によるアンテナ装置7の構造を説明するための側面図である。 図14は、本開示の第7の実施形態によるアンテナ装置7の構造を説明するための側面図である。 図15は、本開示の第8の実施形態によるアンテナ装置8の構造を説明するための側面図である。 図16は、ガラス基板10を表面11側から見た平面図である。 図17は、実施例1のシミュレーション結果を示すグラフである。 図18は、比較例1のシミュレーションモデルの構造を説明するための側面図である。 図19は、比較例1のシミュレーション結果を示すグラフである。 図20は、実施例2のシミュレーション結果を示すグラフである。 図21は、比較例2のシミュレーション結果を示すグラフである。 図22は、実施例3のシミュレーション結果を示すグラフである。 図23は、実施例4のシミュレーション結果を示すグラフであり、樹脂材料の比誘電率εが3.0である場合のシミュレーション結果を示している。 図24は、実施例4のシミュレーション結果を示すグラフであり、樹脂材料の比誘電率εが4.0である場合のシミュレーション結果を示している。 図25は、実施例4のシミュレーション結果を示すグラフであり、樹脂材料の比誘電率εが5.0である場合のシミュレーション結果を示している。
以下、添付図面を参照しながら、本開示の好ましい実施形態について詳細に説明する。
<第1の実施形態>
図1は、本開示の第1の実施形態によるアンテナ装置1の構造を説明するための側面図である。
図1に示すように、第1の実施形態によるアンテナ装置1は、成形基板である2つのガラス基板10,20を重ねた構成を有している。ガラス基板10,20の材料としては、樹脂などの一般的な基板材料よりも比誘電率が低く、好ましくは比誘電率が4未満である低誘電ガラス材料が用いられる。本実施形態においては成形基板の材料としてガラスを用いているが、これに限定されるものではなく、他の溶融固化材料や、アルミナ(Al)などに代表されるHTCCなどの焼成材料であれば特に限定されない。
ガラス基板10,20の構成はそれぞれ図2及び図3に示されている。図2において、(a)はガラス基板10を一方の表面11側から見た平面図、(b)はガラス基板10を横から見た側面図、(c)はガラス基板10を他方の表面12側から見た底面図である。また、図3において、(a)はガラス基板20を他方の表面22側から見た平面図、(b)はガラス基板20を横から見た側面図、(c)はガラス基板20を一方の表面21側から見た底面図である。
図1〜図3に示すように、ガラス基板10の表面11には放射電極31が形成され、ガラス基板10の表面12には給電電極32が形成されている。放射電極31は、アンテナ信号を放射する第1電極を構成する。給電電極32は、平面視で放射電極31の一辺と重なる位置に設けられている。一方、ガラス基板20の表面21には、第1のグランド電極であるグランド電極34が形成されている。グランド電極34は、切り欠き部34aを除くガラス基板20の表面21のほぼ全面に形成されている。さらに、ガラス基板20には、表面21から表面22に亘って貫通する貫通導体33が設けられている。貫通導体33のうち、表面21に露出する部分は切り欠き部34aに位置しており、これによりグランド電極34に対して絶縁されるとともに、引き出し部33aを介してガラス基板20のエッジ部分に引き出される。
そして、ガラス基板10,20は、貫通導体33と給電電極32が接続されるよう、ガラス基板10の表面12とガラス基板20の表面22を向かい合わせて重ねられる。これにより、引き出し部33aから周波数fのアンテナ信号が入力されると、貫通導体33を介してアンテナ信号が給電電極32に供給される。そして、給電電極32は、平面視で放射電極31の一辺と重なる位置に設けられていることから、容量結合によりアンテナ信号が放射電極31に給電される。アンテナ信号の周波数fと真空中における波長λには、以下の関係がある。
λ=f/c
ここで、「c」は真空中における光速(2.99792458×10m/s)である。したがって、アンテナ信号の周波数fが285GHzである場合、その真空中における波長λは1050μmとなる。
ガラス基板10の表面12と、ガラス基板20の表面22の間には、給電電極32に厚みに相当するギャップG0が形成される。ガラス基板10とガラス基板20は、ギャップG0に充填された樹脂材料によって互いに接着されていても構わない。
本実施形態によるアンテナ装置1は、基板の材料としてガラスを用いていることから、基板の材料として樹脂材料やLTCC材料を用いる場合とは異なり、放射電極31などの導体パターンを形成する時点で基板が硬化した状態にある。このため、未硬化の絶縁材料と導体パターンを交互に形成する一般的な積層工法を用いることができない。そこで、本実施形態においては、2枚のガラス基板10,20を用い、その表裏に導体パターンを形成した後、重ね合わせることによってアンテナ装置1を作製する。これにより、3層以上の導体層が必要な場合であっても、ガラス基板10,20を用いてこれを実現することが可能となる。
また、ガラスは熱膨張係数が小さく且つ剛性が高いことから、高いパターン精度を得ることができる。しかも、放射電極31と給電電極32がガラス基板10の表裏に形成されていることから、製造ばらつきによって放射電極31と給電電極32の距離が変化しない。このため、共振周波数が300GHz帯といった高周波帯域であっても、設計通りの特性を得ることが可能となる。
<第2の実施形態>
図4は、本開示の第2の実施形態によるアンテナ装置2の構造を説明するための側面図である。図5は、第2の実施形態によるアンテナ装置2に用いるガラス基板10の構造を示す図であり、(a)はガラス基板10を一方の表面11側から見た平面図、(b)はガラス基板10を横から見た側面図、(c)はガラス基板10を他方の表面12側から見た底面図である。図6は、第2の実施形態によるアンテナ装置3に用いるガラス基板20の構造を示す図であり、(a)はガラス基板20を他方の表面22側から見た平面図、(b)はガラス基板20を横から見た側面図、(c)はガラス基板20を一方の表面21側から見た底面図である。
図4〜図6に示すように、第2の実施形態によるアンテナ装置2は、ガラス基板10の表面12に導体パターン36が設けられるとともに、ガラス基板20の表面22にバンプ電極35,37が設けられている点において、第1の実施形態によるアンテナ装置1と相違する。その他の基本的な構成は、第1の実施形態によるアンテナ装置1と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
バンプ電極35は、ガラス基板20の表面22に露出する貫通導体33の端部に接続されており、所定の高さを有している。本実施形態においては、給電電極32と貫通導体33がバンプ電極35を介して接続される。これにより、給電電極32とガラス基板20の表面22の間には、バンプ電極35の高さによって規定されるギャップG2が形成される。
また、ガラス基板10,20を重ねると、複数の導体パターン36と複数のバンプ電極37が接続され、これによってガラス基板10,20が互いに平行に保持される。つまり、導体パターン36及びバンプ電極37は、ガラス基板10,20を平行に保持するためのスペーサとして機能する。図5及び図6に示す例では、導体パターン36及びバンプ電極37が平面視でガラス基板10,20のコーナー部近傍に設けられているが、導体パターン36及びバンプ電極37を配置する位置や数については特に限定されない。また、ガラス基板10,20を平行に保持するためのスペーサとしては、導体パターン36及びバンプ電極37のような導体を用いる必要はなく、絶縁性材料からなる部材を用いても構わないし、成形基板と一体である部材を用いても構わない。
本実施形態によれば、バンプ電極35の高さやスペーサの高さによって、給電電極32とガラス基板20の表面22の間のギャップG2を調整することができる。本実施形態においては、ギャップG2間に他の部材が設けられず、空気で満たされている。ギャップG2の幅はアンテナ特性に影響を及ぼす。具体的には、共振周波数が300GHz帯である場合、ギャップG2を設けることによって共振周波数が高周波側にシフトする。また、ギャップG2がゼロである場合に比べ、ギャップG2を10μm程度とすることにより、反射特性が向上する。
<第3の実施形態>
図7は、本開示の第3の実施形態によるアンテナ装置3に用いるガラス基板10の構造を示す図であり、(a)はガラス基板10を一方の表面11側から見た平面図、(b)はガラス基板10を横から見た側面図、(c)はガラス基板10を他方の表面12側から見た底面図である。アンテナ装置3の側面図は、図4に示すとおりである。
図7に示すガラス基板10は、表面11に形成された放射電極31が環状である点において、第2の実施形態によるアンテナ装置2と相違する。その他の基本的な構成は、第2の実施形態によるアンテナ装置2と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
本実施形態が例示するように、放射電極31がベタパターンである必要はなく、環状であっても構わない。
<第4の実施形態>
図8は、本開示の第4の実施形態によるアンテナ装置4の構造を説明するための側面図である。
図8に示すように、第4の実施形態によるアンテナ装置4は、ガラス基板10の表面12とガラス基板20の表面22の間に樹脂材料38が設けられている点において、第3の実施形態によるアンテナ装置3と相違する。その他の基本的な構成は、第3の実施形態によるアンテナ装置3と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
樹脂材料38は、ガラス基板10とガラス基板20を相互に接着する役割を果たし、ギャップG2の内部にも設けられる。本実施形態が例示するように、ギャップG2が空気で満たされている必要はなく、ギャップG2の少なくとも一部に樹脂材料38が充填されていても構わない。ギャップG2に樹脂材料38を充填する場合、ギャップG2の大きさと樹脂材料38の比誘電率εの関係は、
G2<0.06(λ/√ε)
を満たすことが好ましい。これによれば、アンテナとして機能する放射帯域を得ることが可能となる。
<第5の実施形態>
図9は、本開示の第5の実施形態によるアンテナ装置5の構造を説明するための側面図である。
図9に示すように、第5の実施形態によるアンテナ装置5は、ガラス基板20の表面21に形成された誘電体層40と、誘電体層40の表面42に形成された引出導体39をさらに備えるとともに、貫通導体33が削除される代わりに、グランド電極34にスロット34sが設けられている点において、第1の実施形態によるアンテナ装置1と相違する。その他の基本的な構成は、第1の実施形態によるアンテナ装置1と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
図10は、第5の実施形態によるアンテナ装置5に用いるガラス基板20の構造を示す図であり、(a)はガラス基板20を他方の表面22側から見た平面図、(b)はガラス基板20を横から見た側面図、(c)はガラス基板20を一方の表面21側から見た底面図である。また、図11は、誘電体層40を表面42側から見た底面図である。誘電体層40の表面42は、ガラス基板20と対向する表面41とは反対面である。
図10及び図11に示すように、引出導体39はグランド電極34に設けられたスロット34sと重なる。これにより、引出導体39はスロット34sを介して給電電極32と電磁界結合し、引出導体39から周波数fのアンテナ信号が入力されると、スロット34sを介してアンテナ信号が給電電極32に供給される。ここで、引出導体39から見てグランド電極34とは反対側には別のグランド電極が設けられておらず、これにより、引出導体39はマイクロストリップ線路を構成する。
本実施形態が例示するように、貫通導体33を介して給電電極32に給電することは必須でなく、スロット34sを介して引出導体39と給電電極32を電磁界結合させても構わない。また、誘電体層40の材料としては樹脂を用いることができ、一般的な積層工法によって誘電体層40及び引出導体39を形成することができる。
<第6の実施形態>
図12は、本開示の第6の実施形態によるアンテナ装置6の構造を説明するための側面図である。
図12に示すように、第6の実施形態によるアンテナ装置6は、誘電体層40の表面42に第2のグランド電極であるグランド電極30が形成されているとともに、引出導体39が誘電体層40の内部に形成されている点において、第5の実施形態によるアンテナ装置5と相違する。その他の基本的な構成は、第5の実施形態によるアンテナ装置5と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
本実施形態においては、引出導体39が上下からグランド電極34,30で覆われることから、引出導体39はストリップ線路を構成する。
<第7の実施形態>
図13及び図14は、本開示の第7の実施形態によるアンテナ装置7の構造を説明するための側面図であり、互いに90°異なる方向から見た図である。
図13及び図14に示すように、第7の実施形態によるアンテナ装置7は、誘電体層40の内部に引出導体39が設けられておらず、誘電体層40の側面43,44がそれぞれグランド電極61,62で覆われている点において、第6の実施形態によるアンテナ装置6と相違する。その他の基本的な構成は、第6の実施形態によるアンテナ装置6と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
誘電体層40の側面43,44は、誘電体層40の表面42に対して垂直であり互いに平行な第1及び第2の側面を構成する。誘電体層40の平行な側面45,46は、側面43,44と直交する面であり、この面はグランド電極で覆われていない。グランド電極61,62は、それぞれ第3及び第4のグランド電極を構成する。これにより、グランド電極30,34,61,62で囲まれた誘電体層40の内部領域が導波管として機能する。導波管に対しては、モード変換器47などを用いてアンテナ信号を供給することができる。そして、導波管に周波数fのアンテナ信号を入力すると、スロット34sを介してアンテナ信号が給電電極32に供給される。本実施形態が例示するように、スロット34sを介して導波管と給電電極32を電磁界結合させても構わない。
<第8の実施形態>
図15は、本開示の第8の実施形態によるアンテナ装置8の構造を説明するための側面図である。
図15に示すように、第8の実施形態によるアンテナ装置8は、放射電極31の代わりにスロット50sを有する第1電極50が設けられているとともに、第1電極50とグランド電極34が複数の貫通導体51,52を介して接続されている点において、第1の実施形態によるアンテナ装置1と相違する。その他の基本的な構成は、第1の実施形態によるアンテナ装置1と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
貫通導体51は、第1電極50の周縁に沿って配置された第1の貫通導体であり、その一端は第1電極50に接続されている。貫通導体52はグランド電極34の周縁に沿って配置された第2の貫通導体であり、その一端はグランド電極34に接続されている。そして、ガラス基板10とガラス基板20は、貫通導体51の他端と貫通導体52の他端が接続されるよう重ねられている。また、ガラス基板20には、表面21から表面22に亘って貫通する貫通導体33が設けられている。グランド電極34のパターン形状は、図3(c)に示した形状と同じであり、貫通導体33のうち表面21に露出する部分は、引き出し部33aを介してガラス基板20のエッジ部分に引き出される。或いは、貫通導体33及び引き出し部33aを設ける代わりに、貫通導体51,52と干渉しないよう給電電極32をガラス基板20のエッジ部分まで伸ばすことによって、給電電極32に直接アンテナ信号を入力可能としても構わない。
図16は、ガラス基板10を表面11側から見た平面図である。図16に示すように、第1電極50に設けられたスロット50sは、平面視で給電電極32と重なりを有している。これにより、本実施形態によるアンテナ装置8は、スロットアンテナを構成する。
以上、本開示の好ましい実施形態について説明したが、本開示は、上記の実施形態に限定されることなく、本開示の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本開示の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
本開示にかかる技術には、以下の構成例が含まれるが、これに限定されるものではない。
本開示によるアンテナ装置は、第1及び第2の成形基板と、第1の成形基板の一方の表面に形成された第1電極と、第1の成形基板の他方の表面に形成され、平面視で第1電極と重なる給電電極と、第2の成形基板の一方の表面に形成された第1のグランド電極とを備え、第1及び第2の成形基板は、第1の成形基板の他方の表面と第2の成形基板の他方の表面を向かい合わせて重ねられていることを特徴とする。
これによれば、ガラスなどの溶融固化材料やHTCCなどの焼成材料からなる成形基板を用いたアンテナ装置において、第1の成形基板の表裏に第1電極と給電電極が形成されていることから、製造ばらつきによって第1電極と給電電極の距離が変化することがない。これにより、ガラスなどの溶融固化材料やHTCCなどの焼成材料からなる成形基板を用いたアンテナ装置において、製造ばらつきなどに起因する特性の変動を抑えることが可能となる。
本開示によるアンテナ装置は、第2の成形基板を貫通して設けられた貫通導体をさらに備え、第1及び第2の成形基板は、貫通導体と給電電極が接続されるよう、重ねられていても構わない。これによれば、貫通導体を介して給電電極に給電することができる。
本開示によるアンテナ装置は、第2の成形基板の他方の表面に露出する貫通導体の端部に設けられたバンプ電極をさらに備え、貫通導体と給電電極は、バンプ電極を介して接続され、給電電極と第2の成形基板の他方の表面の間には、バンプ電極の高さによって規定されるギャップが形成されていても構わない。これによれば、ギャップの幅に応じて特性を調整することが可能となる。
この場合、第1の成形基板の他方の表面と第2の成形基板の他方の表面の間には、ギャップを維持するスペーサが設けられていても構わない。これによれば、ギャップの変動を防止することが可能となる。また、ギャップ内には樹脂材料が設けられていても構わない。これによれば、第1及び第2の成形基板の接着性が高められる。この場合、ギャップの高さをG2とし、樹脂材料の比誘電率をεとし、第1電極に給電されるアンテナ信号の真空中における波長をλとした場合、
G2<0.06(λ/√ε)
を満たすことが好ましい。これによれば、アンテナとして機能する放射帯域を得ることが可能となる。
本開示によるアンテナ装置は、第2の成形基板の一方の表面に形成された誘電体層と、誘電体層の内部又は第2の成形基板と対向する面とは反対面に形成された引出導体とをさらに備え、第1のグランド電極は、引出導体と重なるスロットを有し、引出導体は、スロットを介して給電電極と電磁界結合するものであっても構わない。これによれば、貫通導体を用いることなく給電電極に給電することができる。この場合、引出導体は、誘電体層の反対面に形成され、マイクロストリップ線路を構成しても構わない。或いは、誘電体層の反対面に形成された第2のグランド電極をさらに備え、引出導体は、誘電体層の内部に形成され、ストリップ線路を構成しても構わない。
本開示によるアンテナ装置は、第2の成形基板の一方の表面に形成された誘電体層と、誘電体層の第2の成形基板と対向する面とは反対面に形成された第2のグランド電極と、誘電体層の第2の成形基板と対向する面と反対面との間を連結するように伸び、互いに対向する第1及び第2の側面にそれぞれ形成された第3及び第4のグランド電極とをさらに備え、第1のグランド電極は、スロットを有していても構わない。これによれば、第1〜第4のグランド電極によって導波管が構成される。
本開示によるアンテナ装置は、第1電極と接続され、第1の成形基板を貫通して設けられた複数の第1の貫通導体と、第1のグランド電極と接続され、第2の成形基板を貫通して設けられた複数の第2の貫通導体とをさらに備え、第1電極は、平面視で給電電極と重なるスロットを有し、複数の第1の貫通導体は、第1電極の周縁に沿って配置されており、第1及び第2の成形基板は、複数の第1の貫通導体と複数の第2の貫通導体が接続されるよう、重ねられていても構わない。これによれば、スロットアンテナを構成することができる。
<実施例1>
第3の実施形態によるアンテナ装置3と同じ構造を有する実施例1のシミュレーションモデルを想定し、ギャップG2とアンテナ特性(反射特性:S11)の関係をシミュレーションした。
実施例1のシミュレーションモデルにおいては、ガラス基板10,20の材料として比誘電率εが3.7、誘電正接tanδが0.0002であるガラス材料を想定し、ガラス基板10の厚みを24μm、ガラス基板20の厚みを68μmとし、ガラス基板10,20の平面サイズWx,Wy(図7参照)をいずれも700μmとした。
また、放射電極31については、図7に示す外径幅aを167μm、内径幅bを129μm、厚みを0.26μmとした。さらに、給電電極32の長さPlを72μm、幅Pwを17.8μmとした。そして、貫通導体33の径を11μmとし、貫通導体33の中心点cと放射電極31の平面視における距離Ps1を12.8μm、貫通導体33の中心点cと給電電極32のエッジの平面視における距離Ps2を13.8μmとした。
シミュレーションの結果を図17に示す。図17に示すように、ギャップG2がゼロである場合の共振周波数が約285GHzであるのに対し、ギャップG2が5μm以上である場合には、共振周波数がやや高周波側にシフトした。しかも、ギャップG2が5μm又は10μmである場合には、共振周波数帯における反射が大幅に低下した。また、ギャップG2が30μmであっても、十分な放射帯域が得られることが分かった。
<比較例1>
図18に示す構造を有する比較例のシミュレーションモデルを想定し、ギャップG1とアンテナ特性(反射特性:S11)の関係をシミュレーションした。図18に示すシミュレーションモデルは、給電電極32がガラス基板20の表面22に形成されている点において、実施例1のシミュレーションモデルと相違している。その他のパラメータは、実施例1のシミュレーションモデルと同一である。ギャップG1は、給電電極32とガラス基板10の表面12との距離によって定義される。
シミュレーションの結果を図19に示す。図19に示すように、ギャップG1が1μmである場合には十分な放射帯域が得られたが、ギャップG1が5μm又は10μmである場合には放射帯域がほぼ消滅し、アンテナ装置として機能しないことが確認された。つまり、ギャップG1の僅かな変動でアンテナ特性が著しく変化することが分かる。
<実施例2>
第3の実施形態によるアンテナ装置3と同じ構造を有する実施例2のシミュレーションモデルを想定し、ギャップG2とアンテナ特性(反射特性:S11)の関係をシミュレーションした。
実施例2のシミュレーションモデルにおいては、ガラス基板10,20の代わりに比誘電率εが9.2、誘電正接tanδが0.008であるAlからなる成形基板を想定し、ガラス基板10に対応する成形基板の厚みを18.2μm、ガラス基板20に対応する成形基板の厚みを46μmとし、各成形基板の平面サイズWx,Wy(図7参照)をいずれも531μmとした。
また、放射電極31については、図7に示す外径幅aを108.5μm、内径幅bを83.5μm、厚みを0.175μmとした。さらに、給電電極32の長さPlを46.6μm、幅Pwを11.2μmとした。そして、貫通導体33の径を7.2μmとし、貫通導体33の中心点cと放射電極31の平面視における距離Ps1を8.3μm、貫通導体33の中心点cと給電電極32のエッジの平面視における距離Ps2を9.0μmとした。
シミュレーションの結果を図20に示す。図20に示すように、ギャップG2がゼロである場合の共振周波数が約290GHzであるのに対し、ギャップG2が10μmである場合には、共振周波数が約315GHzにシフトした。共振周波数は、ギャップG2が大きくなるほど低周波側にシフトし、ギャップG2が40μmである場合には、ギャップG2がゼロである場合の共振周波数とほぼ同じとなり、ギャップG2が40μmを超えるとギャップG2がゼロである場合の共振周波数よりも低くなった。また、ギャップG2が60μmであっても、十分な放射帯域が得られることが分かった。
<比較例2>
図18に示す構造を有する比較例のシミュレーションモデルを想定し、ギャップG1とアンテナ特性(反射特性:S11)の関係をシミュレーションした。その他のパラメータは、実施例2のシミュレーションモデルと同一である。つまり、ガラス基板の代わりにAlからなる成形基板を想定している。
シミュレーションの結果を図21に示す。図21に示すように、ギャップG1が10μm又は20μmである場合には放射帯域が完全に消滅し、アンテナ装置として機能しないことが確認された。
<実施例3>
第4の実施形態によるアンテナ装置4と同じ構造を有する実施例3のシミュレーションモデルを想定し、ギャップG2とアンテナ特性(反射特性:S11)の関係をシミュレーションした。樹脂材料38としては、比誘電率が4.4であるエポキシ樹脂を想定した。その他のパラメータは、実施例1のシミュレーションモデルと同一である。
シミュレーションの結果を図22に示す。図22に示すように、ギャップG2に樹脂材料38を埋め込んだ場合、ギャップG2が広くなるほど共振周波数が低周波側にシフトした。しかしながら、ギャップG2が30μmである場合には放射帯域が完全に消滅し、アンテナ装置として機能しないことが確認された。
<実施例4>
第4の実施形態によるアンテナ装置4と同じ構造を有する実施例4のシミュレーションモデルを想定し、ギャップG2及び樹脂材料38の比誘電率εとアンテナ特性(反射特性:S11)の関係をシミュレーションした。その他のパラメータは、実施例3のシミュレーションモデルと同一である。
シミュレーションの結果を図23〜図25に示す。図23は樹脂材料38の比誘電率εが3.0である場合のシミュレーション結果であり、図24は樹脂材料38の比誘電率εが4.0である場合のシミュレーション結果であり、図25は樹脂材料38の比誘電率εが5.0である場合のシミュレーション結果である。共振周波数fが285GHz(λ=1050μm)である場合、0.06(λ/√ε)の値は、εが3.0であれば36.4μm、εが4.0であれば31.5μm、εが5.0であれば28.2μmである。
図23に示すように、比誘電率εが3.0である場合、ギャップG2が0.06(λ/√ε)の値(=36.4μm)未満であれば放射帯域が現れたが、ギャップG2が0.06(λ/√ε)の値(=36.4μm)以上であれば放射帯域が消滅した。図24に示すように、比誘電率εが4.0である場合、ギャップG2が0.06(λ/√ε)の値(=31.5μm)未満であれば放射帯域が現れたが、ギャップG2が0.06(λ/√ε)の値(=31.5μm)以上であれば放射帯域が消滅した。図25に示すように、比誘電率εが5.0である場合、ギャップG2が0.06(λ/√ε)の値(=28.2μm)未満であれば放射帯域が現れたが、ギャップG2が0.06(λ/√ε)の値(=28.2μm)以上であれば放射帯域が消滅した。
1〜8 アンテナ装置
10 第1のガラス基板(第1の成形基板)
11 第1のガラス基板の一方の表面
12 第1のガラス基板の他方の表面
20 第2のガラス基板(第2の成形基板)
21 第2のガラス基板の一方の表面
22 第2のガラス基板の他方の表面
30 グランド電極
31 放射電極(第1電極)
32 給電電極
33 貫通導体
33a 引き出し部
34 グランド電極
34a 切り欠き部
34s スロット
35,37 バンプ電極
36 導体パターン
38 樹脂材料
39 引出導体
40 誘電体層
41,42 誘電体層の表面
43〜46 誘電体層の側面
47 モード変換器
50 第1電極
50s スロット
51,52 貫通導体
61,62 グランド電極
G0〜G2 ギャップ

Claims (12)

  1. 第1及び第2の成形基板と、
    前記第1の成形基板の一方の表面に形成された第1電極と、
    前記第1の成形基板の他方の表面に形成され、平面視で前記第1電極と重なる給電電極と、
    前記第2の成形基板の一方の表面に形成された第1のグランド電極と、を備え、
    前記第1及び第2の成形基板は、前記第1の成形基板の前記他方の表面と前記第2の成形基板の他方の表面を向かい合わせて重ねられていることを特徴とするアンテナ装置。
  2. 前記第2の成形基板を貫通して設けられた貫通導体をさらに備え、
    前記第1及び第2の成形基板は、前記貫通導体と前記給電電極が接続されるよう、重ねられている請求項1に記載のアンテナ装置。
  3. 前記第2の成形基板の前記他方の表面に露出する前記貫通導体の端部に設けられたバンプ電極をさらに備え、
    前記貫通導体と前記給電電極は、前記バンプ電極を介して接続され、
    前記給電電極と前記第2の成形基板の前記他方の表面の間には、前記バンプ電極の高さによって規定されるギャップが形成されていることを特徴とする請求項2に記載のアンテナ装置。
  4. 前記第1の成形基板の前記他方の表面と前記第2の成形基板の前記他方の表面の間には、前記ギャップを維持するスペーサが設けられていることを特徴とする請求項3に記載のアンテナ装置。
  5. 前記ギャップ内に樹脂材料が設けられていることを特徴とする請求項3又は4に記載のアンテナ装置。
  6. 前記ギャップの高さをG2とし、前記樹脂材料の比誘電率をεとし、前記第1電極に給電されるアンテナ信号の真空中における波長をλとした場合、
    G2<0.06(λ/√ε)
    を満たすことを特徴とする請求項5に記載のアンテナ装置。
  7. 前記第2の成形基板の前記一方の表面に形成された誘電体層と、
    前記誘電体層の内部又は前記第2の成形基板と対向する面とは反対面に形成された引出導体と、をさらに備え、
    前記第1のグランド電極は、前記引出導体と重なるスロットを有し、
    前記引出導体は、前記スロットを介して前記給電電極と電磁界結合する、請求項1に記載のアンテナ装置。
  8. 前記引出導体は、前記誘電体層の前記反対面に形成され、マイクロストリップ線路を構成する、請求項7に記載のアンテナ装置。
  9. 前記誘電体層の前記反対面に形成された第2のグランド電極をさらに備え、
    前記引出導体は、前記誘電体層の前記内部に形成され、ストリップ線路を構成する、請求項7に記載のアンテナ装置。
  10. 前記第2の成形基板の前記一方の表面に形成された誘電体層と、
    前記誘電体層の前記第2の成形基板と対向する面とは反対面に形成された第2のグランド電極と、
    前記誘電体層の前記第2の成形基板と対向する面と前記反対面との間を連結するように伸び、互いに対向する第1及び第2の側面にそれぞれ形成された第3及び第4のグランド電極と、をさらに備え、
    前記第1のグランド電極は、スロットを有する請求項1に記載のアンテナ装置。
  11. 前記第1電極と接続され、前記第1の成形基板を貫通して設けられた複数の第1の貫通導体と、
    前記第1のグランド電極と接続され、前記第2の成形基板を貫通して設けられた複数の第2の貫通導体と、をさらに備え、
    前記第1電極は、平面視で前記給電電極と重なるスロットを有し、
    前記複数の第1の貫通導体は、前記第1電極の周縁に沿って配置されており、
    前記第1及び第2の成形基板は、前記複数の第1の貫通導体と前記複数の第2の貫通導体が接続されるよう、重ねられている請求項1に記載のアンテナ装置。
  12. 前記第1及び第2の成形基板がガラス材料からなることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載のアンテナ装置。
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