JP2021189361A

JP2021189361A - 圧電アクチュエータ、光走査装置

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Publication number: JP2021189361A
Application number: JP2020096726A
Authority: JP
Inventors: 康之須藤; Yasuyuki Sudo; 寿典阿賀; Hisanori Aga
Original assignee: Mitsumi Electric Co Ltd
Current assignee: Mitsumi Electric Co Ltd
Priority date: 2020-06-03
Filing date: 2020-06-03
Publication date: 2021-12-13
Anticipated expiration: 2040-06-03
Also published as: JP7457249B2

Abstract

【課題】圧電アクチュエータにおいて、電極や配線等のレイアウトの自由度を向上する。【解決手段】本圧電アクチュエータは、基板と、前記基板上に形成された圧電素子と、前記基板上に形成された配線と、を有し、前記圧電素子は電極を備え、前記電極は、前記配線と接続される部位において複数のコンタクト部で前記配線と電気的に接続されている。【選択図】図２

Description

本発明は、圧電アクチュエータ、光走査装置に関する。

ミラー部を回転させて光を走査する光走査装置において、ミラー部を駆動する駆動源として、圧電膜を有する圧電アクチュエータが用いられる場合がある。このような圧電アクチュエータには、圧電膜に電圧を印加するための電極が設けられており、電極と配線がコンタクト部で接続されている。電極と配線とを接続するコンタクト部は、例えば、円形や四角形であり、電極と配線の一つの接続箇所に通常は１つのコンタクト部が設けられる（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１３−７８２１９号公報

ところで、近年では、圧電アクチュエータをスマートフォン等の小型の機器に内蔵する検討がなされており、圧電アクチュエータの小型化が求められている。

しかしながら、電極と配線とを接続するコンタクト部は一定の面積を必要とすることから、圧電アクチュエータにおける電極や配線等のレイアウトの自由度を妨げており、これが圧電アクチュエータの小型化を妨げる要因の一つとなっていた。

本発明は、上記の点に鑑みてなされたもので、圧電アクチュエータにおいて、電極や配線等のレイアウトの自由度の向上を目的とする。

本圧電アクチュエータは、基板（３１０）と、前記基板（３１０）上に形成された圧電素子と、前記基板（３１０）上に形成された配線（１４０）と、を有し、前記圧電素子は電極（３３０、３５０、３７０）を備え、前記電極（３３０、３５０、３７０）は、前記配線（１４０）と接続される部位において複数のコンタクト部（１４０ａ）で前記配線（１４０）と電気的に接続されている。

なお、上記括弧内の参照符号は、理解を容易にするために付したものであり、一例にすぎず、図示の態様に限定されるものではない。

開示の技術によれば、圧電アクチュエータにおいて、電極や配線等のレイアウトの自由度を向上できる。

第１実施形態に係る光走査装置を例示する平面図である。光走査装置のコンタクト部近傍の部分平面図である。図２のＡ−Ａ線に沿う部分断面図である。図２のＢ−Ｂ線に沿う部分断面図である。複数のコンタクト部の効果について説明する図である。

以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。

〈第１実施形態〉
図１は、第１実施形態に係る光走査装置を例示する平面図であり、光走査装置をミラー反射面１０側から視た図である。図１において、２本のトーションバー５０の長手方向を垂直方向、２本のトーションバー５０の長手方向と直交する方向を水平方向としている。

図１を参照すると、光走査装置１は、ミラー部４０と、トーションバー５０と、連結部６０と、水平駆動部７０と、可動枠８０と、垂直駆動部１１０と、固定枠１２０と、端子１３０と、配線１４０とを有するＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）である。

ミラー部４０は、ミラー反射面１０と、応力緩和領域２０とを有する。水平駆動部７０は、水平駆動梁７１と、駆動源７２とを有する。垂直駆動部１１０は、垂直駆動梁９０と、駆動源９１と、連結部１００とを有する。

ミラー部４０は、垂直方向に延在する２本のトーションバー５０により、垂直方向の両外側から挟持されている。ミラー部４０は、中心にミラー反射面１０を有し、ミラー反射面１０とトーションバー５０との間に応力緩和領域２０を有する。各応力緩和領域２０には、２つのスリット３０が形成されている。又、トーションバー５０は、基端部５０ａが連結部６０を介して水平駆動梁７１の内側の角に連結されている。水平駆動梁７１は、表面に駆動源７２を備え、外側の辺が可動枠８０に連結されている。

駆動源７２には、例えば、電圧の印加に応じて伸縮する圧電素子が用いられる。圧電素子には、例えば、ピエゾ素子が用いられる。

又、トーションバー５０の基端部５０ａには、圧電センサ５１が設けられている。圧電センサ５１は、ミラー部４０が水平方向に揺動している状態におけるミラー反射面１０の水平方向の振角を検出するための振角センサである。圧電センサ５１には、圧電素子が用いられ、例えばピエゾ素子が用いられる。

可動枠８０は、水平駆動梁７１を介して連結部６０、トーションバー５０、及びミラー部４０を支持するとともに、これらの周囲を囲んでいる。可動枠８０は、垂直駆動梁９０に連結されている。

垂直駆動梁９０は、可動枠８０の水平方向の両側に、可動枠８０を挟むように配置されている。垂直駆動梁９０は、トーションバー５０と平行に複数設けられている。可動枠８０の各片側には、２つの垂直駆動梁９０が水平方向に隣接するように配置されている。隣接する２つの垂直駆動梁９０は、連結部１００により連結されている。

内側の垂直駆動梁９０は、一端が可動枠８０に連結され、他端が外側の垂直駆動梁９０に連結されている。又、外側の垂直駆動梁９０は、一端が固定枠１２０に連結され、他端が内側の垂直駆動梁９０に連結されている。又、垂直駆動梁９０には、駆動源９１が設けられている。駆動源９１には、駆動源７２と同様に圧電素子が用いられ、例えばピエゾ素子が用いられる。

又、外側の垂直駆動梁９０の一端には、圧電センサ９２が設けられている。圧電センサ９２は、ミラー部４０が垂直方向に揺動している状態におけるミラー反射面１０の垂直方向の振角を検出するための振角センサである。圧電センサ９２には、圧電センサ５１と同様に圧電素子が用いられ、例えばピエゾ素子が用いられる。

固定枠１２０は、外側の垂直駆動梁９０を介して垂直駆動部１１０を支持する。すなわち、固定枠１２０は、駆動部（垂直駆動部１１０及び水平駆動部７０）を介してミラー部４０を支持している。垂直駆動部１１０及び可動枠８０を取り囲んでおり、外形が矩形状である。本実施形態では、固定枠１２０の外形は、ほぼ正方形である。

固定枠１２０の表面には複数の端子１３０が設けられている。各端子１３０には配線１４０が接続されている。配線１４０は、駆動源７２、９１、及び圧電センサ５１、９２に接続されている。又あるいは、配線１４０には、駆動源７２、９１の各電極等に配線１４０をコンタクトさせるためのコンタクト部１４０ａが形成されている。固定枠１２０の表面に、端子１３０及び配線１４０以外に、検査用パターンが形成されてもよい。

以下、各部のより詳細な説明を行う。

ミラー部４０は、ほぼ円形のミラー反射面１０を中心に備える。ミラー反射面１０は、銀、銅、アルミニウム等の反射率の高い金属膜により形成されている。

応力緩和領域２０は、トーションバー５０の捻れ応力を緩和させ、ミラー反射面１０に加わる応力を低減させるために、ミラー反射面１０との間に設けられたスペーサ部である。応力緩和領域２０は、トーションバー５０の捻れ運動で発生する応力を分散させ、ミラー反射面１０に加わる応力を緩和できる。

スリット３０は、応力緩和領域２０に印加された応力を分散させるための穴であり、応力緩和領域２０内に設けられている。

トーションバー５０は、ミラー部４０を両側から支持するとともに、ミラー部４０を水平方向に揺動させるための手段である。ここで、水平方向とは、ミラー反射面１０により反射される光が高速に走査して移動する方向であり、投影面の横方向を意味する。つまり、ミラー反射面１０が横方向に揺動する方向であり、トーションバー５０が軸となる方向である。トーションバー５０は、左右に交互に捻れることにより、ミラー部４０を水平方向に揺動させる。

連結部６０は、水平駆動梁７１で発生した水平方向の駆動力をトーションバー５０に伝達するための伝達手段である。

水平駆動梁７１は、ミラー部４０を水平方向に揺動させ、ミラー反射面１０により反射された光を投影面の水平方向に走査させるための駆動手段である。２つの駆動源７２に異なる位相の電圧を交互に印加することにより、２つの水平駆動梁７１を交互に反対方向に反らせることができる。これにより、トーションバー５０に捻れ力を与え、トーションバー５０に平行な水平回転軸の周りにミラー部４０を揺動させることができる。

又、水平駆動梁７１による駆動は、例えば、共振駆動が用いられる。本実施形態の光走査装置１をプロジェクタ等に適用した場合には、例えば３０ｋＨｚの共振駆動によりミラー部４０が駆動される。

又、隣接する垂直駆動梁９０に異なる位相の電圧を印加することにより、可動枠８０を垂直方向に揺動させることができる。なお、ミラー部４０は、可動枠８０に支持されているので、可動枠８０の揺動に伴い、垂直方向に揺動する。

なお、垂直駆動部１１０は、例えば、非共振駆動により可動枠８０を揺動させる。垂直駆動は、水平駆動と比較して高速駆動は要求されず、駆動周波数は、例えば、６０Ｈｚ程度である。

以上の構成の光走査装置１は、例えば、シリコンウェハやＳＯＩ（Silicon On Insulator）ウェハを用いて製造される。

図２は、光走査装置のコンタクト部近傍の部分平面図である。図３は、図２のＡ−Ａ線に沿う部分断面図である。図４は、図２のＢ−Ｂ線に沿う部分断面図である。

図２及び図３を参照すると、駆動源９１は、基板３１０上に順次形成された、絶縁膜３２０、下部電極３３０、圧電膜３４０、中間電極３５０、圧電膜３６０、上部電極３７０、層間絶縁膜３８０、及び増反射膜３９０を有する圧電アクチュエータである。

光走査装置１において、例えば、中間電極３５０がグランドに接続され、下部電極３３０及び上部電極３７０に駆動源９１を駆動する駆動信号が供給される。下部電極３３０及び上部電極３７０に駆動信号が供給されると、駆動源９１は駆動信号の電圧にしたがって変位する。なお、駆動信号が中間電極３５０に供給され、下部電極３３０及び上部電極３７０がグランドに接続されるようにしても同様に駆動することができる。

基板３１０は、例えば、シリコン基板である。シリコン基板の上面に、シリコン酸化膜（熱酸化膜）等の絶縁膜３２０が形成されている。基板３１０として、支持層、埋め込み（ＢＯＸ：Buried Oxide）層、及び活性層を有するＳＯＩ基板を用いてもよい。

下部電極３３０は、例えば、Ｐｔ等の白金族の金属からなる単一の導電膜とすることができる。下部電極３３０は、絶縁膜３２０側から第１層、第２層、及び第３層が順次積層された３層構造の導電膜としてもよい。

後者の場合、第１層及び第３層の各々は、ペロブスカイト構造及び（１１０）配向を含んだ導電性酸化膜であることが好ましい。ペロブスカイト構造及び（１１０）配向を含んだ導電性酸化膜としては、例えば、ＬＮＯ（ＬａＮｉＯ_３：ニッケル酸ランタン）薄膜、ＳＲＯ（Ｓｒ_２ＲｕＯ_４：酸化ストロンチウム）薄膜、ＢＲＯ（ＢａＲｕＯ_３：ルテニウム酸バリウム）薄膜等が挙げられる。第１層及び第３層の各々の膜厚は、例えば、３０ｎｍである。第２層は、例えば、Ｐｔ薄膜である。第２層は、Ｐｔ以外の白金族の薄膜でもよく、例えば、Ｉｒ薄膜、Ｏｓ薄膜等を用いてもよい。第２層の膜厚は、例えば、１５０ｎｍである。

中間電極３５０は、下部電極３３０と同様に、例えば、Ｐｔ等の白金族の金属からなる単一の導電膜とすることができる。中間電極３５０は、下部電極３３０と同様に、圧電膜３４０側から第１層、第２層、及び第３層が順次積層された３層構造の導電膜としてもよい。

後者の場合、第１層及び第３層の各々は、ペロブスカイト構造及び（１１０）配向を含んだ導電性酸化膜であることが好ましい。第１層及び第３層の具体的な材料は、下部電極３３０において例示したものと同様である。第１層及び第３層の各々の膜厚は、例えば、８０ｎｍである。第２層は、例えば、Ｐｔ薄膜である。第２層は、Ｐｔ以外の白金族の薄膜でもよく、例えば、Ｉｒ薄膜、Ｏｓ薄膜等を用いてもよい。第２層の膜厚は、例えば、１５０ｎｍである。

上部電極３７０は、例えば、Ｐｔ等の白金族の金属からなる単一の導電膜とすることができる。上部電極３７０は、圧電膜３６０側から第１層及び第２層が順次積層された２層構造の導電膜としてもよい。

後者の場合、第１層は、ペロブスカイト構造及び（１１０）配向を含んだ導電性酸化膜であることが好ましい。第１層の具体的な材料は、下部電極３３０において例示したものと同様である。第１層の膜厚は、例えば、８０ｎｍである。第２層は、例えば、Ｐｔ薄膜である。第２層は、Ｐｔ以外の白金族の薄膜でもよく、例えば、Ｉｒ薄膜、Ｏｓ薄膜等を用いてもよい。第２層の膜厚は、例えば、１００ｎｍである。

中間電極３５０の第１層及び上部電極３７０の第１層は、それぞれの下層にある圧電膜３４０及び３６０の劣化を抑制している。

下部電極３３０の第１層及び第３層の膜厚、中間電極３５０の第１層及び第３層の膜厚、及び上部電極３７０の第１層の膜厚は、各々３０ｎｍ以上とすることが好ましい。これらの膜厚を３０ｎｍ以上とすることで、ＬＮＯ薄膜等の導電性酸化膜を均一に成膜できる。

下部電極３３０の第３層の平均粒径、及び中間電極３５０の第３層の平均粒径は、３５ｎｍ以下であることが好ましく、２５ｎｍ以下であることがより好ましい。

下部電極３３０の第３層の平均粒径が上記範囲であると、上層である圧電膜３４０の平均粒径を小さくできる。又、中間電極３５０の第３層の平均粒径が上記範囲であると、上層である圧電膜３６０の平均粒径を小さくできる。光走査装置１において、圧電膜３４０及び３６０の各々の平均粒径を小さくするほど、駆動源９１に駆動されるミラー部を同じ振れ角にするための駆動電圧（以降、単に、駆動源９１の駆動電圧と称する）を低減できる。

ここで、平均粒径とは、対象となる膜の面内水平方向の結晶粒径の平均値である。平均粒径は、電子線回折装置で分析することで算出できる。又、面内水平方向とは、対象となる膜が形成される下層の上面に水平な方向である。

圧電膜３４０及び３６０を構成する圧電材料は、ペロブスカイト構造であることが好ましい。圧電膜３４０及び３６０は、例えば、ペロブスカイト構造であるＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）である。圧電膜３４０は下部電極３３０上に、圧電膜３６０は中間電極３５０上に、例えば、ゾルゲル法を用いて形成できる。

圧電膜３４０及び３６０を構成する圧電材料は、ペロブスカイト構造であれば、ＰＺＴ以外でもよく、例えば、ＰＮＺＴ（チタン酸ジルコン酸ニオブ酸鉛）、ＰＬＺＴ（チタン酸ジルコン酸ランタン鉛）、ＰＬＴ（チタン酸ランタン鉛）、ＰＭＮ（マグネシウム酸ニオブ酸鉛）、ＰＭＮＮ（マンガン酸ニオブ酸鉛）、ＢａＴｉＯ_３（チタン酸バリウム）等が挙げられる。圧電膜３４０及び３６０に、これらの圧電材料を用いることで、単位電圧当たりの駆動力を向上できる。

圧電膜３４０の平均粒径、及び圧電膜３６０の平均粒径は、各々１μｍ以下とすることが好ましく、６００ｎｍ以下とすることがより好ましく、４５０ｎｍ以下とすることが更に好ましい。前述のように、圧電膜３４０及び３６０の各々の平均粒径を小さくするほど、駆動源９１の駆動電圧を低減できる。

下部電極３３０及び中間電極３５０は、例えば、それぞれの上層に形成される圧電膜３４０及び３６０を結晶化させるため、基板３１０の温度を５００度以上にして、第３層３３３及び３５３の面内垂直方向の結晶方位を（１１０）優先配向させるようにスパッタリングにより成膜できる。この条件で下部電極３３０と中間電極３５０とを形成することにより、ＰＺＴ薄膜を結晶化させて良好な圧電特性を取得可能となる。これにより、駆動源９１の駆動電圧を低減できる。

層間絶縁膜３８０は、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）等からなる。増反射膜３９０は、屈折率の異なる誘電体膜が積層された積層誘電体膜である。積層誘電体膜は可視光域中の低波長域（波長５５０ｎｍよりも低波長側の領域）の反射率を上げる増反射膜として機能する。増反射膜３９０は、例えば、アルミナ等からなる低屈折率膜上に、酸化チタン等からなる高屈折率膜が積層された積層誘電体膜である。低屈折率膜と高屈折率膜とは屈折率差が大きいことが好ましい。

なお、駆動源９１の構造は、図３の例には限定されない。例えば、駆動源９１において、圧電膜は最低１層で良く、この場合、圧電膜の上下に下部電極及び上部電極が形成された３層構造となり、中間電極は不要となる。又、３層以上の圧電膜を設けてもよく、この場合、下部電極上に圧電膜及び中間電極が必要な数だけ交互に積層され、最後に最上層の中間電極上に圧電膜及び上部電極が順次積層される。

圧電膜をｎ層とすることにより、駆動源９１の駆動電圧を、１層の場合の１／ｎにできる。以上、駆動源９１について説明したが、駆動源７２についても駆動源９１と同様の構造とすることができる。

図２及び図４を参照すると、下部電極３３０、中間電極３５０、及び上部電極３７０は、複数のコンタクト部１４０ａで配線１４０と電気的に接続されている。各配線１４０は、対応する端子１３０に接続されている。

例えば、配線１４０と下部電極３３０とを接続するコンタクト部１４０ａの近傍では、下部電極３３０上に層間絶縁膜３８０、配線１４０、及び増反射膜３９０が積層されている。そして、下部電極３３０上の層間絶縁膜３８０の所定領域に、下部電極３３０を露出するコンタクトホール３８０ｘが３個形成され、層間絶縁膜３８０上の配線１４０が各々のコンタクトホール３８０ｘ内に入り込んで下部電極３３０と接続されている。配線１４０は、例えば、金（Ａｕ）により形成されている。なお、コンタクト部１４０ａは、コンタクトホール３８０ｘ、及びコンタクトホール３８０ｘを埋めている配線１４０を指す。

このように、本実施形態では、同一箇所を接続するコンタクト部１４０ａが複数個設けられている。これにより、コンタクトホール３８０ｘの１つ当たりの直径を小さくできるため、電極や配線等のレイアウトの自由度を向上でき、配線のパターン形状の変更等が可能となる。

例えば、図５の矢印左側に示すように、同一箇所を接続するコンタクト部１４０ａを１個とした場合、コンタクトホール３８０ｘの直径が４０μｍであったとする。これを図５の矢印右側（図２と同じ図）に示すように、同一箇所を接続するコンタクト部１４０ａを複数個（例えば、３個）とした場合、コンタクトホール３８０ｘの１つ当たりの直径を４０μｍよりも小さくできる。加工性を考慮すると、コンタクトホール３８０ｘの１つ当たりの直径は３μｍ以上であることが好ましい。レイアウトの自由度を向上する観点からは、コンタクトホール３８０ｘの１つ当たりの直径を２０μｍ以下とすることが好ましく、１５μｍ以下とすることが好ましく、１０μｍ以下とすることが更に好ましい。

Ｅ部におけるコンタクトホール３８０ｘのシュリンクと、それに合わせた配線１４０のレイアウト変更により、Ｆ部に空きスペースができるため、空きスペースの有効活用が可能となる。例えば、素子サイズを小型化できる。

又、Ｇ部では、平面視において、圧電膜３４０及び上部電極３７０は切り欠き部３４０ｘを備え、中間電極３５０の一部が切り欠き部３４０ｘ内に露出している。そして、切り欠き部３４０ｘ内に露出する中間電極３５０は、複数のコンタクト部１４０ａで配線１４０と接続されている。

このような構造であれば、コンタクトホール３８０ｘのシュリンクと、それに合わせた配線１４０のレイアウト変更により、中間電極３５０上に空きスペースができる。そのため、空きスペースに圧電膜３６０及び上部電極３７０を延伸させて、圧電膜３６０及び上部電極３７０の面積を増大でき、その結果、駆動源９１の駆動力を向上可能となる。

このように、基板から遠い側に積層された上側の電極に設けられた切り欠き部内に、基板に近い側に積層された下側の電極が露出し、切り欠き部内に露出する下側の電極が、複数のコンタクト部で配線と接続されている構造では、コンタクトホールのシュリンクと、それに合わせた配線のレイアウト変更により、圧電膜及び上側の電極の面積を増大でき、駆動源の駆動力を向上可能となる。

なお、切り欠き３４０ｘが圧電膜３４０及び上部電極３７０の端部（角部）以外に設けられた場合にも、コンタクトホール３８０ｘのシュリンクと、それに合わせた配線１４０のレイアウト変更により、上記と同様の効果を奏する。又、上部電極と下部電極を有し、中間電極を有しない構造の場合にも、上記の構造であれば、コンタクトホールのシュリンクと、それに合わせた配線のレイアウト変更により、上記と同様の効果を奏する。

又、Ｅ部やＧ部におけるコンタクトホール３８０ｘのシュリンクにより、配線１４０の幅を狭くできるため、配線１４０そのものが持つ応力が軽減され、駆動源９１の駆動力を向上可能となる。

なお、同一箇所を接続するコンタクト部１４０ａは２個以上であれば任意の個数としてよいが、例えば直線状に並ぶ３つ以上のコンタクト部を含むことが好ましい。同一箇所を接続するコンタクト部１４０ａを３個以上とすることで、コンタクトホール３８０ｘの１つ当たりの直径を小さくできるとともに、接続対象物同士の接続信頼性を向上できる。

コンタクトホール３８０ｘの平面形状は四角形とすることも可能であるが、レジストの加工性やエッチングの容易性を考慮すると円形であることが好ましい。又、同一径の円形のコンタクトホール３８０ｘを複数個配列する代わりに、一つの楕円形のコンタクトホールとすることも考えられるが、レジストの加工性やエッチングの容易性を考慮すると同一径の円形のコンタクトホール３８０ｘを複数個配列する方が好ましい。

又、隣接するコンタクト部１４０ａの間隔Ｓは、隣接するコンタクト部１４０ａの各々の直径φよりも小さいことが好ましい。これにより、複数のコンタクト部１４０ａの配置密度を高めることができ、一層の省スペース化が可能となる。特に、光走査装置１をスマートフォン等の小型の危機に内蔵する場合に有効である。

但し、電極と配線とを接続する全てのコンタクト部を複数個とする必要はなく、例えば、レイアウト上余裕がある個所では、従来と同様に、比較的大径の１つのコンタクト部で電極と配線とを接続してもよい。

上記実施形態の光走査装置１は、例えば、アイウェアやプロジェクタ、スマートフォン等の二次元走査型の光走査装置に適用できる。

又、上記各実施形態では、光走査装置として、トーションバーを用いた光走査装置を例に挙げて説明しているが、本発明は、トーションバーを用いない光走査装置に対しても適用可能である。又、上記各実施形態では、二次元走査型の光走査装置を例に挙げて説明しているが、二次元走査型に限られず、１方向にミラー部を揺動させる一次元走査型の光走査装置であってもよい。

以上、好ましい実施形態について説明したが、上述した実施形態に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。

例えば、上記実施形態に係る圧電アクチュエータは、光走査装置以外に用いてもよく、例えば、インクジェットヘッドに用いることができる。

１：光走査装置、１０：ミラー反射面、２０：応力緩和領域、３０：スリット、４０：ミラー部、５０：トーションバー、５１：圧電センサ、６０、１００：連結部、７０：水平駆動部、７１：水平駆動梁、７２：駆動源、８０；可動枠、９０：垂直駆動梁、９１：駆動源、９２：圧電センサ、１１０：垂直駆動部、１２０：固定枠、１３０：端子、１４０：配線、１４０ａ：コンタクト部、３１０：基板、３２０：絶縁膜、３３０：下部電極、３４０：圧電膜、３５０：中間電極、３６０：圧電膜、３７０：上部電極、３８０：層間絶縁膜、３８０ｘ：コンタクトホール、３９０：増反射膜

Claims

基板と、
前記基板上に形成された圧電素子と、
前記基板上に形成された配線と、を有し、
前記圧電素子は電極を備え、
前記電極は、前記配線と接続される部位において複数のコンタクト部で前記配線と電気的に接続されている圧電アクチュエータ。
隣接する前記コンタクト部の間隔は、隣接する前記コンタクト部の直径よりも小さい請求項１に記載の圧電アクチュエータ。
前記複数のコンタクト部は、３つ以上のコンタクト部を含む請求項１又は２に記載の圧電アクチュエータ。
前記圧電素子は複数の電極を備え、前記基板から遠い側に積層された上側の電極に設けられた切り欠き部内に、前記基板に近い側に積層された下側の電極が露出し、
前記切り欠き部内に露出する前記下側の電極が、前記複数のコンタクト部で前記配線と接続されている請求項１乃至３の何れか一項に記載の圧電アクチュエータ。
前記コンタクト部の直径は、４０μｍよりも小さく３μｍ以上である請求項１乃至４の何れか一項に記載の圧電アクチュエータ。
前記圧電素子は、第１電極と、前記第１電極上に形成された第１圧電膜と、前記第１圧電膜上に形成された第２電極と、前記第２電極上に形成された第２圧電膜と、前記第２圧電膜上に形成された第３電極と、を有し、
前記第１電極は複数の第１コンタクト部を介して第１配線と接続され、前記第２電極は複数の第２コンタクト部を介して第２配線と接続され、前記第３電極は複数の第３コンタクト部を介して第３配線と接続されている請求項１乃至５の何れか一項に記載の圧電アクチュエータ。
前記第１配線と前記第３配線は電気的に接続されている請求項６に記載の圧電アクチュエータ。
請求項１乃至７の何れか一項に記載の圧電アクチュエータにより駆動されるミラー部を有する光走査装置。