JP2021187702A - 四塩化チタンの製造方法及び塩化炉 - Google Patents
四塩化チタンの製造方法及び塩化炉 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021187702A JP2021187702A JP2020093501A JP2020093501A JP2021187702A JP 2021187702 A JP2021187702 A JP 2021187702A JP 2020093501 A JP2020093501 A JP 2020093501A JP 2020093501 A JP2020093501 A JP 2020093501A JP 2021187702 A JP2021187702 A JP 2021187702A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- pipe
- flow path
- chlorine
- gas flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 title claims abstract description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 title claims abstract description 33
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 74
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 74
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 74
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 40
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 417
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 79
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 9
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 8
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 30
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 17
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 15
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 11
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 3
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000677 High-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000954 Medium-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000233855 Orchidaceae Species 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- MXXWOMGUGJBKIW-YPCIICBESA-N piperine Chemical compound C=1C=C2OCOC2=CC=1/C=C/C=C/C(=O)N1CCCCC1 MXXWOMGUGJBKIW-YPCIICBESA-N 0.000 description 1
- 229940075559 piperine Drugs 0.000 description 1
- 235000019100 piperine Nutrition 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
Description
ところで、塩化炉に設けられて塩素ガスを通過させる複数のガス流路を有する分散盤は、そのガス流路のいずれかが塩化反応由来の不純物等で詰まることがある。この場合、そのガス流路では流動層に塩素ガスを送り込むことができなくなる。その結果、流動層に供給される塩素ガス量が低減され、又は分散盤から供給される塩素ガスのバランスが失われるなどに起因し、四塩化チタンの生産効率が低下すると考えられる。このように、特許文献1に記載の技術に関して未だ改善の余地が残されている。
本発明に係る四塩化チタンの製造方法の一実施形態においては、図1Aに示す塩化炉100を使用するものであって、四塩化チタンを生成する塩化工程を含む。この塩化炉100では、分散盤120に複数のガス流路125が設けられており、ガス流路125(図1B参照)ごとに接続されたガス供給管130を介して塩化炉100内に塩素含有ガスが供給される。塩化炉100内に供給された塩素含有ガスは分散盤120上にチタン鉱石及び炭素を含む流動層150を形成する。流動層150内にて塩化反応が生じ、これにより四塩化チタンが生成する。そして、塩素含有ガスの供給中、ガス流路125内の圧力を圧力測定部でそれぞれ測定し、該圧力に応じてガス供給管130からガス流路125に送るガスの流量を変化させる。例えば、ガス流路125に詰まりが生じると、該詰まりが生じたガス流路125の圧力が高くなる。詰まりが生じたと判断されたガス流路125に対し比較的多量のガスを短時間で供給するとガス流路125内の圧力の上昇に起因してガス流路125を詰まらせていた物質が排出され、ガス流路125の詰まりは速やかに解消される。一実施形態において、塩化炉100を解体せずとも詰まりが解消されるため、メンテナンスに必要な時間を短縮することもできる。また、詰まりが解消されたガス流路125内は圧力が低くなるので、その後ガス流路125の詰まりが解消される前の通常操業時と同様の塩素含有ガス量を供給すればよい。その結果、一実施形態においては、長期にわたっても安定した四塩化チタンの製造を実施することが可能となる。
当該塩化炉100は、塩化炉本体110と、分散盤120と、ガス供給管130と、ウインドボックス140と、流動層150と、原料供給管160と、四塩化チタンガス回収管170とを備える。塩化炉本体110、分散盤120、ウインドボックス140、原料供給管160、四塩化チタンガス回収管170の形状又は材質は公知のものを適宜採用可能である。ガス供給管130は、その供給対象であるガスの性質に鑑み、適宜材質、形状、溶接方法などを決定できる。流動層150は四塩化チタンの製造が開始されてから塩化炉本体110内に形成される。よって、流動層150は塩化炉100の必須構成というよりは、操業時に形成される塩化炉100の構成である。
分散盤120は、ガス供給管130から供給された塩素含有ガスを分散させて流動層150へ流す。該分散盤120は、例えば図1Bに示すように、底板122と、該底板122上に充填物で形成された断熱層124と、複数のガス流路125とを備えることとしてよい。なお、塩素含有ガスの塩素濃度は塩化炉100の操業状態に鑑み適宜決定すればよく、塩素の他には酸素、窒素等他のガスが適宜含まれてよい。
底板122は、塩化炉本体110においてウインドボックス140の上方に位置し、塩素含有ガスが通過するように複数のガス流路125が形成されている。分散盤120にはノズル126が設けられ、そのノズル126の上端は、断熱層124上の流動層150側まで延在している。塩素含有ガスがノズル126内のガス流路125を介して断熱層124の上側へ、さらには流動層150に供給される。ノズル126の外周を囲んで配置される保護管128の側壁に形成されたガス吹き出し口128aは断熱層124の上側に位置するように設けられている。円滑なガス吹き出しを行う観点から、ガス吹き出し口128aは互いに対面しないよう配置されることが好ましい。ノズル126及び保護管128の形状等は適宜変更可能である。例えば、図1Cに示す分散盤120においては、ノズル126の上端が断熱層124内に位置しており、ガス吹き出し口128bが保護管128の側壁に設けられている。また、図1Dに示すように、ノズル126の上端が断熱層124と流動層150の境界近傍に配置されており、ガス吹き出し口128cは保護管128の上端に設けてもよい。
また、底板122の材質は、耐熱性という観点から、例えば、炭素鋼、ステンレス鋼、及びNiよりなる群から選択される1種以上であればよい。なお、底板122の厚さは適宜設計可能であるが、例えば40〜100mmである。炭素鋼は炭素含有量が2質量%以下の鋼であって、いわゆる極低炭素鋼、低炭素鋼、中炭素鋼、高炭素鋼等を含むものである。炭素鋼の具体例として、SS400等が挙げられる。ステンレス鋼は、耐熱性及び強度という観点から、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)等が添加された鋼である。ステンレス鋼の具体例として、フェライト系ステンレス鋼、オーステナイト系ステンレス鋼、マルテンサイト系ステンレス鋼、二相ステンレス鋼等が挙げられる。
底板122のウインドボックス140側にオリフィス123が設けられている。上記オリフィス123の径は、例えば、塩素含有ガスを分散させるために必要なガス流量と圧力損失等から適宜決定することができる。
断熱層124は、通常、底板122の上面に形成される。断熱層124は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。また、断熱層124を耐熱セラミックス製の充填物を充填して形成している場合、分散盤120を適切に軽量化しつつ塩素含有ガスによる腐食の影響を低減可能である。上記耐熱セラミックス製の充填物としては、例えば窒化ケイ素製、溶融シリカ製、又はアルミナ製等の充填物が挙げられる。上記耐熱セラミックス製の充填物の形状は特に限定されるものではないが、球状や平板状等が挙げられる。中でも上記充填物の形状は、分散盤120の耐久性の観点から、平板状がよい。また、充填物は、流動層150に巻き込まれないような大きさであることが好ましい。なお、断熱層124の厚さは適宜設計可能であるが、例えば300〜600mmである。
また、図1Eに示す一例のように、断熱層124内のガス流路125の配置は、塩素含有ガスを流動層150に均一に供給する観点から、断熱層124の内部を上面視した場合、中央領域T1と、その中央領域T1と塩化炉本体110の側壁111との間で周方向に等間隔に区分けした4つの周囲領域T2〜T5とに分けることが可能である。ここで、図示は省略するが、その断熱層124の中央領域T1と各周囲領域T2〜T5には、複数のガス流路125を等間隔に配置してよい。この他、断熱層124の上面視において、複数のガス流路125が塩化炉本体110の中心軸に対して点対称の関係となるように配置されてもよいし、塩化炉100の高さ方向と垂直である中心線に対して線対称の関係となるように配置されてもよい。
また、断熱層124内の複数のガス流路125は、前記中心軸から塩化炉本体110の側壁111に向かって、複数列に配置され、その各列について円形状或いは多角形状(例えば6角形、8角形等)となるように配置されてもよい。また、分散盤120内のガス流路125の個数は適宜設計可能であるが、例えば計60〜120個である。
断熱層124内に設けられ、上方に向かって延在した保護管128は、ノズル126の外周を囲みノズル126を保護している。保護管128は、耐熱性及び耐摩耗性という観点から、窒化珪素、炭化珪素、及びアルミナよりなる群から選択される1種以上で形成されていてよい。保護管128の上端側には、塩素含有ガスをノズル126から流動層150に供給するため、ガス吹き出し口(128a等)が形成されている。
ただし、保護管128のガス吹き出し口128a、128b、128cは、塩素含有ガスを効率的に供給する観点から、隣接する保護管128のガス吹き出し口128a、128b、128cと互いに対向しないように配置することが好ましい。
図1Aに示す一実施形態では、ガス供給管130は、通常操業ガス用配管132と、詰まり解消ガス用配管134と、通常操業ガス用配管132と詰まり解消ガス用配管134との合流部Jとを備える。
通常操業ガス用配管132は、ウインドボックス140内を通って、その端部がノズル126に接続され、もう一方の端部は、塩素含有ガス供給源である元管136に接続されている。通常操業ガス用配管132は、合流部Jよりも上流(ガス供給源)側にバルブV1が設けられる。また、通常操業ガス用配管132の合流部JとバルブV1との間に逆止弁を設置してもよく、またバルブV1より上流側に逆止弁を設置してもよい。そうすることで、詰まり解消ガス用配管134から元管136にガスが流れることをより確実に防ぐことが可能である。
図1Aに示す一実施形態では、詰まり解消ガス用配管134は、ガス流路125の詰まりを解消するため、通常操業ガス用配管132内の圧力よりも高い圧力でガスを供給することが可能である。詰まり解消ガス用配管134は合流部Jで通常操業ガス用配管132に接続され、バルブV2と、バルブV3と、該バルブV2とバルブV3との間に圧力測定部PG1とが設けられる。詰まり解消ガス用配管134は、通常操業ガス用配管132から供給される塩素含有ガスの圧力より高圧のガスを供給するために、図示しないガス供給源を接続してもよい。また、詰まり解消ガス用配管134には、塩素、酸素、窒素、一酸化炭素及び二酸化炭素から選ばれる1以上を含むガスの供給源が設けられることが好ましい。前記ガスとして、詰まりを解消する作業におけるコストや安全性の観点から、空気が好適である。空気は窒素と酸素を主に含むものであり、上記ガスに包含される。また、詰まり原因物質に酸化物が含まれると想定される場合、一酸化炭素を含むガス供給することで、前記酸化物の還元に基づく詰まり解消も期待できる。
圧力測定部PG1は、詰まり解消ガス用配管134内の圧力を測定可能であり、その測定された圧力値に基づいてガス流路125(又は、ノズル126)の詰まりを判断できる。流動層150に塩素含有ガスを供給する際は、バルブV1及びバルブV3が開いており、バルブV2が閉じている。ガス流路125が詰まると、その詰まった箇所でガス流路125が狭くなるので塩素含有ガスが流れにくくなり、ガス流路125に接続された通常操業ガス用配管132及び詰まり解消ガス用配管134内の圧力が上昇する。塩化炉100の操業においては、元管136からの塩素含有ガスの供給中、圧力測定部PG1にて詰まり解消ガス用配管134内の圧力が連続的又は断続的に測定されている。そうすることで、ガス流路125の詰まりの有無を監視する。詰まり解消操作時は、バルブV1が閉じており、バルブV2及びV3が開いている。詰まり解消ガス用配管134からガス供給を開始した直後は圧力測定部PG1の測定値が増加するが、詰まりが解消されると圧力が低下する。詰まり解消ガス用配管134内の圧力の低下を確認することでガス流路125の詰まりの解消の可否を検知できる。なお、バルブV1により元管136側へのガスの流れが阻止されるので、圧力測定部PG1で測定される詰まり解消ガス用配管134内に圧力は、ガス流路125内の圧力と同程度になりうる。
詰まり解消ガス用配管134及びその上流側の設備のメンテナンス、又は圧力測定部PG1のメンテナンスが必要となった場合はバルブV3を閉じることで塩素含有ガスの漏洩を適切に防止できる。
図1Aに示す一実施形態では、詰まりが生じたガス流路125を詰まり解消作業の対象とし、他のガス流路125は塩素含有ガス流量を維持することで流動層150への影響を軽減可能である。この観点より、塩化炉100において、ガス流路125の数(A)に対するバルブV1の数(B)との割合(B/A)は、例えば0.9以上である。
図1Aに示す一実施形態において、元管136は、塩素含有ガスの供給源である。該元管136は、圧力測定部PG2が設けられ、通常操業ガス用配管132と接続されている。なお、図示は省略するが、ガス流路125ごとに接続された通常操業ガス用配管132の一部が元管136に接続され、残りの通常操業ガス用配管132が別の元管に接続されてもよい。すなわち、塩素含有ガスの供給源は1であってもよいし2以上であってもよい。
ウインドボックス140は、塩化炉本体110の下側に設けられる。該ウインドボックス140は、その上方の開口部を閉塞するように分散盤120が配置されている。図1Aに示す一実施形態では、ウインドボックス140内には複数の通常操業ガス用配管132がそれぞれ挿通されている。一実施形態では合流部J、詰まり解消ガス用配管134、圧力測定部PG1等がウインドボックス140の外側に配置されている。なお、これらの1以上がウインドボックス140内に配置されてもよい。塩素含有ガスはウインドボックス140に接することなく流動層150に供給されるため、ウインドボックス140は塩化炉100の必須構成ではない。ただし、万が一の塩素含有ガス漏れ対策として有用な構成であるため、塩化炉100はウインドボックス140を備えることが好ましい。ウインドボックス140の形状又はウインドボックス140を区画する周囲壁の材質は公知のものを適宜採用可能である。
流動層150は塩化炉100の操業時に分散盤120上に形成される。該流動層150は、金属酸化物原料と、炭素源であるコークスと、塩素含有ガスとを含んで形成され、流動状態を維持している。高温条件下で金属酸化物原料と、コークスと、塩素含有ガスとが接触して反応することで、四塩化チタンガスを生成する。金属酸化物原料は、酸化チタンを含有するチタン鉱石であってよい。
原料供給管160は、流動層150にチタン鉱石及びコークスを供給するため、分散盤120の厚さ方向において分散盤120よりも高い位置で塩化炉本体110の側壁111に設けられている。原料供給管160の形状又は材質は公知のものを適宜採用可能である。なお、塩化炉本体110の施設においては、当該原料供給管160を、側壁111のレンガ間に挿通すればよい。
四塩化チタンガス回収管170は、塩化炉本体110内で生成された四塩化チタンガスを回収するために、塩化炉本体110の頂部近傍に設けられている。このとき、回収された四塩化チタンガスは四塩化チタンガス回収管170からコンデンサー(不図示)に送られ、該コンデンサーにおいて該四塩化チタンガスを四塩化チタンの沸点136℃以下に冷却することで、液体四塩化チタンとして回収すればよい。また、四塩化チタンガス回収管170の形状又は材質は公知のものを適宜採用可能である。
また、他の実施形態として図2に示す塩化炉200は、先述した塩化炉100と異なり、設備メンテナンスの負荷の軽減等の観点から、ガス供給管230が、分岐部Bを介して下流側に向かって分岐している通常操業ガス用配管232と、通常操業ガス用配管232に接続された詰まり解消ガス用配管234とを備え、さらに各通常操業ガス用配管232が接続された元管236とを備える。その分岐した通常操業ガス用配管232はウインドボックス140に挿通され分散盤120のガス流路125ごとに接続されている。なお、上流側の元管236から下流側のガス流路125までの間に分岐点を複数設けてよい。分岐部BはバルブV1の下流側に設けられてよい。これにより、複数のガス流路125をひとまとまりとして塩素含有ガス量を制御できる。また、分岐部Bは合流部Jの下流側に設けられてよい。これにより、複数のガス流路125をひとまとまりとして、すなわち一定のエリアごとに通常操業と詰まり解消作業とを切り替えることができる。また、通常操業ガス用配管232の一部が元管236に接続され、残りの通常操業ガス用配管232が別の元管に接続されてよい。図2に示す他の実施形態では、先述した中央領域T1内に位置する複数のガス流路125、各周囲領域T2〜T5内に位置する複数のガス流路125をそれぞれ、分岐部Bを有するガス供給管230を使用しひとまとまりとして塩素含有ガス供給等を制御している。
塩化炉200を一例として示すように、ガス供給管230を使用し複数のガス流路125をひとまりとして塩素含有ガス供給を制御している場合、メンテナンスの負荷を軽減する観点から、ガス流路125の数(A)に対するバルブV1の数(B)との割合(B/A)は、例えば0.9未満である。
一実施形態において、当該塩化炉100、200を使用する四塩化チタンの製造例を説明する。
四塩化チタンの製造において、通常操業時(ガス流路125の詰まりがない状態)、圧力測定部PG1の上流側に設けたバルブV2を閉め、且つ圧力測定部PG1の下流側に設けたバルブV3を開けた状態で、塩素含有ガスが通常操業ガス用配管132、232に直接接続されたガス流路125を介してチタン鉱石とコークスを含む流動層150に供給される。このとき、塩素含有ガスを通常操業ガス用配管132、232からガス流路125に供給するとともに詰まり解消ガス用配管134、234内の圧力を圧力測定部PG1で測定する。ガス流路125に詰まりが生じていなければ、その圧力値が低圧にて安定する。一方、塩素含有ガスの供給中、ガス流路125に詰まりが生じると、圧力測定部PG1で測定される詰まり解消ガス用配管134、234内の圧力値が上昇する。例えば圧力値が予め定めた基準値を超えた場合にガス流路125に詰まりが生じたと判断する。ガス流路125の詰まりが生じたら圧力値が上昇した詰まり解消ガス用配管134、234に接続された通常操業ガス用配管132、232のバルブV1を閉じて塩素含有ガスの供給を停止し、詰まり解消ガス用配管134、234のバルブV2を開放して、通常操業時における詰まり解消ガス用配管134、234内の圧力よりも高圧となるようにガス供給源からガスを供給する。ガス流路125の詰まりが解消されるまでは、圧力測定部PG1での詰まり解消ガス用配管134、234内の圧力値は高くなるが、ガス流路125の詰まりが解消されると圧力測定部での詰まり解消ガス用配管134、234内の圧力値は低下して安定する。そして、ガス流路125の詰まりが解消されたら、詰まり解消ガス用配管134、234のバルブV2を閉め、通常操業ガス用配管132、232のバルブV1を開けて、塩素含有ガスの供給源である元管136、236から再度塩素含有ガスがガス流路125を介して流動層150に供給される。
また、詰まり解消ガス用配管134、234からは、塩素、酸素、窒素、一酸化炭素及び二酸化炭素から選ばれる1以上を含むガスを供給することが好ましい。中でも、詰まりを解消する作業におけるコストや安全性の観点から、空気が好適に利用できる。なお、空気は窒素と酸素を主に含むものであり、上記ガスに包含されるものである。また、詰まり原因物質に酸化物が含まれると想定される場合、一酸化炭素を含むガス供給することで、前記酸化物の還元に基づく詰まり解消も期待できる。
1.2≦C/D・・・関係式(1)
C:通常操業時における詰まり解消ガス用配管内の圧力値よりも上昇している詰まり解消ガス用配管内の圧力値(MPa)
D:通常操業時における詰まり解消ガス用配管内の圧力値(MPa)
なお、一実施形態においては、下記数Iの流路長は、通常操業ガス用配管132、232の長手方向の長さを意味し、流路径は、通常操業ガス用配管132、232の内径を意味する。
また、下記数Iの塩素含有ガスの粘度μは、塩素含有ガスの温度あたりの粘度を意味する。塩素含有ガスの粘度μについては、例えば、簡便には、20℃の塩素含有ガスが塩素ガス95体積%、酸素ガス5体積%である場合、各ガスの粘度及び各ガスの割合から加重平均を使用して、(0.0132(20℃の塩素ガスの粘度)mPa・s×95+0.0203(20℃の酸素ガスの粘度)×5)÷100=0.135と求めることができる。各ガスの粘度については、化学便覧又は商用データベースで入手可能である。
実施例1においては、塩化炉本体と、底板及び断熱層からなる分散盤と、ウインドボックスと、流動層と、原料供給管と、四塩化チタンガス回収管とを備えた塩化炉を組み立てた。分散盤には、流動層に塩素ガスを送り込めるように計60個(塩化炉本体の中心軸から塩化炉本体の側壁に向かって複数列で配置され、その各列が略同心円状に配置されている。)のガス流路を等間隔に設けた。ウインドボックスを介して各ガス流路と各通常操業ガス用配管とを接続した。各通常操業ガス用配管を元管にそれぞれ接続した。すなわち、図1Bに示すように、1つのガス流路125に対し1つの通常操業ガス用配管132を接続し、元管には60本の通常操業ガス用配管を接続した。通常操業ガス用配管ごとに、詰まり解消ガス用配管を接続した。各通常操業ガス用配管に設けられたバルブは、通常操業ガス用配管と詰まり解消ガス用配管との合流部よりも上流側に設けられた。各詰まり解消ガス用配管は、図1Aに示すように、2つのバルブV2、V3を備え、さらに該バルブV2、V3間に設置した圧力測定部PG1を備えた。なお、図1Aに示すように分散盤120にはノズル126が配置され、そのノズル126を保護管128で被覆し、その保護管128のガス吹き出し口128aを流動層150内(すなわち断熱層124より上)に位置するように設けた。
比較例1においては、図3に示すように、塩化炉本体310と、底板322と断熱層324とからなる分散盤320と、塩素ガス用配管332を設けたウインドボックス340と、流動層350と、原料供給管360と、四塩化チタンガス回収管370とを備えた塩化炉300を組み立てた。なお、分散盤320のガス流路325にノズル326が配置され、そのノズル326を保護管328で被覆し、その保護管328にガス吹き出し口を流動層350内に位置するように設けた。
実施例1の塩化炉の操業においては、比較例1の塩化炉の操業と比べて、長期にわたって連続的かつ安定的に四塩化チタンを製造することができた。また、実施例1の塩化炉の操業中、塩化炉を解体しなかったので、メンテナンスに必要な時間が短縮されていることも確認した。したがって、実施例1においては、塩素含有ガスの供給中、ガス流路内の圧力を圧力測定部でそれぞれ測定し、該圧力に応じて前記ガス供給管からガス流路に送るガスの流量を変化させることが有用であるといえる。
110、310 塩化炉本体
111 側壁
120、320 分散盤
122、322 底板
123 オリフィス
124、324 断熱層
125、325 ガス流路
126、326 ノズル
128、328 保護管
128a、128b、128c ガス吹き出し口
130、230 ガス供給管
132、232 通常操業ガス用配管
134、234 詰まり解消ガス用配管
136、236 元管
140、340 ウインドボックス
150、350 流動層
160、360 原料供給管
170、370 四塩化チタンガス回収管
332 塩素ガス用配管
B 分岐部
J 合流部
PG1、PG2 圧力測定部
T1 中央領域
T2〜T5 周囲領域
V1、V2、V3 バルブ
Claims (8)
- 複数のガス流路が形成された分散盤を備える塩化炉を使用する四塩化チタンの製造方法であって、
ガス流路ごとに接続されたガス供給管を介して前記塩化炉内に塩素含有ガスを供給し、前記分散盤上でチタン鉱石と炭素と塩素ガスとを接触して四塩化チタンを生成する塩化工程を含み、
前記塩素含有ガスの供給中、前記ガス流路内の圧力を圧力測定部で測定し、該圧力に応じて前記ガス供給管からガス流路に送るガスの流量を変化させる、四塩化チタンの製造方法。 - 前記ガス供給管は、通常操業ガス用配管と、詰まり解消ガス用配管と、該通常操業ガス用配管と詰まり解消ガス用配管との合流部とを備える、請求項1に記載の四塩化チタンの製造方法。
- 前記詰まり解消ガス用配管からは、塩素、酸素、窒素、一酸化炭素及び二酸化炭素から選ばれる1以上を含むガスを供給する、請求項2に記載の四塩化チタンの製造方法。
- 複数のガス流路が形成された分散盤と、
ガス流路ごとに接続されたガス供給管と、
前記ガス流路内の圧力を測定可能な圧力測定部とを備える、塩化炉。 - 前記ガス供給管は、通常操業ガス用配管と、詰まり解消ガス用配管と、該通常操業ガス用配管と詰まり解消ガス用配管との合流部とを備える、請求項5に記載の塩化炉。
- 前記通常操業ガス用配管の前記合流部よりも上流側にバルブが設けられ、
前記詰まり解消ガス用配管に前記圧力測定部が設けられる、請求項6に記載の塩化炉。 - 前記詰まり解消ガス用配管に、塩素、酸素、窒素、一酸化炭素及び二酸化炭素から選ばれる1以上の供給源が接続される、請求項6又は7のいずれか一項に記載の塩化炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020093501A JP7428592B2 (ja) | 2020-05-28 | 2020-05-28 | 四塩化チタンの製造方法及び塩化炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020093501A JP7428592B2 (ja) | 2020-05-28 | 2020-05-28 | 四塩化チタンの製造方法及び塩化炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021187702A true JP2021187702A (ja) | 2021-12-13 |
JP7428592B2 JP7428592B2 (ja) | 2024-02-06 |
Family
ID=78848112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020093501A Active JP7428592B2 (ja) | 2020-05-28 | 2020-05-28 | 四塩化チタンの製造方法及び塩化炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7428592B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9656231B2 (en) | 2014-12-30 | 2017-05-23 | Bic Technologies Group, Llc | Continuous production of titanium tetrachloride from titanium-bearing slags |
CN108240884B (zh) | 2016-12-23 | 2020-04-17 | 中国石油化工股份有限公司 | 流化床反应器的进料分布器的压降监测系统和监测方法 |
-
2020
- 2020-05-28 JP JP2020093501A patent/JP7428592B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7428592B2 (ja) | 2024-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6835361B2 (en) | Processes and apparatus for reacting gaseous reactants containing solid particles | |
EP3126044B1 (en) | Process for supplying ammonia to an ammoxidation reactor with a sparger | |
JPS6045239B2 (ja) | 流動床装置およびその運転方法 | |
ES2277895T3 (es) | Aparato con elementos de seguridad para procedimientos industriales a elevadas temperaturas. | |
US6358483B1 (en) | Sparger for oxygen injection into a fluid bed reactor | |
JP2021187702A (ja) | 四塩化チタンの製造方法及び塩化炉 | |
US20200338514A1 (en) | Processes and apparatus for introducing a gas into a reactor | |
CN211384939U (zh) | 一种精细化工安全高效液体气化装置 | |
JP7200041B2 (ja) | 分散盤、塩化炉、及び金属塩化物の製造方法 | |
KR102453080B1 (ko) | 유동층 반응기의 공급 분배기를 위한 압력 강하 제어 시스템 및 압력 강하 제어 방법 | |
US11241666B2 (en) | Reactor and production method of trichlorosilane | |
EP2379973B1 (en) | Bustle pipe arrangement | |
CN115066394A (zh) | 用于生产光气的方法和反应器 | |
JP2023004676A (ja) | 四塩化チタンの製造方法 | |
CN208121049U (zh) | 激冷组件、下降管及包含激冷组件的气化系统 | |
JP6559025B2 (ja) | 触媒反応装置及び触媒反応方法 | |
CN219550507U (zh) | 锅炉炉膛测温组件 | |
CN211339267U (zh) | 一种玻璃窑炉喉管位置冷却装置 | |
CN201116305Y (zh) | 一种用于钢板控冷设备上的环形管路结构 | |
EP2384417B1 (en) | Shaft furnace with bustle pipe arrangement | |
TWI789458B (zh) | 流體化床式反應裝置及三氯矽烷的製造方法 | |
CN112646602A (zh) | 一种稳定连续重整装置还原段料位波动的方法 | |
Shargay et al. | Materials Selection for FCCU cyclones | |
JPS62220584A (ja) | 高圧スラリ−の減圧装置 | |
JP2017071852A (ja) | 底吹き羽口によるガス吹き込み方法および鋼の精錬方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240118 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240125 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7428592 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |