JP2021181800A - Fluid opening/closing device, gate valve device, and opening and closing method for fluid - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、流体開閉装置、ゲートバルブ装置及び流体の開閉方法に係り、特に、ゲートバルブの動作不良を防ぐことができる流体開閉装置、ゲートバルブ装置及び流体の開閉方法に関する。 The present invention relates to a fluid opening / closing device, a gate valve device, and a fluid opening / closing method, and more particularly to a fluid opening / closing device, a gate valve device, and a fluid opening / closing method capable of preventing malfunction of the gate valve.
通路内を弁板で開閉するようにしたゲートバルブがある。 There is a gate valve that opens and closes in the passage with a valve plate.
ところが、上記ゲートバルブを通路内で開閉すると、例えば、通路を流れる流体、例えば、粉体の場合、ゲートバルブの摺動部に粉体が付着し、動作不良を起こすという問題点が生じた。 However, when the gate valve is opened and closed in the passage, for example, in the case of a fluid flowing through the passage, for example, powder, the powder adheres to the sliding portion of the gate valve, causing a problem of malfunction.
本発明は、上記の問題点を考慮してなされたもので、ゲートバルブの動作不良を防ぐことができる流体開閉装置、ゲートバルブ装置及び流体の開閉方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and an object of the present invention is to provide a fluid opening / closing device, a gate valve device, and a method for opening / closing a fluid, which can prevent malfunction of a gate valve.
請求項1記載の流体開閉装置は、流体が通過する通路を開閉する流体開閉装置であって、前記通路の真空室入口側通路を開閉する第1の開閉弁と、この第1の開閉弁の開閉を制御する第1の開閉弁開閉制御手段と、前記第1の開閉弁より前記流体流れの下流に位置し、前記真空室入口側通路の開口部を第1の弁体でスライドして開閉するようにした第1のゲートバルブと、この第1のゲートバルブの開閉を制御する第1のゲートバルブ開閉制御手段と、前記第1のゲートバルブより前記流体流れの下流に位置した真空室と、この真空室の出口側の通路である真空室出口側通路を開閉する第2の開閉弁と、この第2開閉弁の開閉を制御する第2の開閉弁開閉制御手段と、前記第2の開閉弁より前記流体流れの下流に位置し、前記真空室出口側通路の開口部を第2の弁体でスライドして開閉するようにした第2のゲートバルブと、この第2のゲートバルブの開閉を制御する第2のゲートバルブ開閉制御手段と、前記真空室入口側通路を有する真空室入口側通路本体と、前記真空室出口側通路を有する真空室出口側通路本体とを備え、前記第1の弁体には、前記真空室入口側通路の開口部を塞ぐ第1の閉塞部と前記真空室入口側通路の開口部と同じ大きさの第1の弁体側開口部が設けられ、前記真空室入口側通路本体に前記第1の弁体の表面に対向するように入口側第1の環状のシール部材が、前記第1の弁体の裏面に対向するように入口側第2の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、前記入口側第2の環状のシール部材は第1の昇降手段により、上昇して前記第1の弁体の裏面に当接、前記第1の昇降手段により、下降して前記第1の弁体の裏面に非当接し、前記第1の昇降手段は、第1の昇降制御手段により昇降し、前記第1の昇降制御手段により前記第1の昇降手段を降下させて前記入口側第2の環状のシール部材を前記第1の弁体の裏面に非当接させ、前記第1のゲートバルブ開閉制御手段により前記第1の弁体が、前記入口側第1の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室入口側通路の開口部に前記第1の弁体側開口部が位置し、その後、前記第1の昇降制御手段により前記第1の昇降手段を上昇させて前記入口側第2の環状のシール部材を前記第1の弁体の裏面に当接させて前記真空室入口側通路を開とし、前記第1の昇降制御手段により前記第1の昇降手段を降下させて、前記入口側第2の環状のシール部材を前記第1の弁体の裏面に非当接させ、前記第1のゲートバルブ開閉制御手段により前記第1の弁体が、前記入口側第1の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室入口側通路の開口部に前記第1の閉塞部が位置し、その後、前記第1の昇降制御手段により前記第1の昇降手段を上昇させて前記入口側第2の環状のシール部材を前記第1の弁体の裏面に当接させて前記真空室入口側通路を閉とし、前記第2の弁体には、前記真空室出口側通路の開口部を塞ぐ第2の閉塞部と前記真空室出口側通路の開口部と同じ大きさの第2の弁体側開口部が設けられ、前記真空室出口側通路本体に前記第2の弁体の表面に対向するように出口側第1の環状のシール部材が、前記第2の弁体の裏面に対向するように出口側第2の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、前記出口側第2の環状のシール部材は第2の昇降手段により、上昇して前記第2の弁体の裏面に当接、前記第2の昇降手段により、下降して前記第2の弁体の裏面に非当接し、前記第2の昇降制御手段により前記第2の昇降手段を降下させて前記出口側第2の環状のシール部材を前記第2の弁体の裏面に非当接させ、前記第2のゲートバルブ開閉制御手段により前記第2の弁体が、前記出口側第2の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室出口側通路の開口部に前記第2の弁体側開口部が位置し、その後、前記第2の昇降制御手段により前記第2の昇降手段を上昇させて前記出口側第2の環状のシール部材を前記第2の弁体の裏面に当接させて前記真空室出口側通路を開とし、前記第2の昇降制御手段により前記第2の昇降手段を降下させて、前記出口側第2の環状のシール部材を前記第2の弁体の裏面に非当接させ、前記第2のゲートバルブ開閉制御手段により前記第2の弁体が、前記出口側第2の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室出口側通路の開口部に前記第2の閉塞部が位置し、その後、前記第2の昇降制御手段により前記第2の昇降手段を上昇させて前記出口側第2の環状のシール部材を前記第2の弁体の裏面に当接させて前記真空室出口側通路を閉とするものである。
The fluid switching device according to
また、請求項2記載の流体の開閉方法は、請求項1の流体開閉装置の通路を開閉する流体の開閉方法であって、前記真空室出口側通路を前記第2の開閉弁及び前記第2のゲートバルブにより閉、前記真空室入口側通路を前記第1の開閉弁及び前記第1のゲートバルブにより閉とした状態で、前記真空室入口側通路に流体を導き、前記第1のゲートバルブを開、その後、前記第1の開閉弁を開として、前記真空室に前記流体を導き、その後、前記第1の開閉弁を閉、その後、前記第1のゲートバルブを閉として、前記真空室内で前記流体を生成処理し、生成処理後、前記第2のゲートバルブを開、その後、前記第2の開閉弁を開として、前記真空室出口側通路の開により前記真空室から前記流体を排出するものである。
The method for opening and closing the fluid according to
また、請求項3記載のゲートバルブ装置は、流体が通過する通路を開閉するゲートバルブ装置であって、前記通路の開口部を弁体でスライドして開閉するようにしたゲートバルブと、このゲートバルブの開閉を制御するゲートバルブ開閉制御手段と、前記通路を有する通路本体とを備え、前記弁体には、前記通路の開口部を塞ぐ閉塞部と前記通路の開口部と同じ大きさの弁体側開口部が設けられ、前記通路本体に前記弁体の表面に対向するように第1の環状のシール部材が、前記弁体の裏面に対向するように第2の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、前記第2の環状のシール部材は昇降手段により、上昇して前記弁体の裏面に当接、前記昇降手段により、下降して前記弁体の裏面に非当接し、前記昇降手段は、昇降制御手段により昇降し、前記昇降制御手段により前記昇降手段を降下させて前記第2の環状のシール部材を前記弁体の裏面に非当接させ、前記ゲートバルブ開閉制御手段により前記弁体が、前記第1の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記通路の開口部に前記弁体側開口部が位置し、その後、前記昇降制御手段により前記昇降手段を上昇させて前記第2の環状のシール部材を前記弁体の裏面に当接させて前記通路を開とし、前記昇降制御手段により前記昇降手段を降下させて、前記2の環状のシール部材を前記弁体の裏面に非当接させ、前記ゲートバルブ開閉制御手段により前記弁体が、前記第1の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記通路の開口部に前記閉塞部が位置し、その後、前記昇降制御手段により前記昇降手段を上昇させて前記第2の環状のシール部材を前記弁体の裏面に当接させて前記通路を開となるものである。
The gate valve device according to
請求項1記載の流体開閉装置によれば、第1のゲートバルブ開閉制御手段により第1の弁体が、入口側第1の環状のシール部材に当接してスライドするため、真空室入口側通路内の流体が第1の弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第1の弁体の作動不良を防ぐことができ、また、第2のゲートバルブ開閉制御手段により第2の弁体が、出口側第1の環状のシール部材に当接してスライドするため、真空室出口側通路内の流体が第2の弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第2の弁体の作動不良を防ぐことができ、しかも、真空室入口側通路の開及び閉においては、第1の弁体の表裏は、入口側第1の環状のシール部材、入口側第2の環状のシール部材により、真空室出口側通路の開及び閉においては、第2の弁体の表裏は、出口側第1の環状のシール部材、出口側第2の環状のシール部材により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。
According to the fluid opening / closing device according to
また、請求項2記載の流体の開閉方法によれば、第1の弁体の表裏を入口側第1の環状のシール部材、入口側第2の環状のシール部材に、第2の弁体の表裏を出口側第2の環状のシール部材、出口側第2の環状のシール部材に、それぞれ当接して、真空室の真空状態を保持するのみならず、第1の弁体の表面は入口側第1の環状のシール部材に当接しながら移動するため、真空室入口側通路内の流体が第1の弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第1の弁体の作動不良を防ぐことができ、また、第2の弁体の表面は出口側第1の環状のシール部材に当接しながら移動するため、真空室出口側通路内の流体が第2の弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第2の弁体の作動不良を防ぐことができる。
Further, according to the method for opening and closing the fluid according to
また、請求項3記載のゲートバルブ装置によれば、ゲートバルブ開閉制御手段により弁体が、第1のシール環状の部材に当接してスライドするため、通路内の流体が弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う弁体の作動不良を防ぐことができる。しかも、通路の開及び閉においては、弁体の表裏は、第1の環状のシール部材、第2の環状のシール部材により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。
Further, according to the gate valve device according to
本発明の一実施例の流体開閉装置、ゲートバルブ装置及び流体の開閉方法を図面(図1乃至図13)を参照して説明する。
図1に示す1は流体開閉装置で、流体開閉装置1は、流体X(例えば、粒子、粉等)が通過する通路2を開閉するものである。
A fluid switching device, a gate valve device, and a fluid opening / closing method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings (FIGS. 1 to 13).
1 shown in FIG. 1 is a fluid switchgear, and the
3は、通路2の真空室入口側通路21を開閉する第1の開閉弁で、第1の開閉弁3は、例えば、バタフライ弁である。この第1の開閉弁3の開閉は、第1の開閉弁開閉制御手段4により制御されるようになっている。210は、真空室入口側通路21を有する真空室入口側通路本体である。
第1の開閉弁開閉制御手段4は、例えば、第1の開閉弁3を真空室入口側通路21内に進退させる手段(例えば、第1の開閉弁3をシリンダーのロッドに機構的に接続して、ロッドを前進させて第1の開閉弁3で真空室入口側通路21を塞ぎ、ロッドを後退させて真空室入口側通路21内の第1の開閉弁3を開く)でも良く、
また、第1の開閉弁開閉制御手段4は、例えば、第1の開閉弁3を真空室入口側通路21内で回動させる手段(例えば、第1の開閉弁3に軸を設け、この軸を回動して、時計回りに回動させて第1の開閉弁3で真空室入口側通路21を塞ぎ、第1の開閉弁3に設けた軸を反時計回りに回動させて真空室入口側通路21内の第1の開閉弁3を開く)でも良く、また、第1の開閉弁開閉制御手段4は、例えば、特開2016−114223に開示されたもの、つまり、第1の開閉弁3に取り付けられた弁棒(図示せず)の軸を回動するもので、エアシリンダー(図示せず)で動くラック(図示せず)に弁棒(図示せず)に取り付けられた平歯車(図示せず)を噛み合わせて行うようにしても良い。
The first on-off valve opening / closing control means 4 is, for example, a means for advancing / retreating the first on-off
Further, the first on-off valve opening / closing control means 4 is, for example, a means for rotating the first on-off
5は、第1の開閉弁3より流体流れの下流に位置し、真空室入口側通路21の開口部を第1の弁体51でスライドして開閉するようにした第1のゲートバルブである。
第1の弁体51には、真空室入口側通路21の開口部を塞ぐ第1の閉塞部51Aと真空室入口側通路21の開口部と同じ大きさの第1の弁体側開口部51Bが設けられている。
また、真空室入口側通路本体210に第1の弁体51の表面51Cに対向するように入口側第1の環状のシール部材S1が、第1の弁体51の裏面51Dに対向するように入口側第2の環状のシール部材S2が、それぞれ設けられている。
7は、第1のゲートバルブ5の開閉を制御する第1のゲートバルブ開閉制御手段で、
第1のゲートバルブ開閉制御手段7は、例えば、第1のゲートバルブ5の第1の弁体51を真空室入口側通路21内に進退させる手段(例えば、エアシリンダー50のロッドに接続された第1の弁体51を前進させて、真空室入口側通路21の開口部を閉じ、逆に、エアシリンダー50のロッドに接続された第1のゲートバルブ5の第1の弁体51を後退させて、真空室入口側通路21の開口部を開としている。
The first valve body 51 includes a
Further, the first annular seal member S1 on the inlet side faces the
The first gate valve opening / closing control means 7 is connected to, for example, a means for advancing / retreating the first valve body 51 of the
また、入口側第2の環状のシール部材S1は第1の昇降手段100により、上昇して第1の弁体51の裏面に当接、第1の昇降手段100により、下降して第1の弁体51の裏面に非当接する。第1の昇降手段100は、第1の昇降制御手段200により昇降するようになっている[図6(a)(b)、図7(a)(b)(c)(d)参照]。
第1の昇降制御手段200により第1の昇降手段100を降下させて入口側第2の環状のシール部材S2を第1の弁体51の裏面に非当接させ[図7(a)から図7(b)の状態]、第1のゲートバルブ開閉制御手段7により第1の弁体51が、入口側第1の環状のシール部材S1に当接してスライドさせ、真空室入口側通路21の開口部に第1の弁体側開口部51Bが位置し[図7(c)参照]、その後、第1の昇降制御手段200により第1の昇降手段100を上昇させて入口側第2の環状のシール部材S2を第1の弁体51の裏面に当接させて真空室入口側通路21を開とし[図7(d)参照]、
第1の昇降制御手段200により第1の昇降手段100を降下させて[図7(d)の矢印と逆方向]、入口側第2の環状のシール部材S2を第1の弁体51の裏面に非当接させ[図7(c)の状態]、第1のゲートバルブ開閉制御手段7により第1の弁体51が、入口側第1の環状のシール部材S1に当接してスライドさせ、真空室入口側通路21の開口部に第1の閉塞部51Aが位置し[図7(c)の矢印と逆方向から図7(b)の状態]、その後、第1の昇降制御手段200により第1の昇降手段100を上昇させて入口側第2の環状のシール部材S2を第1の弁体51の裏面に当接させて真空室入口側通路21を閉とする[図7(a)参照]。
Further, the second annular seal member S1 on the inlet side is raised by the first elevating
The first elevating
The first elevating
従って、第1の開閉弁3が閉状態で、第1のゲートバルブ開閉制御手段7により第1の弁体51が、入口側第1の環状のシール部材S1に当接してスライドし、真空室入口側通路21の開口部に第1の閉塞部51Aが位置した時、真空室入口側通路21が閉、真空室入口側通路21の開口部に第1の弁体側開口部51Bが位置した時、真空室入口側通路通路21が開となる。しかも、真空室入口側通路21の開及び閉においては、第1の弁体51の表裏は、入口側第1の環状のシール部材S1、入口側第2の環状のシール部材S2により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。
Therefore, in the closed state of the first on-off
8は、第1のゲートバルブ5より前記流体流れの下流に位置した大気圧より低い圧力に保持される真空室(減圧室)である。220は、真空室出口側通路22を有する真空室出口側通路本体である。
3’は、真空室8の出口側の通路である真空室出口側通路22を開閉する第2の開閉弁で、第2の開閉弁3’は、上述した第1の開閉弁3と同様なもので、第2の開閉弁3’は、例えば、バタフライ弁である。
4’は、第2の開閉弁3’の開閉を制御する第2の開閉弁開閉制御手段で、第2の開閉弁開閉制御手段4’は、上述した第1の開閉弁開閉制御手段4と同様なもので、第2の開閉弁開閉制御手段4’は、例えば、第2の開閉弁3’を真空室出口側通路22内で回動させる手段(例えば、第2の開閉弁3’に軸を設け、この軸を回動して、時計回りに回動させて第2の開閉弁3’で真空室入口側通路22を塞ぎ、第2の開閉弁3’に設けた軸を反時計回りに回動させて真空室出口側通路22内の第2の開閉弁3’を開く)でも良く、また、第2の開閉弁開閉制御手段4’は、例えば、特開2016−114223に開示されたもの、つまり、第2の開閉弁3’に取り付けられた弁棒(図示せず)の軸を回動するもので、エアシリンダー(図示せず)で動くラック(図示せず)に弁棒(図示せず)に取り付けられた平歯車(図示せず)を噛み合わせて行うようにしても良い。
Reference numeral 3'is a second on-off valve for opening and closing the vacuum chamber outlet-
Reference numeral 4'is a second on-off valve opening / closing control means for controlling the opening / closing of the second on-off valve 3', and the second on-off valve opening / closing control means 4'is the above-mentioned first on-off valve on-off control means 4 and Similarly, the second on-off valve opening / closing control means 4'is, for example, a means for rotating the second on-off valve 3'in the vacuum chamber outlet side passage 22 (for example, the second on-off valve 3'. A shaft is provided, and this shaft is rotated and rotated clockwise to block the vacuum chamber
5’は、第2の開閉弁3’より前記流体流れの下流に位置し、真空室出口側通路22の開口部を第2の弁体51’でスライドして開閉するようにした第2のゲートバルブで、第2のゲートバルブ5’は、上述した第1のゲートバルブ5と同様なものである。
第2の弁体51’には、第1の弁体51と同様、真空室出口側通路22の開口部を塞ぐ第2の閉塞部51A’と真空室出口側通路22の開口部と同じ大きさの第2の弁体側開口部51B’が設けられている。
また、真空室出口側通路本体220に第2の弁体51’の表面51C’に対向するように出口側第1の環状のシール部材S1’が、第2の弁体51’の裏面51D’に対向するように出口側第2の環状のシール部材S2’が、それぞれ設けられている。
The second on-off valve 3'is located downstream of the fluid flow from the second on-off valve 3', and the opening of the vacuum chamber
Like the first valve body 51, the second valve body 51'has the same size as the second closed portion 51A'that closes the opening of the vacuum chamber
Further, the first annular seal member S1'on the outlet side so as to face the surface 51C'of the second valve body 51'to the vacuum chamber outlet side passage
また、出口側第2の環状のシール部材S2’は第2の昇降手段100’により、上昇して第2の弁体51’の裏面に当接、第2の昇降手段100’により、下降して第2の弁体51’の裏面に非当接する。第2の昇降手段100’は、第2の昇降制御手段200’により昇降するようになっている[図6(a)(b)、図7(a)(b)(c)(d)参照]。
第2の昇降制御手段200’により第2の昇降手段100’を降下させて出口側第2の環状のシール部材S2’を第2の弁体51’の裏面に非当接させ[図7(a)から図(b)の状態]、第2のゲートバルブ開閉制御手段7’により第2の弁体51’が、出口側第1の環状のシール部材S1’に当接してスライドさせ、真空室出口側通路22の開口部に第2の弁体側開口部51B’が位置し[図7(c)参照]、その後、第2の昇降制御手段200’により第2の昇降手段100’を上昇させて出口側第2の環状のシール部材S2’を第2の弁体51’の裏面に当接させて真空室出口側通路22を開とし[図7(d)参照]、
第2の昇降制御手段200’により第2の昇降手段100’を降下させて[図7(d)の矢印と逆方向]、出口側第2の環状のシール部材S2’を第2の弁体51’の裏面に非当接させ[図7(c)の状態]、第2のゲートバルブ開閉制御手段7’により第2の弁体51’が、出口側第1の環状のシール部材S1’に当接してスライドさせ、真空室出口側通路22の開口部に第2の閉塞部51A’が位置し[図7(c)の矢印と逆方向から図7(b)の状態]、その後、第2の昇降制御手段200’により第2の昇降手段100’を上昇させて出口側第2の環状のシール部材S2’を第2の弁体51’の裏面に当接させて真空室出口側通路22を閉とする[図7(a)参照]。
Further, the second annular seal member S2'on the outlet side rises by the second elevating means 100'and comes into contact with the back surface of the second valve body 51', and descends by the second elevating means 100'. The second valve body 51'is not in contact with the back surface. The second elevating means 100'is moved up and down by the second elevating control means 200' [see FIGS. 6 (a) (b) and 7 (a) (b) (c) (d). ].
The second elevating means 100'is lowered by the second elevating control means 200'to bring the second annular seal member S2'on the outlet side out of contact with the back surface of the second valve body 51'[FIG. 7 (Fig. 7). From a) to the state of FIG. (B)], the second valve body 51'is abutted against the first annular seal member S1'on the outlet side and slid by the second gate valve opening / closing control means 7'to create a vacuum. The second valve body side opening 51B'is located at the opening of the chamber exit side passage 22 [see FIG. 7 (c)], and then the second elevating means 100'is raised by the second elevating control means 200'. The second annular seal member S2'on the outlet side is brought into contact with the back surface of the second valve body 51'to open the vacuum chamber outlet side passage 22 [see FIG. 7 (d)].
The second elevating means 100'is lowered by the second elevating control means 200'[in the direction opposite to the arrow in FIG. 7 (d)], and the outlet side second annular seal member S2'is used as the second valve body. The second valve body 51'is brought into contact with the back surface of the 51' [state of FIG. 7 (c)] by the second gate valve opening / closing control means 7', and the second valve body 51'is placed on the outlet side first annular seal member S1'. The second closed portion 51A'is located at the opening of the vacuum chamber outlet side passage 22 [state of FIG. 7 (b) from the direction opposite to the arrow of FIG. 7 (c)], and then slides. The second elevating means 100'is raised by the second elevating control means 200'to bring the second annular seal member S2'on the outlet side into contact with the back surface of the second valve body 51', and the vacuum chamber outlet side. The
従って、第2の開閉弁3’が閉状態で、第2のゲートバルブ開閉制御手段7’により第2の弁体51’が、出口側第1の環状のシール部材S1’に当接してスライドし、真空室出口側通路22の開口部に第2の閉塞部51A’が位置した時、真空室出口側通路22が閉、真空室出口側通路22の開口部に第2の弁体側開口部51B’が位置した時、真空室出口側通路通路22が開となる。しかも、真空室出口側通路22の開及び閉においては、第2の弁体51’の表裏は、出口側第1の環状のシール部材S1’、出口側第2の環状のシール部材S2’により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。
Therefore, with the second on-off valve 3'closed, the second valve body 51' comes into contact with the outlet-side first annular seal member S1'and slides by the second gate valve open / close control means 7'. Then, when the second closed portion 51A'is located in the opening of the vacuum chamber
上述した流体開閉装置1によれば、第1のゲートバルブ開閉制御手段4により第1の弁体51が、入口側第1の環状のシール部材S1に当接してスライドするため、真空室入口側通路21内の流体が第1の弁体51の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第1の弁体51の作動不良を防ぐことができ、また、第2のゲートバルブ開閉制御手段4’により第2の弁体51’が、出口側第1の環状のシール部材S1’に当接してスライドするため、真空室出口側通路22内の流体が第2の弁体51’の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第2の弁体51’の作動不良を防ぐことができ、しかも、真空室入口側通路21の開及び閉においては、第1の弁体51の表裏は、入口側第1の環状のシール部材S1、入口側第1の環状のシール部材S2により、真空室出口側通路22の開及び閉においては、第2の弁体51’の表裏は、出口側第1の環状のシール部材S1’、出口側第1の環状のシール部材S2’により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。
According to the above-mentioned fluid opening /
次に、上述した流体開閉装置1を使用した流体の開閉方法について、図8乃至図13を参照して説明する。
真空室出口側通路22を第2の開閉弁3’及び第2のゲートバルブ5’により閉、真空室入口側通路21を第1の開閉弁3及び第1のゲートバルブ5により閉とした状態で[図8(a)]、第1のゲートバルブ5を開とする[図8(b)]。
次に、第1の開閉弁3を開とし[図9(a)]、真空室8内に流体Xを導く [図9(b)]。
その後、第1の開閉弁3を閉[図10(a)]、その後、第1のゲートバルブ5を閉として、真空室8内に流体Xを閉じ込める[図10(b)]。
そして、真空室8内で流体Xを生成処理し[図11(a)]、生成処理後、第2のゲートバルブ5’を開とする[図11(b)]。
その後、第2の開閉弁3’を開として[図12(a)]、真空室8から流体Xを排出する[図12(b)]。
そして、次に処理される流体Xを受け入れるために第2の開閉弁3’を閉として[図13(a)参照]、その後、第2のゲートバルブ5’を閉とする[図13(b)参照]。
Next, a method of opening and closing the fluid using the above-mentioned
The vacuum chamber
Next, the first on-off
After that, the first on-off
Then, the fluid X is generated in the vacuum chamber 8 [FIG. 11 (a)], and after the generation process, the second gate valve 5'is opened [FIG. 11 (b)].
After that, the second on-off valve 3'is opened [FIG. 12 (a)], and the fluid X is discharged from the vacuum chamber 8 [FIG. 12 (b)].
Then, in order to receive the fluid X to be processed next, the second on-off valve 3'is closed [see FIG. 13 (a)], and then the second gate valve 5'is closed [FIG. 13 (b). )reference].
次に、上述した流体の開閉方法によれば、第1の弁体51の表面を入口側第1の環状のシール部材S1、第1の弁体51の裏面を入口側第2の環状のシール部材S2に当接して、また、第2の弁体51’の表面を出口側第1の環状のシール部材S1’、第2の弁体51’の裏面を出口側第2の環状のシール部材S2’に当接して、真空室8の真空状態を保持するのみならず、第1の弁体51の表面は入口側第1の環状のシール部材S1に当接しながら移動するため、真空室入口側通路21内の流体が第1の弁体51の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第1の弁体51の作動不良を防ぐことができ、また、第2の弁体51’の表面は出口側第1の環状のシール部材S1’に当接しながら移動するため、真空室出口側通路22内の流体が第2の弁体51’の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第2の弁体51’の作動不良を防ぐことができる。
Next, according to the above-described fluid opening / closing method, the front surface of the first valve body 51 is the inlet-side first annular seal member S1, and the back surface of the first valve body 51 is the inlet-side second annular seal. In contact with the member S2, the front surface of the second valve body 51'is the outlet side first annular seal member S1', and the back surface of the second valve body 51'is the outlet side second annular seal member. Not only does it abut on S2'to maintain the vacuum state of the
上述した実施例においては、真空室入口側通路21を第1のゲートバルブ5により開閉、真空室出口側通路22を第2のゲートバルブ5’により開閉するようにしたが、本願発明にあっては、これに限らず、一般的な通路にも同様に適用することができる。
In the above-described embodiment, the vacuum chamber
この場合、流体が通過する通路2(21又は22)を開閉するゲートバルブ装置は、通路2(21又は22)の開口部を弁体(51又は51’)でスライドして開閉するようにしたゲートバルブ(5又は5’)と、このゲートバルブ(5又は5’)の開閉を制御するゲートバルブ開閉制御手段(7又は7’)と、通路2(21又は22)を有する通路本体(210又は220)とを備え、弁体(51又は51’)には、通路2(21又は22)の開口部を塞ぐ閉塞部(51A又は51A’)と通路2(21又は22)の開口部と同じ大きさの弁体側開口部(51B又は51B’)が設けられ、通路本体(210又は220)に弁体(51又は51’)の表面に対向するように第1の環状のシール部材(S1又はS1’)が、弁体(51又は51’)の裏面に対向するように第2の環状のシール部材(S2又はS2’)が、それぞれ設けられ、第2の環状のシール部材(S2又はS2’)は昇降手段(100又は100’)により、上昇して弁体(51又は51’)の裏面に当接、昇降手段(100又は100’)により、下降して弁体(51又は51’)の裏面に非当接し、昇降手段(100又は100’)は、昇降制御手段(200又は200’)により昇降し、昇降制御手段(200又は200’)により昇降手段(100又は100’)を降下させて第2の環状のシール部材(S2又はS2’)を弁体(51又は51’)の裏面に非当接させ、ゲートバルブ開閉制御手段(7、7’)により弁体(51、51’)が、第1の環状のシール部材(S1又はS1’)に当接してスライドさせ、通路2(21又は22)の開口部に弁体側開口部(51B又は51B’)が位置し、その後、昇降制御手段(200又は200’)により昇降手段(100又は100’)を上昇させて第2の環状のシール部材(S2又はS2’)を弁体(51又は51’)の裏面に当接させて通路2(21又は22)を開とし、昇降制御手段(200又は200’)により昇降手段(100又は100’)を降下させて、第2の環状のシール部材(S2又はS2’)を弁体(51又は51’)の裏面に非当接させ、ゲートバルブ開閉制御手段(7又は7’)により弁体(51又は51’)が、第1の環状のシール部材(S1又はS1’)に当接してスライドさせ、通路2(21又は22)の開口部に閉塞部(51A又は51A’)が位置し、その後、昇降制御手段(200又は200’)により昇降手段(100又は100’)を上昇させて第2の環状のシール部材(S2又はS2’)を弁体(51又は51’)の裏面に当接させて通路2(21又は22)を開となるものである。 In this case, the gate valve device that opens and closes the passage 2 (21 or 22) through which the fluid passes slides the opening of the passage 2 (21 or 22) with the valve body (51 or 51') to open and close. A passage body (210) having a gate valve (5 or 5'), a gate valve opening / closing control means (7 or 7') for controlling the opening / closing of the gate valve (5 or 5'), and a passage 2 (21 or 22). Or 220), and the valve body (51 or 51') has a closed portion (51A or 51A') that closes the opening of the passage 2 (21 or 22) and an opening of the passage 2 (21 or 22). A valve body side opening (51B or 51B') of the same size is provided, and a first annular sealing member (S1) is provided in the passage body (210 or 220) so as to face the surface of the valve body (51 or 51'). Alternatively, a second annular sealing member (S2 or S2') is provided so that the S1') faces the back surface of the valve body (51 or 51'), respectively, and the second annular sealing member (S2 or S2') is provided. S2') rises by the elevating means (100 or 100') and comes into contact with the back surface of the valve body (51 or 51'), and descends by the elevating means (100 or 100') to the valve body (51 or 51'). The elevating means (100 or 100') is lifted and lowered by the elevating control means (200 or 200'), and the elevating means (100 or 100') is lifted and lowered by the elevating control means (200 or 200'). The second annular seal member (S2 or S2') is brought into non-contact with the back surface of the valve body (51 or 51'), and the valve body (51') is used by the gate valve opening / closing control means (7, 7'). , 51') abuts on the first annular seal member (S1 or S1') and slides, and the valve body side opening (51B or 51B') is located at the opening of the passage 2 (21 or 22). After that, the elevating means (100 or 100') is raised by the elevating control means (200 or 200'), and the second annular sealing member (S2 or S2') is placed on the back surface of the valve body (51 or 51'). The abutment is made to open the passage 2 (21 or 22), and the elevating means (100 or 100') is lowered by the elevating control means (200 or 200') to lower the second annular sealing member (S2 or S2'). ) Is not brought into contact with the back surface of the valve body (51 or 51'), and the valve body (51 or 51') is subjected to the first annular sealing member (S1 or) by the gate valve opening / closing control means (7 or 7'). The closed portion (51A or 51A') is located at the opening of the passage 2 (21 or 22) by abutting on S1') and sliding. After that, the elevating means (100 or 100') is raised by the elevating control means (200 or 200'), and the second annular sealing member (S2 or S2') is applied to the back surface of the valve body (51 or 51'). The passage 2 (21 or 22) is opened in contact with each other.
上述したゲートバルブ装置によれば、ゲートバルブ開閉制御手段(7又は7’)により弁体(51又は51’)が、第1のシール環状の部材(S1又はS1’)に当接してスライドするため、通路2(21又は22)内の流体が弁体(51又は51’)の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う弁体(51又は51’)の作動不良を防ぐことができる。しかも、通路2(21又は22)の開及び閉においては、弁体(51又は51’)の表裏は、第1の環状のシール部材(S1又はS1’)、第2の環状のシール部材(S2又はS2’)により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。 According to the gate valve device described above, the valve body (51 or 51') slides in contact with the first seal annular member (S1 or S1') by the gate valve opening / closing control means (7 or 7'). Therefore, the fluid in the passage 2 (21 or 22) can prevent the valve body (51 or 51') from entering the operating portion, and the valve body (51 or 51') accompanying the invasion of the fluid into the operating portion. ) Can be prevented from malfunctioning. Moreover, when the passage 2 (21 or 22) is opened and closed, the front and back surfaces of the valve body (51 or 51') are a first annular seal member (S1 or S1') and a second annular seal member (S1 or S1'). Since each is sealed by S2 or S2'), airtightness can be maintained.
1 流体開閉装置
2 通路
21 真空室入口側通路
22 真空室出口側通路
3 第1の開閉弁
3’ 第2の開閉弁
4 第1のゲートバルブ開閉制御手段
4’ 第2のゲートバルブ開閉制御手段
5 第1のゲートバルブ
5’ 第2のゲートバルブ
8 真空室
51 第1の弁体
51’ 第2の弁体
51A 第1の閉塞部
51A’第2の閉塞部
51B 第1の弁体側開口部
51B’第2の弁体側開口部
S1 入口側第1の環状のシール部材
S1’ 出口側第1の環状のシール部材
S2 入口側第2の環状のシール部材
S2’ 出口側第2の環状のシール部材
1 Fluid opening /
Claims (3)
前記通路の真空室入口側通路を開閉する第1の開閉弁と、
この第1の開閉弁の開閉を制御する第1の開閉弁開閉制御手段と、
前記第1の開閉弁より前記流体流れの下流に位置し、前記真空室入口側通路の開口部を第1の弁体でスライドして開閉するようにした第1のゲートバルブと、
この第1のゲートバルブの開閉を制御する第1のゲートバルブ開閉制御手段と、
前記第1のゲートバルブより前記流体流れの下流に位置した真空室と、
この真空室の出口側の通路である真空室出口側通路を開閉する第2の開閉弁と、
この第2開閉弁の開閉を制御する第2の開閉弁開閉制御手段と、
前記第2の開閉弁より前記流体流れの下流に位置し、前記真空室出口側通路の開口部を第2の弁体でスライドして開閉するようにした第2のゲートバルブと、
この第2のゲートバルブの開閉を制御する第2のゲートバルブ開閉制御手段と、
前記真空室入口側通路を有する真空室入口側通路本体と、
前記真空室出口側通路を有する真空室出口側通路本体とを備え、
前記第1の弁体には、前記真空室入口側通路の開口部を塞ぐ第1の閉塞部と前記真空室入口側通路の開口部と同じ大きさの第1の弁体側開口部が設けられ、
前記真空室入口側通路本体に前記第1の弁体の表面に対向するように入口側第1の環状のシール部材が、前記第1の弁体の裏面に対向するように入口側第2の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、
前記入口側第2の環状のシール部材は第1の昇降手段により、上昇して前記第1の弁体の裏面に当接、前記第1の昇降手段により、下降して前記第1の弁体の裏面に非当接し、
前記第1の昇降手段は、第1の昇降制御手段により昇降し、
前記第1の昇降制御手段により前記第1の昇降手段を降下させて前記入口側第2の環状のシール部材を前記第1の弁体の裏面に非当接させ、前記第1のゲートバルブ開閉制御手段により前記第1の弁体が、前記入口側第1の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室入口側通路の開口部に前記第1の弁体側開口部が位置し、その後、前記第1の昇降制御手段により前記第1の昇降手段を上昇させて前記入口側第2の環状のシール部材を前記第1の弁体の裏面に当接させて前記真空室入口側通路を開とし、
前記第1の昇降制御手段により前記第1の昇降手段を降下させて、前記入口側第2の環状のシール部材を前記第1の弁体の裏面に非当接させ、前記第1のゲートバルブ開閉制御手段により前記第1の弁体が、前記入口側第1の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室入口側通路の開口部に前記第1の閉塞部が位置し、その後、前記第1の昇降制御手段により前記第1の昇降手段を上昇させて前記入口側第2の環状のシール部材を前記第1の弁体の裏面に当接させて前記真空室入口側通路を閉とし、
前記第2の弁体には、前記真空室出口側通路の開口部を塞ぐ第2の閉塞部と前記真空室出口側通路の開口部と同じ大きさの第2の弁体側開口部が設けられ、
前記真空室出口側通路本体に前記第2の弁体の表面に対向するように出口側第1の環状のシール部材が、前記第2の弁体の裏面に対向するように出口側第2の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、
前記出口側第2の環状のシール部材は第2の昇降手段により、上昇して前記第2の弁体の裏面に当接、前記第2の昇降手段により、下降して前記第2の弁体の裏面に非当接し、
前記第2の昇降制御手段により前記第2の昇降手段を降下させて前記出口側第2の環状のシール部材を前記第2の弁体の裏面に非当接させ、前記第2のゲートバルブ開閉制御手段により前記第2の弁体が、前記出口側第2の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室出口側通路の開口部に前記第2の弁体側開口部が位置し、その後、前記第2の昇降制御手段により前記第2の昇降手段を上昇させて前記出口側第2の環状のシール部材を前記第2の弁体の裏面に当接させて前記真空室出口側通路を開とし、
前記第2の昇降制御手段により前記第2の昇降手段を降下させて、前記出口側第2の環状のシール部材を前記第2の弁体の裏面に非当接させ、前記第2のゲートバルブ開閉制御手段により前記第2の弁体が、前記出口側第2の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室出口側通路の開口部に前記第2の閉塞部が位置し、その後、前記第2の昇降制御手段により前記第2の昇降手段を上昇させて前記出口側第2の環状のシール部材を前記第2の弁体の裏面に当接させて前記真空室出口側通路を閉とする
ことを特徴とする流体開閉装置。 A fluid switchgear that opens and closes the passage through which fluid passes.
A first on-off valve that opens and closes the vacuum chamber entrance side passage of the passage,
A first on-off valve opening / closing control means for controlling the opening / closing of the first on-off valve,
A first gate valve located downstream of the fluid flow from the first on-off valve and sliding the opening of the vacuum chamber inlet-side passage with the first valve body to open and close.
A first gate valve opening / closing control means for controlling the opening / closing of the first gate valve,
A vacuum chamber located downstream of the fluid flow from the first gate valve,
A second on-off valve that opens and closes the vacuum chamber outlet-side passage, which is the vacuum chamber outlet-side passage, and
A second on-off valve opening / closing control means for controlling the opening / closing of the second on-off valve,
A second gate valve located downstream of the fluid flow from the second on-off valve and sliding the opening of the vacuum chamber outlet side passage with the second valve body to open and close.
A second gate valve opening / closing control means for controlling the opening / closing of the second gate valve,
The vacuum chamber entrance side passage main body having the vacuum chamber entrance side passage,
The vacuum chamber outlet side passage main body having the vacuum chamber outlet side passage is provided.
The first valve body is provided with a first closing portion that closes the opening of the vacuum chamber inlet side passage and a first valve body side opening having the same size as the opening of the vacuum chamber inlet side passage. ,
The first annular seal member on the inlet side faces the front surface of the first valve body on the vacuum chamber inlet side passage body, and the second ring member on the inlet side faces the back surface of the first valve body. An annular sealing member is provided, respectively.
The second annular seal member on the inlet side rises by the first elevating means and comes into contact with the back surface of the first valve body, and descends by the first elevating means to the first valve body. Non-contact with the back side of
The first elevating means is moved up and down by the first elevating control means.
The first elevating means is lowered by the first elevating control means so that the second annular seal member on the inlet side is not brought into contact with the back surface of the first valve body, and the first gate valve is opened and closed. The first valve body is brought into contact with the first annular seal member on the inlet side and slid by the control means, and the first valve body side opening is located at the opening of the vacuum chamber inlet side passage. After that, the first elevating means is raised by the first elevating control means to bring the inlet-side second annular seal member into contact with the back surface of the first valve body, and the vacuum chamber inlet-side passage. Open and
The first elevating means is lowered by the first elevating control means so that the second annular seal member on the inlet side is not brought into contact with the back surface of the first valve body, and the first gate valve is made. The opening / closing control means causes the first valve body to abut on and slide the first annular seal member on the inlet side, and the first closed portion is located at the opening of the vacuum chamber inlet side passage, and then the first closed portion is located. The first elevating means is raised by the first elevating control means, and the inlet-side second annular seal member is brought into contact with the back surface of the first valve body to form the vacuum chamber inlet-side passage. Closed and closed
The second valve body is provided with a second closing portion that closes the opening of the vacuum chamber outlet side passage and a second valve body side opening having the same size as the opening of the vacuum chamber outlet side passage. ,
The first annular seal member on the outlet side faces the front surface of the second valve body on the vacuum chamber outlet side passage body, and the second ring member on the outlet side faces the back surface of the second valve body. An annular sealing member is provided, respectively.
The outlet-side second annular seal member rises by the second elevating means and comes into contact with the back surface of the second valve body, and descends by the second elevating means to the second valve body. Non-contact with the back side of
The second elevating means is lowered by the second elevating control means so that the second annular seal member on the outlet side is not brought into contact with the back surface of the second valve body, and the second gate valve is opened and closed. The second valve body is brought into contact with the second annular seal member on the outlet side and slid by the control means, and the second valve body side opening is located at the opening of the vacuum chamber outlet side passage. After that, the second elevating means is raised by the second elevating control means to bring the outlet side second annular seal member into contact with the back surface of the second valve body, and the vacuum chamber outlet side passage. Open and
The second elevating means is lowered by the second elevating control means so that the outlet-side second annular seal member is not brought into contact with the back surface of the second valve body, and the second gate valve is made. The second valve body is brought into contact with the second annular seal member on the outlet side and slid by the opening / closing control means, and the second closing portion is located at the opening of the passage on the outlet side of the vacuum chamber, and then the second closing portion is located. The second elevating means is raised by the second elevating control means, and the outlet side second annular seal member is brought into contact with the back surface of the second valve body to form the vacuum chamber outlet side passage. A fluid opening / closing device characterized by being closed.
前記真空室出口側通路を前記第2の開閉弁及び前記第2のゲートバルブにより閉、前記真空室入口側通路を前記第1の開閉弁及び前記第1のゲートバルブにより閉とした状態で、前記真空室入口側通路に流体を導き、
前記第1のゲートバルブを開、その後、前記第1の開閉弁を開として、前記真空室に前記流体を導き、
その後、前記第1の開閉弁を閉、その後、前記第1のゲートバルブを閉として、前記真空室内で前記流体を生成処理し、
生成処理後、前記第2のゲートバルブを開、その後、前記第2の開閉弁を開として、前記真空室出口側通路の開により前記真空室から前記流体を排出する
ことを特徴とする流体の開閉方法。 A method for opening and closing a fluid that opens and closes a passage of the fluid switchgear according to claim 1.
The vacuum chamber outlet side passage is closed by the second on-off valve and the second gate valve, and the vacuum chamber inlet side passage is closed by the first on-off valve and the first gate valve. Guide the fluid to the vacuum chamber inlet side passage and
The first gate valve is opened, and then the first on-off valve is opened to guide the fluid into the vacuum chamber.
After that, the first on-off valve was closed, and then the first gate valve was closed to generate and process the fluid in the vacuum chamber.
After the generation process, the second gate valve is opened, and then the second on-off valve is opened, and the fluid is discharged from the vacuum chamber by opening the passage on the outlet side of the vacuum chamber. How to open and close.
前記通路の開口部を弁体でスライドして開閉するようにしたゲートバルブと、
このゲートバルブの開閉を制御するゲートバルブ開閉制御手段と、
前記通路を有する通路本体とを備え、
前記弁体には、前記通路の開口部を塞ぐ閉塞部と前記通路の開口部と同じ大きさの弁体側開口部が設けられ、
前記通路本体に前記弁体の表面に対向するように第1の環状のシール部材が、前記弁体の裏面に対向するように第2の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、
前記第2の環状のシール部材は昇降手段により、上昇して前記弁体の裏面に当接、前記昇降手段により、下降して前記弁体の裏面に非当接し、
前記昇降手段は、昇降制御手段により昇降し、
前記昇降制御手段により前記昇降手段を降下させて前記第2の環状のシール部材を前記弁体の裏面に非当接させ、前記ゲートバルブ開閉制御手段により前記弁体が、前記第1の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記通路の開口部に前記弁体側開口部が位置し、その後、前記昇降制御手段により前記昇降手段を上昇させて前記第2の環状のシール部材を前記弁体の裏面に当接させて前記通路を開とし、
前記昇降制御手段により前記昇降手段を降下させて、前記2の環状のシール部材を前記弁体の裏面に非当接させ、前記ゲートバルブ開閉制御手段により前記弁体が、前記第1の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記通路の開口部に前記閉塞部が位置し、その後、前記昇降制御手段により前記昇降手段を上昇させて前記第2の環状のシール部材を前記弁体の裏面に当接させて前記通路を開となる
ことを特徴とするゲートバルブ装置。 A gate valve device that opens and closes the passage through which fluid passes.
A gate valve that slides the opening of the passage with a valve body to open and close,
A gate valve opening / closing control means for controlling the opening / closing of this gate valve,
With a passage body having the passage,
The valve body is provided with a closed portion that closes the opening of the passage and an opening on the valve body side that is the same size as the opening of the passage.
A first annular seal member is provided on the passage body so as to face the surface of the valve body, and a second annular seal member is provided so as to face the back surface of the valve body.
The second annular seal member rises by the elevating means and abuts on the back surface of the valve body, and descends by the elevating means and does not abut on the back surface of the valve body.
The elevating means is moved up and down by the elevating control means.
The elevating means is lowered by the elevating control means to bring the second annular seal member out of contact with the back surface of the valve body, and the gate valve opening / closing control means causes the valve body to have the first annular shape. The valve body side opening is located at the opening of the passage by abutting on the seal member and sliding, and then the elevating means is raised by the elevating control means to move the second annular seal member to the valve body. The passage is opened by contacting it with the back surface of the
The elevating means is lowered by the elevating control means so that the annular seal member of 2 is not brought into contact with the back surface of the valve body, and the valve body is made of the first annular body by the gate valve opening / closing control means. The closed portion is located at the opening of the passage by abutting against the seal member and sliding, and then the elevating means is raised by the elevating control means to move the second annular seal member to the back surface of the valve body. A gate valve device characterized in that the passage is opened by abutting against a gate valve device.
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