JP2021179187A - 真空ポンプ - Google Patents
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Abstract
Description
これらの半導体は、きわめて純度の高い半導体基板に不純物をドープして電気的性質を与えたり、エッチングにより半導体基板上に微細な回路を形成したりなどして製造される。
また、半導体の製造工程では、さまざまなプロセスガスを半導体の基板に作用させる工程が数多くあり、ターボ分子ポンプはチャンバ内を真空にするのみならず、これらのプロセスガスをチャンバ内から排気するのにも使用される。
このターボ分子ポンプの内部の反応生成物の堆積を判定する方法として、特許文献1が知られている。
このことにより、緊急性を適切に判断でき、真空ポンプの無用な緊急停止と、それによる生産量の低下を防ぐ、若しくは低減することができる。
このように比較した結果を蓄積し、その結果を判断することにより、短周期の或いは突発的な真空ポンプの負荷変動やノイズ等の影響を無くす、若しくは低減することができる。
このように検出値の平均値を判断することにより、短周期の或いは突発的な真空ポンプの負荷変動やノイズ等の影響を無くす、若しくは低減することができる。
このようにローパスフィルタを通過させることで、短周期の或いは突発的な真空ポンプの負荷変動やノイズ等の影響を無くす、若しくは低減することができる。
図1において、ターボ分子ポンプ100の円筒状の外筒127の上端には吸気口101が形成されている。外筒127の内方には、ガスを吸引排気するためのタービンブレードによる複数の回転翼102a、102b、102c・・・を放射状かつ多段に形成した回転体103を備える。
上側径方向電磁石104は、4個の電磁石が、ロータ軸113の径方向の座標軸であって互いに直交するX軸とY軸とに対をなして配置されている。この上側径方向電磁石104に近接かつ対応して、コイルを備えた4個の上側径方向変位センサ107が備えられている。この上側径方向変位センサ107はロータ軸113の径方向変位を検出し、後述する制御装置200に送るように構成されている。
ロータ軸113は、高透磁率材(鉄など)などにより形成され、上側径方向電磁石104の磁力により吸引されるようになっている。かかる調整は、X軸方向とY軸方向とにそれぞれ独立して行われる。
更に、軸方向電磁石106A、106Bが、ロータ軸113の下部に備えた円板状の金属ディスク111を上下に挟んで配置されている。金属ディスク111は、鉄などの高透磁率材で構成されている。
このように、制御装置200は、この軸方向電磁石106A、106Bが金属ディスク111に及ぼす磁力を適当に調節し、ロータ軸113を軸方向に磁気浮上させ、空間に非接触で保持するようになっている。
回転翼102a、102b、102c・・・とわずかの空隙を隔てて複数枚の固定翼123a、123b、123c・・・が配設されている。回転翼102a、102b、102c・・・は、それぞれ排気ガスの分子を衝突により下方向に移送するため、ロータ軸113の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成されている。
そして、固定翼123の一端は、複数の段積みされた固定翼スペーサ125a、125b、125c・・・の間に嵌挿された状態で支持されている。
ネジ付きスペーサ131は、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄、又はこれらの金属を成分とする合金などの金属によって構成された円筒状の部材であり、その内周面に螺旋状のネジ溝132が複数条刻設されている。
回転体103の回転翼102a、102b、102c・・・に続く最下部には回転円筒102dが垂下されている。この回転円筒102dの外周面は、円筒状で、かつネジ付きスペーサ131の内周面に向かって張り出されており、このネジ付きスペーサ131の内周面と所定の隙間を隔てて近接されている。
ベース部129は、ターボ分子ポンプ100の基底部を構成する円盤状の部材であり、一般には鉄、アルミニウム、ステンレス、銅などの金属によって構成されている。
図2において、電源電圧Vdは、AC入力電源1よりAC/DC主電源3を経て低電圧化されたものである。そして、この電源電圧Vdは電磁石パワーアンプ7に入力され励磁回路の電源として使用されている。
一方、モータ回転制御部15は、モータ駆動回路9に含まれる複数のスイッチング素子をオンオフ制御するためのPWM信号19を生成し送信する。モータ駆動回路9で調整された電圧に基づきモータ121は電力供給される。
また、制御装置200への入力電流値23が検出され、制御装置200に入力されるようになっている。更に、モータ121の回転速度25が計測され、制御装置200に入力されるようになっている。但し、モータ121の回転速度25は、モータ電流値17とモータ電圧21に基づいて演算で推定されても良い。
生成物はポンプ内部の下流領域に堆積され易い。このため、回転円筒102dの外周面とネジ付きスペーサ131の内周面間の隙間に堆積し易く、この隙間に堆積すると、ポンプ流路が狭められ、この隙間の圧力は上昇する。そして、この圧力が上昇すると、回転体103の回転維持に必要なモータ121の電流値が上昇する。そのため、モータ121の電流値の変化に基づいて生成物の堆積状況を推定することができる。
このようにローパスフィルタ33を通過させることで、短周期の或いは突発的な真空ポンプの負荷変動やノイズ等の影響を無くす、若しくは小さくすることができる。
この場合においては、検出値31すなわちモータ電流値が大きいほど生成物の堆積量が多いので、Hレベル警報信号43の方がLレベル警報信号45よりも、より強く真空ポンプのオーバーホールを求める警告度の高い警報信号となる。
ところで、半導体の製造プロセス等においては、通常、複数のプロセスで行われ、それぞれのプロセスでは異なる処理ガスが投入される。このため、プロセス毎に検出値31の値が異なることがある。この場合、それぞれのプロセス毎に異なるしきい値を設定しても良い。
なお、上記では、検出値31がモータ121の電流値の場合について説明したが、モータ消費電力を用いても良い。また、モータ電力はPWM信号19のパルスのデューティ比から公知の計算式を用いて演算により算出が可能である。そこで、検出値31にはこの算出されたモータ電力の値が適用されても良い。
また、電磁石電流の変化に基づいて生成物の堆積状況を推定しても良い。なお、電磁石電流はターボ分子ポンプの重力に対する設置方向如何で、対となる電磁石のそれぞれを流れる電流の大きさがこの重力による影響により相違する場合がある。この場合、電流の変化量が大きくなる重力負担の大きい側の電磁石の電流を検出値31として採用して対比を行うことが望ましい。
検出値31はローパスフィルタ33を通り、A/Dコンバータ35でディジタル変換された後、CPU47で決められた周期毎に単位時間49の間隔について、サンプリング部51でサンプリングが行われる。サンプリングされた検出値31は対比部37において、例えば3段階に設定されたしきい値39との間で対比が行われる。このとき、その検出値31の大きさに応じて例えば3段階のカウンタがインクリメントされる。
このようにカウンタに対比結果を蓄積し、その結果を判断することにより、短周期の或いは突発的な真空ポンプの負荷変動やノイズ等の影響を無くすことができる。
図7において、検出値31はローパスフィルタ33を通り、A/Dコンバータ35でディジタル変換された後、CPU47で決められた周期毎に単位時間49の間隔Δtについて、サンプリング部51でサンプリングが行われる。サンプリングされた検出値31は平均値算出部61に入力される。このサンプリングされた検出値31の様子を図8の上段に示す。そして、図8の下段に平均値算出部61で各単位時間49の間隔Δt毎に検出値31の平均値を算出した結果を示す。
このように検出値31の平均値を判断することにより、短周期の或いは突発的な真空ポンプの負荷変動やノイズ等の影響を無くす、若しくは小さくすることができる。
図9において、検出値31はローパスフィルタ33を通り、A/Dコンバータ35でディジタル変換された後、CPU47で決められた周期毎に単位時間49の間隔Δtについて、サンプリング部51でサンプリングが行われる。サンプリングされた検出値31は演算部63に入力される。演算部63では、サンプリングによって得られた検出値31を、この検出値31とこの検出値31よりも前に得られた検出値31との差の絶対値が、所定値より小さいときのみについて次の対比部37に入力させる。
時刻t1とt2間における検出値31の差の絶対値ΔLは所定値ΔLmaxよりも小さい。従って、時刻t2における検出値31は次の対比部37に入力させる。一方、次の時刻t2とt3間における検出値31の差の絶対値ΔLは所定値ΔLmaxよりも大きい。このとき、時刻t3における検出値31は次の対比部37に入力させない。次の時刻t3とt4間における検出値31の差の絶対値ΔLも所定値ΔLmaxよりも大きい。従って、時刻t4における検出値31は次の対比部37に入力させない。そして、次の時刻t4とt5間における検出値31の差の絶対値ΔLは所定値ΔLmaxよりも小さい。従って、時刻t5における検出値31は次の対比部37に入力させる。以降、同様に処理が行われる。その結果、時刻t3において生じた突発的な検出値31による影響は受けなくできる。
このようにして、短周期の或いは突発的な真空ポンプの負荷変動やノイズ等が発生した場合であってもその変動やノイズを無視することができる。従って、これらの負荷変動やノイズ等の影響を無くすことができ、誤った通報や不必要なポンプの停止を防ぐ、若しくは少なくすることができる。
図11において、検出値31はローパスフィルタ33を通り、A/Dコンバータ35でディジタル変換された後、CPU47で決められた周期毎に単位時間49の間隔Δtについて、サンプリング部51でサンプリングが行われる。サンプリングされた検出値31は平均値算出部61に入力され、単位時間Δt毎に平均値が算出される。
なお、ローパスフィルタ33は、A/Dコンバータ35が検出値31をディジタル変換した後に、検出値31のディジタル値を演算によってフィルタリングする方式のディジタルフィルタであっても良い。
また、図13において、所定の時間の幅の前記検出結果を時間によって定積分すると、その定積分の結果は、斜線部の領域の面積に相当し、その時間の幅において、前記検出結果が大きければ大きくなり、前記検出結果が小さければ小さくなるとともに、積分演算することで、ローパスフィルタを通すことと類似した効果を得ることができる。よって、ローパスフィルタ33を用いる代わりに、検出値31を積分演算しても良い。
積分演算は、A/Dコンバータ35が検出値31をディジタル変換する前にアナログ回路によって行なっても良いし、A/Dコンバータ35が検出値31をディジタル変換した後に、ディジタル演算によって行なっても良い。
このようにして、短周期の或いは突発的な真空ポンプの負荷変動やノイズ等が発生した場合であってもその変動やノイズを無視することができる。
この場合の対比部37での判断は、図12に示すように、例えば生成物の量に応じてHレベル、Lレベル、LLレベルの3段階のしきい値と比較される。そして、対比部37に入力された信号がこのHレベル未満となった場合には、Hレベル警報信号が堆積物演算部27より出力される。また、入力された信号がLレベル未満となった場合には、Lレベル警報信号が堆積物演算部27より出力される。更に、入力された信号がLLレベル未満となった場合には、LLレベル停止信号が堆積物演算部27より出力される。この場合にはポンプが停止される。
この場合においては、検出値31すなわちモータ回転速度25が低いほど生成物の堆積量が多いので、Hレベル警報信号よりもLレベル警報信号の方が、より強く真空ポンプのオーバーホールを求める警告度の高い警報信号となる。
上記説明では、しきい値39やカウンタについて3段階の値を有するとして説明したが、より多段階としてきめ細かな情報を提供できるようにしても良い。
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が当該改変されたものにも及ぶことは当然である。
3 AC/DC主電源
7 電磁石パワーアンプ
9 モータ駆動回路
11 ポンプ制御部
13 磁気軸受制御部
15 モータ回転制御部
16 電流センサ
17 モータ電流値
19 PWM信号
21 モータ電圧
23 入力電流値
25 モータ回転速度
27 堆積物演算部
31 検出値
33 ローパスフィルタ
35 A/Dコンバータ
37 対比部
39 しきい値
41 ポンプ停止信号
43 Hレベル警報信号
45 レベル警報信号
49 単位時間
51 サンプリング部
53 HHカウンタ
55 Hカウンタ
57 Lカウンタ
59 判定部
61 平均値算出部
63 演算部
100 ターボ分子ポンプ
102d 回転円筒
103 回転体
104 上側径方向電磁石
105 下側径方向電磁石
106A、106B 軸方向電磁石
107 上側径方向変位センサ
108 下側径方向変位センサ
113 ロータ軸
121 モータ
200 制御装置
Claims (7)
- 被排気室内のガスを排気する真空ポンプであって、
ロータと、
前記ロータを回転駆動するモータと、
前記モータを駆動制御する制御装置と、
前記モータの電流値、PWM信号のパルス幅、消費電力、前記制御装置の入力電流値、消費電力、前記ロータの回転速度の少なくともいずれか一つを検出する検出器と、
前記検出器の検出結果に基づく値に応じて異なるレベルのアラームの表示若しくは信号の出力をする反応生成物堆積監視装置と、
を備えたことを特徴とする真空ポンプ。 - 前記反応生成物堆積監視装置は、
所定の周期で、前記検出結果に基づく値と閾値を比較し、その比較結果が、前記検出結果が前記ロータの回転速度である場合には、前記検出結果に基づく値が前記閾値より小さいとなった回数を、前記検出結果が前記ロータの回転速度でない場合には、前記検出結果に基づく値が前記閾値より大きいとなった回数を積算し、その積算結果に応じて前記アラームの表示若しくは信号の出力をすること、
を特徴とする請求項1に記載の真空ポンプ。 - 前記反応生成物堆積監視装置は、
所定の周期で前記検出結果のサンプリングをし、所定の長さの期間に前記サンプリングによって得られた被サンプリング値の平均値を前記検出結果に基づく値とすること、
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の真空ポンプ。 - 前記反応生成物堆積監視装置は、
前記検出結果を、高周波数帯域のゲインが低いローパスフィルタを通して、前記検出結果に基づく値とすること、
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の真空ポンプ。 - 前記ローパスフィルタは、前記モータの電磁石の各相の交番電流の周波数のゲインが、該周波数より低い周波数のゲインより低いこと、
を特徴とする請求項4に記載の真空ポンプ。 - 前記反応生成物堆積監視装置は、
所定の周期で前記検出結果のサンプリングをし、前記サンプリングによって得られた被サンプリング値を、該サンプリング値と該サンプリング値よりも前に得られた被サンプリング値との差の絶対値が、所定値より小さい場合に、前記検出結果に基づく値とすること、
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の真空ポンプ。 - 前記反応生成物堆積監視装置は、
前記検出結果を、時間によって積分し、その積分結果を前記検出結果に基づく値とすること、
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の真空ポンプ。
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