JP2021178935A - 活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュール - Google Patents

Abstract

【課題】高アッベ数、耐熱性、耐湿熱性を有するレンズを製造可能な活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュールを提供する。【解決手段】一般式（１）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）と、前記ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）以外の一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び一分子中に１個以上の水酸基を有する化合物（Ｂ）と、前記ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）及び前記化合物（Ｂ）以外の一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び環状構造を有する化合物（Ｃ）と、を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物を用いる。【選択図】なし

Description

本発明は、活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュールに関する。

近年、スマートフォンやモバイルパソコン等の電子機器向け小型カメラモジュールの需要が急速に拡大しており、カメラモジュールの生産効率向上を目指した開発が精力的に取り組まれている。また、電子機器の薄型化が進んだことから、カメラモジュールの薄型化に対する要求も厳しくなっている。従来、シクロオレフィンポリマーに代表される熱可塑性樹脂を用いたインジェクションモールド等により樹脂レンズを成型し、レンズユニットを組み上げる方法によりカメラモジュールは生産されてきた。しかしながら、従来の方法では生産性と薄型化に限界があった。このような市場動向に伴い、レプリカ法により成形したウェハレベルレンズを重ね合わせてレンズユニットを組み上げることで、生産性と薄型化を両立させたカメラモジュールの生産方法が開示されている（特許文献１）。

一般的にレンズユニットは光学定数、主に屈折率（ｎ_ｄ）とアッベ数（ν_ｄ）、が異なるレンズを複数重ね合わせて色収差を補正し、高画素化を実現している。また、前記ウェハレベルレンズに用いる材料としては、生産性、透明性及び耐熱性等の観点から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が好適に用いられている。取り分け中屈折率で高アッベ数な光学定数を有するウェハレベルレンズ用材料として脂肪族骨格を有するポリカーボネートジオール（メタ）アクリレートを用いた樹脂組成物が開示されている（特許文献２）。

ウェハレベルレンズは基板への直接実装が想定されることから、ハンダリフロー（１７０℃〜２６０℃）に耐えられる耐熱性が求められる。耐熱性の向上にはチオール化合物や酸化防止剤を添加する方法が開示されている（特許文献３、特許文献４）。また、使用様態に合わせて物性の長期信頼性の指標となる温湿度試験（８５℃−８５％ＲＨ−１０００ｈ）に耐えられる耐湿熱性が求められる。しかしながら、８５℃−８５％ＲＨという過酷な温湿度試験条件において、基板ハガレやレンズ内部の欠陥が発生することのない優れた耐湿熱性を有するウェハレベルレンズの報告はなされていない。取り分け、中屈折率で高アッベ数な光学定数を示す脂肪族骨格は疎水的で湿熱試験後に異常が発生しやすいという課題がある。

そこで、高いアッベ数及び透過率を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な材料が求められていた。

特開２００９−２５１３６８号公報 国際公開第２０１９／１２４１５６号 特開２０１４−５２４２４号公報 国際公開第２０１８／０３０３５１号

本発明が解決しようとする課題は、高いアッベ数及び透過率を有し、半田リフロー後も透過率変化が少なく、かつ、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物を提供することである。

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、特定のポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレートと、特定の（メタ）アクリロイル基と水酸基を有する化合物と、特定の（メタ）アクリロイル基及び環状構造を有する化合物と、を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は、下記一般式（１）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）と、前記ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）以外の一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び一分子中に１個以上の水酸基を有する化合物（Ｂ）と、前記ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）及び前記化合物（Ｂ）以外の一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び環状構造を有する化合物（Ｃ）と、を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュールに関する。

（式中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜１０の炭化水素基を示す。ｎは１〜１０の整数である。）

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成されるレンズは、高いアッベ数を有するものであり、色収差を小さくすることができる。また、前記レンズは、半田リフロー前後で透過率の変化量が小さい耐熱性を有するものであり、カメラモジュールに好適に用いることができる。さらに、高温高湿下でも基材からのハガレや欠陥を生じない耐湿熱性を有することから、長期安定性に優れたウェハレベルレンズとして好適に用いることができる。

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射によって簡便に硬化できるものであり、光インプリントによるレンズ製造に好適に使用することができる。

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、一般式（１）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）と、一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び一分子中に１個以上の水酸基を有する化合物（Ｂ）と、一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び環状構造を有する化合物（Ｃ）と、を含有するものである。

なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及び／又はメタクリレートを意味する。また、「（メタ）アクリロイル」とは、アクリロイル及び／又はメタクリロイルを意味する。さらに、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及び／又はメタクリルを意味する。

前記一般式（１）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）（以下、「（Ａ）成分」と略記する。）としては、下記一般式（１）で表される構造を有するものである。前記（Ａ）成分を用いることで高いアッベ数を有し、優れた耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られる。

（式中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜１０の炭化水素基を示す。ｎは１〜１０の整数である。）

前記（Ａ）成分としては、前記一般式（１）で示される化合物の中でも、より一層高いアッベ数及び屈折率が得られ、かつ、より一層優れた透明性、柔軟性及び耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、前記一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子が好ましく、Ｒ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数５〜６の直鎖状炭化水素基、炭素原子数５〜１０の環状炭化水素基が好ましく、ｎは４〜１０の整数が好ましい。また、更に結晶化やレンズの継時的な反りを防止しやすい点から、Ｒ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数５〜６の直鎖状炭化水素基、シクロへキサン構造、又はイソソルバイド構造を有するものであることがより好ましく、ｎは、４〜６の整数がより好ましい。

なお、前記一般式（１）中、Ｒ^２が炭素原子数５〜６の直鎖状炭化水素基、及び炭素原子数６〜１０の環状炭化水素基を示し、ｎが４〜６の整数を示すものを用いる場合、前記炭素原子数５〜６の直鎖状炭化水素基と、前記炭素原子数６〜１０の環状炭化水素基との質量割合は、１０／９０〜９０／１０の範囲が好ましく、２０／８０〜８０／２０の範囲がより好ましく、６０／４０〜８０／２０の範囲が特に好ましい。

前記（Ａ）成分としては、例えば、ポリカーボネートジオールと、（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステルとの反応物等が挙げられる。

前記ポリカーボネートジオールとしては、例えば、水酸基を２個以上有する化合物と炭酸エステルとの反応物等が挙げられる。

前記水酸基を２個以上有する化合物としては、例えば、直鎖状構造を有するアルキレンジオール、分岐鎖状構造を有するアルキレンジオール、環状構造を有するアルキレンジオール、複素環状構造を有するジオール等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

前記直鎖状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、１，２−エタンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール等が挙げられる。

前記分岐鎖状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、１，２−プロパンジオール１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，３−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，５−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，３−ジメチル−２，３−ブタンジオール、２−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，２−ヘプタンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジメチル−２，４−ペンタンジオール、３，６−オクタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、１，２−ノナンジオール、１，８−ノナンジオール、２，８−ノナンジオール、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、１，２−デカンジオール、２，２−ジイソブチル−１，３−プロパンジオール等が挙げられる。

前記環状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，３−アダマンタンジオール、１−ヒドロキシ−３−アダマンチルメタノール等が挙げられる。

前記複素環状構造を有するジオールとしては、例えば、３，４−テトラヒドロフランジオール、１，４−ジオキサン−２，３−ジオール、１，１−ビシクロヘキシル−４，４−ジオール、ヘキサヒドロフロ［３，２−ｂ］フラン−３，６−ジオール等が挙げられる。

前記炭酸エステルとしては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

前記（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸エステルは、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

また、前記（Ａ）成分の市販品としては、例えば、宇部興産株式会社製「ＵＨ−１００ＤＡ」、「ＵＭ−９０（１／３）ＤＡ」、「ＵＭ−９０（１／１）ＤＡ」、「ＵＭ−９０（３／１）ＤＡ」、「ＵＨ−１００ＤＭ」、「ＵＭ−９０（１／３）ＤＭ」、「ＵＭ−９０（１／１）ＤＭ」、「ＵＭ−９０（３／１）ＤＭ」等が挙げられる。

前記（Ａ）成分の含有割合は、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に１０〜８０質量％の範囲が好ましく、１５〜６０質量％の範囲がより好ましく、２０〜５０質量％の範囲が特に好ましい。

前記一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び一分子中に少なくとも１個以上の水酸基を有する化合物（Ｂ）（以下、「（Ｂ）成分」と略記する。）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル（メタ）アクリレート２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルフェノールプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−３−メチルブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ソルビトールモノ（メタ）アクリレート、ソルビトールジ（メタ）アクリレート、マンニトールモノ（メタ）アクリレート、マンニトールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、前記化合物が有する水酸基の一部又は全てをアルキレンオキサイド変性、カプロラクトン変性した化合物等も用いることができる。これらの化合物は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。またこれらの中でも、より一層高いアッベ数、耐熱性、耐湿熱性を得られる観点から、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、ソルビトールエチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレートが好ましい。

また、前記（Ｂ）成分としては、一分子中に１又は２個のグリシジル基を有する化合物と（メタ）アクリル酸との反応物、一分子中に（メタ）アクリロイル基とグリシジル基を有する化合物と、カルボン酸及び／又は無水ジカルボン酸との反応物等のエポキシ（メタ）アクリレートなども用いることができる。

前記一分子中に１又は２個のグリシジル基を有する化合物としては、例えば、ドデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１．６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノグリシジルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、３，４，３，４−ジエポキシビシクロヘキシル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビスフェノールＡモノグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールＡカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡモノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦモノグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールＦカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦモノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル等が挙げられる。

前記一分子中に（メタ）アクリロイル基とグリシジル基を有する化合物としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

前記カルボン酸及び／又は無水ジカルボン酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボン酸無水物、無水コハク酸、オクテニル無水コハク酸、テトラプロペニル無水コハク酸、３−ドデセニル無水コハク酸、３，３，４，４−テトラヒドロ−３，３−ビフラン−２，２，５，５−テトラオン、４−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物、トリメリット酸無水物、ビス（１，３−ジヒドロ−１，３−ジオキソ−５−イソベンゾフランカルボン酸）２−アセチルオキシ−１，３−プロパンジイル等が挙げられる。

前記（Ｂ）成分の市販品としては、例えば、ＭＩＷＯＮ社製「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１００」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１０５１」、新中村化学工業株式会社製「ＮＫエステル ７０２Ａ」、「ＮＫエステル ４０１Ｐ」、「ＮＫエステル ７０１Ａ」、大阪有機化学工業株式会社製「ＨＥＡ」、「ＨＰＡ」、「４−ＨＢＡ」、「ビスコート＃５４０」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルＨＯ−２５０（Ｎ）」、「ライトエステルＨＯＰ（Ｎ）」、「ライトエステルＨＯＰ−Ａ（Ｎ）」、「ライトエステルＨＯＡ（Ｎ）」、「ライトエステルＨＯＢ（Ｎ）」、「ライトエステルＧ−１０１Ｐ」、「ライトエステルＧ−２０１Ｐ」、「ライトアクリレートＨＯＢ−Ａ」、「エポキシエステルＭ−６００Ａ」、「ＨＯＡ−ＭＰＥ（Ｎ）」、第一工業製薬株式会社製「ニューフロンティア ＰＧＡ」、日本化薬株式会社製「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１２８Ｈ」、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１６７」、東亜合成株式会社製「アロニックスＭ−９２０」、「アロニックスＭ−９２６」、三菱ケミカル株式会社製「４ＨＢＡ」、「ＣＨＤＭＭＡ」、株式会社ダイセル製「レジストモノマーＨＭＡ」、「レジストモノマーＤＨＭＡ」等が挙げられる。

前記（Ｂ）成分の含有割合は、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、１〜３０質量％の範囲が好ましく、５〜２０質量％の範囲がより好ましい。

前記一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び環状構造を有する化合物（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」と略記する。）としては、一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び環状構造を必須として有するものである。前記（Ｃ）成分を用いることで、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られる。

前記環状構造としては、例えば、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、シクロオクタン構造、シクロデカン構造等の単環構造、パーヒドロインデン構造、パーヒドロアントラセン構造、パーヒドロフルオレン構造、パーヒドロフェナントレン構造、パーヒドロアセナフテン構造、パーヒドロフェナレン構造、ノルボルナン構造、イソボルナン構造、イソボルニル構造、アダマンタン構造、ビシクロ［３．３．０］オクタン構造、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン構造、トリシクロ［６．２．１．０^２，７］ウンデカン構造、ジシクロペンタニル構造、ジシクロペンテニル構造等の多環構造、テトラヒドロフラン構造、１，３−ジオキソラン構造、１，３−ジオキサン構造、１，４ジオキサン構造、ヘキサヒドロフロ［３，２−ｂ］フラン構造等の複素環構造、ベンゼン構造、ナフタレン構造、フルオレン構造、アセナフテン構造、フェナレン構造、アントラセン構造、フェナントレン構造、テトラセン構造、クリセン構造、ピレン構造、トリフェニレン構造、ペンタセン構造、ベンゾピレン構造、ペリレン構造等の芳香環構造などが挙げられる。これらの環状構造は、一分子中に単独で有することも、２種以上を有することもできる。また、これらの中でも、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、シクロヘキサン構造、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン構造、１，３−ジオキサン構造が好ましい。

前記（Ｃ）成分において、前記環状構造と前記（メタ）アクリロイル基は直接結合していてもよく、連結基を介して結合してもよい。

前記連結基としては、例えば、酸素原子、炭素原子数１〜１０の直鎖状及び／又は分岐鎖状炭化水素基、繰り返し数１〜１０のアルキレンオキサイド基、カプロラクトンの開環重合体である繰り返し数１〜１０のアルキルエステル基、アミド基等が挙げられる。

前記（Ｃ）成分の具体例としては、例えば、シクロペンチル（メタ）アクリレート、１−メチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−エチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ターシャリーブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−シクロヘキシルプロパニル（メタ）アクレート、水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡカプロラクトン変性ジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡグリシジルエーテル変性ジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦカプロラクトン変性ジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦグリシジルエーテル変性ジ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ノニルフェノールアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、フェニルベンジルアクリレート、ビフェニル（メタ）アクリレート、ビフェニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡカプロラクトン変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡグリシジルエーテル変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦカプロラクトン変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦグリシジルエーテル変性ジ（メタ）アクリレート、フルオレンジ（メタ）アクリレート、フルオレンアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレ−ト、ジシクロペンタニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレ−ト、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレ−ト、ジシクロペンテニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレ−ト、トリシクロデカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、２−メチルアダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチルアダマンチル（メタ）アクリレート、２−イソプロピルアダマンチル（メタ）アクリレート、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチル（メタ）アクリレート、メバロン酸ラクトン（メタ）アクリレート、（２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチル（メタ）アクリレート、環状トリメチルロールプロパンホルマル（メタ）アクリレート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、イソソルバイドジ（メタ）アクリレート、イソソルバイドアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも、２種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、２個の（メタ）アクリロイル基を有し、脂環構造又はヘテロ環構造を有する化合物が好ましく、水添ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレートがより好ましい。

また、前記（Ｃ）成分の市販品としては、例えば、ＭＩＷＯＮ社製「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１１０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１２２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１３０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１４２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１５０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１８２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１９２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１４０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１４２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１４４」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１５０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１６４」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１６６」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１６０２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２４０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２４４」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２１００」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２２００」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２３００」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２６２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２９０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１８３」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１４１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１５１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２４１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２４５」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２１０１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２３０１」、新中村化学工業株式会社製「ＮＫエステル Ａ−ＩＢ」、「ＮＫエステル ＡＭＰ−１０Ｇ」、「ＮＫエステル ＡＭＰ−２０ＧＹ」、「ＮＫエステル Ａ−ＬＥＮ−１０」、「ＮＫエステル ４０１Ｐ」、「ＮＫエステル Ａ−ＤＯＧ」、「ＮＫエステル Ａ−ＤＣＰ」、「ＮＫエステル Ａ−ＢＰＥＦ」、「ＮＫエステル Ａ−ＢＰＥ−２」、「ＮＫエステル Ａ−ＢＰＥ−２．２」、「ＮＫエステル ＡＢＥ−１００」、「ＮＫエステル Ａ−ＢＰＥ−１０」、「ＮＫエステル Ａ−ＢＰＥ−２０」、「ＮＫエステル Ａ−ＢＰＥ−３０」、「ＮＫエステル Ａ−ＢＰＰ３」、「ＮＫエステル Ａ−Ｂ１２０６ＰＥ」、「ＮＫエステル ＩＢ」、「ＮＫエステル ＰＨＥ−１Ｇ」、「ＮＫエステル ＰＨＥ−２Ｇ」、「ＮＫエステル ＤＣＰ」、「ＮＫエステル ＢＰＥ−８０Ｎ」、「ＮＫエステル ＢＰＥ−１００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ−２００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ−３００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ−５００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ−９００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ−１３００Ｎ」、大阪有機化学工業株式会社製「ＩＢＸＡ」、「ＭＥＤＯＬ−１０」、「ＯＸＥ−１０」、「ＯＸＥ−３０」、「ビスコート＃１５０」、「ビスコート＃１５０Ｄ」、「ビスコート＃１５５」、「ビスコート＃１６０」、「ビスコート＃１９２」、「ビスコート＃１９６」、「ビスコート＃２００」、「ビスコート＃７００ＨＶ」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルＣＨ」、「ライトエステルＴＨＦ（１０００）」、「ライトエステルＢＺ」、「ライトエステルＰＯ」、「ライトエステルＩＢ−Ｘ」、「ライトエステルＢＰ−２ＥＭＫ」、「ライトアクリレートＰＯ−Ａ」、「ライトアクリレートＰＯＢ−Ａ」、「ライトアクリレートＰ２Ｈ−Ａ」、「ライトアクリレートＰ−２００Ａ」、「ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ」、「ライトアクリレートＩＢ−ＸＡ」、「ライトアクリレートＢＡ−１０４」、「ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ」、「ライトアクリレートＤＣＰ−Ｍ」、「ライトアクリレートＢＰ−４ＥＡＬ」、「ライトアクリレートＢＰ−４ＰＡ」、日本化薬株式会社製「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１」、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−７１２」、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４」、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６８４」、第一工業製薬株式会社製「ニューフロンティアＰＨＥ」、「ニューフロンティアＰＨＥ−２」、「ニューフロンティアＰＨＥ−２Ｄ」、「ニューフロンティアＮＰ−１」、「ニューフロンティアＮＰ−４」、「ニューフロンティアＮ−１７７Ｅ」、「ニューフロンティアＯＰＰＥ」、「ニューフロンティアＢＰＥ−４」、「ニューフロンティアＢＰＥ−１０」、「ニューフロンティアＢＰＥ−２０」、「ニューフロンティアＢＰＥＭ−４」、「ニューフロンティアＢＰＥＭ−１０」、「ニューフロンティアＨＢＰＥ−４」、「ニューフロンティアＨＢＰＥＭ−１０」、日立化成株式会社製「ファンクリルＦＡ−５１２ＡＳ」、「ファンクリルＦＡ−５１３ＡＳ」、「ファンクリルＦＡ−ＢＺＡ」、「ファンクリルＦＡ−３１０Ａ」、「ファンクリルＦＡ−３１４Ａ」、「ファンクリルＦＡ−３１８Ａ」、「ファンクリルＦＡ−ＴＨＦＡ」、「ファンクリルＦＡ−３２１Ａ」、「ファンクリルＦＡ−３２４Ａ」、「ファンクリルＦＡ−５１２Ｍ」、「ファンクリルＦＡ−５１２ＭＴ」、「ファンクリルＦＡ−５１３Ｍ」、「ファンクリルＦＡ−ＢＺＭ」、「ファンクリルＦＡ−３１０Ｍ」、「ファンクリルＦＡ−ＴＨＦＭ」、「ファンクリルＦＡ−３２０Ｍ」、「ファンクリルＦＡ３２１Ｍ」、「ファンクリルＦＡ−３２１８Ｍ」等が挙げられる。

前記（Ｃ）成分の含有割合は、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、５〜７０質量％の範囲が好ましく、１０〜６０質量％の範囲がより好ましく、２０〜５０質量％の範囲が特に好ましい。

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、必要に応じて、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分及び前記（Ｃ）成分以外に、その他の化合物を用いることもできる。

前記その他の化合物としては、例えば、水酸基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、さらに前記水酸基を有する（メタ）アクリレートのアルキレンオキサイド変性及び／又はカプロラクトン変性された化合物、ウレタンアクリレート、アクリル（メタ）アクリレート、ポリエステルポリオール（メタ）アクリレート、エポキシアクリレート等が挙げられる。

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線を照射することで硬化物やレンズを得ることができる。この活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線をいう。活性エネルギー線として紫外線を照射する場合には、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物中に光重合開始剤（Ｄ）を添加し、硬化性を向上することが好ましい。一方、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線を用いる場合には、光重合開始剤（Ｄ）を用いなくても速やかに硬化するので、特に光重合開始剤（Ｄ）を添加する必要はない。

前記光重合開始剤（Ｄ）（以下、「（Ｄ）成分」と称することがある。）としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系化合物；２，４，６−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系化合物；ベンジル（ジベンゾイル）、メチルフェニルグリオキシエステル、オキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステル、オキシフェニル酢酸２−（２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ）エチルエステル等のベンジル系化合物；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル−４−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物；ミヒラ−ケトン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、１−［４−（４−ベンゾイルフェニルサルファニル）フェニル］−２−メチル−２−（４−メチルフェニルサルフォニル）プロパン−１−オン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

前記光重合開始剤（Ｄ）の市販品としては、例えば、ＩＧＭ社製「Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３」、「Ｏｍｎｉｒａｄ １８４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ １２７」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ４２６５」、「Ｏｍｎｉｒａｄ １０００」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ−Ｌ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ２０２２」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ２１００」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ７５４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＰ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ４ＭＢＺ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ４ＰＢＺ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ４１０」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＯＭＢＢ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＭＳ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ５００」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ８１」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＩＴＸ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＤＥＴＸ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＭＢＦ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＥＭＫ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ７８４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ １３１２」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＣＩＭ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＬ ７２３」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＬ ７２４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＬ ７５０」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＬ７５１」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＥＤＢ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＥＨＡ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＩＡＤＢ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ １５０」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ １００Ｆ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ ７５ＬＴ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ ＩＴ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＴＺＴ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴ５５」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＴＺＭ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ １００１Ｍ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ １６０」、「Ｅｓａｃｕｒｅ Ａ １９８」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ ４６」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＤＰ ２５０」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ９１０」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ９２１０」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ＢＰ」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ＴＸ」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ３ＴＸ」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ＢＬ７２８」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ＡＳＡ」、日本化薬株式会社製「カヤキュア ＤＥＴＸ」、「カヤキュア ＭＢＰ」、「カヤキュア ＤＭＢＩ」、「カヤキュア ＥＰＡ」、「カヤキュア ＯＡ」、ストウファ・ケミカル社製「バイキュア １０」、「バイキュア ５５」、アクゾ社製「トリゴナルＰ１」、サンドズ社製「サンドレイ１０００」、アプジョン社製「ディープ」、ワードブレンキンソップ社製「クオンタキュア ＰＤＯ」、「クオンタキュアＩＴＸ」、「クオンタキュアＥＰＤ」、Ｒｕｎｔｅｃ社製「Ｒｕｎｔｅｃｕｒｅ−１１０４」等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも、２種以上を併用することもできる。

前記光重合開始剤（Ｄ）の使用量としては、十分な硬化性を得られる観点から、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分及び前記（Ｃ）成分の合計質量１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部の範囲が好ましく、０．１〜１０質量部の範囲がより好ましく、０．５〜５質量部の範囲が特に好ましい。

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、耐熱性をさらに向上させることを目的として、耐熱安定剤（Ｅ）（以下、「（Ｅ）成分」と称することがある。）を添加してもよい。

前記耐熱安定剤（Ｅ）としては、例えば、エタンチオール、２−メチルプロパン−２−チオール、ｎ−ドデカンチオール、２，３，３，４，４，５−ヘキサメチルヘキサン−２−チオール、２−メルカプトエタノール、４−メルカプト−１−ブタノール、メルカプト酢酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸２−エチルヘキシル、３−メルカプトプロピオン酸３−メトキシブチル、３−メルカプトプロピオン酸ｎ−オクチル、３−メルカプトプロピオン酸ステアリル、３−（トリメトキシシリル）プロパン−１−チオール、３−（トリエトキシシリル）プロパン−１−チオール、ベンゼンチオール、ベンジルチオール、３−メチルベンゼンチオール、４−メチルベンゼンチオール、ナフタレン−２−チオール、ピリジン−２−チオール、ベンゾイミダゾール−２−チオール、ベンゾチアゾール−２−チオール、１，２―エタンジチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，４−ブタンジチオール、２，３−ブタンジチオール、１，５−ペンタンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，１０−デカンジチオール、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ブタンジチオール、３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジチオール、３，７−ジチア−１，９−ノナンジチオール、１，４−ビス（３−メルカプトプロピオニルオキシ）ブタン、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，２−ベンゼンジチオール、１，３−ベンゼンジチオール、１，４−ベンゼンジチオール、２，３−ジアミノ−１，４−ベンゼンジチオール、４，５−ジメチル−Ｏ−キシレンジチオール、トルエン−３，４−ジチオール、４，４’−ビフェニルジチオール、１，５−ナフタレンジチオール、６−（ジブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、２−アミノ−１，３，５−トリアジン−４，６−ジチオール、６−アニリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、６−（４’−アニリノフェニル−イソプロピルアミノ）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、６−（３’，５’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、キノキサリン−２，３−ジチオール、プリン−２，６−ジチオール、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジチオール、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５−ベンゼントリチオール、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール、トリス［２−（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［２−（３−メルカプトブチリルオキシ）エチル］イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトブチレート）等のメルカプト基を有する化合物などが挙げられる。また、これらの耐熱安定剤は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

前記耐熱安定剤（Ｅ）の市販品としては、例えば、花王株式会社製「チオカルコール２０」、昭和電工株式会社製「カレンズＭＴ ＰＥ１」、「カレンズＭＴ ＢＤ１」、「カレンズＭＴ ＮＲ１」、「ＴＰＭＢ」、「ＴＥＭＢ」、ＳＣ有機化学株式会社製「ＴＭＭＰ」、「ＴＥＭＰＩＣ」、「ＰＥＭＰ」、「ＥＧＭＰ−４」、「ＤＰＭＰ」、「ＴＭＭＰ ＩＩ−２０Ｐ」、「ＰＥＭＰ ＩＩ−２０Ｐ」が挙げられる。

前記耐熱安定剤（Ｅ）の使用量としては、十分な耐熱性を得られる観点から、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分及び前記（Ｃ）成分の合計質量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の範囲が好ましく、０．１〜５質量部の範囲がより好ましく、０．５〜３質量部の範囲が特に好ましい。

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、必要に応じて、前記（Ａ）〜（Ｅ）成分以外にもその他の添加剤を含有することができる。

前記その他の添加剤としては、例えば、重合禁止剤、光増感剤、表面調整剤、帯電防止剤、消泡剤、粘度調整剤、耐光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、有機顔料、無機顔料、顔料分散剤、シリカビーズ、有機ビーズ等の添加剤；酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化アンチモン等の無機充填剤などが挙げられる。これらその他の添加剤は単独で用いることも２種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、耐熱性を向上できることから、酸化防止剤が好ましい。

前記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。これらの酸化防止剤は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

前記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、スチレン化フェノール、２，６−ジターシャリーブチル−ｐ−クレゾール、２，５−ジターシャリーブチルヒドロキノン、２，５−ジターシャリーアミルヒドロキノン、３−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸オクタデシル、２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール、２，２−メチレンビス（６−ターシャリーブチル−ｐ−クレゾール）、２，２−メチレンビス（６−ターシャリーブチル−４−エチルフェノール）、４，４−ブチリデンビス（６−ターシャリーブチル−ｍ−クレゾール）、４，４−チオビス（６−ターシャリーブチル−ｍ−クレゾール）、２，２−チオジエチルビス［３−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、ビス［３−（３−ターシャリーブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオンサン］［エチレンビス（オキシエチレン）］、ビス［３−［３−（ターシャリーブチル）−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル］プロパン酸］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン−３，９−ジイルビス（２−メチルプロパン−２，１−ジイル）、Ｎ，Ｎ−ビス［２−［２−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシフェニル）エチルカルボニルオキシ］エチル］オキサミド、Ｎ，Ｎ−（ヘキサン−１，６−ジイル）ビス［３−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンアミド］、２，４，６−トリス（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、１，３，５−トリス（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ターシャリーブチルフェニル）ブタン、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、ジエチル（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート等が挙げられる。

前記フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０ＦＦ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０３５ＦＦ（Ｗ＆Ｃ）」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６ＦＤ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ２４５ＦＦ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ３１１４」、川口化学工業株式会社製「ＡＮＴＡＧＥ ＢＨＴ」、「ＡＮＴＡＧＥ ＤＡＨ」、「ＡＮＴＡＧＥ ＤＢＨ」、「ＡＮＴＡＧＥ Ｗ−３００」、「ＡＮＴＡＧＥ Ｗ−４００」、「ＡＮＴＡＧＥ Ｗ−５００」、「ＡＮＴＡＧＥ クリスタル」、「ＡＮＴＡＧＥ ＳＰ」、「ＡＮＴＡＧＥ ＨＰ−２００」、「ＡＮＴＡＧＥ ＨＰ−３００」、株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブ ＡＯ−２０」、「アデカスタブ ＡＯ−３０」、「アデカスタブ ＡＯ−４０」、「アデカスタブ ＡＯ−５０」、「アデカスタブ ＡＯ−５０Ｆ」、「アデカスタブ ＡＯ−５０Ｔ」、「アデカスタブ ＡＯ−６０」、「アデカスタブ ＡＯ−６０Ｇ」、「アデカスタブ ＡＯ−８０」、「アデカスタブ ＡＯ−３３０」、住友化学株式会社製「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＧＡ−８０」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＧＰ」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＭＤＰ−Ｓ」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＷＸ−Ｒ」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＷＸ−ＲＣ」、三菱ケミカル株式会社製「ヨシノックス ＢＢ」、城北化学工業株式会社製「ＪＣ−３５６」等が挙げられる。

前記ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイトトリイソデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト、トリ（ステアリル）ホスファイト、ジフェニルモノ（２−エチルヘキシル）ホスファイト、ジフェニルモノデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルモノ（トリデシル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス（２，４−ジターシャリーブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、４，４−ブチリデンビス（３−メチル−６−ターシャリーブチルフェニルジトリデシルホスファイト）、テトラ（Ｃ１２〜Ｃ１５アルキル）−４，４−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、３，９−ビス（オクタデシルオキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ビス（２，６−ジターシャリーブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）−６−［（２−エチルヘキシル）オキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、ビス（デシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、水添ビスフェノールＡ・ペンタエリスリトールホスファイトポリマー等が挙げられる。

前記ホスファイト系酸化防止剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＦＯＳ １６８」、「ＩＲＧＡＦＯＳ １６８ＦＦ」、株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブ ＰＥＰ−８」、「アデカスタブ ＰＥＰ−３６」、「アデカスタブ ＨＰ−１０」、「アデカスタブ ２１１２」、「アデカスタブ ２１１２ＲＧ」、「アデカスタブ １１７８」、「アデカスタブ １５００」、「アデカスタブ Ｃ」、「アデカスタブ １３５Ａ」、「アデカスタブ ３０１０」、「アデカスタブ ＴＰＰ」、城北化学工業株式会社製「ＪＰ−３６０」、「ＪＰ−３５１」、「ＪＰ−３ＣＰ」、「ＪＰ−３０８Ｅ」、「ＪＰＥ−３０８Ｅ」、「ＪＰ−３１０」、「ＪＰ−３１２Ｌ」、「ＪＰ−３３３Ｅ」、「ＪＰＭ−３０８」、「ＪＰＭ−３１１」、「ＪＰＭ−３１３」、「ＪＰＰ−１００」、「ＪＡ−８０５」、「ＪＰＨ−１２００」、「ＪＰＰ−８８」、「ＪＰＥ−１０」、「ＪＰＥ−１３Ｒ」、「ＪＰ−３１８Ｅ」、「ＪＰＰ−２０００ＰＴ」、「ＪＰ−６５０」、「ＪＰＨ−３８００」等が挙げられる。

前記硫黄系酸化防止剤としては、例えば、３，３−チオジプロピオン酸ジドデシル、３，３−チオビスプロピオン酸ジトリデシル、３，３−チオジプロピオン酸ジオクタデシル、テトラキス［３−（ドデシルチオ）プロピオン酸］ペンタエリトリトール等が挙げられる。

前記硫黄系酸化防止剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＮＯＸ ＰＳ８００ＦＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ＰＳ８０２ＦＬ」、株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブ ＡＯ−４１２Ｓ」、「アデカスタブ ＡＯ−５０３」、ケミプロ化成株式会社製「ＫＥＭＩＮＯＸ ＰＬＳ」、住友化学株式会社製「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＴＰ−Ｄ」等が挙げられる。

前記その他添加剤として、屈折率や熱膨張係数を調整するために無機充填剤が好適に用いられる。前記無機充填剤としては、シリカ微粒子、ジルコニア微粒子、その他の微粒子、等が挙げられ、おのおの独立に１種又は２種以上を組み合わせて使用することができる。前記無機充填剤の粒子径としては１０００ｎｍ以下が好ましく、５００ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が特に好ましい。

前記シリカ微粒子の市販品としては、例えば、日産化学株式会社製「メタノールシリカゾル」、「ＭＡ−ＳＴ−Ｍ」、「ＭＡ−ＳＴ−Ｌ」、「ＩＰＡ−ＳＴ」、「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」、「ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」、「ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ」、「ＥＧ−ＳＴ」、「ＮＰＣ−ＳＴ−３０」、「ＰＧＭ−ＳＴ」、「ＤＭＡＣ−ＳＴ」、「ＭＥＫ−ＳＴ−４０、「ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ」、「ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬ」、「ＭＥＫ−ＳＴ−ＵＰ」、「ＭＩＢＫ−ＳＴ」、「ＭＩＢＫ−ＳＴ−Ｌ」、「ＣＨＯ−ＳＴ−Ｍ」、「ＥＡＴ−ＳＴ」、「ＰＭＡ−ＳＴ」、「ＴＯＬ−ＳＴ」、「ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ」、「ＭＥＫ−ＡＣ−４１３０Ｙ」、「ＭＥＫ−ＡＣ−５１４０Ｚ」、「ＭＩＢＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ」、「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、「ＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ」、「ＰＧＭ−ＡＣ−４１４０Ｙ」、「ＭＥＫ−ＥＣ−２１３０Ｙ」、日本触媒株式会社製「シーホスター ＫＥ−Ｅ１０」、「シーホスター ＫＥ−Ｅ３０」、「シーホスター ＫＥ−Ｅ１５０」、「シーホスター ＫＥ−Ｗ１０」、「シーホスター ＫＥ−Ｗ３０」、「シーホスター ＫＥ−Ｗ５０」、「シーホスター ＫＥ−Ｐ１０」、「シーホスター ＫＥ−Ｐ３０」、「シーホスター ＫＥ−Ｐ５０」、「シーホスター ＫＥ−Ｐ１００」、「シーホスター ＫＥ−Ｐ１５０」、「シーホスター ＫＥ−Ｐ２５０」、「シーホスター ＫＥ−Ｓ１０」、「シーホスター ＫＥ−Ｓ３０」、「シーホスター ＫＥ−Ｓ５０」、「シーホスター ＫＥ−Ｓ１００」、「シーホスター ＫＥ−Ｓ１５０」、「シーホスター ＫＥ−Ｓ２５０」、信越化学株式会社製「ＱＳＧ−１０」、「ＱＳＧ−３０」、「ＱＳＧ−１００」、「ＱＳＧ−１７０」、株式会社アドマテックス社製「アドマナノ ＹＡ０１０Ｃ」、「ＹＡ０５０Ｃ」、「ＹＡ１００Ｃ」、大研化学工業株式会社製「ＤＬＳＢ−００１」、「ＤＬＳＢ−００２」等が挙げられる。

前記ジルコニア微粒子の市販品としては、例えば、第一工業製薬株式会社製「ＺＨＲ−１０１」、「ＺＨＲ−１０３」、「ＺＨＲ−２００」、日本触媒株式会社製「ジルコスターＺＰ−１５３」、「ジルコスターＨＲ−１０１」、堺化学工業株式会社製「ＳＺＲ−Ｗ」、「ＳＺＲ−Ｍ」、「ＳＺＲ−ＣＷ」、「ＳＺＲ−ＣＭ」、「ＳＺＲ−ＫＭ」、「ＳＺＲ−Ｋ」、大研化学工業株式会社製「ＤＬＺ−００１」、「ＤＬＺ−００７」、「ＤＬＺ−００３Ｕ」、「ＤＬＭ−００１」、「ＤＬＭ−００２」、第一稀元素化学工業株式会社製「ＺＳＬ−１０Ａ」、「ＺＳＬ−１０Ｔ」、「ＺＳＬ−２０Ｎ」、「ＺＳＬ−０００１４」、アイテック社製「ジルコネオ−Ｃｗ」、「ジルコネオ−Ｃｋ」、大成化工株式会社製「ＴＺＰ−１０３」等が挙げられる。

前記その他の微粒子の市販品としては、例えば、チタニア微粒子として、大成化工株式会社製「ＴＴＰ−１１３」、「ＴＴＰ−１１３２」、チタン酸バリウム微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「ＤＬＢ−００１」、「ＤＬＢ−００２」、「ＤＬＢ−００３」、アンチモン酸化スズ微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「ＤＬＡＴ−００１」、インジウム酸化スズ微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「ＤＬＩＴ−００１」等が挙げられる。

前記活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物を得る方法としては、例えば、基材上に前記活性エネルギー線硬化性組成物を塗工し、その後活性エネルギー線を照射する方法が挙げられる。

前記基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂；セルロースアセテート（ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等）、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート、セルロースアセテートフタレート、硝酸セルロース等のセルロース系樹脂；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニル系樹脂；ポリビニルアルコール；エチレン−酢酸ビニル共重合体；ポリスチレン；ポリアミド；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂；ノルボルネン系樹脂（例えば、日本ゼオン株式会社製「ゼオノア」）、変性ノルボルネン系樹脂（例えば、ＪＳＲ株式会社製「アートン」）、環状オレフィン共重合体（例えば、三井化学株式会社製「アペル」）などの樹脂フィルム；シリコン、シリコンカーバイド、シリコンナイトライド、サファイア、アルミニウムナイトライド、窒化ガリウム、リン化ガリウム、ヒ化ガリウム、リン化インジウム等の半導体ウエハー；石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ケイ酸塩ガラス、光学ガラス（クラウンガラス、フリントガラス）等のガラスなどを用いることができる。

前記基材に本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を塗工する方法としては、例えば、ダイコート、マイクログラビアコート、グラビアコート、ロールコート、コンマコート、エアナイフコート、キスコート、スプレーコート、ディップコート、スピンナーコート、刷毛塗り、シルクスクリーンによるベタコート、ワイヤーバーコート、フローコート、ディスペンサー、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷等が挙げられる。

前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させる活性エネルギー線としては、上記の通り、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線である。ここで、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合、その紫外線を照射する装置としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ（フュージョンランプ）、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀−キセノンランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、太陽光、ＬＥＤランプ等が挙げられる。

前記活性エネルギー線の照射量（積算光量）としては、１００〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、３００〜８，０００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましい。なお、前記活性エネルギー線の照射量は、所望の励起波長に適した光量計により測定した値を基準とし、例えば、岩崎電気株式会社アイ紫外線積算照度計 ＵＶＰＦ−Ａ２シリーズ、浜松ホトニクス製紫外線光量計Ｃ９５３６／Ｈ９５３５シリーズ、同Ｃ９５３６／Ｈ９９５８シリーズ、同Ｃ１０４２７／Ｈ１０４２８シリーズ、ウシオ電機製紫外線積算光量計ＵＩＴ−２０１、同ＵＩＴ−２５０、同ＵＩＴ−θシリーズ、等を用いることができる。取り分け本発明においては岩崎電気株式会社アイ紫外線積算照度計 ＵＶＰＦ−Ａ２（ＰＤ−３６５）を用いて測定した積算光量を基準とする。

なお、前記活性エネルギー線の照射は、一段階で行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。

前記本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物の膜厚としては、硬化物の硬さを十分なものとすることができる点から、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５０〜５００μｍの範囲がより好ましい。

前記硬化物の屈折率（ｎ_ｄ）としては、１．４０〜１．６０の範囲であることが好ましく、１．４５〜１．５５の範囲がより好ましい。なお、前記硬化物の屈折率は、ＪＩＳ試験方法Ｋ７１４２：２０１４のＡ法に準拠して測定した値を示す。

前記硬化物のアッベ数（ν_ｄ）としては、５３以上であることが好ましく、５３〜６０の範囲であることがより好ましく、５５〜５９の範囲が更に好ましく、５６〜５８の範囲が特に好ましい。なお、前記硬化物のアッベ数はＪＩＳ試験方法Ｋ７１４２：２０１４のＡ法に準拠して測定した屈折率をもとに算出した値を示す。

前記硬化物の光線透過率としては、光学用レンズに好適に使用できる観点から波長４１０ｎｍにおける光線透過率が８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。光線透過率の測定方法については、実施例にて詳述する。

前記硬化物の耐熱試験後の光線透過率としては、半田リフロー耐性を有する光学用レンズに好適に使用できる観点から波長４１０ｎｍにおける光線透過率が初期の光線透過率から±５％以内であることが好ましく、±３％以内であることがより好ましく、±１％以内であることが特に好ましい。耐熱試験後の光線透過率の測定方法については、実施例にて詳述する。

前記硬化物の吸水率としては、高温多湿環境下で硬化物内部に欠陥を生じさせないために、０．１％〜４．０％の範囲であることが好ましく、０．３〜３．５％の範囲であることがより好ましく、０．５〜２．５％の範囲であることが特に好ましい。なお、前記硬化物の吸水率は、ＪＩＳ試験方法Ｋ７２０９：２０００のＣ法に準拠した測定値を用いて、水中への溶出分を加味した算出値を示す。

前記硬化物の耐湿熱性としては、高温多湿環境下で硬化物内部に欠陥を生じさせないために、温度８５℃−湿度８５％ＲＨ−時間１０００時間の条件で行った湿熱試験の結果、基材からのハガレがないことが好ましく、硬化物と基材界面に欠陥がないことがより好ましく、硬化物内部に欠陥がないことが特に好ましい。なお、前記硬化物の耐湿熱性の評価方法については、実施例にて詳述する。

本発明のレンズは、前記硬化物を有するものである。また、前記レンズは、必要に応じて、前記硬化物の少なくとも片面に無機化合物からなる無機層を有していてもよく、さらに、基材を有していてもよい。

なお、本発明のレンズは、インプリント成形により、ウェハレベルレンズとして用いることもできる。

本発明のレンズを製造する方法としては、特に制限されず、どのような方法にて製造してもよいが、例えば、前記活性エネルギー線硬化性組成物を、ウエハーやガラス等の基材上に塗布し、金型により所望の形状に賦形した後、活性エネルギー線を照射して前記組成物を仮硬化させる。金型を離型後、未硬化の活性エネルギー線硬化性組成物を溶剤により洗浄する現像工程を経て、再度活性エネルギー線を照射し本硬化を行う。さらに必要に応じて、物理蒸着等により無機化合物からなる無機層を硬化物表面に成膜する。最後に前記基材を個片化する方法等が挙げられる。

前記溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、イソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン等の環状エーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族系溶剤；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶剤；カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤；アルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

前記無機層としては、無機化合物からなる層を意味し、一般に、反射防止、耐擦り傷性等の機能を有するものである。

前記無機化合物としては、例えば、金属酸化物、複酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、複フッ化物、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物及びそれらの混合物等が挙げられる。

前記金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、チタン、イットリウム、インジウム、スズ、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、タンタル、等が挙げられる。

前記無機層を反射防止層（反射防止膜層ともいう）として用いる場合、前記反射防止膜層は単層であってもよいが、低屈折率層と、高屈折率層とを有していてもよい。また、低屈折率層と高屈折率層は、それぞれ１層でも複数層であってもよい。なお、低屈折率層と高屈折率層の積層順序も特に限定されない。

前記高屈折率層に用いる無機化合物としては、例えば、チタン酸ランタン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、及びそれらの混合物等が挙げられる。

前記低屈折率層に用いる無機化合物としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム及びそれらの混合物等が挙げられる。

前記無機層は、前記樹脂層の表面に成膜することで得られるものである。前記無機層の成膜方法は、特に制限されず、適宜公知の成膜方法を用いることができるが、物理蒸着（ＰＶＤ）又は化学蒸着（ＣＶＤ）により成膜することが好ましい。

前記成膜方法は、成膜工程の一貫性及び簡素化の観点から、前記物理蒸着（ＰＶＤ）を用いることがより好ましく、例えば、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の方法が挙げられる。

前記真空蒸着としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、電子ビーム加熱方式等を用いることができる。

前記スパッタリングは、ＤＣスパッタでもＲＦスパッタでもよく、マグネトロンスパッタでもイオンビームスパッタでもよい。また、平行平板ターゲット方式でも対向ターゲット方式でもよい。また、真空チャンバー内に導入する気体としては、例えば、アルゴン、クリプトン、酸素、窒素等が挙げられ、各々単独でも２種以上を混合して用いてもよい。

前記無機層の膜厚は、目的とする機能により適宜調整し得るが、反射防止機能を目的とする場合、１０ｎｍ〜５，０００ｎｍの範囲が好ましく、無機層の膜強度と生産性の観点から、１００ｎｍ〜２，０００ｎｍの範囲がより好ましく、２５０ｎｍ〜１，０００ｎｍの範囲が特に好ましい。

以上、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成される硬化物は、高いアッベ数と高光線透過率を有し、かつ耐熱性と耐湿熱性に優れ、活性エネルギー線の照射によって簡便に硬化できるものであることから、光インプリントによるレンズ製造に好適に使用することができる。また、上記レンズを有するカメラモジュールを提供することができる。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。

［実施例１］
（Ａ）成分としてポリカーボネートジオールジアクリレート（宇部興産株式会社製「ＵＭ−９０（１／３）ＤＡ」：一般式（１）におけるＲ^１が水素原子であり、Ｒ^２がそれぞれ独立して、炭素原子数６の直鎖状炭化水素基とシクロヘキサン構造をランダムに有するものであり、ｎが４〜５のものである。）；７０質量部、（Ｂ）成分として２−ヒドロキシエチルアクリレート（大阪有機化学工業株式会社製「ＨＥＡ」）；１０質量部、（Ｃ）成分としてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（共栄社化学株式会社製「ＤＣＰ−Ｍ」）；２０質量部、（Ｄ）成分として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦ製「Ｉ−１８４」）；１質量部を混合し、５０℃に加温後、ホモディスパ―を使用して回転数１，０００ｒｐｍで１０分間撹拌混合して活性エネルギー線硬化性組成物を調製した。

［実施例２〜１４、比較例１〜６］
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｅ）の種類及び／又は量を表１〜３に示す通りに変更した以外は、実施例１と同様にして活性エネルギー線硬化性組成物を調製した。

［屈折率の測定方法］
実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を三角プリズム型（厚さ５ｍｍ、１辺の長さ１０ｍｍ）に流し込み、アイグラフィックス株式会社製ベルトコンベアー式紫外線照射装置（１２０Ｗメタルハライドランプ）を使用して、３，０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して三角プリズムを作製した。得られた三角プリズムを株式会社島津製作所製カルニュー精密屈折計「ＫＰＲ−３０００」を使用して２５℃におけるｄ線、Ｆ線、Ｃ線、各々の屈折率を測定した。なお、硬化物の屈折率（ｎ_ｄ）に最も近い屈折率（ｎ_ｄ）を有するマッチング液を適宜選択して用いた。

［アッベ数の算出方法］
上述の［屈折率の測定方法］にて測定したｄ線、Ｆ線、Ｃ線、各々の屈折率を用いて下記式によりアッベ数（ν_ｄ）を算出した。

［透過率の測定方法］
オクタデシルトリクロロシランにより離型処理を施したガラス板上に、実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を滴下し、厚み１ｍｍのシムプレートをスペーサーとして油滴の左右に配置後、同様にオクタデシルトリクロロシランにより離型処理を施したガラス板により油滴を挟み込んだ。２枚のガラス板で挟みこまれた活性エネルギー線硬化性組成物の油滴を、岩崎電気株子会社製ＵＶ−ＬＥＤ照射装置「ＬＨＰＵＶ３６５／２５０１」にて照射強度５０ｍＷ／ｃｍ^２、積算光量８０００ｍＪ／ｃｍ^２を照射し、約１ｍｍ厚のコイン状硬化物を得た。得られたコイン状硬化物を送風式オーブンにより１００℃で２０分間加熱した後、日本分光株式会社製紫外可視近赤外分光光度計「Ｖ−７７０」を用いて波長４１０ｎｍにおける初期透過率を測定した。

［耐熱試験後透過率の測定方法］
前記透過率の測定方法において測定したコイン状硬化物を、送風式オーブンにより（１）１７５℃で１０分間加熱、乃至（２）２６０℃で６分間加熱した後、日本分光株式会社製紫外可視近赤外分光光度計「Ｖ−７７０」を用いて波長４１０ｎｍにおける透過率を、各々耐熱試験後透過率１及び耐熱試験後透過率２として測定した。なお、加熱温度は低温溶融半田と通常溶融半田のリフロー工程に準じた温度設定として１７５℃と２６０℃を用いた。

［吸水率の測定方法］
厚み０．２ｍｍのシムプレートとガラス棒を用いて、アクリル板上に実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を塗工後、アイグラフィックス株式会社製ベルトコンベアー式紫外線照射装置（１２０Ｗメタルハライドランプ）にて積算光量３，０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線照射により膜厚０．２ｍｍのシート状硬化物を得た。得られたシート状硬化物をダンベルカッターを用いて長さ５ｃｍ×幅５ｃｍに裁断することで吸水率測定用試験片を作製した。作製した前記試験片を送風式オーブンにより５０℃で２４時間乾燥後、試験片の重量測定を行い初期重量ｍ_１とした。初期重量測定後、２３℃の純水３００ｍｌに２４時間浸漬させた。純水から引き上げた試験片に残った水分を旭化成株式会社製不織布「ベンコット」にて拭き取った後、試験片の重量測定を行い浸漬後重量ｍ_２とした。浸漬後重量測定後、送風式オーブンにより５０℃で２４時間乾燥させ、試験片の重量測定を行い乾燥重量ｍ_３とした。上記ｍ_１〜ｍ_３を用いて、下記式により吸水率を算出した。

［耐湿熱性の評価方法］
実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を、信越化学工業株式会社製シランカップリング剤「ＫＢＭ−５１０３」により密着処理を施したカバーガラス上に滴下し、レンズレプリカにより賦形した後、岩崎電気株式会社製ＵＶ−ＬＥＤ照射装置「ＬＨＰＵＶ３６５／２５０１」にて照射強度５０ｍＷ／ｃｍ^２、積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の照射により仮硬化させた。レンズレプリカを離型後、プロピレングリコールモノメチルエーテルにより現像処理を行い、未硬化の樹脂組成物を除去した。さらに、積算光量７，５５０ｍＪ／ｃｍ^２による本硬化を行った後、送風式オーブンを用いて１００℃で９０分間のポストベークを行うことで、ウェハレベルレンズを得た。得られたウェハレベルレンズを環境試験機（エスペック製ＳＨ−２２２）を用いて温度８５℃、相対湿度８５％、で１０００時間の耐湿熱試験を行った。試験後レンズを株式会社キーエンス製マイクロスコープ「ＶＨＸ９００」及びオリンパス株式会社製レーザー顕微鏡「ＯＬＳ５０００」を用いて観察し、下記の基準に従い評価した。

◎：ハガレ、界面欠陥、内部欠陥が見られない。
〇：ハガレ、界面欠陥は見られないが内部欠陥が１〜１０個程度。
△：ハガレ、界面異常、内部欠陥の程度が中程度。
×：ハガレ、界面異常、内部欠陥が重度。

表１〜３中の略語は以下のものを示す。
「Ｒ−６０４」；
ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート（日本化薬株式会社製）
「ＨＢＰＥ−４」；
ＥＯ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート（第一工業製薬株式会社製）
「ＨＰＡ」；
２−ヒドロキシプロピルアクリレート（大阪有機化学工業株式会社製）
「４−ＨＢＡ」；
４−ヒドロキシブチルアクリレート（大阪有機化学工業株式会社製）
「ＣＨＤＭＭＡ」；
シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート（三菱ケミカル株式会社製）
「Ｍ−９２６」；
ＥＯ変性ソルビトールジアクリレート（東亜合成株式会社製）
「ＰＥ−１」；
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（昭和電工株式会社製）

表１〜３の評価結果より、実施例１〜１４の本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成された硬化物は、高アッベ数、高耐熱性を有し、吸水率が０．５〜２．５の範囲に制御されかつ高い耐湿熱性を有することが明らかになった。また、実施例１〜１４のレンズサンプルは硬化後の反りもなく、割れやヒビもなく外観も良好であった。

一方、比較例１〜３は、本発明にて規定する（Ｂ）成分を含有しない活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、耐湿熱試験においてハガレ、界面異常、内部欠陥が発生し、耐湿熱性が著しく不十分であることが確認された。

また、比較例４は、本発明にて規定する（Ｃ）成分を含有しない活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、耐湿熱試験において界面異常、内部欠陥が発生し、耐湿熱性が不十分であることが確認された。

比較例５〜６は、本発明にて規定する（Ａ）成分を含有しない活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、成型後のソリが酷く形状の歪みの発生、初期透過率が低い、吸水率が高い等の問題が確認された。

Claims (11)

1. 下記一般式（１）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）と、
   前記ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）以外の一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び一分子中に１個以上の水酸基を有する化合物（Ｂ）と、
   前記ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ）及び前記化合物（Ｂ）以外の一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び環状構造を有する化合物（Ｃ）と、
   を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。
   

   

   
   （式中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜１０の炭化水素基を示す。ｎは１〜１０の整数である。）
2. 前記一般式（１）中のＲ^２が、それぞれ独立して、炭素原子数５〜６の直鎖状炭化水素基、シクロヘキサン構造、又はイソソルバイド構造を有するものである、請求項１に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
3. 前記環状構造が、シクロヘキサン構造、トリシクロデカン構造及び１，３−ジオキサン構造からなる群より選ばれる１種以上である、請求項１又は２に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
4. 前記化合物（Ｂ）が、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート及びソルビトールエチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる１種以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物。
6. ＪＩＳ試験方法（Ｋ７２０９：２０００）のＣ法を用いて測定した吸水率が、０．１〜４．０％の範囲である、請求項５に記載の硬化物。
7. 請求項５記載の硬化物を有することを特徴とするレンズ。
8. 請求項５記載の硬化物を有することを特徴とするウェハレベルレンズ。
9. その少なくとも片面に無機化合物層が設けられた請求項５記載の硬化物を有することを特徴とするレンズ。
10. 前記無機化合物層が、反射防止層である、請求項９に記載のレンズ。
11. 請求項７〜１０記載のいずれか１項に記載のレンズを有することを特徴とするカメラモジュール。