JP2021175782A - 含フッ素イソシアヌル化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】樹脂を含む種々の材料から成る基材に、撥水性、撥油性および防汚性を有し、かつ溶剤への溶解度が高い含フッ素イソシアヌル化合物の提供。【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される化合物を提供する。［式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である。］【選択図】なし

Description

本開示は、含フッ素イソシアヌル化合物および該含フッ素イソシアヌル化合物を含有する組成物に関する。

ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。このような含フッ素化合物として、（Ａ）ジイソシアネートを３量体化させたトリイソシアネートと、（Ｂ−１）少なくとも１つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテルおよび（Ｂ−２）活性水素と炭素−炭素二重結合を有するモノマーを反応させた含フッ素化合物（特許文献１）が知られている。

国際公開第２００３／００２６２８号

上記した特許文献１に記載の含フッ素化合物は、基材に撥水撥油性などの機能を与え得るが、溶剤に対する溶解性が十分でなく、表面処理層の形成に不具合を生じ得る場合がある。

本開示は、樹脂を含む種々の材料から成る基材に、撥水性、撥油性および防汚性を有し、かつ摩擦耐久性が高い表面処理層を与えることができる含フッ素イソシアヌル化合物を提供することを目的とする。

本開示は、以下の態様を含む。
［１］ 下記式（１）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｑは、０または１であり；
Ｘ^ａは、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ^Ａ１は、ＯＲ^Ａｃ基含有基であり；
Ｒ^Ａｃは、（メタ）アクリロイル基であり；
Ｘ^ｂは、少なくとも２つのヘテロ原子を含有する二価の有機基であり；
Ｒ^Ｂは、Ｒ^Ｆ１−Ｘ^ａ−またはＲ^Ａ１−Ｘ^ｂ−である。］
で表される化合物。
［２］ Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］に記載の化合物。
［３］ Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、上記［２］に記載の化合物。
［４］ Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］、
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］、
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］〜［３］のいずれか１項に記載の化合物。
［５］ Ｘ^ａは、下記式：
−（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１−（Ｘ^ａ１）_ｙ１−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１−
［式中、
Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、または、−ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基である。）であり、
Ｘ^ａ１は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、または、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−であり（ここに、各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
ｘ１は０〜１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１〜１０の整数である。］
で表される基である、上記［１］〜［４］のいずれか１項に記載の化合物。
［６］ Ｘ^ａは、−（ＣＨ_２）_ｍ２２−（式中、ｍ２２は１〜３の整数である。）で表される基である、上記［１］〜［５］のいずれか１項に記載の化合物。
［７］ Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣまたは−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２であり、
Ｒ^Ａ４は、Ｃ_１−１０アルキレン基であり、
Ｒ^Ａ５は、炭素数１〜１０の三価の炭化水素基であり、
Ｒ^Ａ６は、単結合または−Ｃ_１−１０アルキレン−Ｏ−であり、
Ｒ^ＡＣは、（メタ）アクリロイル基である、
上記［１］〜［６］のいずれか１項に記載の化合物。
［８］ Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣまたは−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２であり、
Ｒ^Ａ４は、Ｃ_１−１０アルキレン基であり、
Ｒ^Ａ５は、炭素数１〜１０の三価の炭化水素基であり、
Ｒ^ＡＣは、（メタ）アクリロイル基である、
上記［１］〜［７］のいずれか１項に記載の化合物。
［９］ Ｘ^ｂは、−Ｘ^ｃ−Ｘ^ｄ−であり、
Ｘ^ｃは、ヘテロ原子を含有する二価の有機基であり、
Ｘ^ｄは、−ＣＯ−ＮＲ^ｄ２−、−ＯＣＯ−ＮＲ^ｄ２−、−ＮＲ^ｄ２−ＣＯ−、または−ＮＲ^ｄ２−ＣＯＯ−であり、
Ｒ^ｄ２は、水素原子またはＣ_１−６アルキル基である、
上記［１］〜［８］のいずれか１項に記載の化合物。
［１０］ Ｘ^ｂは、−Ｘ^ｃ−Ｘ^ｄ−であり、
Ｘ^ｃは、ヘテロ原子を含有する二価の有機基であり、
Ｘ^ｄは、−ＣＯ−ＮＲ^ｄ２−であり、
Ｒ^ｄ２は、水素原子またはＣ_１−６アルキル基である、
上記［１］〜［９］のいずれか１項に記載の化合物。
［１１］ Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２であり、
Ｒ^Ａ５は、炭素数４〜６の三価の炭化水素基であり、
Ｒ^ＡＣは、（メタ）アクリロイル基である、
上記［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の化合物。
［１２］ Ｘ^ｃは、−［（Ｒ^ｃ１）_ｔ１−（Ｘ^ｃ１）_ｔ２］−Ｘ^ｃ２−であり、
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合またはＣ_１−１２アルキレン基であり、
Ｘ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＮＲ^ｘ１、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ_２であり、
Ｒ^ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
Ｘ^ｃ２は、ＯまたはＮＲ^ｘ２であり、
Ｒ^ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
ｔ１は、１〜６の整数であり、
ｔ２は、１〜６の整数であり、
ここに、［（Ｒ^ｃ１）_ｔ１−（Ｘ^ｃ１）_ｔ２］において、Ｒ^ｃ１およびＸ^ｃ１の存在順序は式中において任意である、
上記［９］〜［１１］のいずれか１項に記載の化合物。
［１３］ Ｘ^ｃは、−Ｒ^ｃ１’−Ｘ^ｃ１−Ｒ^ｃ１”−Ｘ^ｃ２−であり、
Ｒ^ｃ１’は、Ｃ_１−６アルキレン基であり、
Ｒ^ｃ１”は、Ｃ_１−１２アルキレン基であり、
Ｘ^ｃ１は、Ｏ、ＮＲ^ｘ１、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ_２であり、
Ｒ^ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
Ｘ^ｃ２は、ＯまたはＮＲ^ｘ２であり、
Ｒ^ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基である、
上記［９］〜［１２］のいずれか１項に記載の化合物。
［１４］ Ｘ^ｃは、−Ｒ^ｃ１’−Ｘ^ｃ１−Ｒ^ｃ１”−Ｘ^ｃ２−であり、
Ｒ^ｃ１’は、Ｃ_２−４アルキレン基であり、
Ｒ^ｃ１”は、Ｃ_２−１２アルキレン基であり、
Ｘ^ｃ１は、Ｓであり、
Ｘ^ｃ２は、Ｏである
上記［９］〜［１３］のいずれか１項に記載の化合物。
［１５］ Ｒ^Ｂは、Ｒ^Ａ１−Ｘ^ｂ−である、上記［１］〜［１４］のいずれか１項に記載の化合物。
［１６］ １種またはそれ以上の上記［１］〜［１５］のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
［１７］ 上記［１］〜［１５］のいずれか１項に記載の化合物または上記［１６］に記載の表面処理剤；および
マトリックスを形成する組成物
を含む、硬化性組成物。
［１８］ 基材と、該基材の表面に上記［１６］に記載の表面処理剤あるいは上記［１７］に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
［１９］ 上記物品が光学部材である、上記［１８］に記載の物品。

本開示の含フッ素イソシアヌル化合物は、樹脂を含む種々の材料から成る基材に、撥水性、撥油性および防汚性を有し、かつ摩擦耐久性が高い表面処理層を与えることができ、表面処理剤として好適に使用することができる。

本明細書において用いられる場合、「有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に記載が無い限り、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、スルホキシド、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１−２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

以下、本開示の含フッ素イソシアヌル化合物について説明する。

本開示は、下記式（１）または式（２）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、０または１であり；
Ｘ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ^Ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、ＯＲ^Ａｃ基含有基であり；
Ｒ^Ａｃは、（メタ）アクリロイル基であり；
Ｘ^ｂは、少なくとも２つのヘテロ原子を含有する二価の有機基であり；
Ｒ^Ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^Ｆ１−Ｘ^ａ−またはＲ^Ａ１−Ｘ^ｂ−である。］
で表される化合物を提供する。

上記式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−である。

上記式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−である。

上記式において、Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基における「Ｃ_１−１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６アルキル基、特にＣ_１−３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６アルキル基、特にＣ_１−３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５ペルフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６ペルフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１−１６ペルフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６ペルフルオロアルキル基、特にＣ_１−３ペルフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６ペルフルオロアルキル基、特にＣ_１−３ペルフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基における「Ｃ_１−６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３アルキレン基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキレン基である。

上記Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である。

上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式において、ｑは、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０〜１００の整数であってもよい。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、上記繰り返し単位は、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよい。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよい。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよい。

一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）〜（ｆ５）のいずれかで表される基である。
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］；
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］；
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００、さらに好ましくは１５〜５０、例えば２５〜３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−で表される基であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−で表される基である。

上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０〜２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ−である。

上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２〜０．９５であり、より好ましくは０．２〜０．９である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０〜２．０である。

上記フルオロポリエーテル基含有化合物において、Ｒ^Ｆ１の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。

上記式（１）および（２）において、Ｘ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。

Ｘ^ａは、式（１）および（２）の環に直接結合する単結合または二価の連結基である。Ｘ^ａとしては、単結合、アルキレン基、または、エーテル結合およびエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、または、エーテル結合およびエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｘ^ａとしては、下記式：
−（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１−（Ｘ^ａ１）_ｙ１−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１−
（式中、Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、または、−ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基である。）であり、
上記Ｘ^ａ１は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、または、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−であり（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
ｘ１は０〜１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１〜１０の整数である。）
で表される基が更に好ましい。

上記Ｘ^ａ１としては、−Ｏ−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−が好ましい。

上記Ｘ^ａとしては、下記式：
−（ＣＦ_２）_ｍ１１−（ＣＨ_２）_ｍ１２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ１３−
（式中、ｍ１１は１〜３の整数であり、ｍ１２は１〜３の整数であり、ｍ１３は１〜３の整数である。）
で表される基、
−（ＣＦ_２）_ｍ１４−（ＣＨ_２）_ｍ１５−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ_２）_ｍ１６−
（式中、ｍ１４は１〜３の整数であり、ｍ１５は１〜３の整数であり、ｍ１６は１〜３の整数である。）
で表される基、
−（ＣＦ_２）_ｍ１７−（ＣＨ_２）_ｍ１８−
（式中、ｍ１７は１〜３の整数であり、ｍ１８は１〜３の整数である。）
で表される基、
−（ＣＦ_２）_ｍ１９−（ＣＨ_２）_ｍ２０−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）−（ＣＨ_２）_ｍ２１−
（式中、ｍ１９は１〜３の整数であり、ｍ２０は１〜３の整数であり、ｍ２１は１〜３の整数である。）
で表される基、または、
−（ＣＨ_２）_ｍ２２−
（式中、ｍ２２は１〜３の整数である。）
で表される基が特に好ましい。

上記Ｘ^ａとして、特に限定されないが、具体的には、
−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−、−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−（ＣＦ_２）_ｎ５−（ｎ５は０〜４の整数である。）、−（ＣＦ_２）_ｎ５−（ＣＨ_２）_ｍ５−（ｎ５およびｍ５は、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２−
等が挙げられる。

上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、ＯＲ^Ａｃ基含有基である。

上記Ｒ^Ａｃは、（メタ）アクリロイル基である。ここに、本明細書において、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基を包含する。

本開示の化合物は、（メタ）アクリロイル基を含有することにより、溶剤への溶解性が向上し、さらに、かかる化合物から得られる表面処理層の摩擦耐久性が向上し得る。

一の態様において、上記Ｒ^ＡＣは、アクリロイル基である。

別の態様において、上記Ｒ^ＡＣは、メタクリロイル基である。

好ましい態様において、上記Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣまたは−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２である。

一の態様において、上記Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣまたは−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２である。

一の態様において、上記Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣまたは−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣである。Ｒ^Ａ１を−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣまたは−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣとすることにより、本開示の化合物から得られる表面処理層の初期接触角が高くなり得る。

別の態様において、上記Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２または−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２である。Ｒ^Ａ１を−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２または−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２とすることにより、本開示の化合物の溶媒への溶解性がより向上し得、また、本開示の化合物から得られる表面処理層の耐久性がより高くなり得る。

上記Ｒ^Ａ４は、Ｃ_１−１０アルキレン基、好ましくはＣ_２−６アルキレン基、より好ましくはＣ_２−４アルキレン基である。

上記Ｒ^Ａ５は、炭素数１〜１０の三価の炭化水素基、好ましくは炭素数４〜６の三価の炭化水素基である。

好ましい態様において、Ｒ^Ａ５は、下記の基である。

（式中、＊は、ＯＲ^ＡＣに結合し、＊＊は、Ｘ^ｂに結合する。）

上記Ｒ^Ａ６は、単結合または−Ｃ_１−１０アルキレン−Ｏ−であり、

一の態様において、上記Ｒ^Ａ６は、単結合である。

別の態様において、上記Ｒ^Ａ６は、−Ｃ_１−１０アルキレン−Ｏ−である。

上記−Ｃ_１−１０アルキレン−Ｏ−は、好ましくは−Ｃ_１−６アルキレン−Ｏ−、より好ましくは−Ｃ_２−６アルキレン−Ｏ−、さらに好ましくは−Ｃ_２−４アルキレン−Ｏ−であり得る。

上記式（１）および（２）において、Ｘ^ｂは、少なくとも２つのヘテロ原子を含有する二価の有機基である。

本開示の化合物は、Ｘ^ｂに少なくとも２つのヘテロ原子を含有することにより、溶剤への溶解性がより向上し得、さらに、かかる化合物から得られる表面処理層の摩擦耐久性がより向上し得る。

好ましい態様において、Ｘ^ｂは、−Ｘ^ｃ−Ｘ^ｄ−である。

上記Ｘ^ｃは、ヘテロ原子を含有する二価の有機基である。

好ましい態様において、Ｘ^ｃは、下記式
−［（Ｒ^ｃ１）_ｔ１−（Ｘ^ｃ１）_ｔ２］−Ｘ^ｃ２−
［式中、
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合またはＣ_１−１２アルキレン基であり、
Ｘ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＮＲ^ｘ１、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ_２であり、
Ｒ^ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
Ｘ^ｃ２は、ＯまたはＮＲ^ｘ２であり、
Ｒ^ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
ｔ１は、１〜６の整数であり、
ｔ２は、１〜６の整数であり、
ここに、［（Ｒ^ｃ１）_ｔ１−（Ｘ^ｃ１）_ｔ２］において、Ｒ^ｃ１およびＸ^ｃ１の存在順序は式中において任意である］
で表される基である。

本開示の化合物は、Ｘ^ｃとして上記の基を有することにより、かかる化合物から得られる表面処理層の摩擦耐久性がより向上し得る。

一の態様において、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−１２アルキレン基である。

上記Ｒ^ｃ１において、Ｃ_１−１２アルキレン基は、好ましくはＣ_１−１０アルキレン基、より好ましくはＣ_２−１０アルキレン基、例えば、Ｃ_２−９アルキレン基である。

上記Ｘ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは−Ｓ−、−ＳＯ−または−ＳＯ_２−であり、より好ましくは−Ｓ−である。

上記Ｘ^ｃ２は、好ましくは、Ｏである。

上記ｔ１は、１〜６の整数、好ましくは２〜４の整数、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは２である。

上記ｔ２は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数、より好ましくは１〜２の整数、さらに好ましくは１である。

好ましい態様において、ｔ１は２であり、かつ、ｔ２は１である。

好ましい態様において、
Ｘ^ｃは、−Ｒ^ｃ１’−Ｘ^ｃ１−Ｒ^ｃ１”−Ｘ^ｃ２−であり、
Ｒ^ｃ１’は、Ｃ_１−６アルキレン基であり、
Ｒ^ｃ１”は、Ｃ_１−１２アルキレン基であり、
Ｘ^ｃ１は、Ｏ、ＮＲ^ｘ１、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ_２であり、
Ｒ^ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
Ｘ^ｃ２は、ＯまたはＮＲ^ｘ２であり、
Ｒ^ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基である。

より好ましい態様において、
Ｘ^ｃは、−Ｒ^ｃ１’−Ｘ^ｃ１−Ｒ^ｃ１”−Ｘ^ｃ２−であり、
Ｒ^ｃ１’は、Ｃ_１−６アルキレン基であり、
Ｒ^ｃ１”は、Ｃ_１−１２アルキレン基であり、
Ｘ^ｃ１は、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ_２であり、
Ｘ^ｃ２は、Ｏである。

さらに好ましい態様において、
Ｘ^ｃは、−Ｒ^ｃ１’−Ｘ^ｃ１−Ｒ^ｃ１”−Ｘ^ｃ２−であり、
Ｒ^ｃ１’は、Ｃ_２−４アルキレン基であり、
Ｒ^ｃ１”は、Ｃ_２−１２アルキレン基であり、
Ｘ^ｃ１は、Ｓであり、
Ｘ^ｃ２は、Ｏである。

上記Ｘ^ｄは、−ＣＯ−ＮＲ^ｄ２−、−ＯＣＯ−ＮＲ^ｄ２−、−ＮＲ^ｄ２−ＣＯ−、または−ＮＲ^ｄ２−ＣＯＯ−である。

上記Ｒ^ｄ２は、水素原子またはＣ_１−６アルキル基である、

好ましい態様において、上記Ｘ^ｄは、−ＣＯ−ＮＲ^ｄ２−である。

上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^Ｆ１−Ｘ^ａ−またはＲ^Ａ１−Ｘ^ｂ−である。ここに、Ｒ^ＢがＲ^Ｆ１−Ｘ^ａ−である場合、式（１）中にＲ^Ｆ１−Ｘ^ａ−が２つ存在するが、これらは同じであってもよく、異なっていてもよい。同様に、Ｒ^ＢがＲ^Ａ１−Ｘ^ｂ−である場合、式（１）および（２）中にＲ^Ａ１−Ｘ^ｂ−が複数存在するが、これらは同じであってもよく、異なっていてもよい。

一の態様において、Ｒ^Ｂは、Ｒ^Ｆ１−Ｘ^ａ−である。Ｒ^ＢをＲ^Ｆ１−Ｘ^ａ−とすることにより、本開示の化合物から得られる表面処理層の初期接触角が高くなり得る。

好ましい態様において、Ｒ^Ｂは、Ｒ^Ａ１−Ｘ^ｂ−である。Ｒ^ＢをＲ^Ａ１−Ｘ^ｂ−とすることにより、本開示の化合物の溶媒への溶解性がより向上し得、また、本開示の化合物から得られる表面処理層の耐久性がより高くなり得る。

上記式（１）および（２）で表される含フッ素イソシアヌル化合物の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば１，０００〜３０，０００、好ましくは２，０００〜２０，０００、より好ましくは２，５００〜６，０００、さらに好ましくは２，５００〜５，０００である。本明細書において、含フッ素イソシアヌル化合物の数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。含フッ素イソシアヌル化合物の数平均分子量を上記の範囲にすることにより、含フッ素イソシアヌル化合物の溶剤への溶解性が向上する。また、該化合物から得られる表面処理層の初期接触角および摩擦耐久性が向上し得る。

一の態様において、本開示の化合物は、式（１）で表される化合物である。

別の態様において、本開示の化合物は、式（２）で表される化合物である。

別の態様において、本開示の化合物は、式（１）で表される化合物および式（２）で表される化合物である。即ち、式（１）で表される化合物および式（２）で表される化合物の混合物として用いられる。

上記混合物中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％または１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下または５モル％以上１０モル％以下である。式（２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、より摩擦耐久性を向上させることができる。

本開示の含フッ素イソシアヌル化合物は、例えば、下記のようにして合成することができる。

下記式（１ａ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｑは、０または１であり；
Ｘ^ａは、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ^Ｂａは、Ｒ^Ｆ１−Ｘ^ａ−またはアリル基である。］
で表される化合物に、下記式（２ａ）
ＨＸ^ｃ１−Ｒ^ｂ２−ＯＨ （２ａ）
［式中：
Ｘ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＮＲ^ｘ１、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ_２であり、
Ｒ^ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
Ｒ^ｂ２は、Ｃ_１−１０アルキレン基である。］
で表される化合物を反応させて、下記式（１ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１、Ｒｆ^１、Ｒ^Ｆ、ｑ、Ｘ^ａ、Ｘ^ｃ１、およびＲ^ｂ２は、上記と同意義であり、
Ｒ^Ｂｂは、Ｒ^Ｆ１−Ｘ^ａ−または−（ＣＨ_２）_３−Ｘ^ｃ１−Ｒ^ｂ２−ＯＨである。］
で表される化合物を得る。

さらに、上記で得られた式（１ｂ）で表される化合物に、下記式（２ｂ）
ＯＣＮ−Ｒ^Ａ１ （２ｂ）
で表される化合物を反応させて、本開示の式（１）で表される含フッ素イソシアヌル化合物を得ることができる。

本開示の化合物は、種々の用途に使用し得る。次に、本開示の化合物の用途の例を説明する。

本開示の化合物は、重合性コーティング剤モノマーとともに使用できる。本開示の化合物、および、重合性コーティング剤モノマーを含むことを特徴とする組成物も本発明の１つである（本明細書において組成物（ａ）ということがある）。組成物（ａ）は、上記構成を有することから、水またはｎ−ヘキサデカンに対する静的接触角が大きく、透明であり、離形性に優れ、指紋が付きにくく、指紋が付いても完全に拭き取ることができる塗膜が得られる。

上記重合性コーティング剤モノマーとしては、炭素−炭素二重結合を有するモノマーが好ましい。

上記重合性コーティング剤モノマーとしては、例えば、特に限定されるものではないが、単官能および／または多官能アクリレートおよびメタクリレート（以下、アクリレートおよびメタクリレートを合わせて、「（メタ）アクリレート」とも言う）、単官能および／または多官能ウレタン（メタ）アクリレート、単官能および／または多官能エポキシ（メタ）アクリレートである化合物を含有する組成物を意味する。当該マトリックスを形成する組成物としては、特に限定されるものではないが、一般的にハードコーティング剤または反射防止剤とされる組成物であり、例えば多官能性（メタ）アクリレートを含むハードコーティング剤または含フッ素（メタ）アクリレートを含む反射防止剤が挙げられる。当該ハードコーティング剤は、例えば、ビームセット５０２Ｈ、５０４Ｈ、５０５Ａ−６、５５０Ｂ、５７５ＣＢ、５７７、１４０２（商品名）として荒川化学工業株式会社から、ＥＢＥＣＲＹＬ４０（商品名）としてダイセルサイテック株式会社から、ＨＲ３００系（商品名）として横浜ゴム株式会社から市販されている。当該反射防止剤は、例えばオプツールＡＲ−１１０（商品名）としてダイキン工業株式会社から市販されている。

組成物（ａ）は、さらに、酸化防止剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、シリカなどの無機微粒子、アルミニウムペースト、タルク、ガラスフリット、金属粉などの充填剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）などの重合禁止剤などを含んでいてもよい。

組成物（ａ）は、さらに、ウレタン化用の触媒、例えば、スズ系触媒、チタン系触媒、ジルコニア系触媒、ビスマス系触媒、有機アミン系触媒を含んでいてもよい。

上記スズ系触媒としては、ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ（ＩＶ）が挙げられる。
上記チタン系触媒としては、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−２−エチルヘキソキシド、チタンテトラアセチルアセトナートが挙げられる。
上記ジルコニア系触媒としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）が挙げられる。
上記ビスマス系触媒としては、ビスマストリス（２−エチルヘキサノエート）が挙げられる。
上記有機アミン系触媒としては、ジアザビシクロウンデセンが挙げられる。

組成物（ａ）は、更に、溶媒を含むことが好ましい。上記溶媒としては、フッ素含有有機溶媒またはフッ素非含有有機溶媒が挙げられる。

上記フッ素含有有機溶媒としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロオクタン、パーフルオロジメチルシクロヘキサン、パーフルオロデカリン、パーフルオロアルキルエタノール、パーフルオロベンゼン、パーフルオロトルエン、パーフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ−２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ−７１００（商品名）、ＨＦＥ−７３００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン、含フッ素アルコール、パーフルオロアルキルブロミド、パーフルオロアルキルヨージド、パーフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３−ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２−（パーフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２−（パーフルオロアルキル）エチル、パーフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、およびヘキサフルオロプロペンオリゴマーが挙げられる。

上記フッ素非含有有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、２−ブタノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコールが挙げられる。

なかでも、上記溶媒として、好ましくは、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサデカン、酢酸ブチル、アセトン、２−ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、ジアセトンアルコールまたは２−プロパノールである。

上記溶媒は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

上記溶媒は組成物（ａ）中に、３０〜９５質量％の範囲で用いられることが好ましい。より好ましくは５０〜９０質量％である。

例えば、組成物（ａ）を基材に塗布することにより、防汚層を形成することができる。また、塗布した後、重合することによって、防汚層を形成することも可能である。上記基材としては、樹脂（特に、非フッ素樹脂）が挙げられる。

本開示の化合物は、硬化性樹脂または硬化性モノマーとともに使用できる。上記の化合物、および、硬化性樹脂または硬化性モノマーを含むことを特徴とする組成物も本発明の１つである（本明細書において組成物（ｂ）ということがある）。組成物（ｂ）は、上記構成を有することから、指紋が付きにくく、指紋が付いても完全に拭き取ることができる塗膜が得られる。

上記硬化性樹脂は、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれであってもよく、耐熱性、強度を有する樹脂であれば特に制限されないが、光硬化性樹脂が好ましく、紫外線硬化性樹脂がより好ましい。

上記硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリアミド系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、環状ポリオレフィン系ポリマー、含フッ素ポリオレフィン系ポリマー（ＰＴＦＥ等）、含フッ素環状非結晶性ポリマー（サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）などが挙げられる。

上記硬化性樹脂または上記硬化性樹脂を構成するモノマーとして具体的には、例えば、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、酢酸ビニル、ビニルピバレート、各種（メタ）アクリレート類：フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロール、プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、ジメチルアミノエチルメタクリレートシリコン系のアクリレート、無水マレイン酸、ビニレンカーボネート、鎖状側鎖ポリアクリレート、環状側鎖ポリアクリレートポリノルボルネン、ポリノルボルナジエン、ポリカーボネート、ポリスルホン酸アミド、含フッ素環状非結晶性ポリマー（サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）等が挙げられる。

上記硬化性モノマーは、光硬化性モノマー、熱硬化性モノマーのいずれであってもよいが、紫外線硬化性モノマーが好ましい。

上記硬化性モノマーとしては、例えば、（ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレート、（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレート、（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレート、（ｅ）シリコン（メタ）アクリレート、（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーなどが挙げられる。

上記硬化性モノマーとして具体的には、以下の例が挙げられる。
（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートとしては、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代表されるポリ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕イソシアヌレートが挙げられる。
（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレートはエポキシ基に（メタ）アクリロイル基を付加したものであり、出発原料としてビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェノールノボラック、脂環化合物を用いたものが一般的である。
（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレートのポリエステル部を構成する多価アルコールとしては、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられ、多塩基酸としては、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリット酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸、アルケニルコハク酸などが挙げられる。
（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
（ｅ）シリコン（メタ）アクリレートは、分子量１，０００〜１０，０００のジメチルポリシロキサンの片末端、あるいは、両末端を（メタ）アクリロイル基で変性したものであり、例えば、以下の化合物などが例示される。

（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチル−ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）（メタ）アクリルレート、２−アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどが例示される。

上記硬化性樹脂および硬化性モノマーの内、市場から入手可能で好ましいものとしては以下のものが挙げられる。

上記硬化性樹脂としては、シリコン樹脂類ＰＡＫ−０１、ＰＡＫ−０２（東洋合成化学社製）、ナノインプリント樹脂ＮＩＦシリーズ（旭硝子社製）、ナノインプリント樹脂ＯＣＮＬシリーズ（東京応化工業社製）、ＮＩＡＣ２３１０（ダイセル化学工業社製）、エポキシアクリレート樹脂類ＥＨ−１００１、ＥＳ−４００４、ＥＸ−Ｃ１０１、ＥＸ−Ｃ１０６、ＥＸ−Ｃ３００、ＥＸ−Ｃ５０１、ＥＸ−０２０２、ＥＸ−０２０５、ＥＸ−５０００など（共栄社化学社製）、ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリイソシアネート類、スミジュールＮ−７５、スミジュールＮ３２００、スミジュールＨＴ、スミジュールＮ３３００、スミジュールＮ３５００（住友バイエルンウレタン社製）などが挙げられる。

上記硬化性モノマーとして、シリコンアクリレート系樹脂類、多官能アクリレート類、多官能メタクリレート類およびアルコキシシラン基含有（メタ）アクリレートが挙げられる。

シリコンアクリレート系樹脂類としては、サイラプレーンＦＭ−０６１１、サイラプレーンＦＭ−０６２１、サイラプレーンＦＭ−０６２５、両末端型（メタ）アクリル系のサイラプレーンＦＭ−７７１１、サイラプレーンＦＭ−７７２１およびサイラプレーンＦＭ−７７２５等、サイラプレーンＦＭ−０４１１、サイラプレーンＦＭ−０４２１、サイラプレーンＦＭ−０４２８、サイラプレーンＦＭ−ＤＡ１１、サイラプレーンＦＭ−ＤＡ２１、サイラプレーン−ＤＡ２５、片末端型（メタ）アクリル系のサイラプレーンＦＭ−０７１１、サイラプレーンＦＭ−０７２１、サイラプレーンＦＭ−０７２５、サイラプレーンＴＭ−０７０１およびサイラプレーンＴＭ−０７０１Ｔ（ＪＣＮ社製）等が挙げられる。

多官能アクリレート類としては、Ａ−９３００、Ａ−９３００−１ＣＬ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭＴ（新中村工業社製）等が挙げられる。

多官能メタクリレート類としてＴＭＰＴ（新中村工業社製）等が挙げられる。

アルコキシシラン基含有（メタ）アクリレートとしては、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリクロロシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン（別名（トリイソプロポキシシリル）プロピルメタクリレート（略称：ＴＩＳＭＡ）およびトリイソプロポキシシリル）プロピルアクリレート）、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリクロロシラン、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリイソプロポキ３−（メタ）アクリルオキシイソブチルトリメトキシシラン等が挙げられる。

組成物（ｂ）は、架橋触媒を含むことも好ましい。上記架橋触媒としては、ラジカル重合開始剤、酸発生剤等が例示される。

上記ラジカル重合開始剤は、熱や光によりラジカルを発生する化合物であり、ラジカル熱重合開始剤、ラジカル光重合開始剤が挙げられる。本発明においては、上記ラジカル光重合開始剤が好ましい。

上記ラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート等のパーオキシカーボネート類、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等のアルキルパーエステル類等のパーオキシド化合物、並びに、アゾビスイソブチロニトリルのようなラジカル発生性アゾ化合物等が挙げられる。

上記ラジカル光重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ジアセチル等の−ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。

上記ラジカル光重合開始剤の市販品としては、以下のものが例示される。
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１：２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９５９：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７：２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９：２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７８４：ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２：エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ２６１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、
ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、
ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、
ＤＡＲＯＣＵＲ１１１６、ＤＡＲＯＣＵＲ２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ１６６４、ＤＡＲＯＣＵＲ４０４３、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７５４ オキシフェニル酢酸：２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ５００：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４とベンゾフェノンとの混合物（１
：１）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １３００：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９とＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１との混合物（３：７）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８００：ＣＧＩ４０３とＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４との混合物（１：３）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８７０：ＣＧＩ４０３とＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４との混合物（７：３）、
ＤＡＲＯＣＵＲ ４２６５：ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯとＤＡＲＯＣＵＲ １１７３との混合物（１：１）。
なお、ＩＲＧＡＣＵＲＥはＢＡＳＦ社製であり、ＤＡＲＯＣＵＲはメルクジャパン社製である。

また、上記架橋触媒としてラジカル光重合開始剤を用いる場合には、増感剤として、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどを併用することもでき、重合促進剤として、ＤＡＲＯＣＵＲ ＥＤＢ（エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート）、ＤＡＲＯＣＵＲ ＥＨＡ（２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート）などを併用しても良い。

上記増感剤を用いる場合の増感剤の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１〜５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．１〜２質量部である。

また、上記重合促進剤を用いる場合の重合促進剤の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１〜５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．１〜２質量部である。

上記酸発生剤は、熱や光を加えることによって酸を発生する材料であり、熱酸発生剤、光酸発生剤が挙げられる。本発明においては、光酸発生剤が好ましい。

上記熱酸発生剤としては、例えば、ベンゾイントシレート、ニトロベンジルトシレート（特に、４−ニトロベンジルトシレート）、他の有機スルホン酸のアルキルエステル等が挙げられる。

上記光酸発生剤は、光を吸収する発色団と分解後に酸となる酸前駆体とにより構成されており、このような構造の光酸発生剤に特定波長の光を照射することで、光酸発生剤が励起し酸前駆体部分から酸が発生する。

上記光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ＣＦ_３ＳＯ_３、ｐ−ＣＨ_３ＰｈＳＯ_３、ｐ−ＮＯ_２ＰｈＳＯ_３（ただし、Ｐｈはフェニル基）等の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、またはスルホン酸エステル等が挙げられる。その他、光酸発生剤として、２−ハロメチル−５−ビニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物、２−トリハロメチル−５−アリール−１，３，４−オキサジアゾール化合物、２−トリハロメチル−５−ヒドロキシフェニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物なども挙げられる。なお、上記有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸（例えば、塩化水素）を形成する化合物である。

上記光酸発生剤の市販品として以下のものが例示される。
和光純薬工業社製のＷＰＡＧ−１４５［ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ−１７０［ビス（ｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ−１９９［ビス（ｐ−トルエンスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ−２８１［トリフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート］、ＷＰＡＧ−３３６［ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート］、ＷＰＡＧ−３６７［ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウム ｐ−トルエンスルホネート］、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０３［（５−プロピルスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０８［（５−オクチルスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル）］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１２１［５−ｐ−トルエンスルホニルオキシミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ２０３、ＣＧＩ７２５、三和ケミカル社製のＴＦＥ−トリアジン［２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン］、ＴＭＥ−トリアジン［２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリ−クロロメチル）−ｓ−トリアジン］ＭＰ−トリアジン［２−（メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン］、ジメトキシ［２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリ−クロロメチル）−ｓ−トリアジン］。

上記架橋触媒の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。このような範囲であると、充分な硬化体が得られる。上記架橋触媒の配合量としてより好ましくは、０．３〜５質量部であり、更に好ましくは、０．５〜２質量部である。

また、上記架橋触媒として上記酸発生剤を用いる場合には、必要に応じて酸捕捉剤を添加することにより、上記酸発生剤から発生する酸の拡散を制御してもよい。

上記酸捕捉剤としては、特に制限されないが、アミン（特に、有機アミン）、塩基性のアンモニウム塩、塩基性のスルホニウム塩などの塩基性化合物が好ましい。これらの酸捕捉剤の中でも、有機アミンが、画像性能が優れる点でより好ましい。

上記酸捕捉剤としては、具体的には、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、１−ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート、２，４，６−トリメチルピリジニウムｐ−トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホナート、およびテトラブチルアンモニウムラクテート、トリエチルアミン、トリブチルアミン等が挙げられる。これらの中でも、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、１−ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の有機アミンが好ましい。

上記酸捕捉剤の配合量は、上記酸発生剤１００質量部に対して、２０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量部であり、更に好ましくは０．５〜５質量部である。

組成物（ｂ）は、溶媒を含むものであってもよい。上記溶媒としては、水溶性有機溶媒、有機溶媒（特に、油溶性有機溶媒）、水等が挙げられる。

上記水溶性有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、酢酸エチル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジアセテート、トリプロピレングリコール、３−メトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）、１，３−ブチレングリコールジアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテート、乳酸エチル、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノールなどが挙げられる。

上記有機溶媒としては、例えば、クロロホルム、ＨＦＣ１４１ｂ、ＨＣＨＣ２２５、ハイドロフルオロエーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、テトラクロロジフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタンなどが挙げられる。これら溶媒は単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

上記溶媒としては、レジスト組成物に含まれる成分の溶解性、安全性の観点から、特にＰＧＭＥＡ、ＭＢＡが好ましい。

上記溶媒は組成物（ｂ）中に、１０〜９５質量％の範囲で用いられることが好ましい。より好ましくは２０〜９０質量％である。

例えば、組成物（ｂ）を基材に塗布することにより、レジスト膜を形成できる。上記基材の材料としては、合成樹脂等が挙げられる。

上記合成樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポロプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エボキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば２層以上の積層体として）用いることができる。

上記レジスト膜は、ナノインプリントに使用可能である。たとえば、上記レジスト膜に、微細パターンを表面に形成したモールドを押し付けて微細パターンを転写する工程、該転写パターンが形成された上記レジスト膜を硬化させて転写パターンを有するレジスト硬化物を得る工程、および、該レジスト硬化物をモールドから離型する工程、を含む製造方法により、パターン転写されたレジスト硬化物を得ることができる。

本開示の化合物は、溶媒とともに使用できる。上記の化合物、および、溶媒を含むことを特徴とする組成物も本発明の１つである（本明細書において組成物（ｃ）ということがある）。

組成物（ｃ）において、上記化合物の濃度としては、０．００１〜５．０質量％が好ましく、０．００５〜１．０質量％がより好ましく、０．０１〜０．５質量％が更に好ましい。

上記溶媒としては、フッ素系溶媒が好ましい。上記フッ素系不活性溶剤としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ−２２５）等を挙げることができる。

組成物（ｃ）は、含フッ素オイルを含むことも好ましい。上記含フッ素オイルとしては、
式：Ｒ^１１１−（Ｒ^１１２Ｏ）_ｍ−Ｒ^１１３
（Ｒ^１１１およびＲ^１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のフッ素化アルキル基、−Ｒ^１１４−Ｘ^１１１（Ｒ^１１４は単結合または炭素数１〜１６のアルキレン基、Ｘ^１１１は−ＮＨ_２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨ＝ＣＨ_２、−ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル、アミド）、Ｒ^１１２は炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基、ｍは２以上の整数）で表される化合物がより好ましい。

Ｒ^１１１およびＲ^１１３としては、独立に、Ｆ、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のフッ素化アルキル基または−Ｒ^１１４−Ｘ^１１１（Ｒ^１１４およびＸ^１１１は上記のとおり）が好ましく、Ｆ、炭素数１〜３の完全フッ素化アルキル基または−Ｒ^１１４−Ｘ^１１１（Ｒ^１１４は単結合または炭素数１〜３のアルキレン基、Ｘ^１１１は−ＯＨまたは−ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）がより好ましい。

ｍとしては、３００以下の整数が好ましく、１００以下の整数がより好ましい。

Ｒ^１１２としては、炭素数１〜４の完全フッ素化アルキレン基が好ましい。−Ｒ^１１２Ｏ−としては、例えば、
式：−（ＣＸ^１１２ _２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１１（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１３（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１４（Ｃ_４Ｆ_８Ｏ）_ｎ１１５−
（ｎ１１１、ｎ１１２、ｎ１１３、ｎ１１４およびｎ１１５は、独立に、０または１以上の整数、Ｘ^１１２はＨ、ＦまたはＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表されるもの、
式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^１１８）_ｆ−
（Ｒ^１１８は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であり、ｆは、２〜１００の整数である）で表されるもの
等が挙げられる。

ｎ１１１〜ｎ１１５は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましい。ｎ１１１〜ｎ１１５は、合計で、１以上であることが好ましく、５〜３００であることがより好ましく、１０〜２００であることが更に好ましく、１０〜１００であることが特に好ましい。

Ｒ^１１８は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｆは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^１１８）_ｆ−は、好ましくは、式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｆ−または式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｆ−である。

上記フルオロポリエーテルは、重量平均分子量が５００〜１０００００であることが好ましく、５００００以下がより好ましく、１００００以下が更に好ましく、６０００以下が特に好ましい。上記重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、測定することができる。

市販されている上記フルオロポリエーテルとしては、商品名デムナム（ダイキン工業社製）、フォンブリン（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン社製）、バリエルタ（ＮＯＫクリューバー社製）、クライトックス（デュポン社製）などが挙げられる。

上記含フッ素オイルは、本開示の式（１）および（２）で表される化合物（２種以上の場合はその合計）に対して、例えば５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下含まれ得る。一の態様において、上記含フッ素オイルは、本開示の式（１）および（２）で表される化合物（２種以上の場合はその合計）に対して、例えば０．１質量％以上、好ましくは１質量％以上、例えば５質量％以上含まれ得る。

組成物（ｃ）を使用して、基材上に離型層を形成できる。上記離型層は、組成物（ｃ）に上記基材を浸漬する方法、組成物（ｃ）の蒸気に上記基材を暴露し蒸着させる方法、上記組成物（ｃ）を上記基材に印刷する方法、インクジェットを用いて上記組成物（ｃ）を上記基材に塗布する方法等が挙げられる。上記浸漬、上記蒸着、上記印刷、上記塗布の後に、乾燥させてもよい。上記基材として、凹凸パターンが形成されたモールドが使用でき、離型層が形成された上記モールドは、ナノインプリントに使用可能である。

上記基材としては、例えば、樹脂、例えばシリコーン等の高分子樹脂などが挙げられる。

本開示は、上記の化合物、または、上記の組成物を含むことを特徴とする防汚剤も提供する。

上記防汚剤は、樹脂（特に、非フッ素樹脂）に塗布して使用できる。

上記防汚剤は、表面防汚性、膨潤性を必要とする物品（特に、光学材料）にさまざま使用できる。物品の例としては、ＰＤＰ、ＬＣＤなどディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイおよびベンディングディスプレイのカバーウィンドウ、；携帯電話、携帯情報端末などの機器；タッチパネルシート；ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスク；メガネレンズ；光ファイバー；筐体；自動車の内装物品（具体的には、自動車内部の座席シートとその裏側、車内天井、壁面および床、ダッシュボードとその下部、運転席周辺のパネル、スイッチ、レバー等、トランクの内部）などが挙げられる。

光ディスクなどの光学材料は、炭素−炭素二重結合含有組成物中、または炭素−炭素二重結合含有組成物からなる重合物中、炭素−炭素二重結合含有組成物および炭素−炭素二重結合含有モノマーの重合物中のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含有量が０．０１重量％〜１０重量％となるように添加されて形成された被膜により表面コーティングされていることが好ましい。０．０１重量％〜１０重量％では、ＰＦＰＥ添加の特長的な物性（防汚等）が現われ、表面硬度が高く、かつ透過率が高い。

本開示は、本開示の化合物、または、本開示の組成物を含むことを特徴とする離型剤でもある。

上記離型剤からは、基材上に離型層を形成できる。上記離型層は、上記離型剤に上記基材を浸漬する方法、上記離型剤の蒸気に上記基材を暴露し蒸着させる方法、上記組成物を上記基材に印刷する方法、インクジェットを用いて上記組成物を上記基材に塗布する方法等が挙げられる。上記浸漬、上記蒸着、上記印刷、上記塗布の後に、乾燥させてもよい。上記基材として、凹凸パターンが形成されたモールドが使用でき、離型層が形成された上記モールドは、ナノインプリントに使用可能である。

上記基材としては、例えば、金属、金属酸化物、石英、シリコーン等の高分子樹脂、半導体、絶縁体、またはこれらの複合体などが挙げられる。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、０．０５〜６０μｍ、好ましくは０．１〜３０μｍ、より好ましくは０．５〜２０μｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

上記のように本開示の組成物（ａ）〜（ｃ）は、いわゆる表面処理剤として用いられる。

以上、本開示の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示されるポリマーの化学式はすべて平均組成を示す。

合成例１
特許文献１（ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１）に記載の方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ａ）を合成した。

ＰＦＰＥ含化合物（Ａ）：

合成例２ ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）の製造方法
上記で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ａ）（１０．０ｇ）を、ｍ−ヘキサフルオロキシレンに溶解させ、メルカプトエタノール（０．７４ｇ）を加えて撹拌しながら加熱した。反応の終点は^１Ｈ−ＮＭＲによって確認した。反応液にパーフルオロヘキサンとアセトンを加えて分液させ、下層を濃縮することで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）を１０．１ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）：

合成例３ ＰＦＰＥ含化合物（Ｃ）の製造方法
上記で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）（１０．０ｇ）を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンに溶解させ、加温しながら撹拌した。ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ（IV）（６．２ｍｇ）および１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（商品名：カレンズＢＥＩ（昭和電工社製））（２．３ｇ）を更に加えて撹拌を続けた。反応の終点はＩＲと^１Ｈ−ＮＭＲで確認した。２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（７．４ｍｇ）を加えてしばらく撹拌した後、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を加えて、フィルターで濾過して、ＰＦＰＥ含化合物（Ｃ）を２０ｗｔ％含む溶液を６０．５ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｃ）：

合成例４〜６ ＰＦＰＥ含化合物（Ｄ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｅ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｆ）の製造方法
特許文献１（ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１）に記載の方法と、合成例２および３に記載した方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ｄ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｅ）、およびＰＦＰＥ含化合物（Ｆ）を含む溶液をそれぞれ調製した。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｄ）：

ＰＦＰＥ含化合物（Ｅ）：

ＰＦＰＥ含化合物（Ｆ）：

合成例７および８ ＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）の製造方法
特許文献１（ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１）に記載の方法と、合成例２に記載した方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ｇ）およびＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）をそれぞれ合成した。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）：

ＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）：

合成例９ ＰＦＰＥ含化合物（Ｉ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）（１０．０ｇ）を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンに溶解させ、加温しながら撹拌した。ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ（ＩＶ）（５．４ｍｇ）および２−イソシアナートエチルアクリレート（商品名：カレンズＡＯＩ（昭和電工社製））（０．７０ｇ）を更に加えて撹拌を続けた。反応の終点はＩＲと^１Ｈ−ＮＭＲで確認した。２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（６．４ｍｇ）を加えてしばらく撹拌した後、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を加え、フィルターで濾過して、ＰＦＰＥ含化合物（Ｉ）を２０ｗｔ％含む溶液を５２．９ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｉ）：

合成例１０ ＰＦＰＥ含化合物（Ｊ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ａ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）を用い、メルカプトエタノールの代わりにメルカプトプロパノールを用いたこと以外は、合成例２の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｊ）を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｊ）：

合成例１１ ＰＦＰＥ含化合物（Ｋ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｊ）を用いたこと以外は、合成例３の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｋ）を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｋ）：

合成例１２ ＰＦＰＥ含化合物（Ｌ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｊ）を用いたこと以外は、合成例９の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｌ）を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｌ）：

合成例１３ ＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ａ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）を用い、メルカプトエタノールの代わりにメルカプトヘキサノールを用いたこと以外は、合成例２の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）：

合成例１４ ＰＦＰＥ含化合物（Ｎ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）を用いたこと以外は、合成例３の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｎ）を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｎ）：

合成例１５ ＰＦＰＥ含化合物（Ｏ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）を用いたこと以外は、合成例９の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｏ）を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｏ）：

合成例１６ ＰＦＰＥ含化合物（Ｐ）の製造方法
上記で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）（１０．０ｇ）を、ｍ−ヘキサフルオロキシレンに溶解させ、４−メルカプト−１−ブタノール（０．５３ｇ）を加えて撹拌しながら加熱した。反応の終点は^１Ｈ−ＮＭＲによって確認した。反応液にパーフルオロヘキサンとアセトンを加えて分液させ、下層を濃縮することで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｐ）を１０．２ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｐ）：

合成例１７ ＰＦＰＥ含化合物（Ｑ）の製造方法
上記で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｐ）（１０．０ｇ）を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンに溶解させ、加温しながら撹拌した。ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ（ＩＶ）（５．７ｍｇ）および１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（商品名：カレンズＢＥＩ（昭和電工社製））（１．１３ｇ）を更に加えて撹拌を続けた。反応の終点はＩＲと^１Ｈ−ＮＭＲで確認した。２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（６．８ｍｇ）を加えてしばらく撹拌した後、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を加えて、フィルターで濾過し、ＰＦＰＥ含化合物（Ｑ）を２０ｗｔ％含む溶液を５４．３ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｑ）：

合成例１８ ＰＦＰＥ含化合物（Ｒ）の製造方法
合成例１３で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）（１０．０ｇ）を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンに溶解させ、加温しながら撹拌した。ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ（ＩＶ）（６．６ｍｇ）および２−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）エチルイソシアナート（商品名：カレンズＭＯＩ―ＥＧ（昭和電工社製））（０．９４ｇ）を更に加えて撹拌を続けた。反応の終点はＩＲと^１Ｈ−ＮＭＲで確認した。２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（７．７ｍｇ）を加えてしばらく撹拌した後、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を加えて、フィルターで濾過し、ＰＦＰＥ含化合物（Ｒ）を２０ｗｔ％含む溶液を５３．３ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｒ）：

合成例１９ ＰＦＰＥ含化合物（Ｓ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）の代わりに合成例８で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）を用いたこと以外は、合成例１８の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｓ）を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｓ）：

合成例２０ ＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ａ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）を用い、メルカプトエタノールの代わりに９−メルカプト−１−ノナノールを用いたこと以外は、合成例２の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）：

合成例２１ ＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）を用い、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）の代わりにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いたこと以外は、合成例３の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）：

合成例２２
特許文献１（ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１）に記載の方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ｖ）を合成した。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｖ）：

ｍ、ｎの値は平均の値である。

合成例２３ ＰＦＰＥ含化合物（Ｗ）の製造方法
上記で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｖ）（１０．０ｇ）を、ｍ−ヘキサフルオロキシレンに溶解させ、メルカプトエタノール（０．４１ｇ）を加えて撹拌しながら加熱した。反応の終点は^１Ｈ−ＮＭＲによって確認した。反応液にパーフルオロヘキサンとアセトンを加えて分液させ、下層を濃縮することで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｗ）を９．５ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｗ）：

合成例２４ ＰＦＰＥ含化合物（Ｘ）の製造方法
上記で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｗ）（９．０ｇ）を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンに溶解させ、加温しながら撹拌した。ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ（ＩＶ）（５．３ｍｇ）および１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（商品名：カレンズＢＥＩ（昭和電工社製））（１．１ｇ）を更に加えて撹拌を続けた。反応の終点はＩＲと^１Ｈ−ＮＭＲで確認した。２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（６．１ｍｇ）を加えてしばらく撹拌した後、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を加えて、フィルターで濾過して、ＰＦＰＥ含化合物（Ｘ）を２０ｗｔ％含む溶液を４９．５ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｘ）：

合成例２５
特許文献１（ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１）に記載の方法に準じて、以下のパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ｙ）を合成した。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｙ）：

ｍ、ｎの値は平均の値である。

合成例２６ ＰＦＰＥ含化合物（Ｚ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｖ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｙ）を用いたこと以外は、合成例２３の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｚ）を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（Ｚ）：

合成例２７ ＰＦＰＥ含化合物（ＡＡ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｗ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｚ）を用いたこと以外は、合成例２４の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＡ）を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＡ）：

合成例２８ ＰＦＰＥ含化合物（ＡＢ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ａ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）を用い、メルカプトエタノールの代わりに１１−メルカプト−１−ウンデカノールを用い、アゾイソブチロニトリルを３５ｍｇ添加し、加熱温度を８０℃で行ったこと以外は、合成例２の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＢ）を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＢ）：

合成例２９ ＰＦＰＥ含化合物（ＡＣ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）の代わりにＰＦＰＥ含化合物（ＡＢ）を用い、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）の代わりにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いたこと以外は、合成例３の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＣ）を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＣ）：

合成例３０ ＰＦＰＥ含化合物（ＡＤ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＢ）を含む混合物の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）（１０．０ｇ）を、ｍ−ヘキサフルオロキシレンに溶解させ、アゾイソブチロニトリルを３５ｍｇ添加した後、メルカプトエタノール（０．１８ｇ）と１１−メルカプト−１−ウンデカノール（０．４６ｇ）を同時に加えて撹拌しながら８０℃に加熱した。反応の終点は^１Ｈ−ＮＭＲによって確認した。反応液にパーフルオロヘキサンとアセトンを加えて分液させ、下層を濃縮することで、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＤ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＢ）を含む混合物を１０．０ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＤ）：

合成例３１ ＰＦＰＥ含化合物（ＡＥ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｆ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＣ）を含む混合物の製造方法
合成例３０で得られたＰＦＰＥ含化合物（ＡＤ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｈ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＢ）を含む混合物を用い、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）の代わりにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いたこと以外は、合成例３の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＥ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｆ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＣ）を含む混合物を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＥ）：

合成例３２ ＰＦＰＥ含化合物（ＡＦ）とＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）を含む混合物の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）（１０．０ｇ）を、ｍ−ヘキサフルオロキシレンに溶解させ、メルカプトヘキサノール（０．３１ｇ）と９−メルカプト−１−ノナノール（０．４０ｇ）を同時に加えて撹拌しながら加熱した。反応の終点は^１Ｈ−ＮＭＲによって確認した。反応液にパーフルオロヘキサンとアセトンを加えて分液させ、下層を濃縮することで、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＦ）とＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）を含む混合物を１０．２ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＦ）：

合成例３３ ＰＦＰＥ含化合物（ＡＧ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｎ）およびＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）を含む混合物の製造方法
合成例３２で得られたＰＦＰＥ含化合物（ＡＦ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）およびＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）を含む混合物を用い、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）の代わりにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いたこと以外は、合成例３の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＧ）、ＰＦＰＥ含化合物（Ｎ）およびＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）を含む混合物を２０ｗｔ％含む溶液を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＧ）：

合成例３４ ＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＩ）を含む混合物の製造方法
下記３つのＰＦＰＥ含化合物（ｘ）（ｙ）および（ｚ）の混合物（重量比 ｘ：ｙ：ｚ＝６０：２５：１５）を準備した。
（ｘ）ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２５−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ
（ｙ）ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２５−ＣＦ_２ＣＦ_３
（ｚ）ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２５−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ
上記の混合物から、特許文献１（ＷＯ２０１８／０５６４１３Ａ１）に記載の方法に準じて、ＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＩ）を含む混合物を合成した。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）：
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２５−ＣＦ_２ＣＦ_３
（なお、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）は上記ＰＦＰＥ含化合物（ｙ）である）

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＩ）

合成例３５ ＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＪ）を含む混合物の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ａ）の代わりに合成例３４で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｇ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＩ）を含む混合物（１０．０ｇ）を用い、メルカプトエタノールの代わりにメルカプトヘキサノールを用い、更にアゾビスイソブチロニトリル（８０ｍｇ）を加えたこと以外は、合成例２の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＪ）を含む混合物を１０．５ｇ得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＪ）：

合成例３６ ＰＦＰＥ含化合物（Ｎ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＫ）を含む混合物の製造方法
合成例３５で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｍ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＪ）を含む混合物（１０．０ｇ）を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンに溶解させ、加温しながら撹拌した。ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ（ＩＶ）（９．５ｍｇ）および１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（商品名：カレンズＢＥＩ（昭和電工社製））（１．３ｇ）を更に加えて撹拌を続けた。反応の終点はＩＲと^１Ｈ−ＮＭＲで確認した。２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（９．５ｍｇ）を加えてしばらく撹拌した後、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を加えて、フィルターで濾過し、ＰＦＰＥ含化合物（Ｎ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＫ）を含む混合物を２０ｗｔ％で含む溶液（Ａ）を得た。溶液中、ＰＦＰＥ含化合物（Ｎ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＫ）の重量比は、６１：２２：１７であった。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＫ）：

合成例３７ ＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＬ）を含む混合物の製造方法
メルカプトヘキサノールの代わりに、９−メルカプト−１−ノナノールを加えたこと以外は、合成例３５の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＬ）を含む混合物を得た。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＬ）：

合成例３８ ＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＭ）を含む混合物の製造方法
合成例３７で得られたＰＦＰＥ含化合物（Ｔ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＬ）を含む混合物を用いたこと以外は、合成例３６の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＭ）を含む混合物を２０ｗｔ％で含む溶液（Ｂ）を得た。溶液中、ＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡM）の重量比は、６２：２２：１６であった。

ＰＦＰＥ含化合物（ＡＭ）：

合成例３９ ＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＭ）を含む混合物の製造方法
合成例３８で用いた触媒を、ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ（ＩＶ）（９．５ｍｇ）の代わりにジルコニウムテトラアセチルアセトナート（商品名：ＺＣ−７００（マツモトファインケム社製））（８０．０ｍｇ）に変更し、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）の代わりに２−ブタノン（ＭＥＫ）に変更したこと以外は、合成例３８の方法に準じることで、ＰＦＰＥ含化合物（Ｕ）、ＰＦＰＥ含化合物（ＡＨ）およびＰＦＰＥ含化合物（ＡＭ）を含む混合物を２０ｗｔ％で含む溶液（Ｃ）を得た。

実施例１〜２１
ビームセット５７５ＣＢ（荒川化学工業社製）（１．５ｇ）とメチルイソブチルケトン（１．５ｇ）とを混合し、ＰＦＰＥ含化合物（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｉ）、（Ｋ）、（Ｌ）、（Ｎ）、（Ｏ）、（Ｑ）、（Ｒ）、（Ｓ）、（Ｕ）、（Ｘ）、（ＡＡ）、（ＡＣ）、（ＡＥ）および（ＡＧ）が、それぞれビームセット５７５ＣＢに対して０．５質量％となるよう加え、遮光下、回転ミキサーにて１時間攪拌し、ＰＦＰＥ含有ハードコート材料１〜１８（実施例１〜１８）を得た。また、溶液（Ａ）〜（Ｃ）を用いて、その固形分濃度がビームセット５７５ＣＢに対して０．５質量％となるようにして、ＰＦＰＥ含有ハードコート材料１９〜２１（実施例１９〜２１）を得た。

比較例１および２
ＰＦＰＥ含化合物を、ＤＡＣ−ＨＰ（ダイキン工業株式会社製）に変更した以外は、上記と同様にして、ハードコート材料２２（比較例１）を得た。また、ＰＦＰＥ含化合物未添加のビームセット５７５ＣＢとメチルイソブチルケトンとの混合溶液のみのハードコート材料２３（比較例２）を調製した。

（評価）
＜硬化膜の特性評価＞
Ａ４サイズの１／４の大きさに切断したＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４１００）に、上記で得られたハードコート材料１〜２３（１．０ｍｌ）を載せ、バーコーターにて均一な塗膜を形成した。得られた塗膜に、窒素雰囲気下３６５ｎｍのＵＶ光を含む光線を６００ｍＪ／ｃｍ^２の強度で照射し、各ハードコート材料を硬化させて硬化膜（表面処理層）を得た。これら硬化膜の初期特性を測定した。

各硬化膜について、各評価は、以下の方法により行った。

（静的接触角）
静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。

＜静的接触角の測定方法＞
静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水またはｎ−ヘキサデカンを２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。水またはｎ−ヘキサデカンの静的接触角の測定値について、基材の表面処理層の異なる５点を測定し、その平均値を算出して用いた。実施例１〜１８のＰＦＰＥ含有ハードコート材料１〜２１と比較例１および２のハードコート材料２２および２３の硬化膜について、初期の値を測定したので、結果を表１に示す。

（外観）
硬化膜の外観は目視にて確認した。評価は、つぎの基準とした。結果を表１に示す。
Ｇ：透明である。
ＮＧ：白化、または表面に微細な凹凸などの異物がある。

（Ｈａｚｅの測定）
各硬化膜について、Ｈａｚｅを測定した。具体的には、ヘイズメーター（Ｎｉｐｐｏｎ ｄｅｎｓｙｏｋｕ社製、７０００ＳＰ）を用いて、ＡＳＴＭに準拠した測定方法で、基材上の異なる３点を測定し、その平均値を算出して用いた。測定結果を表１に示す。

（離形性）
硬化膜の離形性を、テープ剥離試験にて評価した。評価は、つぎの基準とした。結果を表１に示す。
Ｇ：容易に剥離するか、粘着しない。
ＮＧ：テープの粘着層が付着する。

（指紋付着性）
硬化膜に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定した。評価はつぎの基準とした。結果を表１に示す。
Ｇ：指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たない。
ＮＧ：明確に指紋が付着する。

（指紋拭き取り性）
上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で５往復拭き取り、付着した指紋の拭き取りやすさを目視で判定した。評価はつぎの基準とした。結果を表１に示す。
Ｇ：指紋を完全に拭き取ることができる。
ＮＧ：指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難である。
それぞれの評価において得られた結果を表１に示す。

（スチールウール（ＳＷ）摩擦耐久性評価）
各硬化膜について、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を基材の表面処理層に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを５３．３ｍｍ／秒（摩擦速度４０ｒｐｍ）の速度で往復させた。往復回数５００回毎に水の静的接触角（度）を測定し、接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、表２に示す。

（消しゴム摩擦耐久性評価）
各硬化膜について、消しゴム摩擦耐久試験により、摩擦耐久性を評価した。具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、消しゴム（Ｍｉｎｏａｎ社製、硬度８１（Ｄｕｒｏｍｅｔｅｒ Ａ ｔｙｐｅ）、平面寸法０．６ｃｍ直径の円形）を表面処理層の表面に接触させ、その上に１０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを４８ｍｍ／秒（摩擦速度４０ｒｐｍ）の速度で往復させた。往復回数５００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、下記表２に示す。

上記表１の結果から理解されるように、本開示の含フッ素イソシアヌル化合物を含む実施例１〜２１のハードコート材料から得られた硬化膜を有する処理基材は、透明できれいな外観であった。さらに、かかる処理基材は、優れた撥水性および撥油性を示し、離型性、指紋付着性および指紋拭き取り性に優れていた。

さらに、上記表２の結果から理解されるように、実施例１〜２１のハードコート材料から得られた表面処理層は、スチールウール（ＳＷ）および消しゴムの摩擦耐久性に優れていた。

一方、比較例１のハードコート材料から得られた硬化膜を有する処理基材は、硬化膜表面に微細な凹凸などの異物が目視で確認され、また摩擦耐久性も十分に満足できる結果が得られなかった。

以上の結果から、本開示の表面処理剤は、従来品に比べ、透明できれいな膜を作成できる上、かかる表面処理剤から得られる表面処理層は、高いレベルの摩擦耐久性を発揮できることが確認された。

本開示の含フッ素イソシアヌル化合物および該含フッ素イソシアヌル化合物を含有する表面処理剤は、種々多様な樹脂基材について、防汚性が求められる用途に幅広く利用することができる。

Claims (19)

1. 下記式（１）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
   Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
   Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
   ｑは、０または１であり；
   Ｘ^ａは、単結合または２価の有機基であり；
   Ｒ^Ａ１は、ＯＲ^Ａｃ基含有基であり；
   Ｒ^Ａｃは、（メタ）アクリロイル基であり；
   Ｘ^ｂは、少なくとも２つのヘテロ原子を含有する二価の有機基であり；
   Ｒ^Ｂは、Ｒ^Ｆ１−Ｘ^ａ−またはＲ^Ａ１−Ｘ^ｂ−である。］
   で表される化合物。
2. Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
   −（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
   ［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
3. Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項２に記載の化合物。
4. Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
   −（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
   ［式中、ｄは１〜２００の整数である。］、
   −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
   ［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
   ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
   ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
   添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
   −（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
   ｇは、２〜１００の整数である。］、
   −（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
   ［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   −（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
   ［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
5. Ｘ^ａは、下記式：
   −（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１−（Ｘ^ａ１）_ｙ１−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１−
   ［式中、
   Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、または、−ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基である。）であり、
   Ｘ^ａ１は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、または、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−であり（ここに、各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
   ｘ１は０〜１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１〜１０の整数である。］
   で表される基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
6. Ｘ^ａは、−（ＣＨ_２）_ｍ２２−（式中、ｍ２２は１〜３の整数である。）で表される基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
7. Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣまたは−Ｒ^Ａ６−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２であり、
   Ｒ^Ａ４は、Ｃ_１−１０アルキレン基であり、
   Ｒ^Ａ５は、炭素数１〜１０の三価の炭化水素基であり、
   Ｒ^Ａ６は、単結合または−Ｃ_１−１０アルキレン−Ｏ−であり、
   Ｒ^ＡＣは、（メタ）アクリロイル基である、
   請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
8. Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ４−ＯＲ^ＡＣまたは−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２であり、
   Ｒ^Ａ４は、Ｃ_１−１０アルキレン基であり、
   Ｒ^Ａ５は、炭素数１〜１０の三価の炭化水素基であり、
   Ｒ^ＡＣは、（メタ）アクリロイル基である、
   請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
9. Ｘ^ｂは、−Ｘ^ｃ−Ｘ^ｄ−であり、
   Ｘ^ｃは、ヘテロ原子を含有する二価の有機基であり、
   Ｘ^ｄは、−ＣＯ−ＮＲ^ｄ２−、−ＯＣＯ−ＮＲ^ｄ２−、−ＮＲ^ｄ２−ＣＯ−、または−ＮＲ^ｄ２−ＣＯＯ−であり、
   Ｒ^ｄ２は、水素原子またはＣ_１−６アルキル基である、
   請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物。
10. Ｘ^ｂは、−Ｘ^ｃ−Ｘ^ｄ−であり、
    Ｘ^ｃは、ヘテロ原子を含有する二価の有機基であり、
    Ｘ^ｄは、−ＣＯ−ＮＲ^ｄ２−であり、
    Ｒ^ｄ２は、水素原子またはＣ_１−６アルキル基である、
    請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物。
11. Ｒ^Ａ１は、−Ｒ^Ａ５−（ＯＲ^ＡＣ）_２であり、
    Ｒ^Ａ５は、炭素数４〜６の三価の炭化水素基であり、
    Ｒ^ＡＣは、（メタ）アクリロイル基である、
    請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物。
12. Ｘ^ｃは、−［（Ｒ^ｃ１）_ｔ１−（Ｘ^ｃ１）_ｔ２］−Ｘ^ｃ２−であり、
    Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合またはＣ_１−１２アルキレン基であり、
    Ｘ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＮＲ^ｘ１、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ_２であり、
    Ｒ^ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
    Ｘ^ｃ２は、ＯまたはＮＲ^ｘ２であり、
    Ｒ^ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
    ｔ１は、１〜６の整数であり、
    ｔ２は、１〜６の整数であり、
    ここに、［（Ｒ^ｃ１）_ｔ１−（Ｘ^ｃ１）_ｔ２］において、Ｒ^ｃ１およびＸ^ｃ１の存在順序は式中において任意である、
    請求項９〜１１のいずれか１項に記載の化合物。
13. Ｘ^ｃは、−Ｒ^ｃ１’−Ｘ^ｃ１−Ｒ^ｃ１”−Ｘ^ｃ２−であり、
    Ｒ^ｃ１’は、Ｃ_１−６アルキレン基であり、
    Ｒ^ｃ１”は、Ｃ_１−１２アルキレン基であり、
    Ｘ^ｃ１は、Ｏ、ＮＲ^ｘ１、Ｓ、ＳＯまたはＳＯ_２であり、
    Ｒ^ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基であり、
    Ｘ^ｃ２は、ＯまたはＮＲ^ｘ２であり、
    Ｒ^ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−６アルキル基である、
    請求項９〜１２のいずれか１項に記載の化合物。
14. Ｘ^ｃは、−Ｒ^ｃ１’−Ｘ^ｃ１−Ｒ^ｃ１”−Ｘ^ｃ２−であり、
    Ｒ^ｃ１’は、Ｃ_２−４アルキレン基であり、
    Ｒ^ｃ１”は、Ｃ_２−１２アルキレン基であり、
    Ｘ^ｃ１は、Ｓであり、
    Ｘ^ｃ２は、Ｏである
    請求項９〜１３のいずれか１項に記載の化合物。
15. Ｒ^Ｂは、Ｒ^Ａ１−Ｘ^ｂ−である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の化合物。
16. １種またはそれ以上の請求項１〜１５のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
17. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の化合物または請求項１６に記載の表面処理剤；および
    マトリックスを形成する組成物
    を含む、硬化性組成物。
18. 基材と、該基材の表面に請求項１６に記載の表面処理剤あるいは請求項１７に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
19. 上記物品が光学部材である、請求項１８に記載の物品。