JP2021163577A - Display device and electronic apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、表示装置およびそれを備える電子機器に関する。 The present disclosure relates to a display device and an electronic device including the display device.
近年、有機EL(Electro-Luminescence)素子を用いた表示装置の開発が進んでいる。この表示装置としては、図1に示すように、画素毎に分離された複数のアノード411と、隣接するアノード411の間に設けられた絶縁層412と、複数のアノード411および絶縁層412を覆う、画素に共通して設けられた有機層413と、有機層413上に設けられたカソード414とを備える構造のものがある。
In recent years, the development of display devices using organic EL (Electro-Luminescence) elements has been progressing. As shown in FIG. 1, the display device covers a plurality of
上記構造を有する表示装置では、各アノード411直上に設けられた正孔注入層413Aをリーク源として画素間に電流が流れるため、低輝度発光時に色度異常が発生する。このリーク電流を低減するため、従来は、以下の技術(1)から(3)のいずれかにより正孔注入層413Aが分断されている。
(1)正孔注入層413Aを蒸着法により成膜する際にその蒸着の方向を制御するとこにより、領域421に示すように、各画素の周縁部で正孔注入層413Aが分断される。
(2)領域422に示すように、隣接する画素間の絶縁層412の形状をオーバーハング形状にすることにより、各画素の周縁部で正孔注入層413Aが分断される。
(3)隣接する画素間の絶縁層412に溝423を設けることにより、隣接する画素間で正孔注入層413Aが分断される(例えば特許文献1参照)。
In the display device having the above structure, since the current flows between the pixels using the
(1) By controlling the direction of the vapor deposition when the
(2) As shown in the
(3) By providing the
しかしながら、上記従来技術のいずれの構造においても、隣接する画素間の絶縁層412が、ある程度の幅である必要があるため、画素の開口径に大きな制約が生じる。このため、画素の開口率が低下する虞がある。
However, in any of the above-mentioned conventional structures, the
本開示の目的は、画素の開口率の低下を抑制しつつ、リーク電流を抑制することができる表示装置およびそれを備える電子機器を提供することにある。 An object of the present disclosure is to provide a display device capable of suppressing a leak current while suppressing a decrease in the aperture ratio of a pixel, and an electronic device including the display device.
上述の課題を解決するために、第1の開示は、
画素毎に分離された複数のアノードと、
隣接するアノードの間に設けられた絶縁層と、
複数のアノードおよび絶縁層を覆う、複数の画素に共通して設けられた有機層と、
有機層上に設けられたカソードと
を備え、
アノードは、絶縁層の表面よりも高い位置に設けられた頂面と、絶縁層の表面と頂面の間に設けられた側面とを有し、
アノードは、アノードの頂部から底部に向かって側面の幅が狭くなる部分を少なくとも1つ有する表示装置である。
In order to solve the above-mentioned problems, the first disclosure is
With multiple anodes separated for each pixel,
An insulating layer provided between adjacent anodes,
An organic layer commonly provided for multiple pixels, which covers multiple anodes and insulating layers,
With a cathode provided on the organic layer
The anode has a top surface provided at a position higher than the surface of the insulating layer and a side surface provided between the surfaces of the insulating layer.
The anode is a display device having at least one portion where the width of the side surface narrows from the top to the bottom of the anode.
第1の開示において、アノードは、アノードの幅が最も広い第1の部分と絶縁層の表面との間に、第1の部分よりも幅が狭い第2の部分を有していてもよい。第1の部分は、アノードの頂部にあってもよいし、アノードの頂部より底部側にあってもよい。表示面に垂直な方向からアノードを見た場合、第2の部分は、第1の部分の内側に位置していてもよい。 In the first disclosure, the anode may have a second portion narrower than the first portion between the widest first portion of the anode and the surface of the insulating layer. The first portion may be on the top of the anode or on the bottom side of the top of the anode. When the anode is viewed from a direction perpendicular to the display surface, the second portion may be located inside the first portion.
第1の開示において、アノードは、頂面よりも幅が狭くなる部分を側面に有していてもよい。 In the first disclosure, the anode may have a portion on the side that is narrower than the top surface.
第1の開示において、アノードは、側面の少なくとも一部にテーパー形状を有していてもよい。テーパー形状は、アノードの頂部から底部に向かってアノードの幅が狭くなるように傾斜していてもよい。 In the first disclosure, the anode may have a tapered shape on at least a portion of the side surface. The tapered shape may be inclined so that the width of the anode narrows from the top to the bottom of the anode.
第1の開示において、アノードは、側面にオーバーハング形状を有していてもよい。 In the first disclosure, the anode may have an overhang shape on the side surface.
第1の開示において、アノードは、側面に凹部を有し、この凹部の少なくとも一部が、絶縁層の表面よりも高い位置に設けられていてもよい。 In the first disclosure, the anode has recesses on the sides, and at least a portion of the recesses may be provided higher than the surface of the insulating layer.
第1の開示において、アノードは、側面に凸部を有し、この凸部は、絶縁層の表面よりも高い位置に設けられていてもよい。 In the first disclosure, the anode has a convex portion on the side surface, and the convex portion may be provided at a position higher than the surface of the insulating layer.
第1の開示において、有機層は、アノードに隣接して設けられた正孔注入層を備えていてもよい。この場合、正孔注入層は、各画素の周縁部にて分断されていてもよい。 In the first disclosure, the organic layer may include a hole injection layer provided adjacent to the anode. In this case, the hole injection layer may be divided at the peripheral edge of each pixel.
第1の開示において、絶縁層の表面は、平坦であってもよい。 In the first disclosure, the surface of the insulating layer may be flat.
第1の開示において、絶縁層の表面を基準としたアノードの頂面の高さhと、有機層の厚さtが、h≦tの関係を満たしていてもよい。 In the first disclosure, the height h of the top surface of the anode with respect to the surface of the insulating layer and the thickness t of the organic layer may satisfy the relationship of h ≦ t.
第1の開示において、有機層は、白色光を発光可能に構成されていてもよい。この場合、表示装置が、カソード上に設けられたカラーフィルタをさらに備えていてもよい。 In the first disclosure, the organic layer may be configured to emit white light. In this case, the display device may further include a color filter provided on the cathode.
第2の開示は、第1の開示の表示装置を備える電子機器である。 The second disclosure is an electronic device comprising the display device of the first disclosure.
本開示の実施形態について以下の順序で説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
1 表示装置の構成
2 表示装置の製造方法
3 効果
4 変形例
5 応用例
The embodiments of the present disclosure will be described in the following order. In all the drawings of the following embodiments, the same or corresponding parts are designated by the same reference numerals.
1 Display device configuration 2 Display device manufacturing method 3 Effect 4 Modification example 5 Application example
[1 表示装置の構成]
図2は、本開示の一実施形態に係る有機EL表示装置10(以下、単に「表示装置10」という。)の全体構成の一例を示す概略図である。表示装置10は、各種の電子機器に用いて好適なものであり、表示領域110Aと、表示領域110Aの周縁に設けられた周辺領域110Bとを有している。表示領域110A内には、複数のサブ画素100R、100G、100Bがマトリクス状に配置されている。サブ画素100Rは赤色を表示し、サブ画素100Gは緑色を表示し、サブ画素100Bは青色を表示する。なお、以下の説明において、サブ画素100R、100G、100Bを特に区別しない場合には、サブ画素100という。
[1 Display device configuration]
FIG. 2 is a schematic view showing an example of the overall configuration of the organic EL display device 10 (hereinafter, simply referred to as “
同色を表示するサブ画素100R、100G、100Bの列が、繰り返し行方向に配置されている。したがって、行方向に並ぶ3つのサブ画素100R、100G、100Bの組み合わせが一つの画素(ピクセル)を構成している。周辺領域110Bには、映像表示用のドライバである信号線駆動回路111および走査線駆動回路112が設けられている。
Columns of sub-pixels 100R, 100G, and 100B displaying the same color are arranged in the repeating row direction. Therefore, a combination of three sub-pixels 100R, 100G, and 100B arranged in the row direction constitutes one pixel. The
信号線駆動回路111は、信号供給源(図示せず)から供給される輝度情報に応じた映像信号の信号電圧を、信号線111Aを介して選択されたサブ画素100に供給するものである。走査線駆動回路112は、入力されるクロックパルスに同期してスタートパルスを順にシフト(転送)するシフトレジスタ等によって構成される。走査線駆動回路112は、各サブ画素100への映像信号の書き込みに際し行単位でそれらを走査し、各走査線112Aに走査信号を順次供給するものである。
The signal
表示装置10は、例えば、OLEDまたはMicro−OLED等の自発光素子をアレイ状に形成したマイクロディスプレイである。表示装置10は、VR(Virtual Reality)用、MR(Mixed Reality)用もしくはAR(Augmented Reality)用の表示装置、電子ビューファインダ(Electronic View Finder:EVF)または小型プロジェクタ等に用いて好適なものである。
The
図3は、本開示の一実施形態に係る表示装置10の構成の一例を示す断面図である。図4は、図3の一部を拡大して表す断面図である。表示装置10は、トップエミッション方式の表示装置であり、一主面を有する基板(第1の基板)11と、基板11の一主面上に設けられた絶縁層12および複数の発光素子13と、複数の発光素子13上に設けられた保護層14と、保護層14上に設けられたカラーフィルタ15と、カラーフィルタ15上に設けられた充填樹脂層16と、充填樹脂層16上に設けられた対向基板(第2の基板)17とを備える。なお、対向基板17側がトップ側となり、基板11側がボトム側となる。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the
(発光素子)
複数の発光素子13は、基板11の一主面にマトリクス状に配置されている。発光素子13は、白色OLEDまたは白色Micro−OLED(MOLED)である。表示装置10におけるカラー化の方式としては、白色OLEDとカラーフィルタ15とを用いる方式が用いられる。
(Light emitting element)
The plurality of
発光素子13は、基板11側から、第1の電極としてのアノード13A、有機層13B、および第2の電極としてのカソード13Cがこの順序で積載されたものである。
In the
(基板)
基板11は、一主面に配列された複数の発光素子13を支持する支持体である。また、図示しないが、基板11には、複数の発光素子13の駆動を制御するサンプリング用トランジスタおよび駆動用トランジスタを含む駆動回路、ならびに複数の発光素子13に電力を供給する電源回路等が設けられていてもよい。
(substrate)
The
基板11は、例えば、水分および酸素の透過性が低いガラスまたは樹脂で構成されていてもよいし、トランジスタ等の形成が容易な半導体で構成されていてもよい。具体的には、基板11は、高歪点ガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、フォルステライト、鉛ガラス、もしくは石英ガラス等のガラス基板、アモルファスシリコン、もしくは多結晶シリコン等の半導体基板、またはポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタラート、もしくはポリエチレンナフタレート等の樹脂基板等であってもよい。
The
(アノード)
アノード13Aは、サブ画素100毎に電気的に分離して設けられている。アノード13Aは、隣接するサブ画素100間、すなわち隣接する発光素子13間における絶縁層12の表面12S(以下単に「絶縁層12の表面12S」という。)よりも高い位置に設けられた頂面13S1と、絶縁層12の表面12Sと頂面13S1の間に設けられた側面13S2とを有する。頂面13S1は、有機層13Bが成膜される成膜面である。側面12S2は、有機層13Bが備える正孔注入層131を成膜時に分断するための面である。
(anode)
The
アノード13Aの側面13S2の幅は、アノード13Aの高さ方向に変化している。アノード13Aは、頂面13S1よりも幅が狭くなる部分を側面13S2に有する。すなわち、アノード13Aは、アノード13Aの幅が最も広い頂部(第1の部分)と絶縁層12の表面12Sとの間に、アノード13Aの幅が最も広い頂部よりも幅が狭い部分(第2の部分)を有する。表示面に垂直な方向からアノード13Aを見た場合、アノード13Aの幅が最も広い頂部よりも幅が狭い部分は、アノード13Aの幅が最も広い頂部の内側に位置している。より具体的には、アノード13Aは、側面12S1の全体にテーパー形状を有する。テーパー形状は、アノード13Aの頂部から底部に向かってアノード13Aの幅が狭くなるように傾斜している。アノード13Aの側面13S2が上述した形状を有しているので、正孔注入層131の成膜時に、サブ画素100の周縁部にて正孔注入層131を分断することができる。
The width of the side surface 13S2 of the
絶縁層12の表面12Sを基準としたアノード13Aの頂面13S1の高さhと、有機層13Bの厚さtとが、h≦tの関係を満たすことが好ましい。隣接するアノード13A間の凹部を有機層13Bにより埋めることができるため、サブ画素100の周縁部でカソード13Cが分断されることを抑制することができるからである。
It is preferable that the height h of the top surface 13S1 of the
アノード13Aは、反射層としての機能も兼ねており、できるだけ反射率が高く、かつ仕事関数が大きい金属層によって構成されることが、発光効率を高める上で好ましい。金属層は、例えば、クロム(Cr)、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、鉄(Fe)、タングステン(W)、銀(Ag)等の金属元素の単体および合金のうちの少なくとも1種を含む。合金の具体例としては、AlNi合金またはAlCu合金等が挙げられる。アノード13Aが、上記の金属元素の単体および合金のうちの少なくとも1種を含む複数の金属層の積層膜により構成されていてもよい。
The
(カソード)
カソード13Cは、表示領域110A内においてすべてのサブ画素100に共通の電極として設けられている。カソード13Cは、有機層13Bで発生した光に対して透過性を有する透明電極である。ここで、透明電極には、半透過性反射層も含まれるものとする。カソード13Cは、例えば、金属または金属酸化物により構成される。金属は、例えば、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ナトリウム(Na)等の金属元素の単体および合金のうちの少なくとも1種を含む。合金の具体例としては、MgAg合金またはAlLi合金等が挙げられる。金属酸化物は、例えば、インジウム酸化物と錫酸化物の混合体(ITO)、インジウム酸化物と亜鉛酸化物の混合体(IZO)および酸化亜鉛(ZnO)のうちの少なくとも1種を含む。
(Cathode)
The
(絶縁層)
図5は、複数のアノード13Aの配列の一例を示す平面図である。なお、図5では、絶縁層12および複数のアノード13Aが露出された状態が示されている。絶縁層12は、アノード13Aをサブ画素100毎に電気的に分離するためのものである。絶縁層12は、隣接するアノード13Aの間に設けられている。より具体的には、絶縁層12は、複数の穴部12Aを有し、各穴部12Aにアノード13Aが設けられている。アノード13Aは、アノード13Aの底部側の一部が穴部12A内に設けられ、アノード13Aの頂部側の一部が絶縁層12の表面12Sから突出している。絶縁層12の表面12Sは、平坦であることが好ましい。隣接するアノード13A間、すなわち隣接するサブ画素100間に位置する絶縁層12に立体構造424(図1参照)が設けられていないため、同一の画素ピッチPにおいてサブ画素100の開口径ADを大きくすることができる。
(Insulation layer)
FIG. 5 is a plan view showing an example of the arrangement of the plurality of
絶縁層12は、例えば、有機材料または無機材料により構成される。有機材料は、例えばポリイミドおよびアクリル樹脂のうちの少なくとも1種を含む。無機材料は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコンおよび酸化アルミニウムのうちの少なくとも1種を含む。
The insulating
(有機層)
有機層13Bは、表示領域110A内においてすべてのサブ画素100に共通の有機層として設けられている。有機層13Bは、白色光を発光可能に構成されている。有機層13Bは、アノード13Aに隣接して設けられた正孔注入層131を備える。正孔注入層131は、上述したように、側面13S2によりサブ画素100の周縁部にて分断されている。サブ画素100の周囲には、正孔注入層131の非成膜領域R(図4参照)が形成されている。
(Organic layer)
The
図6は、図3に示した有機層13Bを拡大して表す断面図である。有機層13Bは、アノード13Aからカソード13Cに向かって正孔注入層131、正孔輸送層132、発光層133、電子輸送層134がこの順序で積層された構成を有する。なお、有機層13Bの構成はこれに限定されるものではなく、正孔注入層131および発光層133以外の層は必要に応じて設けられるものである。
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of the
正孔注入層131は、発光層133への正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを抑制するためのバッファ層である。正孔輸送層132は、発光層133への正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層133は、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層134は、発光層133への電子輸送効率を高めるためのものである。電子輸送層134とカソード13Cとの間には、電子注入層(図示せず)を設けてもよい。この電子注入層は、電子注入効率を高めるためのものである。
The
(保護層)
保護層14は、発光素子13を外気と遮断し、外部環境から発光素子13内部への水分浸入を抑制するためのものである。また、カソード13Cが金属層により構成されている場合には、保護層14は、この金属層の酸化を抑制する機能も有している。
(Protective layer)
The
保護層14は、例えば、吸湿性が低い無機材料により構成される。無機材料は、例えば、酸化シリコン(SiO)、窒化シリコン(SiN)、酸化窒化シリコン(SiNO)、酸化チタン(TiO)および酸化アルミニウム(AlO)のうちの少なくとも1種を含む。保護層14は、単層構造であってもよいが、厚さを大きくする場合には多層構造としてもよい。保護層14における内部応力を緩和するためである。保護層14が、高分子樹脂により構成されていてもよい。高分子樹脂は、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂のうちの少なくとも1種を含む。
The
(カラーフィルタ)
カラーフィルタ15は、例えば、オンチップカラーフィルタ(On Chip Color Filter:OCCF)である。カラーフィルタ15は、例えば、赤色フィルタ15R、緑色フィルタ15Gおよび青色フィルタ15Bを備える。赤色フィルタ15R、緑色フィルタ15G、青色フィルタ15Bはそれぞれ、サブ画素100Rの発光素子13、サブ画素100Gの発光素子13、サブ画素100Bの発光素子13に対向して設けられている。これにより、サブ画素100R、サブ画素100G、サブ画素100B内の各発光素子13から発せられた白色光がそれぞれ、上記の赤色フィルタ15R、緑色フィルタ15Gおよび青色フィルタ15Bを透過することによって、赤色光、緑色光、青色光がそれぞれ表示面から出射される。また、各色のカラーフィルタ15R、15G、15B間、すなわちサブ画素100間の領域には、遮光層(図示せず)が設けられていてもよい。なお、カラーフィルタ15は、オンチップカラーフィルタに限定されるものではなく、対向基板17の一主面に設けられたものであってもよい。
(Color filter)
The
(充填樹脂層)
充填樹脂層16は、カラーフィルタ15と対向基板17とを接着する接着層としての機能を有している。充填樹脂層16は、例えば、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂のうちの少なくとも1種を含む。
(Filled resin layer)
The filled
(対向基板)
対向基板17は、対向基板17の一主面と、複数の発光素子13が設けられた基板11の一主面とが対向するように設けられている。対向基板17は、充填樹脂層16と共に、発光素子13およびカラーフィルタ15等を封止するものである。対向基板17は、カラーフィルタ15からから出射される各色光に対して透明なガラス等の材料により構成される。
(Opposite board)
The facing
[2 表示装置の製造方法]
以下、図7A〜図7Hを参照して、本開示の一実施形態に係る表示装置10の製造方法の一例について説明する。
[2 Manufacturing method of display device]
Hereinafter, an example of a method for manufacturing the
まず、例えば薄膜形成技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、基板11の一主面に駆動回路等を形成したのち、駆動回路等の上に絶縁層12を形成する。次に、図7Aに示すように、絶縁層12上にレジストを塗布し、レジスト層21を形成する。次に、図7Bに示すように、例えばフォトリソグラフィによりレジスト層21を加工し、複数の開口部21Aを形成する。
First, for example, a thin film forming technique, a photolithography technique, and an etching technique are used to form a drive circuit or the like on one main surface of the
次に、図7Cに示すように、レジスト層21をマスクとして絶縁層12をエッチングすることにより、側面にテーパー形状を有する複数の穴部12Aを絶縁層12の一主面に形成する。ここで、テーパー形状は、穴部12Aの深さ方向に穴部12Aの幅が狭くなるように傾斜している。次に、レジスト層21を除去したのち、図7Dに示すように、例えばスパッタリング法により、第1のアノード13A1と第2のアノード13A2を順次積層し、積層構造を有するアノード13Aを形成する。第1のアノード13A1は、例えばTiにより構成される。第2のアノード13A2は、例えばAlCu合金により構成される。
Next, as shown in FIG. 7C, by etching the insulating
次に、図7Eに示すように、例えばCMP(Chemical Mechanical Polish)により穴部12Aの開口の位置までアノード13Aを平坦に研磨することにより、発光素子13毎(すなわちサブ画素100毎)に分離された複数のアノード13Aを形成する。次に、図7Fに示すように、絶縁層12をエッチングすることにより、アノード13Aの頂面13S1を絶縁層12の表面12Sよりも高い位置にする。
Next, as shown in FIG. 7E, the
次に、図7Gに示すように、例えば蒸着法により、正孔注入層131、正孔輸送層132、発光層133、電子輸送層134(図6参照)をアノード13A上および絶縁層12上にこの順序で積層することにより、有機層13Bを形成する。この際、アノード13Aの側面13S2が有するテーパー形状により、有機層13Bが各サブ画素100の周縁部にて分断される。次に、図7Hに示すように、例えばスパッタリング法により、カソード13Cを有機層13B上に形成する。これにより、基板11の一主面に複数の発光素子13が形成される。
Next, as shown in FIG. 7G, the
次に、例えば蒸着法またはCVD法により、保護層14をカソード13C上に形成したのち、保護層14上にカラーフィルタ15を形成する。なお、保護層14の段差やカラーフィルタ15自体の膜厚差による段差を平坦化するために、カラーフィルタ15の上、下または上下両方に平坦化層を形成してもよい。次に、例えばODF(One Drop Fill)方式により、充填樹脂層16によりカラーフィルタ15を覆ったのち、対向基板17を充填樹脂層16上に載置する。次に、例えば充填樹脂層16に熱を加えるか、または充填樹脂層16に紫外線を照射し、充填樹脂層16を硬化させることにより、充填樹脂層16を介して基板11と対向基板17とを貼り合せる。これにより、表示装置10が封止される。なお、充填樹脂層16が熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂の両方を含む場合には、充填樹脂層16に紫外線を照射し仮硬化させたのち、充填樹脂層16に熱を加えて本硬化させるようにしてもよい。
Next, the
[3 作用効果]
上述したように、一実施形態に係る表示装置10では、アノード13Aは、側面13S2にテーパー形状を有する。このテーパー形状は、アノード13Aの頂部から底部に向かってアノード13Aの幅が狭くなるように傾斜している。これにより、正孔注入層131の成膜工程において、側面12S2により各サブ画素100の周面部にて正孔注入層131を分断させることができる。また、隣接するサブ画素100間の絶縁層12は、隣接するアノード13A間の絶縁性を確保できる機能を有してさえいれば良く、従来の立体構造424(図1参照)等が必要ないため、同一の画素ピッチPにおいてサブ画素100の開口径ADを大きくすることができる。したがって、同一の画素ピッチPにおいては輝度向上および長寿命化が可能となる。また、同一の画素形状においては高精細度を実現可能である。
[3 Action effect]
As described above, in the
隣接するアノード13Aの端部間の距離より、絶縁層12の表面12Sにおけるアノード13A間の距離を大きく取ることができるので、隣接するサブ画素100間の絶縁性を絶縁層12で確保した上で、アノード13Aの端部間の距離を近づけることができる。
Since the distance between the
[4 変形例]
(変形例1)
上述の一実施形態では、アノード13Aが、側面12S1の全体にテーパー形状を有する例(図4参照)について説明したが、図8に示すように、側面12S1の一部にテーパー形状を有していてもよい。図8では、アノード13Aが、側面12S1の上端(頂面13S1側の一端)から底部側の規定位置までの領域にテーパー形状を有する例が示されているが、側面12S1の上端よりも底部側の第1の規定位置から当該第1の規定位置から底部側の第2の規定位置までの領域にテーパー形状を有していてもよい。但し、第1の規定位置は、絶縁層12の表面12Sよりも高い位置に設定される。
[4 Modification example]
(Modification example 1)
In one embodiment described above, an example in which the
(変形例2)
上述の一実施形態では、アノード13Aが、側面12S1にテーパー形状を有する例(図4参照)について説明したが、図9に示すように、側面12S1の一部に凹部13A3を有していてもよい。すなわち、アノード13Aが、側面12S1にオーバーハング形状を有していてもよい。凹部13A3の少なくとも一部が、絶縁層12の表面12Sよりも高い位置に設けられている。すなわち、凹部13A3の全体が絶縁層12の表面12Sよりも高い位置に設けられていてもよいし、凹部13A3の一部が絶縁層12の表面12Sよりも高い位置に設けられていてもよい。凹部12A1は、側面13S2の周方向に延設されている。凹部12A1は、閉ループ状を有していてもよい。図9では、凹部13A3の断面形状が略U字状である例が示されているが、略V字状、略円弧状、略楕円弧状または略放物線状等であってもよい。ここで、凹部13A3の断面形状は、表示面に垂直な方向に凹部13A3を切断したときの断面形状を意味する。
(Modification 2)
In one embodiment described above, an example in which the
(変形例3)
上述の一実施形態では、アノード13Aが、側面12S1にテーパー形状を有する例(図4参照)について説明したが、図10に示すように、側面13S2に凸部13A4を有していてもよい。すなわち、アノード13Aが、側面12S1にオーバーハング形状を有していてもよい。凸部13A4は、絶縁層12の表面12Sよりも高い位置に設けられている。凸部13A4は、側面13S2の周方向に延設されている。凸部13A4は、閉ループ状を有していてもよい。図10では、凸部13A4の断面形状が略U字状である例に示されているが、略V字状、略円弧状、略楕円弧状または略放物線状等であってもよい。ここで、凸部13A4の断面形状は、表示面に垂直な方向に凸部13A4を切断したときの断面形状を意味する。凸部13A4より底部側のアノード13Aの幅は、凸部13A4より上部側のアノード13Aの幅よりも狭いことが好ましい。
(Modification example 3)
In one embodiment described above, an example in which the
[5 応用例]
(電子機器)
上述の一実施形態およびその変形例のいずれかに係る表示装置10は、例えば、図11に示したようなモジュールとして、種々の電子機器に組み込まれる。特にビデオカメラや一眼レフカメラの電子ビューファインダまたはヘッドマウント型ディスプレイ等の高解像度が要求され、目の近くで拡大して使用されるものに適する。このモジュールは、基板11の一方の短辺側に、対向基板等により覆われず露出した領域210を有し、この領域210に、信号線駆動回路111および走査線駆動回路112の配線を延長して外部接続端子(図示せず)が形成されている。この外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(Flexible Printed Circuit:FPC)220が接続されていてもよい。
[5 Application example]
(Electronics)
The
(具体例1)
図12A、図12Bは、デジタルスチルカメラ310の外観の一例を示す。このデジタルスチルカメラ310は、レンズ交換式一眼レフレックスタイプのものであり、カメラ本体部(カメラボディ)311の正面略中央に交換式の撮影レンズユニット(交換レンズ)312を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部313を有している。
(Specific example 1)
12A and 12B show an example of the appearance of the digital
カメラ本体部311の背面中央から左側にずれた位置には、モニタ314が設けられている。モニタ314の上部には、電子ビューファインダ(接眼窓)315が設けられている。撮影者は、電子ビューファインダ315を覗くことによって、撮影レンズユニット312から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことが可能である。電子ビューファインダ315としては、上述の一実施形態およびその変形例のいずれかに係る表示装置10を用いることができる。
A
(具体例2)
図13は、ヘッドマウントディスプレイ320の外観の一例を示す。ヘッドマウントディスプレイ320は、例えば、眼鏡形の表示部321の両側に、使用者の頭部に装着するための耳掛け部322を有している。表示部321としては、上述の一実施形態およびその変形例のいずれかに係る表示装置10を用いることができる。
(Specific example 2)
FIG. 13 shows an example of the appearance of the head-mounted
(具体例3)
図14は、テレビジョン装置330の外観の一例を示す。このテレビジョン装置330は、例えば、フロントパネル332およびフィルターガラス333を含む映像表示画面部331を有し、この映像表示画面部331は、上述の一実施形態およびその変形例のいずれかに係る表示装置10により構成されている。
(Specific example 3)
FIG. 14 shows an example of the appearance of the
以上、本開示の一実施形態および変形例について具体的に説明したが、本開示は、上述の一実施形態および変形例に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。 Although one embodiment and modification of the present disclosure have been specifically described above, the present disclosure is not limited to the above-mentioned embodiment and modification, and various modifications based on the technical idea of the present disclosure. Is possible.
例えば、上述の一実施形態および変形例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値等はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値等を用いてもよい。 For example, the configurations, methods, processes, shapes, materials, numerical values, etc. given in the above-described embodiment and modification are merely examples, and if necessary, different configurations, methods, processes, shapes, materials, and numerical values are used. Etc. may be used.
上述の一実施形態および変形例の構成、方法、工程、形状、材料および数値等は、本開示の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。 The configurations, methods, processes, shapes, materials, numerical values, etc. of the above-described embodiment and modification can be combined with each other as long as they do not deviate from the gist of the present disclosure.
上述の一実施形態および変形例に例示した材料は、特に断らない限り、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Unless otherwise specified, the materials exemplified in the above-described embodiment and modification may be used alone or in combination of two or more.
また、本開示は以下の構成を採用することもできる。
(1)
画素毎に分離された複数のアノードと、
隣接する前記アノードの間に設けられた絶縁層と、
複数の前記アノードおよび前記絶縁層を覆う、複数の前記画素に共通して設けられた有機層と、
前記有機層上に設けられたカソードと
を備え、
前記アノードは、前記絶縁層の表面よりも高い位置に設けられた頂面と、前記絶縁層の表面と前記頂面の間に設けられた側面とを有し、
前記アノードは、前記アノードの頂部から底部に向かって前記側面の幅が狭くなる部分を少なくとも1つ有する表示装置。
(2)
前記アノードは、前記アノードの幅が最も広い第1の部分と前記絶縁層の表面との間に、前記第1の部分よりも幅が狭い第2の部分を有する(1)に記載の表示装置。
(3)
前記第2の部分は、前記第1の部分の内側に位置している(2)に記載の表示装置。
(4)
前記アノードは、前記頂面よりも幅が狭くなる部分を前記側面に有する(1)に記載の表示装置。
(5)
前記アノードは、前記側面の少なくとも一部にテーパー形状を有し、
前記テーパー形状は、前記アノードの頂部から底部に向かって前記アノードの幅が狭くなるように傾斜している(1)から(4)のいずれかに記載の表示装置。
(6)
前記アノードは、前記側面にオーバーハング形状を有している(1)から(5)のいずれかに記載の表示装置。
(7)
前記アノードは、前記側面に凹部を有し、
前記凹部の少なくとも一部が、前記絶縁層の表面よりも高い位置に設けられている(1)から(6)のいずれかに記載の表示装置。
(8)
前記アノードは、前記側面に凸部を有し、
前記凸部は、前記絶縁層の表面よりも高い位置に設けられている(1)から(7)のいずれかに記載の表示装置。
(9)
前記有機層は、前記アノードに隣接して設けられた正孔注入層を備える(1)から(8)のいずれかに記載の表示装置。
(10)
前記正孔注入層は、各前記画素の周縁部にて分断されている(9)に記載の表示装置。
(11)
前記絶縁層の表面は、平坦である(1)から(10)のいずれかに記載の表示装置。
(12)
前記絶縁層の表面を基準とした前記アノードの頂面の高さhと、前記有機層の厚さtが、h≦tの関係を満たす(1)から(11)のいずれかに記載の表示装置。
(13)
前記有機層は、白色光を発光可能に構成され、
前記カソード上に設けられたカラーフィルタをさらに備える(1)から(12)のいずれかに記載の表示装置。
(14)
(1)から(13)のいずれかに記載の表示装置を備える電子機器。
The present disclosure may also adopt the following configuration.
(1)
With multiple anodes separated for each pixel,
An insulating layer provided between the adjacent anodes and
An organic layer commonly provided for the plurality of pixels, which covers the plurality of anodes and the insulating layer,
It is provided with a cathode provided on the organic layer.
The anode has a top surface provided at a position higher than the surface of the insulating layer and a side surface provided between the surface of the insulating layer and the top surface.
The anode is a display device having at least one portion in which the width of the side surface is narrowed from the top to the bottom of the anode.
(2)
The display device according to (1), wherein the anode has a second portion narrower than the first portion between a first portion having the widest width of the anode and a surface of the insulating layer. ..
(3)
The display device according to (2), wherein the second portion is located inside the first portion.
(4)
The display device according to (1), wherein the anode has a portion on the side surface whose width is narrower than that of the top surface.
(5)
The anode has a tapered shape on at least a part of the side surface.
The display device according to any one of (1) to (4), wherein the tapered shape is inclined so that the width of the anode is narrowed from the top to the bottom of the anode.
(6)
The display device according to any one of (1) to (5), wherein the anode has an overhang shape on the side surface.
(7)
The anode has a recess on the side surface.
The display device according to any one of (1) to (6), wherein at least a part of the recess is provided at a position higher than the surface of the insulating layer.
(8)
The anode has a protrusion on the side surface and has a convex portion.
The display device according to any one of (1) to (7), wherein the convex portion is provided at a position higher than the surface of the insulating layer.
(9)
The display device according to any one of (1) to (8), wherein the organic layer includes a hole injection layer provided adjacent to the anode.
(10)
The display device according to (9), wherein the hole injection layer is divided at a peripheral portion of each of the pixels.
(11)
The display device according to any one of (1) to (10), wherein the surface of the insulating layer is flat.
(12)
The display according to any one of (1) to (11), wherein the height h of the top surface of the anode with respect to the surface of the insulating layer and the thickness t of the organic layer satisfy the relationship of h ≦ t. Device.
(13)
The organic layer is configured to be capable of emitting white light.
The display device according to any one of (1) to (12), further comprising a color filter provided on the cathode.
(14)
An electronic device including the display device according to any one of (1) to (13).
10 表示装置
11 基板
12 絶縁層
12A 穴部
12S 表面
13 発光素子
13A アノード
13A1 第1のアノード
13A2 第2のアノード
13A3 凹部
13A4 凸部
13B 有機層
13C カソード
13S1 頂面
13S2 側面
14 保護層
15 カラーフィルタ
15R 赤色フィルタ
15G 緑色フィルタ
15B 青色フィルタ
16 充填樹脂層
17 対向基板
21 レジスト層
21A 開口部
100R、100G、100B サブ画素
110A 表示領域
110B 周辺領域
111 信号線駆動回路
111A 信号線
112 走査線駆動回路
112A 走査線
131 正孔注入層
132 正孔輸送層
133 有機発光層
134 電子輸送層
310 デジタルスチルカメラ(電子機器)
320 ヘッドマウントディスプレイ(電子機器)
330 テレビジョン装置(電子機器)
AD 開口径
P 画素ピッチ
h 頂面13S1の高さ
t 有機層13Bの厚さ
10
320 Head-mounted display (electronic device)
330 Television equipment (electronic equipment)
AD Aperture diameter P Pixel pitch h Height of top surface 13S1 t Thickness of
Claims (14)
隣接する前記アノードの間に設けられた絶縁層と、
複数の前記アノードおよび前記絶縁層を覆う、複数の前記画素に共通して設けられた有機層と、
前記有機層上に設けられたカソードと
を備え、
前記アノードは、前記絶縁層の表面よりも高い位置に設けられた頂面と、前記絶縁層の表面と前記頂面の間に設けられた側面とを有し、
前記アノードは、前記アノードの頂部から底部に向かって前記側面の幅が狭くなる部分を少なくとも1つ有する表示装置。 With multiple anodes separated for each pixel,
An insulating layer provided between the adjacent anodes and
An organic layer commonly provided for the plurality of pixels, which covers the plurality of anodes and the insulating layer,
It is provided with a cathode provided on the organic layer.
The anode has a top surface provided at a position higher than the surface of the insulating layer and a side surface provided between the surface of the insulating layer and the top surface.
The anode is a display device having at least one portion in which the width of the side surface is narrowed from the top to the bottom of the anode.
前記テーパー形状は、前記アノードの頂部から底部に向かって前記アノードの幅が狭くなるように傾斜している請求項1に記載の表示装置。 The anode has a tapered shape on at least a part of the side surface.
The display device according to claim 1, wherein the tapered shape is inclined so that the width of the anode is narrowed from the top to the bottom of the anode.
前記凹部の少なくとも一部が、前記絶縁層の表面よりも高い位置に設けられている請求項1に記載の表示装置。 The anode has a recess on the side surface.
The display device according to claim 1, wherein at least a part of the recess is provided at a position higher than the surface of the insulating layer.
前記凸部は、前記絶縁層の表面よりも高い位置に設けられている請求項1に記載の表示装置。 The anode has a protrusion on the side surface and has a convex portion.
The display device according to claim 1, wherein the convex portion is provided at a position higher than the surface of the insulating layer.
前記カソード上に設けられたカラーフィルタをさらに備える請求項1に記載の表示装置。 The organic layer is configured to be capable of emitting white light.
The display device according to claim 1, further comprising a color filter provided on the cathode.
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