JP2021150456A5 - - Google Patents
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Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020047967A JP7359050B2 (ja) | 2020-03-18 | 2020-03-18 | マルチビーム用のブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
| TW110104187A TWI775308B (zh) | 2020-03-18 | 2021-02-04 | 多光束用的消隱裝置及多束帶電粒子束描繪裝置 |
| US17/169,782 US11355302B2 (en) | 2020-03-18 | 2021-02-08 | Multi-beam blanking device and multi-charged-particle-beam writing apparatus |
| KR1020210028139A KR102551087B1 (ko) | 2020-03-18 | 2021-03-03 | 멀티 빔용의 블랭킹 장치 및 멀티 하전 입자 빔 묘화 장치 |
| CN202110284684.2A CN113495434B (zh) | 2020-03-18 | 2021-03-17 | 多射束用的消隐装置以及多带电粒子束描绘装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020047967A JP7359050B2 (ja) | 2020-03-18 | 2020-03-18 | マルチビーム用のブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021150456A JP2021150456A (ja) | 2021-09-27 |
| JP2021150456A5 true JP2021150456A5 (https=) | 2022-09-27 |
| JP7359050B2 JP7359050B2 (ja) | 2023-10-11 |
Family
ID=77747018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020047967A Active JP7359050B2 (ja) | 2020-03-18 | 2020-03-18 | マルチビーム用のブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11355302B2 (https=) |
| JP (1) | JP7359050B2 (https=) |
| KR (1) | KR102551087B1 (https=) |
| CN (1) | CN113495434B (https=) |
| TW (1) | TWI775308B (https=) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2024135231A (ja) * | 2023-03-22 | 2024-10-04 | 株式会社東芝 | 接合型配線部材 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3145149B2 (ja) | 1991-10-17 | 2001-03-12 | 富士通株式会社 | 荷電粒子ビーム偏向装置 |
| JP2000114147A (ja) | 1998-10-05 | 2000-04-21 | Advantest Corp | 荷電粒子ビーム露光装置 |
| JP2001109018A (ja) | 1999-10-12 | 2001-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置およびその駆動方法 |
| CN101103417B (zh) * | 2003-09-05 | 2012-06-27 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 粒子光学系统和排布结构,以及用于其的粒子光学组件 |
| JP4387755B2 (ja) * | 2003-10-14 | 2009-12-24 | キヤノン株式会社 | 偏向器アレイおよびその製造方法、ならびに該偏向器アレイを用いた荷電粒子線露光装置 |
| JP2005142101A (ja) * | 2003-11-10 | 2005-06-02 | Canon Inc | 電極基板の製造方法、該電極基板を用いた偏向器、ならびに該偏向器を用いた荷電粒子線露光装置 |
| JP2006332256A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Canon Inc | 配線基板の製造方法 |
| DE102008010123B4 (de) * | 2007-02-28 | 2024-11-28 | Ims Nanofabrication Gmbh | Vielstrahl-Ablenkarray-Einrichtung für maskenlose Teilchenstrahl-Bearbeitung |
| US8198601B2 (en) * | 2009-01-28 | 2012-06-12 | Ims Nanofabrication Ag | Method for producing a multi-beam deflector array device having electrodes |
| EP2251893B1 (en) * | 2009-05-14 | 2014-10-29 | IMS Nanofabrication AG | Multi-beam deflector array means with bonded electrodes |
| NL2005584C2 (en) * | 2009-10-26 | 2014-09-04 | Mapper Lithography Ip Bv | Charged particle multi-beamlet lithography system with modulation device. |
| WO2012055936A1 (en) * | 2010-10-26 | 2012-05-03 | Mapper Lithography Ip B.V. | Lithography system, modulation device and method of manufacturing a fiber fixation substrate |
| NL2006868C2 (en) * | 2011-05-30 | 2012-12-03 | Mapper Lithography Ip Bv | Charged particle multi-beamlet apparatus. |
| JP2015023286A (ja) | 2013-07-17 | 2015-02-02 | アイエムエス ナノファブリケーション アーゲー | 複数のブランキングアレイを有するパターン画定装置 |
| JP6553973B2 (ja) | 2014-09-01 | 2019-07-31 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム用のブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
| US9330881B2 (en) | 2014-09-01 | 2016-05-03 | Nuflare Technology, Inc. | Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus |
| JP6500383B2 (ja) * | 2014-10-03 | 2019-04-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | ブランキングアパーチャアレイ及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP5816739B1 (ja) * | 2014-12-02 | 2015-11-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置、及びマルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置の製造方法 |
| JP6709109B2 (ja) | 2016-05-31 | 2020-06-10 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム照射装置 |
| US10593509B2 (en) * | 2018-07-17 | 2020-03-17 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Charged particle beam device, multi-beam blanker for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device |
-
2020
- 2020-03-18 JP JP2020047967A patent/JP7359050B2/ja active Active
-
2021
- 2021-02-04 TW TW110104187A patent/TWI775308B/zh active
- 2021-02-08 US US17/169,782 patent/US11355302B2/en active Active
- 2021-03-03 KR KR1020210028139A patent/KR102551087B1/ko active Active
- 2021-03-17 CN CN202110284684.2A patent/CN113495434B/zh active Active