JP2021141323A - リードレス積層セラミックコンデンサ - Google Patents

Abstract

【課題】 はんだ付け作業を伴わないリードレス積層セラミックコンデンサの構造を提供する。【解決手段】 複数のコンデンサ本体１１０で構成するリードレス積層セラミックコンデンサの構造であって、各コンデンサ本体は交互に複数個の内部電極１２０を設け、両端にそれぞれ内部電極の端部と電気接続する外部電極１３０を形成し、各コンデンサ本体を垂直に積み重ねて各二つの相接するコンデンサ本体の外部電極を高分子導電性接着剤２１０が硬化した接着インターフェイス２００により接続固定して積層する。高分子導電性接着剤２１０は７５％〜８５％の金属粉、及び１５％〜２５％の接着剤を含み、それにより支持強度及び導電経路を構成し、はんだ付け作業に伴う高温度にさらされず、製造工程を容易とする。【選択図】 図３

Description

本発明は、リードレス積層セラミックコンデンサの構造に関し、特に複数個の積層セラミックコンデンサ同士にある外部電極を導電性接着剤により接着固定したリードレス積層セラミックコンデンサの構造に関する。

今日の電子部品の製造は、ハイスペック電子部品同士の複雑な信号伝送及び動作に合わせるために、次第にマルチプロセスへの発展が要求されていると共に、受動部品のコンデンサも微細化、高静電容量及びより安定性の向上に向って邁進している。従来のコンデンサもチップタイプの積層セラミックコンデンサに変わり、加えて生産設備の改善及び製造過程の技術も引続き進歩しているため、大幅に体積を縮小するだけでなく、生産コストをも下げることになるが、変わらず高静電容量及び高い信頼性のある製品が必要とされる。

セラミックコンデンサの種類に属する積層セラミックコンデンサ（Ｍｕｌｔｉ−ｌａｙｅｒ Ｃｅｒａｍｉｃ Ｃａｐａｃｉｔｏｒ、ＭＬＣＣ)の静電容量値は、その組成、含有量及び製品の表面積及びセラミックフィルムを積み重ねた層の数と比例する。
また、ＭＬＣＣは表面接着技術(ＳＭＴ)の製造プロセスを通じて直接接着することができ、製造スピードが更に早くなる。加えてチップ化しやすく、体積が小さく、また周波数特性が優れているなどの利点があるため、次第にコンデンサ産業のメイン製品となった。当該デメリットとは、静電容量値が比較的小さいことであったが、セラミックフィルムの積層技術が進歩するのにつれ、静電容量値がますます高くなり、次第に電解コンデンサ及びタンタルコンデンサなど、中静電容量と低静電容量の市場用途に取って代わることなったため、ＭＬＣＣ関連のメーカーは、静電容量値を上げるために、積極的に研究開発に乗り込んでいった。

更に、高い静電容量を形成したセラミックコンデンサを回路基板に組み立てるために、通常は金属リード或いはリードフレーム(Ｌｅａｄ Ｆｒａｍｅ）を用いて積層構造を形成する。図６に示すように、従来の多層セラミックコンデンサの積層は、多層セラミックコンデンサＡの両サイドにある外部電極端Ａ１は、はんだＢを使って一つの接合ポイントを形成し、二つのリードフレームＣと相対する内側の接合面Ｃ１をはんだ付けして一つの積層構造を形成する。更にリードフレームＣの外部リードＣ２を回路基板にはんだ付けする。そこで、該二つのリードフレームＣは同時に支持強度及び導電経路を提供できるため、静電容量値が高くなる。
ただ、該はんだ付けの製造プロセスで必要とする温度がほぼ３００℃以上であり、はんだ付けの過程において、温度が上昇するスピードが速すぎると、多層セラミックコンデンサＡが、急激な温度上昇により、破裂或いは損傷する現象が発生し、不良率が高くなる。一方、はんだ付けの温度上昇が遅すぎる場合、フラックスを使用するが、のちに洗浄する必要があり、多くの面倒な作業が増える。

その他、近年遷移液相焼結法(Ｔｒａｎｓｉｅｎｔ-Ｌｉｑｕｉｄ−Ｐｈａｓｅ-Ｓｉｎｔｅｒｉｎｇ、ＴＬＰＳ）を用いるようになり、例えば銅(Ｃｕ)、スズ(Ｓｎ)のはんだでは、金属リードに頼らない斬新な積層セラミックコンデンサの改良方法を提供している。使用するはんだの中に、同時に高い融点及び低い融点の異なる二種類金属材料を加え、各セラミックコンデンサの外部電極端の上に、積層の接合ポイントを形成することで、複数個のセラミックコンデンサ同士が、積み木のように上向きに積層して崩れることがない上、該接合ポイントは導電経路を形成する。
構成する上でリードフレームを使用しないため、基板が彎曲する際に生じる破壊応力に耐えられる必要があるほか、セラミックコンデンサの積層位置或いは接合ポイントにて、予期できないほどの破壊応力を発生させてはならない。

また、ＴＬＰＳペーストを接合材料とするには、高温で加熱して始めて金属間の化合物を形成しやすい。機械的強度を上げるメリットはあるが、高温による加熱及び相転移の過程において、製造プロセスの変動要因が増える。焼結完了した接合ポイントの微細構造を観察すると、硬くて脆い金属間の化合物を形成しやすい。はたまた積層位置或いは接着ポイントの表面に、相転移後の微細な亀裂或いは体積変化後の微細な間隙を形成する。例え支持強度が足りたとしても、最終的には尚も反復する彎曲或いは振動に耐えうる靱性を提供することができず、返って応力が集中して破壊或いは破損を招くことになり、ついには製品を適用する上で、多くの制約をかけてしまう。また、ＴＬＰＳペーストは焼結完了後にニッケルめっき、スズめっきを充填できないため、電気めっき液と反応して決め細やかなめっき表面を形成するのが難しく、故に微細な亀裂或いは微細な間隙ができる問題が残る。従って上述の技術を改善する必要があった。

特表２０２０−５３０６５６号公報 特開平１０−２２３４７３号公報 特開平１０−１９９７４７号公報 特開平７−３７７４７号公報

本発明の目的は、リードレス積層セラミックコンデンサを提供することにある。

本発明の課題は、上述の問題を解決するリードレス積層セラミックコンデンサを提供するものである。本発明の主な目的は、複数個の積層セラミックコンデンサの外部電極同士を、高分子導電性接着剤を接着材料として使用し、硬化した後に接着インターフェイスを形成し、支持強度及び導電経路を提供することで、複数個の積層セラミックコンデンサの外部電極同士が、接着インターフェイスを通じて垂直に積み重ねることができ、電気伝導を生じて直列を形成する。該静電容量値はコンデンサを積層する数と比例し、且つ高分子導電性接着剤は７５％〜８５％の金属粉、及び１５％〜２５％の接着剤を含むことで、接着インターフェイスは支持するのに充分な接着強度、及び彎曲或いは振動するエネルギーを吸収するために必要とする靭性を与えるため、反復して彎曲或いは振動する環境によってもたらされる機械的損傷をより有効的に耐えることができる。上記は金属リード及びＴＬＰＳペーストを使用する際に高温加熱を必要とする煩わしい要件を取り除き、製造プロセスをシンプル化できるほか、はんだ付け作業を行わない高分子導電性接着剤による作業温度は相対的に比較的低く、製造プロセスにおける変動要因も相対的に減少する。

本発明の第２の目的は、複数個の積層セラミックコンデンサ同士の両端にある外部電極の積層位置の接着インターフェイス外部で、電気めっき加工を行うことができ、ニッケルめっき、スズめっきの順に電気めっき強化層の第一めっき層及び第二めっき層を形成する。接着インターフェイスに使用する高分子導電性接着剤は、充分な金属粉を含むため、電気めっき液と反応して決め細やかな電気めっき表面を形成することで、接着インターフェイスにある如何なる微細な亀裂或いは微細な間隙は、電気めっきを行ったあとに、電気めっき強化層によって充填され、亀裂核が形成するのを避けることができる。また、各接着インターフェイスと積層セラミックコンデンサの外部電極の外部において共に平坦な表面を延伸することで、電気めっき強化層は完全に複数個の積層セラミックコンデンサの外部電極を覆うことができ、それにより接着インターフェイスの機械的強度を強化することができる。

本発明の複数個の積層セラミックコンデンサを垂直に積み重ね、且つ各二つの相隣する外部電極の間には、はんだ付け作業を行わず、高分子導電性接着剤が硬化した接着インターフェイスを形成し、該高分子導電性接着剤は７５％〜８５％の金属粉、及び１５％〜２５％の接着剤を含み、それにより支持強度及び導電経路を提供する。
本発明のコンデンサ積層構造は、金属リード及びＴＬＰＳペーストを使用する時のように高温加熱を必要とすることなく、製造プロセスをシンプル化できるほか、高分子導電性接着剤ははんだ付け作業を行うことなく、操作温度も比較的低く、製造プロセスにおける変動要因も相対的に減少する。

本発明の最良実施例の立体外観図である。 本発明の最良実施例の立体分解図である。 本発明の最良実施例の側面断面図である。 本発明の別の最良実施例の側面断面図である。 本発明のサイドプッシュ実験のデータシートである。 従来の多層セラミックコンデンサを積み重ねた側面断面略図である。

以下に具体的な実施形態を述べる。

本発明の上記目的及び効果に達するために、本発明の実施する技術及び構造を、最良実施例と図面を参照しながら、以下に説明する。

図１から図３に示すのは、それぞれ本発明の最良実施例の立体外観図、立体分解図及び側面断面図である。
図で分かるように、本発明のリードレス積層セラミックコンデンサは、互いに垂直に積層する複数個の積層セラミックコンデンサ１００を含む。その中、該積層セラミックコンデンサ１００はコンデンサ本体１１０を含み、且つ各一つのコンデンサ本体１１０の中に、それぞれ複数個の誘電体層１１１を積層し、且つ各二つの隣接する誘電体層１１１の間に、交互に複数個の内部電極１２０を相対して設置する。内部電極１２０の端部はそれぞれコンデンサ本体１１０の両端に露出し、且つコンデンサ本体１１０の両端は、それぞれ内部電極１２０の端部と電気接続を形成する外部電極１３０を設ける。
該外部電極１３０は、焼付銅によって形成する外部電極の最内層或いは、焼付銅層と呼ばれ、且つ二つの相隣する積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０の間は、はんだ付け作業を行わず、高分子導電性接着剤２１０を１５０℃〜２００℃の温度範囲内にて、一つの接着インターフェイス２００を形成し、接着固定する。

本実施例において、二つの積層セラミックコンデンサ１００を垂直方向で上下に積み重ね、且つ各一つの積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０同士は、高分子導電性接着剤２１０によって接着固定し、一つの接着インターフェイス２００を形成する。
全体構造は複数個の積層セラミックコンデンサ１００の積み重ねであり、積み重ねる方法は、まず高分子導電性接着剤２１０をそれぞれ一つ目の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０の上表面に施す。また、二つ目の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０の下表面をそれぞれ高分子導電性接着剤２１０に抵触し、同時に二つ目の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０の焼付銅は一つ目の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０の焼付銅と同じ位置と対応し、且つその上に積み重ねてから、約１５０〜２００℃の範囲内の低温温度ではんだ付け作業を伴わない作業を行うことで、高分子導電性接着剤２１０が硬化した後、各二つの相隣する外部電極１３０を接着固定し、支持強度及び二つの相隣する外部電極１３０の導電経路となる接着インターフェイス２００を形成することで、二つの積層セラミックコンデンサ１００は電気が伝導し、直列の組み合わせを形成する。当該静電容量値は一つの積層セラミックコンデンサ１００よりも更に高く、また、コンデンサを積み重ねた構造は、高温加熱によって接着を形成する必要がない。プロセスの変動要因が比較的少なくなるほか、コンデンサ本体に与えるダメージも最低限にまで減らすことができる。

本発明は複数個の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０同士を接着する材料は、高分子導電性接着剤２１０を採用し、且つ硬化した後、接着インターフェイス２００を形成し、支持強度及び導電経路を提供する。
高分子導電性接着剤２１０の組成は７５％〜８５％の金属粉、及び１５％〜２５％の接着剤を含む。該金属粉は銀(Ａｇ)、銅(Ｃｕ)及びニッケル(Ｎｉ)で組成するグループの如何なる一つを選び、接着剤は高分子樹脂で且つ特殊な接着強度を使用する。
最良な規格は例えば樹脂シルバー接着剤のＨ９２６市販製品の規格の高分子導電性接着剤であり、または高分子(一般的にポリマーとも呼ぶ)樹脂の種類や流動性、或いは導電性など異なるニーズに基づき、適切な配合に調整する。或いは異なる型番号の積層セラミックコンデンサ１００の規格、及び積層する数量に基づき、適切な配合に調整する。例えばポリマー樹脂内は、７５％〜８５％の金属粉を含むことができ、本発明の目的に影響を与えないが、それによって限られない。また高分子樹脂内にグラフェンを添加し、更に金属粉、グラフェン及び高分子樹脂の異なる組成の配合を調整することで、高分子導電性接着剤２１０の導電性能がより向上したものになる。樹脂シルバー接着剤が形成する接着インターフェイス２００は、ポリマー材料の強靭な特性を具有し、且つ樹脂が硬化した後、コンデンサの積層構造を支えるのに十分な接着強度を提供する。また、樹脂内に含まれる高分子成分は、彎曲或いは振動するエネルギーを吸収するために必要とする靭性を与えるため、反復して彎曲或いは振動する環境によってもたらされる機械的損傷をより有効に耐えることができる。

この他、上述のコンデンサ積層構造が積層できるセラミックコンデンサ１００の数は、固定して変わらないわけではない。異なる型番号の積層セラミックコンデンサ１００の規格(例えば体積及び重さ)に基づき、二つ或いは二つ以上を積み重ねることができる。最良実施例としては二つから四つの間とし、尚も接着インターフェイス２００を介し、充分な支持強度を提供し、崩れることがない。接着インターフェイス２００が使用する高分子導電性接着剤２１０の組成成分は、異なる積層セラミックコンデンサ１００及び積層する数量に基づき、適切な配合を調整することができる。また、金属粉がより均等に、細かく高分子樹脂内に分散・分布することで、更に安定した導電経路を作れるよう、選択した金属粉の粒径は０．３〜５．０μｍの間とする。また、積層するコンデンサの数が多いほど、底部に近い積層セラミックコンデンサ１００ほど負荷が高くなる。高分子(一般的にポリマーとも呼ぶ)樹脂が硬化する過程において崩れるのを避けるように、負荷が高いポリマー樹脂ほど、粘度係数が高いものをセレクトするよう要求する必要がある。或いは硬化した後の接着インターフェイス２００の強度が高いほど、複数個の積層セラミックコンデンサの負荷に耐えるのに十分な支持力を形成する。

図４に示すように、本実施例の複数個の積層セラミックコンデンサ１００を互いに積み重ねる位置にある外部電極１３０は、高分子導電性接着剤２１０が接着硬化して接着インターフェイス２００を形成する。且つ各接着インターフェイス２００の外部に電気めっき加工を行うことができ、ニッケルめっき、スズめっきの順に電気めっき強化層２２０の第一めっき層２２１及び第二めっき層２２２を形成する。
高分子導電性接着剤２１０は７５％〜８５％の充分な金属粉を含むため、電気めっき液と反応し、均等で決め細やかなめっき表面を形成できることで、接着インターフェイス２００にある如何なる微細な亀裂或いは微細な間隙も、めっきを施した後、電気めっき強化層２２０の充填により、亀裂核の形成を避けることができるが、それに限られない。
また、各接着インターフェイス２００と積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０の外側部は、共に連なって電気めっき強化層２２０の平坦なサイド表面を形成し、且つ電気めっき強化層２２０は完全に複数個の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０を覆うことができることで、接着インターフェイス２００の機械的強度を強化する。或いは複数個の積層セラミックコンデンサ１００の一端にある外部電極１３０、或いは複数個の焼付銅層が共に、同一の連続して途切れることのない表面の電気めっき強化層２２０によって包まれ、それによって同時に複数個のセラミックコンデンサを直列接続できる特殊な外部端電極を形成する。
或いは、電気めっき強化層２２０が複数個に渡って上下に積層し、且つ高分子導電性接着剤２１０によって接着インターフェイスを形成する積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０を覆う。この類のリードレス積層セラミックコンデンサは、金属リード及びＴＬＰＳペーストを接合材料とする際に高温加熱を必要とする煩わしさ及び多くの制約を取り除くことができ、製造プロセスをシンプル化できるほか、はんだ付け作業を行わない高分子導電性接着剤２１０の硬化温度が相対的に比較的低いことにより、製造プロセスにおける変動要因も相対的にかなり減少するため、良品率をアップし、コストを下げる目的を実現できる。

図５から図６に示すように、本発明のリードレス積層セラミックコンデンサ(リードフレーム無し)と、従来の多層セラミックコンデンサの積み重ね(リードフレーム有り)を比較対照群としてサイドプッシュ実験を行ったデータシートで分かるように、比較対照群で測定して得たサイド向きにプッシュする、サイドプッシュ強度値の平均値(ＡＶＧ)は約１６６．７Ｎ.ｆであり、ミニマム値（ＭＩＮ）とマックス値（ＭＡＸ）の範囲は１２０〜１８０Ｎ.ｆの間である。これは市販のリードフレームを有する多層セラミックコンデンサの機械的強度のレベルである。

具体的に云えば、本発明実験組のリードレス積層セラミックコンデンサは、例え金属リードを取り除いても(リードフレーム無し)、実際に測定して得たサイドプッシュ強度値の平均値(ＡＶＧ)が約１６５．２２８Ｎ.ｆであり、ミニマム値（ＭＩＮ）とマックス値（ＭＡＸ）の範囲は１３３．２８〜１７６．４Ｎ.ｆの間である。全体的なサイドプッシュ強度値は、金属リードを有する多層セラミックコンデンサに劣らないが、製造プロセスは、上述の比較対照群より遥にシンプルである。例え金属リードと回路基板を使用せずに、表面接着技術(ＳＭＴ) を行ったとしても、彎曲或いは振動するエネルギーを吸収するために必要とする靭性を備えており、積層セラミックコンデンサ１００が積み重ねる位置或いは接着インターフェイス２００が予測できない応力破壊を引き起こすことなく、更に反復して彎曲或いは振動する環境によってもたらされる機械的損傷に有効に耐えることができる。

本発明の実験組のリードレス積層セラミックコンデンサに関し、製造プロセスでは遷移的液相焼結のように、高温加熱或いは二次加熱の工程をもって接着を形成する必要がなく、約１５０〜２００℃の低温で、支持強度を具有する硬化接着ポイントを形成することができる。
コンデンサ本体に対するダメージを最低限にまで減少するほか、高分子導電性接着剤は７５〜８５％の金属粉を含むために、良好なめっき効果を具有し、焼付銅或いは硬化接着ポイントにある如何なる微細な間隙或いは微細な亀裂も、めっき工程を経ると電気めっき強化層２２０によって充填される。
これらの片側の焼付銅を詳細に観察すると、それらは同じようにして第一めっき層２２１及び第二めっき層２２２を併せて使用することができる。高分子導電性接着剤２１０或いは硬化した接着インターフェイス２００は同時に第一めっき層２２１及び第二めっき層２２２による強化を受ける。よって、例えリフロー(Ｒｅｆｌｏｗ)過程を経たとしても、硬化した接着インターフェイス２００が接着剤割れになる現象がなく、安定して接着し、構造強度が良い。また、接着剤の最良規格は、Ｈ９２６市販製品の規格の高分子導電性接着剤であるが、積層するコンデンサの数が異なり、五つ或いは六つ或いはもっと多く増える可能性もあるため、接着強度が支持強度のニーズに見合うものを選ぶと同時に、７５〜８５％の金属粉を混ぜた導電性接着剤も選択肢に入れることができる。その中、７５〜８５％は原則的に重量のパーセンテージであるが、それに限られない。本発明の範囲を脱離せず、互いに積層するコンデンサが焼付銅層の外側にて同じ第一めっき層２２１及び第二めっき層２２２を併せて用いていれば、７５〜８５％は体積のパーセンテージとすることもできる。ただ注意すべきことは、積層するコンデンサの数量が多いほど、或いはコンデンサの規格体積及び重量が大きいほど、求められる接着強度は通常それに従って増えることになる。この時は更に高い接着強度のある接着剤をもって、コンデンサを積み重ねる支持強度を増やすよう、要求する必要がある。
更に、高分子導電性接着剤２１０は一方で１５〜２５％の接着剤を含み、該接着剤は高分子の樹脂を使用し、且つ主にポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン及びポリ芳香族エチレン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂及びポリウレタンで組成するグループである。また、７５〜８５％の金属粉を含み、該金属粉は主な導電性媒質となる。しかし、金属粉のほかに、導電性媒質は、金属箔、金属繊維、炭素系導電性混合物によって組成するグループから選ぶこともできる。その中で、該金属或いは導電性添加物が含む導電成分は、ニッケル、銀、銅、パラジウム、金、亜鉛及びその他の合金によって組成するグループの材料から選ぶ。該炭素系導電性混合物は、活性炭、炭素繊維及びカーボンナノチューブによって組成するグループの材料を選んで添加する可能性もある。更に具体的に言えば、高分子導電性接着剤２１０が必要とする物理特性とは、常温２５℃時の粘度が(Ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ)≧４７±５Ｐａ.ｓ、接着強度が(Ａｄｈｅｓｉｏｎ Ｓｔｒｅｎｇｔｈ)≧２０Ｎ／ｍｍ、比抵抗値(Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ)≦４．０ｘ１０−４Ω.Ｃｍを含む。このように、はんだ付け作業を伴わない、１５０℃〜２００℃の温度範囲内において、本発明実験組のリードレス積層セラミックコンデンサの接着インターフェイス２００を接着固定して形成する。

実施例にて言及する第一めっき層２２１及び第二めっき層２２は、通常電気めっきで形成するが、高分子導電性接着剤に含まれる７５〜８５％の金属粉により、仮にスパッタ(Ｓｐｕｔｔｅｒ)、ＣＶＰ、ＰＶＤ或いはイオン物理蒸着などの方法に変更したとしても、スムーズに順に第一めっき層２２１及び第二めっき層２２２を焼付銅及び高分子導電性接着剤２１０の一番外側に形成することができる。
同様に、各セラミックコンデンサのいずれか片側に同じ第一めっき層２２１及び第二めっき層２２２を共用する特殊な外部電極層構造を形成することができる。電気めっきで形成する際、第一めっき層２２１或いは第二めっき層２２２の厚みは０.１μｍ〜２０μｍ、最良の厚みは３μｍ〜１０μｍとする。スパッタ(Ｓｐｕｔｔｅｒ) 、ＣＶＰ、ＰＶＤ或いはイオン物理蒸着など方法で形成する場合は、第一めっき層２２１及び第二めっき層２２２の厚みは０．１ｎｍ〜２μｍとする。第一めっき層２２１或いは第二めっき層２２２の材料は、ニッケル、スズ、銅、銀、プラチナ、パラジウム及び金によって組成するグループから選ぶ。

積層セラミックコンデンサ１００の内部電極１２０の材料は、ニッケル、ニッケルを含む合金、ニッケルを含む化合物及び、ニッケルを含む有機複合材料によって組成するグループから選ぶ。或いは銅、銅を含む合金、銅を含む化合物及び、銅を含む有機複合材料によって組成するグループから選ぶ。或いはパラジウム、パラジウムを含む合金、パラジウムを含む化合物及び、パラジウムを含む有機複合材料によって組成するグループから選ぶ。
例えば：ニッケルを含む合金の内部電極は、Ｎｉ-Ｃｕ合金内部電極、Ｎｉ−Ｓｎ合金内部電極である可能性がある。中でもＣｕ或いはＳｎの含量が約１〜３％であれば、内部電極が高温における体積収縮現象を有効に抑制することができる。また、内部電極の形状デザインについて、電圧に耐える効果を追求するために、内部電極１２０の芯部、各辺角、或いはコーナーペアの位置が、それぞれ曲率半径の面取りを形成することで、芯部各辺角或いはコーナーペアの部位の面取り物理形状がアーク型角或いは扇形角などに変更する。内部電極が耐えうる瞬間電圧或いは応力破壊の力を増やすことで、内部電極１２０が積み重ねる層を増やして行く際に、各辺角或いはコーナーペア部位が鋭い形状であるがために、エネルギーが集中する現象を避ける。

更に、本発明実験組のリードレス積層セラミックコンデンサは、上下垂直の方向で積層するものを例に、二つ目の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０の下表面をそれぞれ高分子導電性接着剤２１０に貼り、同時に二つ目の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極１３０の焼付銅を一つ目の積層セラミックコンデンサ１００の外部電極３０の焼付銅と同じ位置に対応し、且つその上方に積み重ねる。その中、いわゆる焼付銅の存在目的とは、内部電極１２０の端部と直接電気接続を形成することである。
主に高温焼結方法を通じて、銅を含む金属成分の導電層を形成し、また、スパッタ方法に変更して形成する導電層もまた、将来的に代替できる選択肢となる可能性がある。しかし、内部電極１２０の端部と直接電気接続を形成する焼付銅或いは導電層の代替選択肢に、導電樹脂或いは高分子導電性接着剤を含めないのは、放熱不良の問題を引き起こしやすいためである。

以上の実施例による本発明の詳細な説明は本発明の範囲を制限するものではない。本技術に熟知する者は、固定構造の変更などの適当な変更および調整を行うことができ、これらの変更および調整を行っても本発明の重要な意義は失われず、本発明の範囲に含まれる。

１００ 積層セラミックコンデンサ
１１０ コンデンサ本体
１１１ 誘電体層
１２０ 内部電極
１３０ 外部電極
２００ 接着インターフェイス
２１０ 高分子導電性接着剤
２２０ 電気めっき強化層
２２１ 第一めっき層
２２２ 第二めっき層
Ａ 多層セラミックコンデンサ
Ａ１ 外部電極端
Ｂ はんだ
Ｃ リードフレーム
Ｃ１ 接合面
Ｃ２ 外部リード

Claims (12)

1. 複数の積層セラミックコンデンサ本体を互いに垂直に積み重ねた積層セラミックコンデンサあって、
   該積層セラミックコンデンサ本体は、それぞれ複数個の誘電体層を積層し、且つ各二つの隣接する誘電体層の間に交互に複数個の内部電極を相対して設置し、
   該複数の内部電極の端部はそれぞれコンデンサ本体の両端に露出し、且つコンデンサ本体の両端はそれぞれ該複数の内部電極の端部と電気接続を形成する外部電極を設け、及び、
   該複数の積層セラミックコンデンサ本体の外部電極の間は、７５％〜８５％の金属粉及び１５％〜２５％の接着剤を含む高分子導電性接着剤が硬化して接着インターフェイスを形成してなる、
   ことを特徴とするリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
2. 複数の積層セラミックコンデンサ本体を互いに垂直に積み重ねた積層セラミックコンデンサあって、
   該積層セラミックコンデンサ本体は、それぞれ複数個の誘電体層と内部電極をそれぞれ交互に設置し、
   該複数の内部電極の端部はそれぞれコンデンサ本体の両端に露出し、且つコンデンサ本体の両端はそれぞれ該複数の内部電極の端部と電気接続を形成する外部電極を設け、
   該外部電極は、電気めっき強化層及び複数個の焼付銅層を含み、
   該電気めっき強化層は、該外部電極の外側に位置して焼付銅層を覆い、
   該焼付銅層は該外部電極の内側に位置して上記内部電極の端部を覆い、
   且つ、該焼付銅層は７５％〜８５％の金属粉及び１５％〜２５％を含む高分子導電性接着剤を介して接着インターフェイスを形成してなる、
   ことを特徴とするリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
3. 前記積層セラミックコンデンサのコンデンサ本体の中に複数個の誘電体層を積層し、且つ該複数の誘電体層同士の間に、該複数の内部電極を交互に設置したことを特徴とする請求項１或いは請求項２記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
4. 前記該高分子導電性接着剤は、はんだ付け作業を行わず１５０〜２００℃の低温範囲内において、該複数の積層セラミックコンデンサの各二つの相隣する外部電極を接着固定して接着インターフェイスを形成したことを特徴とする請求項１或いは請求項２記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
5. 前記該高分子導電性接着剤の金属粉は、銀、銅及びニッケルで組成するグループのいずれか一つから選ぶことを特徴とする請求項１或いは請求項２記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
6. 前記該金属粉の粒径は０．３〜５．０μｍの間とすることを特徴とする請求項５記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
7. 前記高分子導電性接着剤の接着剤は、高分子樹脂を使用することを特徴とする請求項１或いは請求項２記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
8. 前記該高分子樹脂内は更にグラフェンを含むことを特徴とする請求項７記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
9. 前記該複数の積層セラミックコンデンサは、互いの間にある外部電極を積み重ねる位置にある接着インターフェイスの外部に、それぞれ電気めっき強化層を形成することを特徴とする請求項１或いは請求項２記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
10. 前記電気めっき強化層は、該複数の接着インターフェイス外部を、電気めっき加工して順に第一めっき層及び第二めっき層を形成することを特徴とする請求項９記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
11. 前記該第一めっき層及び第二めっき層はそれぞれニッケルめっき及びスズめっきとすることを特徴とする請求項１０記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
12. 前記電気めっき強化層は、連続して途切れることのない表面であり、且つ複数個の積層セラミックコンデンサの一端の外部電極の外側に位置することを特徴とする請求項９記載のリードレス積層セラミックコンデンサの構造。
    

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