JP2021138134A - Substrate support device for scribe processing of brittle substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、脆性を有する薄型基板を切断するために使用されるスクライブ装置に関し、より詳細には、スクライビング過程時に発生する基板の不要な動きや曲げを抑制し、スクライビングの精密性を向上させる脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置に関する。 The present invention relates to a scribing device used for cutting a thin substrate having brittleness, and more specifically, the brittleness that suppresses unnecessary movement and bending of the substrate generated during the scribing process and improves the precision of scribing. The present invention relates to a substrate support device for scribe processing of a substrate.
ガラス基板を含む薄型脆性基板を必要なサイズに切断するための道具として、切断ホイールを備えたスクライブ装置が使用されている。スクライブ装置は、切断ホイールを基板の表面に圧接させた状態で荷重をかけると同時に走行させて、転がり運動する切断ホイールが基板の表面にスクライブラインを形成するようにし、スクライブラインが形成された後、スクライブラインを中心に曲げ力を印加して基板が切断されるようにする構造を有する。 A scribe device equipped with a cutting wheel is used as a tool for cutting a thin brittle substrate including a glass substrate to a required size. The scribe device runs at the same time as applying a load while the cutting wheel is pressed against the surface of the substrate so that the rolling cutting wheel forms a scribing line on the surface of the substrate, and after the scribing line is formed. , It has a structure in which a bending force is applied around a scribe line so that the substrate is cut.
図1に、従来のスクライブ装置の模式的構造を示した。 Figure 1 shows the schematic structure of a conventional scribe device.
図示したように、従来のスクライブ装置(10)は、上流側コンベア(11)、受け台(11a)、下流側コンベア(13)、受け台(13a)、スクライバー(15)を有する。受け台(11a、13a)は、上流側コンベア(11)と下流側コンベア(13)を同一の高さに維持させる。前記上流側コンベア(11)と下流側コンベア(13)は同一の高さを有すると同時に一直線上に延び、加工する脆性基板(100)を矢印a方向に移送させる。 As shown, the conventional scribe device (10) has an upstream conveyor (11), a cradle (11a), a downstream conveyor (13), a cradle (13a), and a scriber (15). The cradle (11a, 13a) keeps the upstream conveyor (11) and the downstream conveyor (13) at the same height. The upstream conveyor (11) and the downstream conveyor (13) have the same height and at the same time extend in a straight line, and the brittle substrate (100) to be processed is transferred in the direction of arrow a.
上流側コンベア(11)と下流側コンベア(13)は互いに対して一定間隔離隔される。上流側コンベア(11)と下流側コンベア(13)との間が、スクライビングが行われる空間である。 The upstream conveyor (11) and the downstream conveyor (13) are separated from each other for a certain period of time. The space between the upstream conveyor (11) and the downstream conveyor (13) is the space where scribing is performed.
スクライバー(15)は、切断ホイール(17)がそれぞれ装着されている上部ヘッド(15a)と下部ヘッド(15b)とを有する。上部ヘッド(15a)と下部ヘッド(15b)をそれぞれ下降及び上昇させて切断ホイール(17)が脆性基板(100)を加圧するようにセッティングした状態で、スクライバー(15)を、脆性基板(100)の幅方向に移動させると、切断ホイール(17)が転がり運動しながら脆性基板(100)にスクライブラインを形成させる。 The scriber (15) has an upper head (15a) and a lower head (15b), respectively, to which a cutting wheel (17) is mounted. With the upper head (15a) and lower head (15b) lowered and raised respectively and the cutting wheel (17) set to pressurize the brittle substrate (100), the scriber (15) is moved to the brittle substrate (100). When moved in the width direction of, the cutting wheel (17) rolls and forms a scribe line on the brittle substrate (100).
図1では切断ホイール(17)が脆性基板(100)の上下部にすべて適用されているが、スクライブ装置によって、脆性基板(100)の上部にはレーザー照射部を設置し、下部のみに切断ホイール(17)を適用したり、上部に切断ホイール(17)を、下部にレーザー照射部を適用する場合も多い。このような場合、脆性基板(100)の一方の面のみに切断ホイール(17)の荷重がかけられて脆性基板(100)が下部に垂れたり、上向きに湾曲される。 In FIG. 1, the cutting wheel (17) is all applied to the upper and lower parts of the brittle substrate (100), but the scribing device installs a laser irradiation part on the upper part of the brittle substrate (100) and cuts the wheel only on the lower part. In many cases, (17) is applied, the cutting wheel (17) is applied to the upper part, and the laser irradiation part is applied to the lower part. In such a case, the load of the cutting wheel (17) is applied to only one surface of the brittle substrate (100), so that the brittle substrate (100) hangs down or is curved upward.
図2a及び2bは、図1に示したスクライブ装置の問題点を説明するための図である。 2a and 2b are diagrams for explaining the problems of the scribe device shown in FIG.
図2aを参照すると、脆性基板(100)が上流側コンベア(11)と下流側コンベア(13)に掛け渡されており、上部ヘッド(15a)の切断ホイール(17)が脆性基板(100)にスクライブラインを形成するために脆性基板(100)を加圧している。脆性基板(100)自体の厚さが非常に薄いため、空中に浮いている状態だけでも下部に垂れる現象が発生されるが、図2aのように、矢印f方向の圧力がより加重されるので、脆性基板(100)は、下部にさらに湾曲されるようになる。この状態で切断ホイール(17)を走行させると、スクライブラインが形成されるものの、精密性に劣る問題点が発生する。 Referring to FIG. 2a, the brittle substrate (100) is hung on the upstream conveyor (11) and the downstream conveyor (13), and the cutting wheel (17) of the upper head (15a) is attached to the brittle substrate (100). The brittle substrate (100) is pressurized to form a scribe line. Since the brittle substrate (100) itself is very thin, the phenomenon of hanging down even when it is floating in the air occurs, but as shown in Fig. 2a, the pressure in the direction of arrow f is more weighted. , The brittle substrate (100) will be further curved downwards. If the cutting wheel (17) is run in this state, a scribe line is formed, but a problem of inferior precision occurs.
図2bの場合には、切断ホイール(17)が脆性基板(100)を矢印g方向に加圧している。スクライブラインを形成するためには、脆性基板を加圧しなければならないため、脆性基板(100)が上部に湾曲されるようになる。それでも図2aの場合には、脆性基板(100)が両側コンベアに支持されるが、図2bは、脆性基板が自重により支えられているものであるので、精密なスクライブラインの形成は期待することが難しい。 In the case of FIG. 2b, the cutting wheel (17) pressurizes the brittle substrate (100) in the direction of arrow g. Since the brittle substrate must be pressurized in order to form the scribe line, the brittle substrate (100) becomes curved upward. Nevertheless, in the case of Fig. 2a, the brittle substrate (100) is supported by the conveyors on both sides, but in Fig. 2b, since the brittle substrate is supported by its own weight, the formation of a precise scribe line should be expected. Is difficult.
本発明は、前記問題点を解消するために創出したものであって、スクライブ加工時に脆性基板の水平状態を安定に維持させることによって、精密なスクライブラインを形成することができる脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置を提供することに目的がある。 The present invention was created in order to solve the above-mentioned problems, and scribe processing of a brittle substrate capable of forming a precise scribing line by stably maintaining the horizontal state of the brittle substrate during scribe processing. An object of the present invention is to provide a substrate support device for brittleness.
前記目的を達成するための課題の解決手段としての本発明の脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置は、所定の経路に沿って移送される脆性基板にスクライブラインを形成するスクライバーに近接設置され、スクライビング作業時に脆性基板に加わる力によって脆性基板が変形されることを防止するものであって、前記脆性基板の下部に昇降可能なように設置され、上昇した状態で前記脆性基板の底面に接面して前記脆性基板の垂れを防止する支持テーブルと、前記支持テーブルを昇降運動させる昇降運動手段と、前記昇降運動手段を制御するコントローラと、を備える。 The substrate support device for scribing a brittle substrate of the present invention as a means for solving the problems for achieving the above object is installed close to a scriber forming a scribing line on the brittle substrate transferred along a predetermined path. It prevents the brittle substrate from being deformed by the force applied to the brittle substrate during scribing work, and is installed so as to be able to move up and down under the brittle substrate, and is in contact with the bottom surface of the brittle substrate in an elevated state. The brittle substrate is provided with a support table for preventing the brittle substrate from sagging, an elevating movement means for raising and lowering the support table, and a controller for controlling the elevating movement means.
また、前記昇降運動手段は;垂直に固定され、前記コントローラによって制御されるリニアアクチュエータと、前記リニアアクチュエータによって垂直方向に昇降運動し、前記支持テーブルに昇降運動力を伝達する昇降スライダを有する。 Further, the elevating movement means; has a linear actuator fixed vertically and controlled by the controller, and an elevating slider which moves up and down in the vertical direction by the linear actuator and transmits the elevating movement force to the support table.
また、前記支持テーブルの内部には、吸気口を介して前記支持テーブルの上部に開放されると共に、外部の真空ポンプと連結され、前記真空ポンプの作動時、前記支持テーブルに接面している脆性基板を前記支持テーブルに吸着させるように作用する吸気通路が形成されている。 Further, the inside of the support table is opened to the upper part of the support table via an intake port and is connected to an external vacuum pump so as to be in contact with the support table when the vacuum pump is operated. An intake passage is formed that acts to attract the brittle substrate to the support table.
併せて、前記支持テーブルの内部には、排気口を介して前記支持テーブルの上部に開放されると共に、外部の圧入ポンプと連結され、前記圧入ポンプの作動時、圧入ポンプから提供された空気を前記排気口を介して上向き噴出させ、空気圧を用いて脆性基板を上向き加圧する噴出通路が形成される。 At the same time, the inside of the support table is opened to the upper part of the support table via an exhaust port and is connected to an external press-fit pump, and when the press-fit pump is operated, the air provided by the press-fit pump is released. An ejection passage is formed in which the brittle substrate is ejected upward through the exhaust port and the brittle substrate is pressurized upward using air pressure.
前記のようになされる本発明の脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置は、スクライブ加工時、脆性基板の水平を安定に維持させることによって精密なスクライブラインを形成させる。 The substrate support device for scribing a brittle substrate of the present invention as described above forms a precise scribing line by stably maintaining the horizontality of the brittle substrate during scribing.
以下、本発明に係る一実施例を、添付された図面を参照して、より詳細に説明する。 Hereinafter, an embodiment according to the present invention will be described in more detail with reference to the attached drawings.
本発明の脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置は、脆性基板のスクライブ加工時、脆性基板に加わる力によって脆性基板が変形されることを防止するものである。換言すれば、脆性基板に切断ホイールの力が加わる状況であっても脆性基板を水平に維持させるものである。脆性基板を水平に維持する理由は、当然スクライブ加工の精密性を向上させるためである。 The substrate support device for scribe processing of a brittle substrate of the present invention prevents the brittle substrate from being deformed by the force applied to the brittle substrate during scribe processing of the brittle substrate. In other words, it keeps the brittle substrate horizontal even when the force of the cutting wheel is applied to the brittle substrate. The reason for keeping the brittle substrate horizontal is, of course, to improve the precision of scribe machining.
このような本発明の基板支持装置の基本構成は、所定の経路に沿って移送される脆性基板にスクライブラインを形成するスクライバーに近接設置され、スクライビング作業時に脆性基板に加わる力によって脆性基板が変形されることを防止するものであって、前記脆性基板の下部に昇降可能なように設置され、上昇した状態で脆性基板の底面に接面して脆性基板の垂れを防止する支持テーブルと、前記支持テーブルを昇降運動させる昇降運動手段と、前記昇降運動手段を制御するコントローラと、からなる。 The basic configuration of the substrate support device of the present invention is installed close to a scriber that forms a scribing line on the brittle substrate that is transferred along a predetermined path, and the brittle substrate is deformed by the force applied to the brittle substrate during the scribing operation. A support table that is installed so as to be able to move up and down under the brittle substrate and is in contact with the bottom surface of the brittle substrate in an elevated state to prevent the brittle substrate from sagging. It is composed of an ascending / descending motion means for ascending / descending the support table and a controller for controlling the ascending / descending motion means.
図3は、本発明の一実施例に係る脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置(30)の構成を説明するための側面図である。 FIG. 3 is a side view for explaining a configuration of a substrate support device (30) for scribe processing of a brittle substrate according to an embodiment of the present invention.
図面を参照すると、上流側コンベア(11)と下流側コンベア(13)との間にスクライバー(15)が設置されていることが分かる。スクライバー(15)は、上部ヘッド(15a)と下部ヘッド(15b)とを提供し、上下部ヘッド(15a、15b)には切断ホイール(17)がそれぞれ装着されている。 With reference to the drawings, it can be seen that the scriber (15) is installed between the upstream conveyor (11) and the downstream conveyor (13). The scriber (15) provides an upper head (15a) and a lower head (15b), each of which is fitted with a cutting wheel (17) on the upper and lower heads (15a, 15b).
一方、本実施例に係る基板支持装置(30)は、受け台(13a)に固定される固定構造体(31)、固定構造体(31)に支持されるコントローラ(37)及びリニアアクチュエータ(33)、リニアアクチュエータ(33)に固定され、垂直方向に昇降する支持テーブル(40)を備える。コントローラ(37)の位置は、多様に変更可能である。例えば、別途の電装ボックスに設置することもできる。 On the other hand, the substrate support device (30) according to the present embodiment includes a fixed structure (31) fixed to the pedestal (13a), a controller (37) supported by the fixed structure (31), and a linear actuator (33). ), A support table (40) that is fixed to a linear actuator (33) and moves up and down in the vertical direction. The position of the controller (37) can be changed in various ways. For example, it can be installed in a separate electrical box.
固定構造体(31)は、受け台(13a)の下側部に固定される支持用フレームであって、コントローラ(37)とリニアアクチュエータ(33)を支持する。支持力を提供することができる限り固定構造体(31)の構造やサイズはいくらでも変わることができる。 The fixed structure (31) is a support frame fixed to the lower portion of the cradle (13a) and supports the controller (37) and the linear actuator (33). The structure and size of the fixed structure (31) can vary indefinitely as long as it can provide bearing capacity.
リニアアクチュエータ(33)は、固定構造体(31)に固定され、コントローラ(37)によって制御される。リニアアクチュエータ(33)の一部分である垂直ガイド部(33a)は、固定構造体(31)の一側面に固定された状態で垂直に延長され、昇降スライダ(33b)は、垂直ガイド部(33a)に支持された状態で昇降運動する。昇降スライダ(33b)の高さは、コントローラ(37)によって微細に調節される。 The linear actuator (33) is fixed to the fixed structure (31) and controlled by the controller (37). The vertical guide portion (33a), which is a part of the linear actuator (33), is vertically extended while being fixed to one side surface of the fixed structure (31), and the elevating slider (33b) is the vertical guide portion (33a). Move up and down while being supported by. The height of the elevating slider (33b) is finely adjusted by the controller (37).
また、前記昇降スライダ(33b)には、連結板(35)が固定される。連結板(35)は、一定の厚さを有するプレート型部材であって、昇降スライダ(33b)と一体を成しリニアアクチュエータ(33)の作動により昇降運動する。連結板(35)とリニアアクチュエータ(33)は相互に結合され、支持テーブル(40)に昇降運動力を伝達する昇降運動手段の役割を果たす。 Further, a connecting plate (35) is fixed to the elevating slider (33b). The connecting plate (35) is a plate-type member having a certain thickness, and is integrated with the elevating slider (33b) and moves up and down by the operation of the linear actuator (33). The connecting plate (35) and the linear actuator (33) are interconnected and serve as a lifting means for transmitting lifting force to the support table (40).
一方、前記支持テーブル(40)は、脆性基板(100)の底面に接面することができる広さの基板支持面(42)を提供するブロック型部材であって、連結板(35)の上端部に固定される。支持テーブル(40)は、図6及び図7に示したように、脆性基板(100)を、下部に引っ張って吸着固定するか、上部に浮かせることができる。これに関連した説明は、後述することにする。 On the other hand, the support table (40) is a block-type member that provides a substrate support surface (42) having a width capable of contacting the bottom surface of the brittle substrate (100), and is an upper end of the connecting plate (35). It is fixed to the part. As shown in FIGS. 6 and 7, the support table (40) can pull the brittle substrate (100) to the lower part to be attracted and fixed, or can float the brittle substrate (100) to the upper part. A description related to this will be described later.
併せて、支持テーブル(40)の内部には吸気通路(図5aの43a)と噴出通路(図5bの44a)が設置されており、吸気通路(43a)は真空ホース(45)を介して真空ポンプ(51)と、噴出通路(44a)は圧入ホース(46)を介して加圧ポンプ(53)と連結されている。真空ポンプ(51)と加圧ポンプ(53)もコントローラ(37)によって制御される。 At the same time, an intake passage (43a in FIG. 5a) and an ejection passage (44a in FIG. 5b) are installed inside the support table (40), and the intake passage (43a) is evacuated via a vacuum hose (45). The pump (51) and the ejection passage (44a) are connected to the pressurizing pump (53) via a press-fit hose (46). The vacuum pump (51) and pressure pump (53) are also controlled by the controller (37).
真空ポンプ(51)は、例えば、吸気通路(43a)の内部の圧力を陰圧に維持する役割を果たし、加圧ポンプ(53)は、噴出通路(44a)の内部へ空気を吹き込む機能を担当する。 The vacuum pump (51), for example, serves to maintain the pressure inside the intake passage (43a) at a negative pressure, and the pressurizing pump (53) is responsible for blowing air into the ejection passage (44a). do.
図4は、図3に示した支持テーブル(40)を別途に図示した斜視図であり、図5(a)は図4のA-A線断面図であり、図5(b)は、図4のB-B線断面図である。 FIG. 4 is a perspective view in which the support table (40) shown in FIG. 3 is separately illustrated, FIG. 5 (a) is a sectional view taken along line AA of FIG. 4, and FIG. 5 (b) is a sectional view of FIG. It is a BB line sectional view.
図示したように、支持テーブル(40)は、略「く」の字状の側面形態を取り、上端面に水平の基板支持面(42)を提供する。基板支持面(42)は脆性基板(100)の底面を保持する水平面であって、そのサイズは必要に応じて異なることができる。 As illustrated, the support table (40) takes the form of a substantially "dogleg" shaped side surface and provides a horizontal substrate support surface (42) on the top surface. The substrate support surface (42) is a horizontal plane that holds the bottom surface of the brittle substrate (100), and its size can vary as required.
また、基板支持面(42)には、多数の吸気口(43)と噴出口(44)が配置されている。吸気口(43)は、基板支持面(42)の上部の空気を下部に吸入する孔であり、噴出口(44)は、支持テーブル(40)の上部へ空気を噴出する孔である。 Further, a large number of intake ports (43) and spouts (44) are arranged on the substrate support surface (42). The intake port (43) is a hole for sucking air in the upper part of the substrate support surface (42) to the lower part, and the spout (44) is a hole for ejecting air to the upper part of the support table (40).
前記吸気口(43)は、図5aに示したように、吸気通路(43a)と連結されている。吸気通路(43a)は、支持テーブル(40)の内部に形成されている空気通路であって下端部が真空ホース(45)に連結される。前記真空ポンプ(51)を作動させると、当然に吸気通路(43a)の内部の空気が下部に抜ける。したがって、例えば、図6に示したように、基板支持面(42)上に脆性基板(100)が接面した状態であれば、脆性基板(100)が基板支持面(42)上に吸着固定される。 The intake port (43) is connected to the intake passage (43a) as shown in FIG. 5a. The intake passage (43a) is an air passage formed inside the support table (40), and the lower end thereof is connected to the vacuum hose (45). When the vacuum pump (51) is operated, the air inside the intake passage (43a) naturally escapes to the lower part. Therefore, for example, as shown in FIG. 6, when the brittle substrate (100) is in contact with the substrate support surface (42), the brittle substrate (100) is adsorbed and fixed on the substrate support surface (42). Will be done.
また、噴出口(44)は、長孔の形態を取り、図5(b)に示すしたように、噴出通路(44a)と繋がっている。噴出通路(44a)は支持テーブル(40)の内部に形成されている空気通路であって下端部が圧入ホース(46)と結合する。したがって、上で言及したように、加圧ポンプから発生した高圧の空気は圧入ホース(46)と噴出通路(44a)を通過して噴出口(44)の上部に吐出されるようになる。 Further, the spout (44) takes the form of a long hole and is connected to the spout passage (44a) as shown in FIG. 5 (b). The ejection passage (44a) is an air passage formed inside the support table (40), and the lower end thereof is connected to the press-fit hose (46). Therefore, as mentioned above, the high-pressure air generated from the pressurizing pump passes through the press-fit hose (46) and the ejection passage (44a) and is discharged to the upper part of the ejection port (44).
前記した吸気口(43)と噴出口(44)の様子や配置構造は、いくらでも変更可能であることは言うまでもない。 It goes without saying that the appearance and arrangement structure of the intake port (43) and the spout (44) described above can be changed as much as possible.
図6及び図7は、図3に示した基板支持装置(30)の作動を説明するための図である。 6 and 7 are diagrams for explaining the operation of the substrate support device (30) shown in FIG.
まず、図6に示したように、支持テーブル(40)を上昇させ、下部に微細に垂れている脆性基板(100)を水平に維持させる。この際、基板支持面(42)は、脆性基板(100)の底面に接面する。 First, as shown in FIG. 6, the support table (40) is raised to keep the brittle substrate (100) finely hanging at the bottom horizontal. At this time, the substrate support surface (42) is in contact with the bottom surface of the brittle substrate (100).
前記過程を経て支持テーブル(40)の高さがセッティングされた場合、真空ポンプ(51)を作動させて脆性基板(100)を基板支持面(42)に吸着固定させる。脆性基板(100)が基板支持面(42)に吸着された以上、脆性基板(100)が上部に浮き上がったり、切断ホイール(17)側に引っ張られないことは言うまでもない。 When the height of the support table (40) is set through the above process, the vacuum pump (51) is operated to adsorb and fix the brittle substrate (100) to the substrate support surface (42). Needless to say, since the brittle substrate (100) is adsorbed on the substrate supporting surface (42), the brittle substrate (100) is not lifted up or pulled toward the cutting wheel (17).
脆性基板(100)が基板支持面(42)に完全に吸着された後、切断ホイール(17)を下降させてから脆性基板(100)の幅方向に走行させ、脆性基板(100)に幅方向のスクライブラインを形成する。スクライブラインの形成が完了されたら切断ホイール(17)を再び上昇させ、脆性基板(100)を図7の矢印c方向に移送させる。 After the brittle substrate (100) is completely adsorbed on the substrate support surface (42), the cutting wheel (17) is lowered and then traveled in the width direction of the brittle substrate (100) to the brittle substrate (100) in the width direction. Form a brittle line. When the formation of the scribe line is completed, the cutting wheel (17) is raised again to transfer the brittle substrate (100) in the direction of arrow c in FIG.
一方、切断ホイール(17)が脆性基板(100)の下部に設置されている場合でも、支持テーブル(40)の高さがセッティングされた後、脆性基板(100)を基板支持面(42)に吸着固定させた状態でスクライビングを進行する。脆性基板(100)が基板支持面(42)に吸着されている以上、切断ホイール(17)が脆性基板の下部で走行し脆性基板(100)を上向き加圧しても脆性基板(100)は上部に浮き上がらずに精密なスクライビングをすることができる。 On the other hand, even when the cutting wheel (17) is installed under the brittle substrate (100), the brittle substrate (100) is placed on the substrate support surface (42) after the height of the support table (40) is set. Scribing proceeds in a state of being sucked and fixed. As long as the brittle substrate (100) is adsorbed on the substrate support surface (42), the cutting wheel (17) runs under the brittle substrate, and even if the brittle substrate (100) is pressed upward, the brittle substrate (100) remains at the top. It is possible to perform precise scribing without rising to the surface.
スクライビングの完了後、脆性基板(100)を移送させるためには、真空ポンプ(51)を停止させ、加圧ポンプ(53)を作動させて噴出口(44)を介して空気を噴出する。 After the scribing is complete, in order to transfer the brittle substrate (100), the vacuum pump (51) is stopped and the pressurizing pump (53) is operated to eject air through the spout (44).
噴出口(44)を介して噴出される空気の圧力は、脆性基板(100)の底面に伝達され、脆性基板(100)を基板支持面(42)から浮かせる。これにより、脆性基板(100)は、図7に示したように、基板支持面(42)から間隔Gだけ浮上する。浮上間隔Gは必要に応じて異なり、コントローラ(37)によって調節される。 The pressure of the air ejected through the spout (44) is transmitted to the bottom surface of the brittle substrate (100), causing the brittle substrate (100) to float from the substrate support surface (42). As a result, the brittle substrate (100) rises from the substrate support surface (42) by an interval G, as shown in FIG. 7. The levitation interval G varies as needed and is adjusted by the controller (37).
ところで、脆性基板(100)の浮上に応じて脆性基板の扁平度が崩れないように、支持テーブル(40)を、前記間隔Gに該当する高さだけ下降させる。結局、脆性基板(100)の水平が維持されながら、脆性基板(100)から支持テーブル(40)が離隔されるようになる。 By the way, the support table (40) is lowered by a height corresponding to the interval G so that the flatness of the brittle substrate does not collapse in response to the floating of the brittle substrate (100). Eventually, the support table (40) is separated from the brittle substrate (100) while maintaining the levelness of the brittle substrate (100).
このように脆性基板(100)が基板支持面(42)から浮上されたなら、換言すれば、基板支持面(42)が脆性基板(100)を支持した状態で下降したなら、上下流側コンベア(11、13)を作動させて脆性基板(100)を矢印c方向に移動させる。脆性基板(100)が基板支持面(42)から離れているので、基板支持面(42)からの損傷は当然にない。 If the brittle substrate (100) is lifted from the substrate support surface (42) in this way, in other words, if the substrate support surface (42) descends while supporting the brittle substrate (100), the upstream / downstream side conveyor (11, 13) is operated to move the brittle substrate (100) in the direction of arrow c. Since the brittle substrate (100) is separated from the substrate support surface (42), there is naturally no damage from the substrate support surface (42).
図8は、本発明の一実施例に係る脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置(30)の変形例を説明するための図である。 FIG. 8 is a diagram for explaining a modified example of the substrate support device (30) for scribe processing of a brittle substrate according to an embodiment of the present invention.
前記した実施例における図面符号と同一の図面符号は、同一の機能の同一の部材を示す。 The same drawing code as the drawing code in the above-described embodiment indicates the same member having the same function.
本変形例の基板支持装置(30)は、スクライブラインの方向に関係なく使用可能である。例えば、スクライブラインが、脆性基板(100)の移送方向に直交する方向(幅方向)でも、移送方向と平行な方向でも関係なく、その機能を発揮するものである。 The substrate support device (30) of this modification can be used regardless of the direction of the scribe line. For example, the scribe line exerts its function regardless of whether it is in the direction orthogonal to the transfer direction (width direction) of the brittle substrate (100) or in the direction parallel to the transfer direction.
図8は、切断ホイール(17)が、脆性基板の移送方向と平行な方向にスクライブラインを形成する様子を示す図である。このような作業は、切断ホイール(17)が脆性基板(100)を押した状態でその場で転がり運動のみをし、脆性基板(100)が矢印c方向に移動することによってなされる。 FIG. 8 is a diagram showing how the cutting wheel (17) forms a scribe line in a direction parallel to the transfer direction of the brittle substrate. Such work is performed by the cutting wheel (17) pushing the brittle substrate (100) and performing only a rolling motion on the spot, and the brittle substrate (100) moving in the direction of arrow c.
図示したように、切断ホイール(17)の下流側に位置する支持テーブル(40)が、基板支持面(42)から脆性基板(100)を矢印m方向に浮上している。脆性基板(100)を浮上する理由は、上で説明したとおり、脆性基板(100)が基板支持面(42)に当たらないようにするためである。また、脆性基板(100)が浮上した高さだけ、基板支持面(42)を下降させて脆性基板(100)の扁平度を維持させることは同様である。 As shown, the support table (40) located on the downstream side of the cutting wheel (17) raises the brittle substrate (100) from the substrate support surface (42) in the direction of arrow m. The reason for floating the brittle substrate (100) is to prevent the brittle substrate (100) from hitting the substrate support surface (42) as described above. Further, it is the same that the substrate support surface (42) is lowered by the height at which the brittle substrate (100) floats to maintain the flatness of the brittle substrate (100).
以上、本発明を具体的な実施例を通じて詳細に説明したが、本発明は、前記実施例に限定せず、本発明の技術的思想の範囲内で通常の知識を有する者によって様々な変形が可能である。 Although the present invention has been described in detail through specific examples, the present invention is not limited to the above-mentioned examples, and various modifications can be made by a person having ordinary knowledge within the scope of the technical idea of the present invention. It is possible.
10 スクライブ装置
11 上流側コンベア
11a 受け台
13 下流側コンベア
13a 受け台
15 スクライバー
15a 上部ヘッド
15b 下部ヘッド
17 切断ホイール
30 基板支持装置
31 固定構造体
33 リニアアクチュエータ
33a 垂直ガイド部
33b 昇降スライダ
35 連結板
37 コントローラ
40 支持テーブル
42 基板支持面
43 吸気口
43a 吸気通路
44 噴出口
44a 噴出通路
45 真空ホース
46 圧入ホース
51 真空ポンプ
53 加圧ポンプ
100 脆性基板
10
Claims (4)
前記脆性基板の下部に昇降可能なように設置され、上昇した状態で前記脆性基板の底面に接面して前記脆性基板の垂れを防止する支持テーブルと、
前記支持テーブルを昇降運動させる昇降運動手段と、
前記昇降運動手段を制御するコントローラと、
を備える脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置。 It is installed close to a scriber that forms a scribe line on the brittle substrate that is transferred along a predetermined path, and prevents the brittle substrate from being deformed by the force applied to the brittle substrate during scribing work.
A support table which is installed under the brittle substrate so as to be able to move up and down, and which is in contact with the bottom surface of the brittle substrate in an elevated state to prevent the brittle substrate from sagging.
Ascending / descending motion means for ascending / descending the support table and
A controller that controls the elevating movement means and
A substrate support device for scribe processing of brittle substrates.
垂直に固定され、前記コントローラによって制御されるリニアアクチュエータと、
前記リニアアクチュエータによって垂直方向に昇降運動し、前記支持テーブルに昇降運動力を伝達する昇降スライダと、
を有する請求項1に記載の脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置。 The elevating movement means
A linear actuator that is fixed vertically and controlled by the controller,
An elevating slider that moves up and down in the vertical direction by the linear actuator and transmits the elevating force to the support table.
The substrate support device for scribe processing of a brittle substrate according to claim 1.
吸気口を介して前記支持テーブルの上部に開放されると共に、外部の真空ポンプと連結され、
前記真空ポンプの作動時、前記支持テーブルに接面している脆性基板を前記支持テーブルに吸着させるように作用する吸気通路が形成されている請求項1に記載の脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置。 Inside the support table,
It is opened to the upper part of the support table via the intake port and is connected to an external vacuum pump.
The substrate support for scribe processing of the brittle substrate according to claim 1, wherein an intake passage is formed so as to attract the brittle substrate in contact with the support table to the support table when the vacuum pump is operated. Device.
前記脆性基板の下部に昇降可能なように設置され、上昇した状態で前記脆性基板の底面に接面して前記脆性基板の垂れを防止する支持テーブルと、
前記支持テーブルを昇降運動させる昇降運動手段と、
前記昇降運動手段を制御するコントローラと、
を備え、
前記支持テーブルの内部には、
排気口を介して前記支持テーブルの上部に開放されると共に、外部の圧入ポンプと連結され、
前記圧入ポンプの作動時、前記圧入ポンプから提供された空気を前記排気口を介して上向き噴出させ、空気圧を用いて脆性基板を上向き加圧する噴出通路が形成された脆性基板のスクライブ加工用基板支持装置。
It is installed close to a scriber that forms a scribe line on the brittle substrate that is transferred along a predetermined path, and prevents the brittle substrate from being deformed by the force applied to the brittle substrate during scribing work.
A support table which is installed under the brittle substrate so as to be able to move up and down, and which is in contact with the bottom surface of the brittle substrate in an elevated state to prevent the brittle substrate from sagging.
Ascending / descending motion means for ascending / descending the support table and
A controller that controls the elevating movement means and
With
Inside the support table,
It is opened to the upper part of the support table through the exhaust port and is connected to an external press-fitting pump.
When the press-fitting pump is operated, the air provided by the press-fitting pump is ejected upward through the exhaust port, and a substrate support for scribing the brittle substrate is formed by forming an ejection passage for upwardly pressurizing the brittle substrate using air pressure. Device.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2020-0024767 | 2020-02-28 | ||
KR1020200024767A KR102328420B1 (en) | 2020-02-28 | 2020-02-28 | Support device for brittle substrate scribing process |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021138134A true JP2021138134A (en) | 2021-09-16 |
Family
ID=77669339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021010622A Pending JP2021138134A (en) | 2020-02-28 | 2021-01-26 | Substrate support device for scribe processing of brittle substrate |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021138134A (en) |
KR (1) | KR102328420B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102404173B1 (en) | 2021-08-19 | 2022-06-02 | 씨제이제일제당 (주) | Packing and cart treatment system including same |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4149750B2 (en) * | 2002-06-25 | 2008-09-17 | 中村留精密工業株式会社 | Glass plate processing equipment |
JP4839007B2 (en) * | 2005-03-17 | 2011-12-14 | 株式会社尼崎工作所 | Laminated glass cutting device |
KR20090033558A (en) * | 2007-10-01 | 2009-04-06 | 엘지전자 주식회사 | Substrate transfer system, substrate transfer method and flat panel display manufacturing method using the same |
JP5256554B2 (en) | 2008-07-18 | 2013-08-07 | 株式会社シライテック | LCD panel cleaving device |
KR101330148B1 (en) | 2010-08-31 | 2013-11-15 | 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) | Panel cutting device and panel cutting method using the same |
JP6251061B2 (en) * | 2014-01-29 | 2017-12-20 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Scribing device for brittle material substrate |
CN108214951A (en) * | 2016-12-14 | 2018-06-29 | 塔工程有限公司 | Substrate dividing apparatus |
-
2020
- 2020-02-28 KR KR1020200024767A patent/KR102328420B1/en active IP Right Grant
-
2021
- 2021-01-26 JP JP2021010622A patent/JP2021138134A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20210109764A (en) | 2021-09-07 |
KR102328420B1 (en) | 2021-11-18 |
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