JP2021138050A - 描画装置および描画方法 - Google Patents

Abstract

【課題】描画装置の装置面積を小さくする技術を提供する。【解決手段】実施形態に係る描画装置は、描画部と、メンテナンス部とを備える。描画部は、搬送方向に沿って移動するワークに複数のヘッドから機能液を吐出してワークに描画を行う。メンテナンス部は、搬送方向に沿って描画部の下方に移動した状態で複数のヘッドの検査を行う検査部を有する。【選択図】図３

Description

本開示は、描画装置および描画方法に関する。

特許文献１には、搬送される基板にインクジェット方式で塗布液の液滴を塗布することが開示されている。

特開２０１８−４９８０５号公報

本開示は、描画装置の装置面積を小さくする技術を提供する。

本開示の一態様による描画装置は、描画部と、メンテナンス部とを備える。描画部は、搬送方向に沿って移動するワークに複数のヘッドから機能液を吐出してワークに描画を行う。メンテナンス部は、搬送方向に沿って描画部の下方に移動した状態で複数のヘッドの検査を行う検査部を有する。

本開示によれば、描画装置の装置面積を小さくすることができる。

図１Ａは、実施形態に係る描画装置の概略構成を示す平面図である。 図１Ｂは、実施形態に係る描画装置の概略構成を示す側面図である。 図２は、実施形態に係る描画部の一部の概略構成を示す平面図である。 図３は、実施形態に係るメンテナンス部の概略を示す平面図である。 図４は、実施形態に係る計測部の概略を示す平面図である。 図５は、実施形態に係る風防部の概略を示す平面図である。 図６は、実施形態に係る各吸引部が吸引位置に移動した状態を示す概略図である。 図７は、実施形態に係るメンテナンス部においてワイピング処理を実行する際のワイピング部の動きを説明する概略図である。 図８は、実施形態に係る吸引処理、およびワイピング処理を説明するフローチャートである。 図９は、実施形態に係る各吸引部がカバー位置に移動した状態を示す概略図である。 図１０は、実施形態に係るメンテナンス部において、各計測部が計測位置から移動する状態を示す概略図である。 図１１は、実施形態に係る重量計測処理を説明するフローチャートである。

以下、添付図面を参照して、本願の開示する描画装置および描画方法の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態により開示される描画装置および描画方法が限定されるものではない。

＜全体構成＞
実施形態に係る描画装置１について図１Ａ、および図１Ｂを参照し説明する。図１Ａは、実施形態に係る描画装置１の概略構成を示す平面図である。図１Ｂは、実施形態に係る描画装置１の概略構成を示す側面図である。なお、図１Ａでは、制御装置９など一部の構成が省略されている。

描画装置１は、ワークである基板Ｓを水平方向に搬送しながら、インクジェット方式で基板Ｓに描画を行う基板処理装置である。基板Ｓは、例えば、フラットパネルディスプレイに用いられる基板である。

描画装置１は、搬入ステージ２と、描画ステージ３と、搬出ステージ４と、移動装置５と、メンテナンス部６と、描画状態検出部７と、フラッシング部８と、制御装置９とを備える。

以下参照する各図面では、説明を分かりやすくするために、互いに直交するＸ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする直交座標系を示す。

また、ここでは、Ｙ軸正方向を前方とし、Ｙ軸負方向を後方とする前後方向を規定し、Ｘ軸負方向を右方とし、Ｘ軸正方向を左方とする左右方向を規定する。また、Ｚ軸正方向を上方とし、Ｚ軸負方向を下方とする上下方向を規定する。Ｙ軸方向、すなわち前後方向は、基板Ｓが搬送される搬送方向に一致する。また、Ｘ軸方向、すなわち左右方向は、搬送方向に直交する水平方向に一致する。

描画装置１では、搬入ステージ２、描画ステージ３、および搬出ステージ４は、搬入ステージ２、描画ステージ３、搬出ステージ４の順にＹ軸方向に沿って配置される。描画装置１は、搬入アームによって搬入ステージ２に搬入した基板ＳをＹ軸方向に沿って搬送しながら描画を行い、描画を行った基板Ｓを搬出ステージ４から搬出アームによって搬出する。

なお、搬送方向において搬入ステージ２側を上流とし、搬出ステージ４側を下流として説明することがある。また、図１Ａ、および図１Ｂでは、説明のため各ステージ２〜４に基板Ｓを配置した状態を示している。

搬入ステージ２には、搬入アームによって基板Ｓが搬入される。搬入ステージ２では、搬入アームから第１ソータ５０への基板Ｓの受け渡しが行われる。搬入ステージ２に搬入された基板Ｓは、移動装置５の第１ソータ５０によって下方から支持される。

搬入ステージ２は、複数の第１浮上部２０と、複数の第２浮上部２１と、付着物検出装置２２とを備える。

第１浮上部２０は、搬送方向に沿って延設される。第１浮上部２０は、左右方向に沿って並んで設けられる。第１浮上部２０は、第１ソータ５０によって支持された基板Ｓの下方から、基板Ｓに向けて空気を吹き付け、基板Ｓに対して上方へ作用する力（以下、浮上力と称する。）を与える。浮上力は、基板Ｓの浮上高を安定させる力であり、基板Ｓに作用する重力を軽減する力である。第１浮上部２０は、浮上力を与えることで、第１ソータ５０に支持された基板Ｓの浮上高を調整する。具体的には、第１浮上部２０は、基板Ｓの浮上高を２００〜２０００μｍの範囲内で安定するよう調整する。なお、第１浮上部２０による基板Ｓに向けた空気の吹き付けは、基板Ｓの撓み矯正の作用もある。

第２浮上部２１は、第１浮上部２０よりも下流であり、後述する描画ステージ３の第１浮上部３０よりも上流に設けられる。第２浮上部２１は、左右方向に沿って並んで設けられる。

第２浮上部２１は、第１ソータ５０によって支持された基板Ｓの下方から、基板Ｓに向けて空気を吹き付けて、基板Ｓに対して浮上力を与える。また、第２浮上部２１は、基板Ｓとの間に存在する空気を吸引する。これにより、第２浮上部２１は、第１ソータ５０に支持された基板Ｓの浮上高を調整する。

具体的には、第２浮上部２１は、基板Ｓの浮上高を３０〜６０μｍの範囲内で安定するよう高精度に調整し、付着物検出装置２２によって基板Ｓに付着した付着物を検出可能にする。なお、第２浮上部２１は、基板Ｓに対して吹き付ける空気の流量を調整可能である。第２浮上部２１は、基板Ｓの大きさや、厚さなどに応じて基板Ｓの下面に向けて吹き付ける空気の流量を調整することができる。これにより、第２浮上部２１は、基板Ｓの浮上高を高精度に調整することができる。なお、第２浮上部２１による基板Ｓに向けた空気の吹き付けは、基板Ｓの撓み矯正の作用もある。

このように、第１浮上部２０、および第２浮上部２１は、第１ソータ５０によって複数箇所を支持された基板Ｓに対して下方から空気を吹き付けて基板Ｓの浮上高を調整する。

付着物検出装置２２は、第２浮上部２１によって空気が吹き付けられた基板Ｓに対して付着物の有無を検出する。付着物検出装置２２は、レーザ部２２ａと、受光部２２ｂとを備える。

レーザ部２２ａは、左右方向の搬入ステージ２の一端に設けられる。受光部２２ｂは、左右方向の搬入ステージ２の他端に設けられる。すなわち、付着物検出装置２２は、レーザ部２２ａと受光部２２ｂとを基板Ｓを挟んで向かい合うように配置する。付着物検出装置２２は、レーザ部２２ａから照射されたレーザの光量を受光部２２ｂで検出し、基板Ｓへの付着物の有無を検出する。

描画ステージ３には、第１ソータ５０によって搬入ステージ２から基板Ｓが搬送される。描画ステージ３では、第１ソータ５０から第２ソータ５１への基板Ｓの受け渡しが行われる。描画ステージ３に搬送された基板Ｓは、移動装置５の第２ソータ５１によって下方から支持される。

描画ステージ３は、複数の第１浮上部３０と、第２浮上部３１と、描画部３２とを備える。

第１浮上部３０は、搬送方向に沿って延設される。第１浮上部３０は、左右方向に沿って並んで設けられる。第１浮上部３０は、搬送方向において描画部３２よりも上流側に設けられる。

第１浮上部３０は、第１ソータ５０、または第２ソータ５１によって支持された基板Ｓの下方から、基板Ｓに向けて空気を吹き付け、基板Ｓに対して浮上力を与える。第１浮上部３０は、浮上力を与えることで、第１ソータ５０、または第２ソータ５１に支持された基板Ｓの浮上高を調整する。具体的には、第１浮上部３０は、基板Ｓの浮上高を２００〜２０００μｍの範囲内で安定するよう調整する。なお、第１浮上部３０による基板Ｓに向けた空気の吹き付けは、基板Ｓの撓み矯正の作用もある。

第２浮上部３１は、第１浮上部３０よりも下流に設けられ、描画部３２の下方に設けられる。第２浮上部３１は、左右方向に延設される。

第２浮上部３１は、第２ソータ５１によって支持された基板Ｓの下方から、基板Ｓに向けて空気を吹き付け、基板Ｓに対して浮上力を与える。また、第２浮上部３１は、基板Ｓとの間に存在する空気を吸引する。これにより、第２浮上部３１は、第２ソータ５１に支持された基板Ｓの浮上高を調整する。第２浮上部３１は、第１浮上部３０よりも基板Ｓの浮上高を高精度に調整する。

具体的には、第２浮上部３１は、基板Ｓを水平に保持し、基板Ｓの浮上高を３０〜６０μｍの範囲内で安定するよう高精度に調整し、描画部３２によって精度よく基板Ｓに描画可能にする。なお、第２浮上部３１は、搬入ステージ２の第２浮上部２１と同様に、基板Ｓに対して吹き付ける空気の流量を調整可能である。なお、第２浮上部３１による基板Ｓに向けた空気の吹き付けは、基板Ｓの撓み矯正の作用もある。第２浮上部３１には、第２ソータ５１が移動可能な溝３１ａが形成される。

このように、第１浮上部３０、および第２浮上部３１は、第１ソータ５０、または第２ソータ５１によって複数箇所を支持された基板Ｓに対して下方から空気を吹き付けて基板Ｓの浮上高を調整する。

描画部３２は、インクジェット式であり、基板Ｓにインクなどの機能液を吐出し、基板Ｓに描画を行う。描画部３２は、第２ソータ５１、および第２浮上部３１によって水平に保持された状態で搬送方向に沿って移動する基板Ｓに機能液の液滴を吐出する。

描画部３２は、複数のキャリッジ３２ａを備える。キャリッジ３２ａは、図２に示すように、左右方向に並んで設けられる。また、キャリッジ３２ａは、搬送方向に２列設けられる。なお、キャリッジ３２ａは、搬送方向に１列であってもよく、３列以上の複数列設けられてもよい。図２は、実施形態に係る描画部３２の一部の概略構成を示す平面図である。

キャリッジ３２ａは、機能液を吐出する複数のヘッド３２ｂを備える。ヘッド３２ｂは、１つのキャリッジ３２ａに対して左右方向に２列設けられる。なお、ヘッド３２ｂは、左右方向に一列であってもよく、３列以上の複数列設けられてもよい。

また、ヘッド３２ｂは、搬送方向に並んで設けられる。例えば、ヘッド３２ｂは、搬送方向に６列設けられる。また、ヘッド３２ｂは、搬送方向に一列であってもよく、８列など複数列設けられてもよい。このように、描画部３２は、複数のヘッド３２ｂをそれぞれ有し、左右方向（搬送方向に直交する水平方向の一例）に沿って配置される複数のキャリッジ３２ａを備える。描画部３２は、搬送方向に沿って移動する基板Ｓ（ワークの一例）に複数のヘッド３２ｂから機能液を吐出して基板Ｓに描画を行う。

図１Ａ、および図１Ｂに戻り、描画部３２は、搬送方向における位置が固定される。また、描画部３２は、メンテナンス部６によって描画部３２のメンテナンスを行う場合や、描画状態検出部７によって描画状態を検出する場合には、上下方向に沿って移動する。

搬出ステージ４には、第２ソータ５１によって描画ステージ３から基板Ｓが搬送される。搬出ステージ４では、第２ソータ５１から移動装置５の第３ソータ５２へ基板Ｓが受け渡される。基板Ｓは、第３ソータ５２によって下方から支持される。

また、搬出ステージ４では、第３ソータ５２によって下流側に搬送された基板Ｓが第３ソータ５２から搬出アームへ受け渡される。

搬出ステージ４は、複数の浮上部４０を備える。浮上部４０は、搬送方向に沿って延設される。浮上部４０は、左右方向に沿って並んで設けられる。

浮上部４０は、第２ソータ５１、または第３ソータ５２によって支持された基板Ｓの下方から、基板Ｓに向けて空気を吹き付け、基板Ｓに対して浮上力を与える。これにより、浮上部４０は、第２ソータ５１、または第３ソータ５２に支持された基板Ｓの浮上高を２００〜２０００μｍの範囲内で安定するよう調整する。なお、浮上部４０による基板Ｓに向けた空気の吹き付けは、基板Ｓの撓み矯正の作用もある。

移動装置５は、複数の第１ソータ５０と、複数の第２ソータ５１と、複数の第３ソータ５２と、駆動部５３とを備える。

第１ソータ５０は、例えば、４つ設けられ、駆動部５３によって、上下方向、および搬送方向に沿って移動する。第１ソータ５０は、基板Ｓを下方から支持する。具体的には、第１ソータ５０は、搬入アームによって搬入された基板Ｓの下面に吸着し、基板Ｓを下方から支持する。第１ソータ５０は、基板Ｓを下方から支持した状態で、基板Ｓを搬入ステージ２から描画ステージ３まで搬送し、第２ソータ５１に基板Ｓを受け渡す。

第２ソータ５１は、例えば、４つ設けられ、駆動部５３によって、上下方向、搬送方向に沿って移動する。第２ソータ５１は、基板Ｓを下方から支持する。具体的には、第２ソータ５１は、第１ソータ５０によって搬送された基板Ｓの下面に吸着し、基板Ｓを下方から支持する。また、第２ソータ５１は、アライメントカメラ５５によって撮影された基板Ｓの画像に基づき、基板Ｓの水平方向における調整が行うことができる。第２ソータ５１は、基板Ｓを下方から支持した状態で、基板Ｓを描画ステージ３と搬入ステージ２との間で搬送し、第３ソータ５２に基板Ｓを受け渡す。

第３ソータ５２は、例えば、４つ設けられ、駆動部５３によって、上下方向、および搬送方向に沿って移動する。第３ソータ５２は、基板Ｓを下方から支持する。具体的には、第３ソータ５２は、第２ソータ５１によって搬送された基板Ｓの下面に吸着し、基板Ｓを下方から支持する。第３ソータ５２は、基板Ｓを下方から支持した状態で、搬送方向に移動し、搬出アームに基板Ｓを受け渡す。

なお、第１ソータ５０などの数は、４つに限られることはなく、例えば、６つであってもよい。

駆動部５３は、例えば、電動モータや、チェーン装置や、ベルト装置などを有し、第１ソータ５０、第２ソータ５１、第３ソータ５２をそれぞれ移動させる。駆動部５３は、第１ソータ５０などを搬送方向に沿って移動させる。

また、駆動部５３は、メンテナンス部６や、描画状態検出部７のロール紙７１や、フラッシング部８を搬送方向に沿って移動させる。また、駆動部５３は、メンテナンス部６によってメンテナンスを行う場合や、描画状態検出部７によって描画状態を検出する場合や、フラッシングを行う場合に、描画部３２を上下方向に沿って移動させる。

また、駆動部５３は、メンテナンス部６の各吸引部６０（図３参照）などを移動させる。

なお、駆動部５３は、各ソータ５０〜５２や、メンテナンス部６などに対応して複数設けられてもよい。すなわち、各ソータ５０〜５２や、メンテナンス部６などは、異なる駆動部５３によって駆動されてもよい。

メンテナンス部６は、搬送方向において、描画部３２に対し後述する描画状態検出部７のロール紙７１（検査フィルム部）とは反対側に設けられる。次に、メンテナンス部６について図３を参照し説明する。図３は、実施形態に係るメンテナンス部６の概略を示す平面図である。

メンテナンス部６は、搬送方向に延設されるレールに沿って移動する。メンテナンス部６は、メンテナンス作業を行わない場合には、描画部３２よりも上流側の待機位置にあり、メンテナンス作業を行う場合には、待機位置から、描画部３２の下方のメンテナンス位置に移動する。

メンテナンス部６は、メンテナンス作業として、吸引処理、ワイピング処理、および重量検査処理を行う。吸引処理は、ヘッド３２ｂ内に残った機能液を吸引し、インクを強制的に排出させる処理である。ワイピング処理は、機能液が吸引されたヘッド３２ｂを払拭する処理である。重量検査処理は、ヘッド３２ｂから吐出される機能液の重量を計測する処理である。

メンテナンス部６は、予め設定された第１タイミングによって、吸引処理、およびワイピング処理を行う。メンテナンス部６は、例えば、１日に数回、吸引処理、およびワイピング処理を行う。

メンテナンス部６は、予め設定された第２タイミングによって、重量検査処理を行う。メンテナンス部６は、例えば、１週間に１回、重量検査処理を行う。なお、吸引処理、ワイピング処理、および重量検査処理は、作業者の操作に基づいて行うこともできる。

メンテナンス部６は、複数の吸引部６０と、複数のワイピング部６１と、複数の検査部６２とを備える。

複数の吸引部６０は、左右方向におけるキャリッジ３２ａの数に応じて設けられる。すなわち、複数の吸引部６０は、複数のキャリッジ３２ａに対応して設けられる。複数の吸引部６０は、搬送方向におけるキャリッジ３２ａの数に応じて搬送方向に２列設けられてもよい。各吸引部６０は、搬送方向、および上下方向にそれぞれ移動可能である。複数の吸引部６０は、複数のヘッドから機能液を吸引する。

各吸引部６０は、複数のキャップ６０ａを備える。各キャップ６０ａは、ヘッド３２ｂの数に対応して設けられ、上下方向においてヘッド３２ｂに対峙可能となるように設けられる。例えば、複数のキャップ６０ａは、左右方向に２列、および搬送方向に１２列設けられる。

各キャップ６０ａは、吸引部６０が上下方向に移動することによって、対応するヘッド３２ｂに密着可能である。各キャップ６０ａは、吸引処理時に、対応するヘッド３２ｂに密着し、対応するヘッド３２ｂから吸引される機能液を受ける。吸引処理では、ヘッド３２ｂに密着したキャップ６０ａ内が吸引機構によって負圧にされることによって、ヘッド３２ｂ内に残った機能液が吸引される。また、各キャップ６０ａは、重量計測時に、対応するヘッド３２ｂに密着する。

各吸引部６０は、メンテナンス部６の支持台６ａに対し、搬送方向に沿ってそれぞれ移動する。具体的には、各吸引部６０は、退避位置と、吸引位置、またはカバー位置との間を搬送方向に沿ってそれぞれ移動する。図３は、各吸引部６０が退避位置にある状態を示す。

退避位置は、各ワイピング部６１によってワイピング処理が行われるキャリッジ３２ａに対応する各吸引部６０が退避する位置である。また、退避位置は、検査部６２の各計測部６３によって重量計測処理が行われるキャリッジ３２ａに対応する吸引部６０が退避する位置である。なお、退避位置は、各吸引部６０の基準位置でもある。

吸引位置は、退避位置よりも搬送方向における下流側の位置であり、吸引処理、およびワイピング処理を行う場合に、各キャップ６０ａが、対応するヘッド３２ｂの下方となる位置である。

カバー位置は、退避位置よりも搬送方向における上流側の位置であり、重量計測処理を行う場合に、複数のキャップ６０ａが、対応するヘッド３２ｂの下方となる位置である。

ワイピング部６１は、吸引処理によって機能液が吸引された各ヘッド３２ｂに対しワイピング処理を行う。すなわち、ワイピング部６１は、複数の吸引部６０によって機能液が吸引された複数のヘッド３２ｂを払拭する。

ワイピング部６１は、複数の吸引部６０の退避位置よりも、搬送方向において下流側に設けられる。ワイピング部６１は、左右方向（搬送方向に直交する水平方向の一例）において、メンテナンス部６の両端にそれぞれ設けられる。すなわち、ワイピング部６１は、２つ設けられ、一方のワイピング部６１は、支持台６ａにおける左右方向の一端に設けられ、他方のワイピング部６１は、支持台６ａにおける左右方向の他端に設けられる。

各ワイピング部６１は、左右方向に沿って移動可能である。各ワイピング部６１は、ロール部によってワイピングシート６１ａを回転させながら、左右方向に移動することによってヘッド３２ｂの先端に付着した機能液を払拭する。各ワイピング部６１は、ロール部によってワイピングシート６１ａを回転させることによって、ヘッド３２ｂの機能液を拭き取る払拭面が新しくなる。

検査部６２は、搬送方向に沿って描画部３２の下方に移動した状態で複数のヘッド３２ｂの検査を行う。具体的には、検査部６２は、複数のヘッド３２ｂから吐出される機能液の重量を計測する重量計測処理を行う。検査部６２は、搬送方向において、複数の吸引部６０に対しワイピング部６１とは反対側に設けられる。具体的には、検査部６２は、複数の吸引部６０の退避位置よりも、搬送方向において上流側に設けられる。メンテナンス部６では、搬送方向において、ワイピング部６１と検査部６２との間に作業スペースが形成される。

検査部６２は、左右方向において、メンテナンス部６の両端にそれぞれ設けられる。すなわち、検査部６２は、２つ設けられ、一方の検査部６２は、支持台６ａにおける左右方向の一端に設けられ、他方の検査部６２は、支持台６ａにおける左右方向の他端に設けられる。

各検査部６２は、計測部６３と、風防部６４とをそれぞれ備える。

各計測部６３は、左右方向に沿ってそれぞれ移動可能である。具体的には、各計測部６３は、左右方向の端の位置である各計測位置から、左右方向に沿って移動する。

各計測部６３は、図４に示すように、複数の天秤部６３ａを備える。図４は、実施形態に係る計測部６３の概略を示す平面図である。各天秤部６３ａは、１つのキャリッジ３２ａにおけるヘッド３２ｂの数に対応して設けられ、上下方向において各ヘッド３２ｂに対峙可能となるように設けられる。例えば、複数の天秤部６３ａは、左右方向に２列、および搬送方向に１２列設けられる。

各天秤部６３ａには、上方が開口する開口部６３ｂがそれぞれ形成される。各天秤部６３ａには、各ヘッド３２ｂから開口部６３ｂを介して機能液の液滴が吐出され、吐出された機能液がそれぞれ溜められる。各天秤部６３ａは、溜められた機能液の重量を計測する。すなわち、計測部６３は、各ヘッド３２ｂから吐出された機能液の液滴の重量を、各天秤部６３ａによって個別に計測することができる。

各計測部６３は、機能液の液滴が吐出された状態で、各計測位置まで移動し、液滴の重量を計測する。

図３に戻り、各風防部６４は、上下方向にそれぞれ移動可能である。各風防部６４は、各計測部６３が計測位置にある場合に、各計測部６３の上方を覆う。具体的には、各風防部６４は、各計測部６３によって機能液の重量を計測する場合には、複数の天秤部６３ａの開口部６３ｂを遮蔽する。これにより、各計測部６３によって機能液の液滴の重量を計測する場合に、周囲の風の影響によって計測誤差が生じることが防止される。

各風防部６４には、図５に示すように、複数の吸引ノズル６５が設けられる。図５は、実施形態に係る風防部６４の概略を示す平面図である。複数の吸引ノズル６５は、各風防部６４に対して上下方向に沿って移動する。複数の吸引ノズル６５は、機能液の重量の計測が終了すると、各天秤部６３ａの開口部６３ｂから各天秤部６３ａ内に挿入され、各天秤部６３ａ内の機能液を吸引し、各天秤部６３ａから機能液を排出する。

複数の吸引ノズル６５は、天秤部６３ａの数に対応して設けられ、複数の天秤部６３ａから液滴を吸引する。すなわち、複数の吸引ノズル６５は、描画部３２のヘッド３２ｂの数に対応して設けられる。例えば、ヘッド３２ｂが搬送方向に６列、左右方向に２列設けられている場合には、吸引ノズル６５は、搬送方向に６列、左右方向に２列設けられる。

図１Ａ、および図１Ｂに戻り、描画状態検出部７は、搬出ステージ４の浮上部４０の上方に設けられ、描画部３２の描画状態を検出する。描画状態検出部７は、撮像装置７０と、複数のロール紙７１とを備える。ロール紙７１は、搬送方向に沿って２つ設けられる。ロール紙７１は、描画装置１の設置面から上端までの高さが、メンテナンス部６における描画装置１の設置面から上端までの高さよりも低い。

描画状態検出部７は、ロール紙７１に吐出された機能液を撮像装置７０よって撮影する。撮影結果は、制御装置９に出力され、制御装置９によって、描画部３２における描画状態が正常であるか否かが判定される。

描画状態検出部７は、描画部３２によって基板Ｓへの描画が終了し、次の基板Ｓが描画ステージ３の第１浮上部３０まで搬送される際に描画状態を検出する。すなわち、描画状態検出部７は、１枚の基板Ｓに描画を行うたびに、描画状態を検出する。

ロール紙７１（検査フィルム部の一例）は、メンテナンス部６における検査とは異なる周期で実行される描画状態の検査（吐出撮影検査の一例）において、複数のヘッド３２ｂから機能液が吐出される。

フラッシング部８は、搬出ステージ４の浮上部４０の上方に設けられる。フラッシング部８は、搬送方向において描画状態検出部７よりも下流側に設けられ、描画部３２の定期フラッシングが行われる。定期フラッシングは、予め設定されたフラッシングタイミングに実行される。定期フラッシングは、例えば、１日数回行われる。定期フラッシングでは、描画部３２から機能液が吐出される。

フラッシング部８は、吐出された機能液を回収する。すなわち、フラッシング部８は、フラッシングによって吐出された機能液を回収する。なお、フラッシング部８により回収された機能液は廃液管を通じて廃液される。

制御装置９は、たとえばコンピュータであり、制御部９０と記憶部９１とを備える。記憶部９１には、描画装置１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部９０は、記憶部９１に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって描画装置１の動作を制御する。

なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、記憶媒体から制御装置９の記憶部９１にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

＜吸引手順、およびワイピング手順＞
次に、実施形態に係る吸引手順、およびワイピング手順について説明する。

メンテナンス部６は、吸引処理、およびワイピング処理を行わない場合には、待機位置にある。また、メンテナンス部６では、図３に示すように、各吸引部６０は退避位置にある。

吸引処理、およびワイピング処理を行う場合には、メンテナンス部６では、各吸引部６０が退避位置から、図６に示すように吸引位置に移動する。図６は、実施形態に係る各吸引部６０が吸引位置に移動した状態を示す概略図である。また、メンテナンス部６は、待機位置から第１メンテナンス位置に移動する。第１メンテナンス位置は、吸引位置に移動した各吸引部６０が各キャリッジ３２ａの下方となる位置である。

各吸引部６０は、吸引位置において上方に移動する。これにより、各キャップ６０ａは、対応するヘッド３２ｂに密着する。そして、メンテナンス部６は、各吸引部６０によって吸引処理を行い、各ヘッド３２ｂ内に残った機能液を吸引する。

なお、メンテナンス部６は、各ワイピング部６１によって払拭を行う順に、吸引処理を実行する。これにより、吸引処理からワイピング処理が行われるまでの時間を、各キャリッジ３２ａで等しくすることができる。

ヘッド３２ｂ内に残った機能液を吸引した吸引部６０は、下方に移動した後に、図７に示すように、吸引位置から退避位置に移動する。そして、メンテナンス部６は、各ワイピング部６１を左右方向に沿って移動させ、機能液が吸引されたヘッド３２ｂを各ワイピング部６１によって払拭し、ワイピング処理を実行する。図７は、実施形態に係るメンテナンス部６においてワイピング処理を実行する際のワイピング部６１の動きを説明する概略図である。

メンテナンス部６は、例えば、左右方向の両端から各ワイピング部６１によってワイピング処理を実行する。メンテナンス部６は、ワイピング処理が実行されたヘッド３２ｂの下方を覆うように吸引部６０を退避位置から吸引位置に移動させ、各ヘッド３２ｂに各キャップ６０ａを密着させる。この場合、吸引部６０による吸引は行われない。

全てのキャリッジ３２ａにワイピング処理が実行されると、各ワイピング部６１は、左右方向の両端まで戻り、各吸引部６０は、吸引位置から退避位置に移動する。また、メンテナンス部６は、第１メンテナンス位置から待機位置に移動する。

次に、実施形態に係る吸引処理、およびワイピング処理について図８のフローチャートを参照し説明する。図８は、実施形態に係る吸引処理、およびワイピング処理を説明するフローチャートである。

制御装置９は、メンテナンス部６を待機位置から第１メンテナンス位置まで移動させる（Ｓ１００）。

制御装置９は、各吸引部６０を吸引位置に移動させ（Ｓ１０１）、吸引処理、およびワイピング処理を行う（Ｓ１０２）。例えば、制御装置９は、左右方向の両端から吸引処理、およびワイピング処理を行う。

制御装置９は、全てのキャリッジ３２ａに吸引処理、およびワイピング処理を行ったか否かを判定する（Ｓ１０３）。

制御装置９は、吸引処理、およびワイピング処理を行っていないキャリッジ３２ａがある場合には（Ｓ１０３：Ｎｏ）、吸引処理、およびワイピング処理を行っていないキャリッジ３２ａに対し、吸引処理、およびワイピング処理を行う（Ｓ１０２）。

制御装置９は、全てのキャリッジ３２ａに吸引処理、およびワイピング処理を行った場合には（Ｓ１０３：Ｙｅｓ）、各吸引部６０を退避位置に移動させ（Ｓ１０４）、メンテナンス部６を第１メンテナンス位置から待機位置まで移動させる（Ｓ１０５）。

＜重量検査手順＞
次に、実施形態に係る重量検査手順について説明する。

メンテナンス部６は、重量検査処理を行わない場合には、待機位置にある。また、メンテナンス部６では、図３に示すように、各計測部６３は、各計測位置にあり、上方を各風防部６４によって覆われている。

重量検査処理を行う場合には、メンテナンス部６では、各吸引部６０が退避位置から、図９に示すようにカバー位置に移動する。図９は、実施形態に係る各吸引部６０がカバー位置に移動した状態を示す概略図である。また、メンテナンス部６は、待機位置から第２メンテナンス位置に移動する。第２メンテナンス位置は、カバー位置に移動した各吸引部６０が各キャリッジ３２ａの下方となる位置である。

各吸引部６０は、カバー位置において上方に移動する。これにより、各キャップ６０ａは、対応するヘッド３２ｂに密着する。

各計測部６３によって機能液の重量が計測されるキャリッジ３２ａに対応する各吸引部６０は、図１０に示すように、カバー位置から退避位置に移動し、各計測部６３が、計測位置から左右方向に沿って移動する。具体的には、各計測部６３は、各計測部６３の各天秤部６３ａの開口部６３ｂが対応するヘッド３２ｂの下方となる位置へ移動する。図１０は、実施形態に係るメンテナンス部６において、各計測部６３が計測位置から移動する状態を示す概略図である。

メンテナンス部６は、例えば、左右方向の両端から各計測部６３による機能液の重量計測を行う。

各天秤部６３ａの開口部６３ｂが対応するヘッド３２ｂの下方まで移動すると、各ヘッド３２ｂから機能液の液滴が吐出される。各ヘッド３２ｂは、予め設定された回数、液滴を吐出する。メンテナンス部６は、各天秤部６３ａに機能液の液滴が吐出されると、計測位置に戻り、各計測部６３の上方を各風防部６４によって覆い、機能液の重量を計測する。メンテナンス部６は、機能液の吐出が終了したヘッド３２ｂの下方を覆うように吸引部６０を退避位置からカバー位置に移動させ、各ヘッド３２ｂに各キャップ６０ａを密着させる。

機能液の重量の計測が終了すると、各風防部６４が下方に移動し、各吸引ノズル６５によって各天秤部６３ａから機能液が吸引され、各天秤部６３ａの機能液が排出される。

そして、各風防部６４が上方に移動した後に、各計測部６３が左右方向に移動し、機能液の液滴の重量が計測されていないキャリッジ３２ａに対し、機能液の液滴の重量計測が行われる。

全てのキャリッジ３２ａに重量計測処理が実行されると、各吸引部６０は、カバー位置から退避位置に移動する。また、メンテナンス部６は、第２メンテナンス位置から待機位置に移動する。

次に、実施形態に係る重量計測処理について図１１に示すフローチャートを参照し説明する。図１１は、実施形態に係る重量計測処理を説明するフローチャートである。

制御装置９は、メンテナンス部６を待機位置から第２メンテナンス位置まで移動させ（Ｓ２００）、各吸引部６０をカバー位置に移動させる（Ｓ２０１）。

制御装置９は、各計測部６３によって機能液の液滴の重量を計測するキャリッジ３２ａに対応する各吸引部６０をカバー位置から退避位置に移動させる（Ｓ２０２）。

制御装置９は、各計測部６３を計測位置から左右方向に移動させる（Ｓ２０３）。具体的には、制御装置９は、各計測部６３を計測位置から左右方向に移動させる場合には、各計測部６３の上方を覆う各風防部６４を上方に移動させる。制御装置９は、各天秤部６３ａが、対応するヘッド３２ｂから機能液を受けることができる位置に各計測部６３を移動させる。制御装置９は、例えば、左右方向の両端から機能液の重量計測を行う。

制御装置９は、キャリッジ３２ａの各ヘッド３２ｂから機能液の液滴を各計測部６３の各天秤部６３ａに吐出させる（Ｓ２０４）。

制御装置９は、機能液の液滴が各天秤部６３ａに溜められた各計測部６３を計測位置まで移動させ（Ｓ２０５）、機能液の重量を計測する（Ｓ２０６）。具体的には、制御装置９は、各風防部６４を下方に移動させて各天秤部６３ａの上方を各風防部６４によって覆い、機能液の重量を計測する。

制御装置９は、各吸引ノズル６５によって各天秤部６３ａから機能液を排出させる（Ｓ２０７）。具体的には、制御装置９は、各風防部６４を下方に移動させて、各吸引ノズル６５によって各天秤部６３ａから機能液を排出させる。

制御装置９は、全てのキャリッジ３２ａに対して機能液の重量計測を行ったか否かを判定する（Ｓ２０８）。制御装置９は、重量計測を行っていないキャリッジ３２ａがある場合には（Ｓ２０８：Ｎｏ）、重量計測を行っていないキャリッジ３２ａに対し、重量計測を行う（Ｓ２０２）。

制御装置９は、全てのキャリッジ３２ａに対して機能液の重量計測を行った場合には（Ｓ２０８：Ｙｅｓ）、各吸引部６０を退避位置に移動させ（Ｓ２０９）、メンテナンス部６を第２メンテナンス位置から待機位置まで移動させる（Ｓ２１０）。

なお、上記実施形態では、吸引処理、およびワイピング処理と、重量計測処理とが異なるタイミングで実行される一例について説明したが、これに限られることはない。描画装置１は、吸引処理、およびワイピング処理と、重量計測処理とを同じタイミングで実行してもよい。すなわち、描画装置１は、吸引処理、およびワイピング処理と、重量計測処理とを連続して実行してもよい。

＜効果＞
描画装置１は、描画部３２と、メンテナンス部６とを備える。描画部３２は、搬送方向に沿って移動する基板Ｓ（ワークの一例）に複数のヘッド３２ｂから機能液を吐出して基板Ｓに描画を行う。メンテナンス部６は、搬送方向に沿って描画部３２の下方に移動した状態で複数のヘッド３２ｂの検査を行う検査部６２を有する。

これにより、描画装置１は、装置面積を小さくすることができる。描画装置１は、検査部６２を搬送方向である前後方向に沿って移動させることで、左右方向における装置面積を小さくし、全体的な装置面積を小さくすることができる。

検査部６２は、複数のヘッド３２ｂから吐出される機能液の重量を計測する。

これにより、描画装置１は、機能液の重量を計測する検査部６２を含む全体的な装置面積を小さくすることができる。

メンテナンス部６は、複数の吸引部６０と、ワイピング部６１とを備える。複数の吸引部６０は、複数のヘッド３２ｂから機能液を吸引する。ワイピング部６１は、複数の吸引部６０によって機能液が吸引された複数のヘッド３２ｂを払拭する。検査部６２は、搬送方向において、複数の吸引部６０に対しワイピング部６１とは反対側に設けられる。

これにより、描画装置１は、ワイピング部６１、および検査部６２をメンテナンス部６に設けつつ、搬送方向においてワイピング部６１と検査部６２との間に作業スペースを確保することができる。そのため、描画装置１は、メンテナンス部６を小型化するとともに、ワイピング部６１などのメンテナンス作業が容易となる。

描画部３２は、複数のキャリッジ３２ａを備える。複数のキャリッジ３２ａは、複数のヘッド３２ｂをそれぞれ有し、搬送方向に直交する水平方向に沿って配置される。複数の吸引部６０は、複数のキャリッジ３２ａに対応して設けられる。ワイピング部６１は、搬送方向に直交する水平方向において、メンテナンス部６の両端にそれぞれ設けられる。検査部６２は、搬送方向に直交する水平方向において、メンテナンス部６の両端にそれぞれ設けられる。

これにより、描画装置１は、複数のキャリッジ３２ａに対し、吸引処理、ワイピング処理、および重量計測処理を素早く行うことができる。また、描画装置１は、各ワイピング部６１、および各計測部６３に対し、作業スペースを確保でき、各ワイピング部６１、および各計測部６３のメンテナンス作業が容易となる。また、描画装置１は、一方のワイピング部６１や、一方の計測部６３にメンテナンス作業などが行われている場合に、他方のワイピング部６１によって吸引処理や、他方の計測部６３によって重量計測処理を実行することができる。

描画装置１は、メンテナンス部６における検査とは異なる周期で実行される吐出撮影検査において、複数のヘッド３２ｂから機能液が吐出されるロール紙７１（検査フィルム部の一例）を備える。メンテナンス部６は、搬送方向において、描画部３２に対しロール紙７１とは反対側に設けられる。

これにより、描画装置１は、異なる周期で移動するメンテナンス部６、およびロール紙７１を容易に移動させることができ、メンテナンス部６や、ロール紙７１の移動量を少なくすることができる。すなわち、描画装置１は、メンテナンス部６、およびロール紙７１を移動させる装置を小型化することができる。

＜変形例＞
変形例に係る描画装置１は、２つのワイピング部６１のうち、一方のワイピング部６１によってワイピング処理を行ってもよい。変形例に係る描画装置１は、例えば、２つのワイピング部６１の１つが故障した場合や、ワイピングシート６１ａを交換する場合に、もう一方のワイピング部６１によってワイピング処理を行ってもよい。また、変形例に係る描画装置１は、同様に、２つの計測部６３のうち、一方の計測部６３によって重量計測処理をおこなってもよい。

上記実施形態に係る描画装置１は、基板Ｓに浮上力を与えて第１ソータ５０などによって基板Ｓを搬送する装置を一例として説明したが、これに限られることはない。変形例に係る描画装置１は、例えば、基板Ｓを台座に載置した状態で、台座を移動させ、台座とともに搬送される基板Ｓに描画を行ってもよい。

変形例に係る描画装置１は、フラッシング部８を描画部３２よりも上流側に設けてもよい。すなわち、１枚の基板Ｓに描画を行うたびに描画状態を検出する描画状態検出部７と、描画状態検出部７よりも実行する処理の周期が長いメンテナンス部６、およびフラッシング部８を描画部３２に対し、上流側に設けてもよい。

なお、今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

１ 描画装置。
３ 描画ステージ
６ メンテナンス部
７ 描画状態検出部
８ フラッシング部
９ 制御装置
３２ 描画部
３２ａ キャリッジ
３２ｂ ヘッド
６０ 吸引部
６０ａ キャップ
６１ ワイピング部
６２ 検査部
６３ 計測部
６３ａ 天秤部
６４ 風防部
６５ 吸引ノズル
７１ ロール紙（検査フィルム部）
Ｓ 基板（ワーク）

Claims (6)

1. 搬送方向に沿って移動するワークに複数のヘッドから機能液を吐出して前記ワークに描画を行う描画部と、
   前記搬送方向に沿って前記描画部の下方に移動した状態で前記複数のヘッドの検査を行う検査部を有するメンテナンス部と
   を備える描画装置。
2. 前記検査部は、前記複数のヘッドから吐出される前記機能液の重量を計測する
   請求項１に記載の描画装置。
3. 前記メンテナンス部は、
   前記複数のヘッドから前記機能液を吸引する複数の吸引部と、
   前記複数の吸引部によって前記機能液が吸引された前記複数のヘッドを払拭するワイピング部と
   を備え、
   前記検査部は、前記搬送方向において、前記複数の吸引部に対し前記ワイピング部とは反対側に設けられる
   請求項１または２に記載の描画装置。
4. 前記描画部は、前記複数のヘッドをそれぞれ有し、前記搬送方向に直交する水平方向に沿って配置される複数のキャリッジ
   を備え、
   前記複数の吸引部は、前記複数のキャリッジに対応して設けられ、
   前記ワイピング部は、前記搬送方向に直交する水平方向において、前記メンテナンス部の両端にそれぞれ設けられ、
   前記検査部は、前記搬送方向に直交する水平方向において、前記メンテナンス部の両端にそれぞれ設けられる
   請求項３に記載の描画装置。
5. 前記メンテナンス部における検査とは異なる周期で実行される吐出撮影検査において、前記複数のヘッドから前記機能液が吐出される検査フィルム部
   を備え、
   前記メンテナンス部は、前記搬送方向において、前記描画部に対し前記検査フィルム部とは反対側に設けられる
   請求項１〜４のいずれか１つに記載の描画装置。
6. 搬送方向に沿って移動するワークに複数のヘッドから機能液を吐出して前記ワークに描画を行う工程と、
   前記搬送方向に沿って前記複数のヘッドの下方に移動し、前記複数のヘッドの検査を行う工程と
   を有する描画方法。

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