JP2021137972A - Metal mask, mask for ball arrangement, substrate and their manufacturing method - Google Patents

Metal mask, mask for ball arrangement, substrate and their manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2021137972A
JP2021137972A JP2020034718A JP2020034718A JP2021137972A JP 2021137972 A JP2021137972 A JP 2021137972A JP 2020034718 A JP2020034718 A JP 2020034718A JP 2020034718 A JP2020034718 A JP 2020034718A JP 2021137972 A JP2021137972 A JP 2021137972A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal film
film layer
mask
metal
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020034718A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7423876B2 (en
Inventor
信平 伊與
Nobuhei Iyo
信平 伊與
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bon Mark Co Ltd
Original Assignee
Bon Mark Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bon Mark Co Ltd filed Critical Bon Mark Co Ltd
Priority to JP2020034718A priority Critical patent/JP7423876B2/en
Publication of JP2021137972A publication Critical patent/JP2021137972A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7423876B2 publication Critical patent/JP7423876B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

To obtain a metal mask that improves durability by improving adhesiveness of a water repellent layer, improves mask printability due to high water repellency, can expect improvement of stabilization and washability, and can shield static electricity generated during printing.SOLUTION: A metal mask comprises: a metal mask made of a planar metal material and in which a plurality of openings that pass printing paste are penetration formed; a first metal film layer mainly made of chromium (Cr) formed by vapor deposition over an entire surface of a substrate opposite surface on a side opposite to a substrate that becomes a printing target of at least metal mask; a second metal film layer mainly made of niobium (Nb) formed by vapor deposition on the surface of the first metal film; and a coating layer having water repellency and oil repellency formed on the surface of the second metal film layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

この発明は、メタルマスク、ボール配列用マスク、基材及びそれらの製造方法に関するものである。 The present invention relates to a metal mask, a mask for arranging balls, a base material, and a method for producing the same.

従来、メタルマスクの表面に、撥水性を付与するためにフッ素系樹脂をスプレー又は手塗り等により塗布することが広く行われている（例えば、特許文献１〜３参照）。また、その他に、印刷パターンに対応する開口部が形成された基材と、前記基材に直接又は間接にドライプロセスにより形成され、ケイ素、チタン、アルミニウム、酸化アルミニウム、又はジルコニウムから成る群より選択される少なくとも一つの物質を含むプライマー薄膜と、前記プライマー薄膜に形成された撥水性及び／又は撥水・撥油性を有するフッ素含有カップリング剤又はフッ素含有シランカップリング剤から成るコーティング層と、を備える印刷用孔版が知られている（例えば、特許文献４参照）。また、マスク基体の外周面、或いは該マスク基体に形成された貫通孔の内壁面のうち少なくとも一部分に硬質炭素被膜（Ｚｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ｈ、Ｓｉ、Ｎ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｆ、及びＢからなるグループより選ばれる少なくとも１種の添加元素を含有している）が形成されたマスクが知られている（例えば、特許文献５参照）。更に、メタルマスク本体の表面にセラミック処理膜が形成され、その形成セラミックが窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化クロム（ＣｒＮ）、窒化バナジウム（ＶＮ）、酸化けい素（ＳｉＯ）及びＤＬＣ（ダイアモンド・ライク・カーボン）の群から選択されるメタルマスクが知られている（例えば、特許文献６参照）。 Conventionally, it has been widely practiced to apply a fluororesin to the surface of a metal mask by spraying or hand-painting in order to impart water repellency (see, for example, Patent Documents 1 to 3). In addition, it is selected from the group consisting of a base material having an opening corresponding to a printing pattern and silicon, titanium, aluminum, aluminum oxide, or zirconium formed directly or indirectly on the base material by a dry process. A primer thin film containing at least one substance to be formed, and a coating layer made of a fluorine-containing coupling agent or a fluorine-containing silane coupling agent having water repellency and / or water repellency / oil repellency formed on the primer thin film. A stencil for printing is known (see, for example, Patent Document 4). Further, a hard carbon coating (Zr, Ti, W, Mo, Ge, H, Si, N, Ta, Cr, etc.) is formed on the outer peripheral surface of the mask substrate or at least a part of the inner wall surface of the through hole formed in the mask substrate. Masks on which (containing at least one additive element selected from the group consisting of F and B) are formed are known (see, for example, Patent Document 5). Further, a ceramic-treated film is formed on the surface of the metal mask body, and the formed ceramics are titanium nitride (TiN), chromium nitride (CrN), vanadium nitride (VN), silicon oxide (SiO) and DLC (diamond-like). A metal mask selected from the group of carbon) is known (see, for example, Patent Document 6).

実開昭５７−９３１６９号公報（実用新案登録請求の範囲、図２）Jikkai Sho 57-93169 (Claims for Utility Model Registration, Fig. 2) 特開２００１−３０１３５３号公報（請求項２−３、図２−３）JP 2001-301353 (Claim 2-3, FIG. 2-3) 特開２００１−３３９１４８号公報（図１）Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-339148 (Fig. 1) 特許第６１２１３２６号公報（請求項２、請求項５−６）Japanese Patent No. 6121326 (Claim 2, Claim 5-6) 特開平１１−２４５３７１号公報（請求項１、請求項１０）JP-A-11-245371 (Claim 1, Claim 10) 特開２００６−２０５７１６号公報（請求項１、請求項７）JP-A-2006-205716 (Claim 1, Claim 7)

従来から広く行われている撥水性を付与するためのフッ素系樹脂では、耐久性が弱く耐久性にもばらつき出るという問題があった。また、従来の印刷用孔版では、基材に直接又は間接にドライプロセスにより形成されるプライマー薄膜が、ケイ素、チタン、アルミニウム、酸化アルミニウム、又はジルコニウムから成る群より選択される少なくとも一つの物質を含むものに限られ、またコーティング層もフッ素含有カップリング剤又はフッ素含有シランカップリング剤から成るものに限られているため、使用材料に制限があった。また、従来のマスクでは、硬質炭素被膜の一例としてＣｒが用いられ、従来のメタルマスクでは、セラミック処理膜の一例として窒化クロム（ＣｒＮ）が用いられているだけであった。 Fluorine-based resins for imparting water repellency, which have been widely used in the past, have a problem that their durability is weak and their durability varies. Further, in the conventional printing stencil, the primer thin film formed directly or indirectly on the substrate by the dry process contains at least one substance selected from the group consisting of silicon, titanium, aluminum, aluminum oxide, or zirconium. Since the coating layer is also limited to those made of a fluorine-containing coupling agent or a fluorine-containing silane coupling agent, the materials used are limited. Further, in the conventional mask, Cr is used as an example of the hard carbon film, and in the conventional metal mask, chromium nitride (CrN) is only used as an example of the ceramic-treated film.

この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、撥水層の密着性の向上により耐久性を改善し、高撥水によるマスク印刷性の向上、安定化、洗浄性の向上が期待でき、印刷時に発生する静電気を遮断できるメタルマスク、ボール配列用マスク、基材及びそれらの製造方法を提供するものである。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. Durability is improved by improving the adhesion of the water-repellent layer, and mask printability is improved, stabilized, and detergency is improved by high water repellency. It is intended to provide a metal mask, a mask for arranging balls, a base material, and a method for producing them, which can be expected to be improved and can block static electricity generated during printing.

この発明に係るメタルマスクにおいては、平板状の金属材料からなり、印刷ペーストを通過させる複数の開口部が貫通形成されたメタルマスクと、少なくともメタルマスクの印刷対象となる基板に対向する側の基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたものである。 In the metal mask according to the present invention, a metal mask made of a flat metal material and having a plurality of openings through which a printing paste is passed is formed, and at least a substrate on the side facing the substrate to be printed on the metal mask. A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed by vapor deposition over the entire surface of the facing surface and niobium (Nb) formed mainly by vapor deposition on the surface of the first metal film layer. The second metal film layer is provided with a water- and oil-repellent coating layer formed on the surface of the second metal film layer.

この発明に係るボール配列用マスクにおいては、メッキにより平板状に形成され、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部と、導電性ボールが振り込まれる側でなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面のボール挿通用開口部の周辺に部分的に突出され、基板との間に隙間を形成するための突起を備えたボール配列用マスクと、少なくともボール配列用マスクの基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたものである。 In the ball arrangement mask according to the present invention, a plurality of ball insertion openings, which are formed into a flat plate by plating and through which the conductive balls are inserted, and a side facing the electrodes of the substrate instead of the side on which the conductive balls are transferred. A ball arrangement mask having a protrusion that is partially projected around the ball insertion opening on the back surface of the mask to form a gap with the substrate, and at least the surface of the ball arrangement mask facing the substrate. A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed by vapor deposition and a second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer over the entire surface. The metal film layer is provided with a water- and oil-repellent coating layer formed on the surface of the second metal film layer.

この発明に係る基材においては、金属材料からなる基材と、少なくとも基材の表面に蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたものである。 In the base material according to the present invention, a base material made of a metal material, at least a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed on the surface of the base material by vapor deposition, and a first metal film layer. A second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the second metal film layer, and a water- and oil-repellent coating layer formed on the surface of the second metal film layer. Is.

また、第１の金属皮膜層は、酸化クロム（ＣｒＯ）を主体とした金属皮膜層であり、第
２の金属皮膜層は、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）を主体とした金属皮膜層である。 The first metal film layer is a metal film layer mainly composed of chromium oxide (CrO), and the second metal film layer is a metal film layer mainly composed of niobium oxide (Nb2O5).

また、撥水・撥油性を有するコーティング層は、フッ素含有シランカップリング剤であ
る。 The coating layer having water and oil repellency is a fluorine-containing silane coupling agent.

この発明に係るメタルマスクの製造方法においては、ステンレス鋼材からなる平板状のメタルマスク基材を用意し、メタルマスク基材に複数の開口部をレーザー加工により貫通形成する工程と、レーザー加工後のメタルマスク基材を蒸着装置内に設置し、少なくともメタルマスク基材の表面にクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層を蒸着させる工程と、メタルマスク基材の第１の金属皮膜層の表面にニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜を蒸着させる工程と、メタルマスク基材の第２の金属皮膜層の表面に撥水・撥油性を有するコーティング層を蒸着させる工程とを備えたものである。 In the method for manufacturing a metal mask according to the present invention, a step of preparing a flat metal mask base material made of stainless steel and forming a plurality of openings through the metal mask base material by laser processing, and after laser processing. A step of installing a metal mask base material in a vapor deposition apparatus and depositing a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) on at least the surface of the metal mask base material, and a first metal film of the metal mask base material. A step of depositing a second metal film mainly composed of niobium (Nb) on the surface of the layer, and a step of depositing a water- and oil-repellent coating layer on the surface of the second metal film layer of the metal mask base material. It is equipped with.

この発明に係るボール配列用マスクの製造方法においては、メッキにより平板状に形成され、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部と、導電性ボールが振り込まれる側でなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面のボール挿通用開口部の周辺に部分的に突出され、基板との間に隙間を形成するための突起を備えたボール配列用マスク基材を用意する工程と、ボール配列用マスク基材を蒸着装置内に設置し、少なくともボール配列用マスク基材の表面にクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層を蒸着させる工程と、ボール配列用マスク基材の第１の金属皮膜層の表面にニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜を蒸着させる工程と、ボール配列用マスク基材の第２の金属皮膜層の表面に撥水・撥油性を有するコーティング層を蒸着させる工程とを備えたものである。 In the method for manufacturing a ball arrangement mask according to the present invention, a plurality of ball insertion openings formed into a flat plate by plating and through which conductive balls are inserted, and electrodes on a substrate instead of the side on which the conductive balls are transferred. A process of preparing a mask base material for ball arrangement, which is partially projected around the ball insertion opening on the back surface of the mask on the opposite side and has protrusions for forming a gap with the substrate, and a ball. A step of installing a mask base material for arrangement in a vapor deposition apparatus and depositing a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) on at least the surface of the mask base material for ball arrangement, and a mask base material for ball arrangement. A step of depositing a second metal film mainly composed of niobium (Nb) on the surface of the first metal film layer, and water and oil repellency on the surface of the second metal film layer of the mask base material for ball arrangement. It is provided with a step of depositing a coating layer having the coating layer.

この発明に係る基材の製造方法においては、金属材料からなる基材を用意する工程と、基材を蒸着装置内に設置し、少なくとも基材の表面にクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層を蒸着させる工程と、基材の第１の金属皮膜層の表面にニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜を蒸着させる工程と、基材の第２の金属皮膜層の表面に撥水・撥油性を有するコーティング層を蒸着させる工程とを備えたものである。 In the method for producing a base material according to the present invention, a first step of preparing a base material made of a metal material and a first method in which the base material is installed in a vapor deposition apparatus and at least the surface of the base material is mainly composed of chromium (Cr). The step of depositing the metal film layer of the base material, the step of depositing the second metal film mainly composed of niobium (Nb) on the surface of the first metal film layer of the base material, and the step of depositing the second metal film layer of the base material. It is provided with a step of depositing a coating layer having water and oil repellency on the surface of the above.

この発明に係るメタルマスク版においては、メタルマスクと、第１の金属皮膜層と、第２の金属皮膜層と、撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたメタルマスクを、スクリーン紗を介して支持枠に貼り付け固定するとともに、前記メタルマスクのスキージ面側又は基板面側と前記支持枠の間を繋ぐ導電性部材を貼り付けたものである。 In the metal mask plate according to the present invention, a metal mask having a metal mask, a first metal film layer, a second metal film layer, and a coating layer having water and oil repellency is used as a screen gauze. It is attached and fixed to the support frame via the metal mask, and a conductive member connecting the metal mask on the squeegee surface side or the substrate surface side and the support frame is attached.

この発明に係るボール配列用マスク版においては、ボール配列用マスクと、第１の金属皮膜層と、第２の金属皮膜層と、撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたボール配列用マスクを、スクリーン紗を介して支持枠に貼り付け固定するとともに、前記ボール配列用マスクのスキージ面側又は基板面側と前記支持枠の間を繋ぐ導電性部材を貼り付けたものである。 In the ball array mask plate according to the present invention, the ball array mask is provided with a ball array mask, a first metal film layer, a second metal film layer, and a coating layer having water and oil repellency. The mask is attached and fixed to the support frame via a screen gauze, and a conductive member connecting the squeegee surface side or the substrate surface side of the ball arrangement mask and the support frame is attached.

この発明によれば、撥水層の密着性の向上により耐久性を改善し、高撥水によるマスク印刷性の向上、安定化、洗浄性の向上が期待でき、印刷時に発生する静電気を遮断できるメタルマスク、ボール配列用マスク、基材を得ることができる。 According to the present invention, durability can be improved by improving the adhesion of the water-repellent layer, mask printability can be expected to be improved, stabilization, and cleanability can be expected due to high water repellency, and static electricity generated during printing can be blocked. A metal mask, a mask for arranging balls, and a base material can be obtained.

この発明の実施例１におけるメタルマスクを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the metal mask in Example 1 of this invention. この発明の実施例１におけるメタルマスクの製造方法を工程毎に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the metal mask in Example 1 of this invention for each process. この発明の実施例２におけるボール配列用マスクを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the mask for ball arrangement in Example 2 of this invention. この発明の実施例２におけるボール配列用マスクの製造方法を工程毎に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the mask for ball arrangement in Example 2 of this invention for each process. この発明の実施例３におけるメタルマスク又はボール配列用マスクを支持枠に取り付けたマスク全体の構造を示すスキージ面側から見た平面図である。It is a top view which showed the structure of the whole mask which attached the metal mask or the ball arrangement mask in Example 3 of this invention to a support frame, and was seen from the squeegee surface side. この発明の実施例３におけるメタルマスク又はボール配列用マスクを支持枠に取り付けたマスク全体の構造を示す基板面側から見た底面図である。It is a bottom view seen from the substrate surface side which shows the structure of the whole mask which attached the metal mask or the ball arrangement mask in Example 3 of this invention to a support frame.

実施例１．
図１はこの発明の実施例１におけるメタルマスクを示す断面図、図２はこの発明の実施例１におけるメタルマスクの製造方法を工程毎に示す断面図である。 Example 1.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the metal mask according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing the method for manufacturing the metal mask according to the first embodiment of the present invention for each process.

メタルマスク１は、スクリーン紗（図示せず）を介して又は支持枠（図示せず）に直接貼り付け固定して、スクリーン版として使用されるものである。このメタルマスク１は、図１に示すように、平板状のＳＵＳ等のステンレス鋼材から成り、印刷されるペースト、例えば、電極ペーストを通過させる複数の開口部２がレーザー加工により貫通形成されている。少なくともメタルマスク１の印刷対象となる基板に対向する側の基板対向面の全面に亘って、酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３が、例えば厚さ２００〜３００ｎｍの範囲になるように形成されている。また、第１の金属皮膜層３の上表面には、例えば、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４が、例えば厚さ２００〜３００ｎｍの範囲になるように形成されている。なお、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）は、絶縁体（誘電体）であり、印刷時に発生する静電気を遮断できるので、実装部品等の静電気破壊を抑制することができる。さらに、第２の金属皮膜層４の上表面には、例えば、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５が、例えば厚さ２０〜５０ｎｍの範囲になるように形成されている。酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３は、硬度８００〜１０００ＨＶであるため、マスク表面のダメージの軽減、耐久性の向上に寄与することができる。また、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４は、絶縁効果があり、基板への通電防止効果が期待できる。さらに、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５は、クロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３及びニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４との組み合わせにより、マスク印刷性の向上、安定化、洗浄性の向上も期待できる。 The metal mask 1 is used as a screen plate by being directly attached and fixed to a support frame (not shown) or through a screen gauze (not shown). As shown in FIG. 1, the metal mask 1 is made of a flat plate-shaped stainless steel material such as SUS, and a plurality of openings 2 through which a paste to be printed, for example, an electrode paste is passed, are formed through by laser processing. .. For example, the first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) made of chromium oxide (CrO) or the like covers at least the entire surface of the metal mask 1 facing the substrate on the side facing the substrate to be printed. It is formed so as to have a thickness in the range of 200 to 300 nm. Further, on the upper surface of the first metal film layer 3, for example, a second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like is formed, for example, having a thickness of 200 to 300 nm. It is formed to be a range. Since niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like is an insulator (dielectric) and can block static electricity generated during printing, it is possible to suppress static electricity destruction of mounted parts and the like. Further, on the upper surface of the second metal film layer 4, for example, a water- and oil-repellent coating layer 5 made of a fluorine-containing silane coupling agent is formed so as to have a thickness in the range of, for example, 20 to 50 nm. Has been done. Since the first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) made of chromium oxide (CrO) or the like has a hardness of 800 to 1000 HV, it can contribute to reduction of damage to the mask surface and improvement of durability. .. Further, the second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like has an insulating effect, and an effect of preventing energization of the substrate can be expected. Further, the water- and oil-repellent coating layer 5 made of a fluorine-containing silane coupling agent is composed of a first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) and a second metal mainly composed of niobium (Nb). By combining with the film layer 4, improvement in mask printability, stabilization, and improvement in detergency can be expected.

次に、この発明のメタルマスクの製造方法について図２により説明する。
先ず、ＳＵＳ等のステンレス鋼材から成る薄い平板状のメタルマスク基材１ａを用意する（図２ａ参照）。次に、メタルマスク基材１ａに、複数の開口部２をレーザー加工により貫通形成するとともに、レーザー加工により発生した開口部内面や開口部エッジのドロスやバリを電解研磨処理又は化学研磨処理を用いて除去する（図２ｂ参照）。図示しないが、複数の開口部２をレーザー加工により貫通形成するとともに、電解研磨処理又は化学研磨処理を行った後のメタルマスク基材１ａは、真空雰囲気にて所定のガス圧・流量のスパッタガス（アルゴンガス等）が導入された電子ビーム加熱方式のＰＶＤ蒸着装置に設置される。その際、レーザー加工後の複数枚のメタルマスク基材１ａを複数枚セットしても良く、複数枚のメタルマスク基材１ａの金属蒸着処理工程を一度に行うことができるので効率的となる。次に、酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした金属を蒸着することにより、メタルマスク基材１ａの表面全面に亘って、クロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３が、例えば厚さ２００〜３００ｎｍの範囲になるように形成される（図２ｃ参照）。そして、電子ビーム加熱方式のＰＶＤ蒸着装置内において、例えば、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした金属を蒸着することにより、クロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３の表面全面に亘って、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４が、例えば厚さ２００〜３００ｎｍの範囲になるように形成される（図２ｄ参照）。次に、抵抗加熱方式により、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５を蒸着し、第２の金属皮膜層４の表面全面に亘って、例えば厚さ２０〜５０ｎｍの範囲になるように形成する（図２ｅ参照）。なお、第１の金属皮膜層３及び第２の金属皮膜層４が形成されたメタルマスク基材１ａを取り出した後、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５を、不織布等の布、スポンジ、刷毛等の塗布用具を用いて第２の金属皮膜層４の表面全面に亘って、例えば厚さ２０〜５０ｎｍの範囲になるように形成しても良い（図２ｅ参照）。
以上のように、図２ａ〜図２ｅに示す製造工程を経て、図１に示すメタルマスク１が完成する。なお、図１及び図２では、酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３と、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４と、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５とを、少なくとも基板対向面の全面に亘って形成した場合について示しているが、電極ペーストを通過させる複数の開口部２の内壁面にも形成しても良い。さらに、メタルマスク基材１ａの蒸着処理範囲を基板サイズより広範囲（例えば基板サイズ＋片側５ｍｍ以上）としても良いし、基板側に静電気対策として表面積を少なくする凹凸を形成しても良い。 Next, the method for manufacturing the metal mask of the present invention will be described with reference to FIG.
First, a thin flat metal mask base material 1a made of a stainless steel material such as SUS is prepared (see FIG. 2a). Next, a plurality of openings 2 are formed through the metal mask base material 1a by laser processing, and dross and burrs on the inner surface of the openings and the edges of the openings generated by the laser processing are electropolished or chemically polished. Remove (see FIG. 2b). Although not shown, the metal mask base material 1a after the plurality of openings 2 are formed through by laser processing and subjected to electrolytic polishing treatment or chemical polishing treatment is a sputter gas having a predetermined gas pressure and flow rate in a vacuum atmosphere. It is installed in an electron beam heating type PVD vapor deposition apparatus into which (argon gas or the like) has been introduced. At that time, a plurality of metal mask base materials 1a after laser processing may be set, and the metal vapor deposition treatment step of the plurality of metal mask base materials 1a can be performed at one time, which is efficient. Next, by depositing a metal mainly composed of chromium (Cr) composed of chromium oxide (CrO) or the like, a first metal mainly composed of chromium (Cr) is deposited over the entire surface of the metal mask base material 1a. The film layer 3 is formed so as to have a thickness in the range of, for example, 200 to 300 nm (see FIG. 2c). Then, in the electron beam heating type PVD vapor deposition apparatus, for example, a metal mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like is vapor-deposited to form a first type mainly composed of chromium (Cr). A second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like is formed over the entire surface of the metal film layer 3 so as to have a thickness in the range of, for example, 200 to 300 nm. (See FIG. 2d). Next, a water- and oil-repellent coating layer 5 made of a fluorine-containing silane coupling agent is vapor-deposited by a resistance heating method, and the thickness is, for example, 20 to 50 nm over the entire surface of the second metal film layer 4. It is formed so as to be within the range of (see FIG. 2e). After taking out the metal mask base material 1a on which the first metal film layer 3 and the second metal film layer 4 are formed, the coating layer 5 having water and oil repellency made of a fluorine-containing silane coupling agent is applied. , A cloth such as a non-woven fabric, a sponge, a brush or the like may be used to form the second metal film layer 4 over the entire surface so that the thickness is, for example, in the range of 20 to 50 nm (FIG. 2e). reference).
As described above, the metal mask 1 shown in FIG. 1 is completed through the manufacturing steps shown in FIGS. 2a to 2e. In FIGS. 1 and 2, the first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) composed of chromium oxide (CrO) and the like and niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) and the like are mainly used. The case where the second metal film layer 4 and the water- and oil-repellent coating layer 5 made of a fluorine-containing silane coupling agent are formed over at least the entire surface facing the substrate is shown. It may also be formed on the inner wall surface of a plurality of openings 2 through which the paste passes. Further, the vapor deposition processing range of the metal mask base material 1a may be wider than the substrate size (for example, the substrate size + 5 mm or more on one side), or unevenness may be formed on the substrate side to reduce the surface area as a countermeasure against static electricity.

実施例２．
図３はこの発明の実施例１におけるボール配列用マスクを示す断面図、図４はこの発明の実施例１におけるボール配列用マスクの製造方法を工程毎に示す断面図である。 Example 2.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the ball arrangement mask according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view showing the manufacturing method of the ball arrangement mask according to the first embodiment of the present invention for each process.

ボール配列用マスク６は、スクリーン紗（図示せず）を介して又は支持枠（図示せず）に直接貼り付け固定して、導電性ボールの配列用マスク版として使用されるものである。このボール配列用マスク６は、図３に示すように、ニッケル等のメッキにより平板状に形成されており、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部７と、導電性ボールが振り込まれる側ではなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面のボール挿通用開口部７の周辺に部分的に突出され、基板との間に隙間を形成するための突起８を備えている。なお、この突起８は、互いに分離独立して多数点在する円柱状突起や周縁エッジ部が丸味を持ったＲ形状の突起等であっても良い。少なくとも配列用マスク６の基板に対向する側の基板対向面の全面に亘って、酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３が、例えば厚さ２００〜３００ｎｍの範囲になるように形成されている。また、第１の金属皮膜層３の上表面には、例えば、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４が、例えば厚さ２００〜３００ｎｍの範囲になるように形成されている。なお、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）は、絶縁体（誘電体）であり、印刷時に発生する静電気を遮断できるので、実装部品等の静電気破壊を抑制することができる。さらに、第２の金属皮膜層４の上表面には、例えば、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５が、例えば厚さ２０〜５０ｎｍの範囲になるように形成されている。酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３は、硬度８００〜１０００ＨＶであるため、マスク表面のダメージの軽減、耐久性の向上に寄与することができる。また、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４は、絶縁効果があり、基板への通電防止効果が期待できる。さらに、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５は、クロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３及びニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４との組み合わせにより、マスク印刷性の向上、安定化、洗浄性の向上も期待できる。 The ball arranging mask 6 is used as a mask plate for arranging conductive balls by being directly attached and fixed to a support frame (not shown) or through a screen gauze (not shown). As shown in FIG. 3, the ball arranging mask 6 is formed in a flat plate shape by plating with nickel or the like, and a plurality of ball insertion openings 7 through which the conductive balls are inserted and the conductive balls are transferred. A protrusion 8 is provided so as to be partially projected around the ball insertion opening 7 on the back surface of the mask, which is not on the side but on the side facing the electrode of the substrate, and for forming a gap with the substrate. The protrusions 8 may be columnar protrusions scattered independently from each other or R-shaped protrusions having rounded peripheral edges. At least over the entire surface of the substrate facing surface of the array mask 6 facing the substrate, the first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) made of chromium oxide (CrO) or the like has a thickness of, for example, 200. It is formed so as to be in the range of ~ 300 nm. Further, on the upper surface of the first metal film layer 3, for example, a second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like is formed, for example, having a thickness of 200 to 300 nm. It is formed to be a range. Since niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like is an insulator (dielectric) and can block static electricity generated during printing, it is possible to suppress static electricity destruction of mounted parts and the like. Further, on the upper surface of the second metal film layer 4, for example, a water- and oil-repellent coating layer 5 made of a fluorine-containing silane coupling agent is formed so as to have a thickness in the range of, for example, 20 to 50 nm. Has been done. Since the first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) made of chromium oxide (CrO) or the like has a hardness of 800 to 1000 HV, it can contribute to reduction of damage to the mask surface and improvement of durability. .. Further, the second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like has an insulating effect, and an effect of preventing energization of the substrate can be expected. Further, the water- and oil-repellent coating layer 5 made of a fluorine-containing silane coupling agent is composed of a first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) and a second metal mainly composed of niobium (Nb). By combining with the film layer 4, improvement in mask printability, stabilization, and improvement in detergency can be expected.

次に、この発明のボール配列用マスクの製造方法について図４により説明する。
先ず、ニッケル等のメッキにより平板状のボール配列用マスク基材６ａを薄くなるように形成する。このボール配列用マスク基材６ａは、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部７と、導電性ボールが振り込まれる側ではなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面のボール挿通用開口部７の周辺に部分的に突出され、基板との間に隙間を形成するための突起８を備えている（図４ａ参照）。なお、この突起８は、互いに分離独立して多数点在する円柱状突起や周縁エッジ部が丸味を持ったＲ形状の突起等であっても良い。図示しないが、複数のボール挿通用開口部７と、導電性ボールが振り込まれる側ではなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面のボール挿通用開口部７の周辺に部分的に突出され、基板との間に隙間を形成するための突起８を備えたボール配列用マスク基材６ａは、真空雰囲気にて所定のガス圧・流量のスパッタガス（アルゴンガス等）が導入された電子ビーム加熱方式のＰＶＤ蒸着装置に設置される。その際、複数枚のボール配列用マスク基材６ａを複数枚セットしても良く、複数枚のボール配列用マスク基材６ａの金属蒸着処理工程を一度に行うことができるので効率的となる。次に、酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした金属を蒸着することにより、ボール配列用マスク基材６ａの表面全面に亘って、クロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３が、例えば厚さ２００〜３００ｎｍの範囲になるように形成される（図４ｂ参照）。そして、電子ビーム加熱方式のＰＶＤ蒸着装置内において、例えば、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）を主体とした金属を蒸着することにより、クロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３の表面全面に亘って、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４が、例えば厚さ２００〜３００ｎｍの範囲になるように形成される（図４ｃ参照）。次に、抵抗加熱方式により、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５を蒸着し、第２の金属皮膜層４の表面全面に亘って、例えば厚さ２０〜５０ｎｍの範囲になるように形成する（図４ｄ参照）。なお、第１の金属皮膜層３及び第２の金属皮膜層４が形成されたボール配列用マスク基材６ａを取り出した後、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５を、不織布等の布、スポンジ、刷毛等の塗布用具を用いて第２の金属皮膜層４の表面全面に亘って、例えば厚さ２０〜５０ｎｍの範囲になるように形成しても良い（図４ｄ参照）。
以上のように、図４ａ〜図４ｄに示す製造工程を経て、図３に示すボール配列用マスク６が完成する。なお、図３及び図４では、酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３と、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４と、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５とを、少なくとも基板対向面の全面に亘って形成した場合について示しているが、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部７の内壁面にも形成しても良い。さらに、ボール配列用マスク基材６ａの蒸着処理範囲を基板サイズより広範囲（例えば基板サイズ＋片側５ｍｍ以上）としても良いし、基板側に静電気対策として表面積を少なくする凹凸を形成しても良い。 Next, the method for manufacturing the ball array mask of the present invention will be described with reference to FIG.
First, the flat plate-shaped mask base material 6a for ball arrangement is formed to be thin by plating with nickel or the like. The ball arranging mask base material 6a has a plurality of ball insertion openings 7 through which the conductive balls are inserted, and is used for ball insertion on the back surface of the mask, which is not the side to which the conductive balls are transferred but the side facing the electrodes of the substrate. A protrusion 8 is provided so as to be partially projected around the opening 7 to form a gap with the substrate (see FIG. 4a). The protrusions 8 may be columnar protrusions scattered independently from each other or R-shaped protrusions having rounded peripheral edges. Although not shown, the plurality of ball insertion openings 7 and the ball insertion openings 7 on the back surface of the mask, which are not on the side where the conductive balls are transferred but on the side facing the electrodes of the substrate, are partially projected. The ball arrangement mask base material 6a provided with protrusions 8 for forming a gap between the substrate and the substrate is heated by an electron beam into which a sputter gas (argon gas or the like) having a predetermined gas pressure and flow rate is introduced in a vacuum atmosphere. It is installed in the PVD vapor deposition equipment of the method. At that time, a plurality of a plurality of ball-arranging mask base materials 6a may be set, and the metal vapor deposition treatment step of the plurality of ball-arranging mask base materials 6a can be performed at one time, which is efficient. Next, by depositing a metal mainly composed of chromium (Cr) composed of chromium oxide (CrO) or the like, the first surface mainly composed of chromium (Cr) is spread over the entire surface of the mask base material 6a for ball arrangement. The metal film layer 3 of the above is formed so as to have a thickness in the range of, for example, 200 to 300 nm (see FIG. 4b). Then, in the electron beam heating type PVD vapor deposition apparatus, for example, by depositing a metal mainly composed of niobium pentoxide (Nb2O5), the entire surface of the first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) is deposited. A second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like is formed so as to have a thickness in the range of, for example, 200 to 300 nm (see FIG. 4c). .. Next, a water- and oil-repellent coating layer 5 made of a fluorine-containing silane coupling agent is vapor-deposited by a resistance heating method, and the thickness is, for example, 20 to 50 nm over the entire surface of the second metal film layer 4. It is formed so as to be within the range of (see FIG. 4d). After taking out the mask base material 6a for ball arrangement on which the first metal film layer 3 and the second metal film layer 4 are formed, a coating layer made of a fluorine-containing silane coupling agent and having water and oil repellency. 5 may be formed over the entire surface of the second metal film layer 4 by using a cloth such as a non-woven fabric, a sponge, a coating tool such as a brush, for example, so as to have a thickness in the range of 20 to 50 nm ( See FIG. 4d).
As described above, the ball arrangement mask 6 shown in FIG. 3 is completed through the manufacturing steps shown in FIGS. 4a to 4d. In FIGS. 3 and 4, the first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) composed of chromium oxide (CrO) and the like and niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) and the like are mainly used. The case where the second metal film layer 4 and the water- and oil-repellent coating layer 5 made of a fluorine-containing silane coupling agent are formed over at least the entire surface facing the substrate is shown. It may also be formed on the inner wall surface of a plurality of ball insertion openings 7 through which the sex balls are inserted. Further, the vapor deposition processing range of the mask base material 6a for ball arrangement may be wider than the substrate size (for example, the substrate size + 5 mm or more on one side), or unevenness may be formed on the substrate side to reduce the surface area as a countermeasure against static electricity.

実施例３．
図５はこの発明の実施例３におけるメタルマスク又はボール配列用マスクを支持枠に取り付けたマスク全体の構造を示すスキージ面側から見た平面図、図６は同じく基板面側から見た底面図である。 Example 3.
FIG. 5 is a plan view showing the structure of the entire mask in which the metal mask or the ball arrangement mask according to the third embodiment of the present invention is attached to the support frame, and FIG. 6 is a bottom view also seen from the substrate surface side. Is.

この発明の実施例３においては、図１に示す構造と同一構造のメタルマスク１又は図３に示す構造と同一のボール配列用マスク６を、スクリーン紗９を介して支持枠１０に貼り付け固定して、メタルマスク全体又はボール配列用マスク全体として使用されるものである。このメタルマスク１は、図１に示す構造と同一構造であり、平板状のＳＵＳ等のステンレス鋼材から成り、印刷されるペースト、例えば、電極ペーストを通過させる複数の開口部２がレーザー加工により貫通形成された開口パターン領域１１が形成されている。また、ボール配列用マスク６は、図３に示す構造と同一構造であり、ニッケル等のメッキにより平板状に形成されており、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部７が貫通形成された開口パターン領域１１と、導電性ボールが振り込まれる側ではなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面のボール挿通用開口部７の周辺に部分的に突出され、基板との間に隙間を形成するための突起８を備えている。そして、この実施例３では、静電気を遮断できる５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４をコーティングするだけではなく、メタルマスク１又はボール配列用マスク６のスキージ面側及び基板面側と、支持枠１０との間を繋ぐ導電性テープ等からなる導電性部材１２をそれぞれ貼り付けたものである。また、図６に示すように、導電性テープ等からなる導電性部材１２の一端部は、メタルマスク１又はボール配列用マスク６の基板面側に形成されたコーティング層５の一部と重なるようになっている。これにより、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４だけの場合に比べて、絶縁効果が増大し、基板への通電防止効果がさらに期待できる。なお、メタルマスク１又はボール配列用マスク６の外周縁部から内側２０μｍ位は、撥水・撥油性を有するコーティング層５を形成していない。 In Example 3 of the present invention, a metal mask 1 having the same structure as that shown in FIG. 1 or a ball array mask 6 having the same structure as that shown in FIG. 3 is attached and fixed to the support frame 10 via a screen gauze 9. Therefore, it is used as the entire metal mask or the entire ball array mask. The metal mask 1 has the same structure as that shown in FIG. 1, and is made of a flat plate-shaped stainless steel material such as SUS, and a plurality of openings 2 through which a printed paste, for example, an electrode paste is passed, penetrates by laser processing. The formed opening pattern region 11 is formed. Further, the ball arrangement mask 6 has the same structure as that shown in FIG. 3, and is formed in a flat plate shape by plating with nickel or the like, and a plurality of ball insertion openings 7 through which conductive balls are inserted are formed through. A gap between the formed opening pattern region 11 and the ball insertion opening 7 on the back surface of the mask, which is not the side to which the conductive balls are transferred but faces the electrodes of the substrate, is partially projected. It is provided with a protrusion 8 for forming the above. Then, in the third embodiment, not only the second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) made of niobium pentoxide (Nb2O5) or the like capable of blocking static electricity is coated, but also the metal mask 1 or the ball arrangement is used. A conductive member 12 made of a conductive tape or the like connecting between the squeegee surface side and the substrate surface side of the mask 6 and the support frame 10 is attached to each of them. Further, as shown in FIG. 6, one end of the conductive member 12 made of a conductive tape or the like overlaps with a part of the coating layer 5 formed on the substrate surface side of the metal mask 1 or the ball arrangement mask 6. It has become. As a result, the insulating effect is increased as compared with the case of only the second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium pentoxide (Nb2O5) and the like, and the effect of preventing energization of the substrate can be further expected. .. It should be noted that the coating layer 5 having water repellency and oil repellency is not formed about 20 μm inside from the outer peripheral edge portion of the metal mask 1 or the ball arrangement mask 6.

実施例４．
上記実施例１はメタルマスクに適用した場合、実施例２はボール配列用マスクに適用した場合について説明したが、この発明は、メタルマスク及びボール配列用マスクに限らず、他の基材にも適用することが可能である。すなわち、基材の表面に酸化クロム（ＣｒＯ）等からなるクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層３を形成し、第１の金属皮膜層３の上表面には、例えば、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）等からなるニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層４を形成し、さらに、第２の金属皮膜層４の上表面には、例えば、フッ素含有シランカップリング剤から成る撥水・撥油性を有するコーティング層５を形成する。 Example 4.
The case where the above Example 1 is applied to a metal mask and the case where Example 2 is applied to a ball arrangement mask have been described, but the present invention is not limited to the metal mask and the ball arrangement mask, but also to other base materials. It is possible to apply. That is, a first metal film layer 3 mainly composed of chromium (Cr) made of chromium oxide (CrO) or the like is formed on the surface of the base material, and for example, 5 is formed on the upper surface of the first metal film layer 3. A second metal film layer 4 mainly composed of niobium (Nb) composed of niobium oxide (Nb2O5) or the like is formed, and further, for example, a fluorine-containing silane coupling agent is formed on the upper surface of the second metal film layer 4. A water- and oil-repellent coating layer 5 made of the material is formed.

なお、上記基材としては、例えば、金型、基板搬送治具、基板サポート治具、メタルスキージ、メタルメッシュ、メタルスクリーン版、スクリーン乳剤版等が挙げられる。 Examples of the base material include a mold, a substrate transfer jig, a substrate support jig, a metal squeegee, a metal mesh, a metal screen plate, a screen emulsion plate, and the like.

１ メタルマスク
１ａ メタルマスク基材
２ 複数の開口部
３ 第１の金属皮膜層
４ 第２の金属皮膜層
５ コーティング層
６ ボール配列用マスク
６ａ ボール配列用マスク基材
７ 複数のボール挿通用開口部
８ 突起
９ スクリーン紗
１０ 支持枠
１１ 開口パターン領域
１２ 導電性部材 1 Metal mask 1a Metal mask base material 2 Multiple openings 3 First metal film layer 4 Second metal film layer 5 Coating layer 6 Ball arrangement mask 6a Ball arrangement mask base material 7 Multiple ball insertion openings 8 Protrusion 9 Screen gauze 10 Support frame 11 Opening pattern area 12 Conductive member

Claims (15)

平板状の金属材料からなり、印刷ペーストを通過させる複数の開口部が貫通形成されたメタルマスクと、
少なくとも前記メタルマスクの印刷対象となる基板に対向する側の基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、
前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした
第２の金属皮膜層と、
前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層と、を備えたことを特徴とするメタルマスク。 A metal mask made of a flat metal material with multiple openings through which the printing paste passes,
A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed by vapor deposition over at least the entire surface of the substrate facing surface on the side facing the substrate to be printed on the metal mask.
A second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition, and
A metal mask comprising a coating layer having water and oil repellency formed on the surface of the second metal film layer. 第１の金属皮膜層は、酸化クロム（ＣｒＯ）を主体とした金属皮膜層であり、第２の金
属皮膜層は、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）を主体とした金属皮膜層であることを特徴とする
請求項１記載のメタルマスク。 The first metal film layer is a metal film layer mainly composed of chromium oxide (CrO), and the second metal film layer is a metal film layer mainly composed of niobium pentoxide (Nb2O5). The metal mask according to claim 1. 撥水・撥油性を有するコーティング層は、フッ素含有シランカップリング剤であるこ
とを特徴とする請求項１又は請求項２記載のメタルマスク。 The metal mask according to claim 1 or 2, wherein the coating layer having water and oil repellency is a fluorine-containing silane coupling agent. 平板状の金属材料からなり、印刷ペーストを通過させる複数の開口部が貫通形成されたメタルマスクと、少なくとも前記メタルマスクの印刷対象となる基板に対向する側の基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたメタルマスクを、スクリーン紗を介して支持枠に貼り付け固定するとともに、前記メタルマスクのスキージ面側又は基板面側と前記支持枠の間を繋ぐ導電性部材を貼り付けたことを特徴とするメタルマスク版。 A metal mask made of a flat metal material and having a plurality of openings through which a printing paste passes, and at least the entire surface of the metal mask facing the substrate to be printed. A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed by vapor deposition and a second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition. A metal mask provided with a water- and oil-repellent coating layer formed on the surface of the second metal film layer is attached and fixed to a support frame via a screen gauze, and the metal mask is fixed. A metal mask plate characterized in that a conductive member connecting between the squeegee surface side or the substrate surface side and the support frame is attached. 平板状の金属材料からなり、印刷ペーストを通過させる複数の開口部が貫通形成されたメタルマスクと、少なくとも前記メタルマスクの印刷対象となる基板に対向する側の基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたメタルマスクの製造方法であって、
ステンレス鋼材からなる平板状のメタルマスク基材を用意し、前記メタルマスク基材に複数の開口部をレーザー加工により貫通形成する工程と、
前記レーザー加工後のメタルマスク基材を蒸着装置内に設置し、少なくとも前記メタルマスク基材の表面にクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層を蒸着させる工程と、
前記メタルマスク基材の第１の金属皮膜層の表面にニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜を蒸着させる工程と、
前記メタルマスク基材の第２の金属皮膜層の表面に撥水・撥油性を有するコーティング層を蒸着させる工程と、
を備えたメタルマスクの製造方法。 A metal mask made of a flat metal material and having a plurality of openings through which a printing paste is passed is formed, and at least the entire surface of the metal mask facing the substrate to be printed is covered. A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed by vapor deposition and a second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition. A method for producing a metal mask, which comprises a coating layer having water and oil repellency formed on the surface of the second metal film layer.
A step of preparing a flat metal mask base material made of stainless steel and forming a plurality of openings through the metal mask base material by laser processing.
A step of installing the laser-processed metal mask base material in a vapor deposition apparatus and depositing a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) on at least the surface of the metal mask base material.
A step of depositing a second metal film mainly composed of niobium (Nb) on the surface of the first metal film layer of the metal mask base material, and
A step of depositing a water- and oil-repellent coating layer on the surface of the second metal film layer of the metal mask base material, and
How to make a metal mask with. 平板状の金属材料からなり、印刷ペーストを通過させる複数の開口部が貫通形成されたメタルマスクと、少なくとも前記メタルマスクの印刷対象となる基板に対向する側の基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、前記第２の金属皮膜層の上表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたメタルマスクの製造方法であって、
ステンレス鋼材からなる平板状のメタルマスク基材を用意し、前記メタルマスク基材に複数の開口部をレーザー加工により貫通形成する工程と、
前記レーザー加工後のメタルマスク基材を蒸着装置内に設置し、少なくとも前記メタルマスク基材の表面にクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層を蒸着させる工程と、
前記メタルマスク基材の第１の金属皮膜層の表面にニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜を蒸着させる工程と、
前記第１の金属皮膜層及び第２の金属皮膜層が蒸着された前記メタルマスク基材を前記蒸着装置から取り外し、前記第２の金属皮膜層の表面に撥水・撥油性を有するコーティング層を塗布形成する工程と、
を備えたメタルマスクの製造方法。 A metal mask made of a flat metal material and having a plurality of openings through which a printing paste is passed is formed, and at least the entire surface of the metal mask facing the substrate to be printed is covered. A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed by vapor deposition and a second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition. A method for producing a metal mask, which comprises a coating layer having water and oil repellency formed on the upper surface of the second metal film layer.
A step of preparing a flat metal mask base material made of stainless steel and forming a plurality of openings through the metal mask base material by laser processing.
A step of installing the laser-processed metal mask base material in a vapor deposition apparatus and depositing a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) on at least the surface of the metal mask base material.
A step of depositing a second metal film mainly composed of niobium (Nb) on the surface of the first metal film layer of the metal mask base material, and
The metal mask base material on which the first metal film layer and the second metal film layer are vapor-deposited is removed from the vapor deposition apparatus, and a coating layer having water and oil repellency is applied to the surface of the second metal film layer. The process of coating and forming,
How to make a metal mask with. メッキにより平板状に形成され、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部と、導電性ボールが振り込まれる側でなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面の前記ボール挿通用開口部の周辺に部分的に突出され、前記基板との間に隙間を形成するための突起を備えたボール配列用マスクと、
少なくとも前記ボール配列用マスクの基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、
前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした
第２の金属皮膜層と、
前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層と、を備えたことを特徴とするボール配列用マスク。 A plurality of ball insertion openings formed into a flat plate by plating and through which the conductive balls are inserted, and the ball insertion openings on the back surface of the mask which are not on the side where the conductive balls are transferred but on the side facing the electrodes of the substrate. A ball arrangement mask that is partially projected around the surface and has protrusions for forming a gap with the substrate.
A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed by vapor deposition over at least the entire surface of the ball arrangement mask facing the substrate,
A second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition, and
A mask for ball arrangement, which comprises a water-repellent and oil-repellent coating layer formed on the surface of the second metal film layer. 第１の金属皮膜層は、酸化クロム（ＣｒＯ）を主体とした金属皮膜層であり、第２の金
属皮膜層は、５酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）を主体とした金属皮膜層であることを特徴とする
請求項７記載のボール配列用マスク。 The first metal film layer is a metal film layer mainly composed of chromium oxide (CrO), and the second metal film layer is a metal film layer mainly composed of niobium pentoxide (Nb2O5). The mask for ball arrangement according to claim 7. 撥水・撥油性を有するコーティング層は、フッ素含有シランカップリング剤であるこ
とを特徴とする請求項７又は請求項８記載のボール配列用マスク。 The mask for ball arrangement according to claim 7 or 8, wherein the coating layer having water and oil repellency is a fluorine-containing silane coupling agent. メッキにより平板状に形成され、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部と、導電性ボールが振り込まれる側でなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面の前記ボール挿通用開口部の周辺に部分的に突出され、前記基板との間に隙間を形成するための突起を備えたボール配列用マスクと、少なくとも前記ボール配列用マスクの基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたボール配列用マスクを、クリーン紗を介して支持枠に貼り付け固定するとともに、前記ボール配列用マスクのスキージ面側又は基板面側と前記支持枠の間を繋ぐ導電性部材を貼り付けたことを特徴とするボール配列用マスク版。 A plurality of ball insertion openings formed into a flat plate by plating and through which the conductive balls are inserted, and the ball insertion openings on the back surface of the mask which are not on the side where the conductive balls are transferred but on the side facing the electrodes of the substrate. Formed by vapor deposition over at least the entire surface of the ball arrangement mask, which is partially projected around the substrate and has protrusions for forming a gap between the ball arrangement mask and the substrate. A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr), a second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition, and the above. A ball arrangement mask provided with a water- and oil-repellent coating layer formed on the surface of the second metal film layer is attached and fixed to a support frame via a clean gauze, and the ball arrangement mask is fixed. A mask plate for ball arrangement, characterized in that a conductive member connecting between the squeegee surface side or the substrate surface side and the support frame is attached. メッキにより平板状に形成され、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部と、導電性ボールが振り込まれる側でなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面の前記ボール挿通用開口部の周辺に部分的に突出され、前記基板との間に隙間を形成するための突起を備えたボール配列用マスクと、少なくとも前記ボール配列用マスクの基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたボール配列用マスクの製造方法であって、
メッキにより平板状に形成され、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部と、導電性ボールが振り込まれる側でなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面の前記ボール挿通用開口部の周辺に部分的に突出され、前記基板との間に隙間を形成するための突起を備えたボール配列用マスク基材を用意する工程と、
前記ボール配列用マスク基材を蒸着装置内に設置し、少なくとも前記ボール配列用マスク基材の表面にクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層を蒸着させる工程と、
前記ボール配列用マスク基材の第１の金属皮膜層の表面にニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜を蒸着させる工程と、
前記ボール配列用マスク基材の第２の金属皮膜層の表面に撥水・撥油性を有するコーティング層を蒸着させる工程と、
を備えたボール配列用マスクの製造方法。 A plurality of ball insertion openings formed into a flat plate by plating and through which the conductive balls are inserted, and the ball insertion openings on the back surface of the mask which are not on the side where the conductive balls are transferred but on the side facing the electrodes of the substrate. Formed by vapor deposition over at least the entire surface of the ball arrangement mask, which is partially projected around the substrate and has protrusions for forming a gap between the ball arrangement mask and the substrate. A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr), a second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition, and the above. A method for manufacturing a mask for ball arrangement, which includes a coating layer having water and oil repellency formed on the surface of a second metal film layer.
A plurality of ball insertion openings formed into a flat plate by plating and through which the conductive balls are inserted, and the ball insertion openings on the back surface of the mask which are not on the side where the conductive balls are transferred but on the side facing the electrodes of the substrate. A step of preparing a mask base material for ball arrangement, which is partially projected around the surface and has protrusions for forming a gap with the substrate.
A step of installing the ball arrangement mask base material in a vapor deposition apparatus and depositing a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) on at least the surface of the ball arrangement mask base material.
A step of depositing a second metal film mainly composed of niobium (Nb) on the surface of the first metal film layer of the mask base material for ball arrangement.
A step of depositing a water- and oil-repellent coating layer on the surface of the second metal film layer of the mask base material for ball arrangement, and
A method for manufacturing a mask for ball arrangement. メッキにより平板状に形成され、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部と、導電性ボールが振り込まれる側でなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面の前記ボール挿通用開口部の周辺に部分的に突出され、前記基板との間に隙間を形成するための突起を備えたボール配列用マスクと、少なくとも前記ボール配列用マスクの基板対向面の全面に亘って、蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えたボール配列用マスクの製造方法であって、
メッキにより平板状に形成され、導電性ボールが挿通する複数のボール挿通用開口部と、導電性ボールが振り込まれる側でなく基板の電極と対向する側となるマスク裏面の前記ボール挿通用開口部の周辺に部分的に突出され、前記基板との間に隙間を形成するための突起を備えたボール配列用マスク基材を用意する工程と、
前記ボール配列用マスク基材を蒸着装置内に設置し、少なくとも前記ボール配列用マスク基材の表面にクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層を蒸着させる工程と、
前記ボール配列用マスク基材の第１の金属皮膜層の表面にニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜を蒸着させる工程と、
前記第１の金属皮膜層及び第２の金属皮膜層が蒸着された前記ボール配列用マスク基材を前記蒸着装置から取り外し、前記第２の金属皮膜層の表面に撥水・撥油性を有するコーティング層を塗布形成する工程と、
を備えたボール配列用マスクの製造方法。 A plurality of ball insertion openings formed into a flat plate by plating and through which the conductive balls are inserted, and the ball insertion openings on the back surface of the mask which are not on the side where the conductive balls are transferred but on the side facing the electrodes of the substrate. Formed by vapor deposition over at least the entire surface of the ball arrangement mask, which is partially projected around the substrate and has protrusions for forming a gap between the ball arrangement mask and the substrate. A first metal film layer mainly composed of chromium (Cr), a second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition, and the above. A method for manufacturing a mask for ball arrangement, which includes a coating layer having water and oil repellency formed on the surface of a second metal film layer.
A plurality of ball insertion openings formed into a flat plate by plating and through which the conductive balls are inserted, and the ball insertion openings on the back surface of the mask which are not on the side where the conductive balls are transferred but on the side facing the electrodes of the substrate. A step of preparing a mask base material for ball arrangement, which is partially projected around the surface and has protrusions for forming a gap with the substrate.
A step of installing the ball arrangement mask base material in a vapor deposition apparatus and depositing a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) on at least the surface of the ball arrangement mask base material.
A step of depositing a second metal film mainly composed of niobium (Nb) on the surface of the first metal film layer of the mask base material for ball arrangement.
The ball arrangement mask base material on which the first metal film layer and the second metal film layer are vapor-deposited is removed from the vapor deposition apparatus, and the surface of the second metal film layer is coated with water and oil repellency. The process of coating and forming the layer and
A method for manufacturing a mask for ball arrangement. 金属材料からなる基材と、
少なくとも前記基材の表面に蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、
前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした
第２の金属皮膜層と、
前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層と、を備えたことを特徴とする基材。 A base material made of metal material and
At least a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed on the surface of the base material by vapor deposition, and
A second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) formed on the surface of the first metal film layer by vapor deposition, and
A base material comprising: a coating layer having water and oil repellency formed on the surface of the second metal film layer. 基材は、金型、基板搬送治具、基板サポート治具、メタルスキージ、メタルスクリーン、スクリーン乳剤版のいずれか一つであることを特徴とする請求項１３記載の基材。 The base material according to claim 13, wherein the base material is any one of a mold, a substrate transfer jig, a substrate support jig, a metal squeegee, a metal screen, and a screen emulsion plate. 金属材料からなる基材と、少なくとも前記基材の表面に蒸着により形成されたクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層と、前記第１の金属皮膜層の表面に蒸着によって形成されたニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜層と、前記第２の金属皮膜層の表面に形成された撥水・撥油性を有するコーティング層とを備えた基材の製造方法であって、
金属材料からなる基材を用意する工程と、
前記基材を蒸着装置内に設置し、少なくとも前記基材の表面にクロム（Ｃｒ）を主体とした第１の金属皮膜層を蒸着させる工程と、
前記基材の第１の金属皮膜層の表面にニオブ（Ｎｂ）を主体とした第２の金属皮膜を蒸着させる工程と、
前記基材の第２の金属皮膜層の表面に撥水・撥油性を有するコーティング層を蒸着させる工程と、
を備えた基材の製造方法。 A base material made of a metal material, at least a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) formed on the surface of the base material by vapor deposition, and formed on the surface of the first metal film layer by thin film deposition. A method for producing a base material, which comprises a second metal film layer mainly composed of niobium (Nb) and a water- and oil-repellent coating layer formed on the surface of the second metal film layer. hand,
The process of preparing a base material made of metal material and
A step of installing the base material in a vapor deposition apparatus and depositing a first metal film layer mainly composed of chromium (Cr) on at least the surface of the base material.
A step of depositing a second metal film mainly composed of niobium (Nb) on the surface of the first metal film layer of the base material, and
A step of depositing a water- and oil-repellent coating layer on the surface of the second metal film layer of the base material, and
A method for producing a base material provided with.
JP2020034718A 2020-03-02 2020-03-02 Metal mask, ball array mask, base material and manufacturing method thereof Active JP7423876B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020034718A JP7423876B2 (en) 2020-03-02 2020-03-02 Metal mask, ball array mask, base material and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020034718A JP7423876B2 (en) 2020-03-02 2020-03-02 Metal mask, ball array mask, base material and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021137972A true JP2021137972A (en) 2021-09-16
JP7423876B2 JP7423876B2 (en) 2024-01-30

Family

ID=77667382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020034718A Active JP7423876B2 (en) 2020-03-02 2020-03-02 Metal mask, ball array mask, base material and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7423876B2 (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001198766A (en) * 2000-01-12 2001-07-24 Sumitomo Metal Ind Ltd Member for moving and positioning device and manufacturing method
JP2007294885A (en) * 2006-03-31 2007-11-08 Nichia Chem Ind Ltd Light emitting device and method for fabrication thereby
JP2008205047A (en) * 2007-02-16 2008-09-04 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring substrate
JP2010126807A (en) * 2008-12-01 2010-06-10 Hitachi Cable Ltd Surface-treated metal material and method for manufacturing the same
JP2019051664A (en) * 2017-09-15 2019-04-04 株式会社ソノコム Combination screen printed plate
JP2019181904A (en) * 2018-04-18 2019-10-24 太陽誘電株式会社 Printing stencil and manufacturing method thereof
JP2019206088A (en) * 2018-05-28 2019-12-05 株式会社ボンマーク Mask for alignment of ball and manufacturing method therefor

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001198766A (en) * 2000-01-12 2001-07-24 Sumitomo Metal Ind Ltd Member for moving and positioning device and manufacturing method
JP2007294885A (en) * 2006-03-31 2007-11-08 Nichia Chem Ind Ltd Light emitting device and method for fabrication thereby
JP2008205047A (en) * 2007-02-16 2008-09-04 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring substrate
JP2010126807A (en) * 2008-12-01 2010-06-10 Hitachi Cable Ltd Surface-treated metal material and method for manufacturing the same
JP2019051664A (en) * 2017-09-15 2019-04-04 株式会社ソノコム Combination screen printed plate
JP2019181904A (en) * 2018-04-18 2019-10-24 太陽誘電株式会社 Printing stencil and manufacturing method thereof
JP2019206088A (en) * 2018-05-28 2019-12-05 株式会社ボンマーク Mask for alignment of ball and manufacturing method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
JP7423876B2 (en) 2024-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI665320B (en) Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask, and method for manufacturing organic semiconductor element
TWI624557B (en) Vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, method for manufacturing vapor deposition mask, and method for manufacturing organic semiconductor element
JP5025576B2 (en) Electrostatic chuck and substrate temperature control fixing device
JP5406884B2 (en) Stencil for screen printing having amorphous carbon film and method for producing the same
JP2018190983A5 (en)
JP4744790B2 (en) Deposition mask, deposition mask frame assembly, and manufacturing method thereof
US20120301605A1 (en) Gravure printing engraving roll and manufacturing method therof
TWI647759B (en) Method for regenerating semiconductor manufacturing components, regenerating device and regenerating component thereof
JP2004014513A (en) Mask frame assembly for thin film depositing of organic electronic light emitting device
JP6681739B2 (en) Method for manufacturing shadow mask and method for manufacturing display device
CN107858642B (en) Vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, vapor deposition mask manufacturing method, and organic semiconductor element manufacturing method
US20110045238A1 (en) Printing Template of an SMT Process and Method of Coating It
TWM559426U (en) A shadow mask with plasma resistant coating
JPS5931591B2 (en) vapor deposition mask
JP7381651B2 (en) Printing stencil and its manufacturing method
JP2021137972A (en) Metal mask, mask for ball arrangement, substrate and their manufacturing method
JP2021080567A (en) Shadow mask with plasma resistant coating
JP2021516871A (en) Methods for Manufacturing Electrostatic Chuck and Its Protrusions
JP4370697B2 (en) Screen printing plate and manufacturing method thereof
CN114096694A (en) Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask, and method for manufacturing display device
JP2006341506A (en) Nozzle plate and its manufacturing method
JP2011218673A (en) Mesh for screen printing
JP2023520200A (en) Thin metal plate structure, method for manufacturing thin metal plate, and metal mask including thin metal plate
JP4658086B2 (en) Electrostatic chuck and manufacturing method thereof
CN111139450B (en) Mask assembly and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221026

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230822

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231003

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231201

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231212

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231215

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7423876

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150