JP2021134331A - 導電性高分子複合体、導電性組成物、および塗膜 - Google Patents
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Abstract
Description
α=(I1/I2)−0.135×(A2/A1) (1)
で導かれる導電性ポテンシャルαが−0.23以上である、導電性高分子複合体に関する。
本発明の導電性高分子複合体は、PEDOTとポリアニオンからなり、ラマンスペクトルの1260cm−1におけるピーク強度をI1、1420cm−1におけるピーク強度をI2とし、光吸収スペクトルの波長950nmにおける吸光度をA1、波長2300nmにおける吸光度をA2としたときに、下記式(1):
α=(I1/I2)−0.135×(A2/A1) (1)
で導かれる導電性ポテンシャルαが−0.23以上である。
α=(I1/I2)−0.135×(A2/A1) (1)
で導かれる導電性ポテンシャルαが−0.23以上である。
ラマンスペクトルの測定条件:基材上に形成された塗膜に対して、レーザーラマン分光測定装置NRS−5500(日本分光株式会社製)を使用してラマンスペクトルを測定する。励起波長531.974nmのレーザーを用い、レーザー強度比は1%、照射時間は300秒、測定波長は930〜1800cm−1に設定することにより、ラマンスペクトルを得る。基材の種類によってはラマンスペクトルに影響を及ぼす場合があるため、膜厚1μm以上の塗膜を用いて測定するか、又は塗膜のラマンスペクトルから基材のみのラマンスペクトルをバックグラウンドとして差し引くことが好ましい。測定対象の塗膜の形成方法は特に限定されないが、例えば、導電性高分子複合体、または導電性高分子複合体を含む導電性組成物をガラス基材上に塗布して200℃で10分間乾燥させることにより膜厚10μmの塗膜を形成する方法が挙げられる。
光吸収スペクトルの測定条件:基材上に形成された塗膜に対して、紫外可視近赤外分光光度計V−670(日本分光株式会社製)を使用して光吸収スペクトルを測定する。測定波長は500〜2500nm、ランプはハロゲンランプを使用する。基材の種類やその厚みによっては光吸収スペクトルに影響を及ぼす場合があるため、塗膜の光吸収スペクトルから基材のみの光吸収スペクトルをバックグラウンドとして差し引くことが好ましい。測定対象の塗膜の形成方法は特に限定されないが、例えば、導電性高分子複合体、または導電性高分子複合体を含む導電性組成物を、PET基材上に塗布して120℃で5分間乾燥させることにより膜厚70nmの塗膜を形成する方法が挙げられ、この塗膜の光吸収スペクトルから、PET基材の光吸収スペクトルをバックグラウンドとして差し引くことが好ましい。
本発明の導電性組成物は、前記導電性高分子複合体、および水を含む。導電性組成物の固形分率は0.01〜20重量%が好ましく、0.1〜15重量%がより好ましく、0.5〜10重量%がさらに好ましい。導電性組成物の固形分中、導電性高分子複合体の配合量は、0.1〜100重量%が好ましく、1〜80重量%がより好ましく、5〜70重量%がさらに好ましい。
導電性組成物は、導電性高分子複合体、および水に加えて、任意成分を含んでいてもよい。任意成分として、水溶性有機溶媒、非導電性樹脂、酸化防止剤、低分子アニオン、架橋剤、界面活性剤、フィラー、消泡剤、中和剤、増粘剤等が挙げられる。
SiR4(2)
(式中、Rは、水素、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基である。但し、4つのRのうち少なくとも1個は炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基である。)
アルコキシシランのモノマーを使用する場合は、導電性組成物に添加した後、導電性組成物中で高分子量化させてもよい。
SiR4(3)
(式中、Rは、水素、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基である。但し、4つのRのうち少なくとも1個は炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基である。)
本発明の導電性組成物は、導電性ポテンシャルが特定の範囲内にあるため、導電性組成物を含む塗膜の繰り返しの伸縮後も表面抵抗率の増大を抑制できる。よって、本発明の導電性組成物は、延伸率40%で10回伸縮させた後の表面抵抗率が、伸縮前の表面抵抗率の2.5倍以下である塗膜を製造する用途に好適に使用できる。前記表面抵抗率の比率は、2.0倍以下がより好ましく、1.9倍以下がさらに好ましい。
塗膜は、導電性組成物を基材上に塗布し、乾燥することにより得られる。基材の材質は、プラスチック基材、ガラス、金属等が挙げられる。プラスチック基材としてはポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)が挙げられる。アクリル系樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)が挙げられる。シクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィンポリマー樹脂(COP)が挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂が挙げられる。セルロース系樹脂としては、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂が挙げられる。基材の厚みは、10〜1000μmであることが好ましく、25〜500μmであることがより好ましい。基材の全光線透過率は、60%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましい。
本発明の導電性組成物を基材上に塗布することにより、基材と塗膜からなる積層体が得られる。この積層体は、塗膜形成時の乾燥温度にかかわらず、伸縮後も導電性を安定に維持でき、表面保護フィルム、透明導電性フィルム、帯電防止フィルム等に好適に使用できる。
1.導電性高分子複合体
・導電性高分子1(製造例1で製造)
・導電性高分子2(製造例2で製造)
・導電性高分子3(製造例3で製造)
・導電性高分子4(へレウス製、CLEVIOS P)
・導電性高分子5(へレウス製、CLEVIOS PH500)
2.非導電性樹脂
・エステル樹脂(東亞合成株式会社製、アロンメルトPES−2405A30)
・シリコーン樹脂(東レ・ダウコーニング社製、8029Additive)
・フェノール樹脂(川口化学工業製、ANTAGE 2LX)
・フッ素樹脂(デュポン株式会社製、CAPSTONE FS−3100)
・アクリル樹脂(日本カーバイド製、ニカゾールRX−3020)
・アルコール樹脂(株式会社ダイセル製、ポリグリセリンPGL XPW)
・ウレタン樹脂(ADEKA製、アデカボンタイターHUX−895)
・エーテル樹脂(クラリアント製、Genapol X 060)
3.有機溶剤
・ジエチレングリコール(東京化成工業株式会社製)
4.基材
・ガラス(松浪硝子工業株式会社製MICRO SLIDE GLASS)
・ポリエチレンテレフタレート樹脂(東レ製、ルミラーT60 厚さ188μm)
・ポリカーボネート樹脂(帝人化成株式会社製、ピュアエースWR−S148 厚さ50μm)
・ウレタン樹脂(武田産業株式会社製、タフグレイス 厚さ100μm)
(製造例1)導電性高分子複合体1
濃硫酸67mLを約500gの純水で希釈した。次に、ポリ(4−スチレンスルホン酸)(PSS:分子量75000)の18質量%水溶液107.54gと硫酸鉄28.10gを前述の硫酸水溶液に加えた。さらに3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)7.2gと過硫酸ナトリウム23.12gを加え、これに純水を足すことで全質量が1200gとなるように混合溶液を調製し、温度調節可能な反応容器に投入した。混合溶液を窒素雰囲気下にて0℃で24時間酸化重合反応を行った。反応溶液を反応容器から取り出し、アニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂を加え、さらに18時間撹拌した。得られたイオン交換処理液をガラス濾過器で濾過し、次いで高圧ホモジナイザーで70MPa、20回の均質化処理を行うことにより、PEDOT:PSS水分散液を得た。
ポリ(4−スチレンスルホン酸)(PSS:分子量500000)の20質量%水溶液66.89gと硫酸鉄0.05gを前述の500gの純水に加えた。さらに3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)3.42gと過硫酸ナトリウム6.30gを加え、これに純水を足すことで全質量が1200gとなるように混合溶液を調製し、温度調節可能な反応容器に投入した。混合溶液を大気雰囲気下にて25℃で14時間酸化重合反応を行った。反応溶液を反応容器から取り出し、アニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂を加え、さらに2時間撹拌した。得られたイオン交換処理液をガラス濾過器で濾過し、PEDOT:PSS水分散液を得た。
濃硫酸67mLを約500gの純水で希釈した。次に、ポリ(4−スチレンスルホン酸)(PSS:分子量100000)の18質量%水溶液107.54gと硫酸鉄28.10gを前述の硫酸水溶液に加えた。さらに3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)7.2gと過硫酸ナトリウム23.12gを加え、これに純水を足すことで全質量が1200gとなるように混合溶液を調製し、温度調節可能な反応容器に投入した。混合溶液を窒素雰囲気下にて5℃で24時間酸化重合反応を行った。反応溶液を反応容器から取り出し、アニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂を加え、さらに2時間撹拌した。得られたイオン交換処理液をガラス濾過器で濾過し、次いで高圧ホモジナイザーで200MPa、1回の均質化処理を行った。その後、プラスチック容器内で30℃、30日間の熟成を行い、PEDOT:PSS水分散液を得た。
(実施例1〜15、比較例1〜4)導電性高分子複合体1〜5に、表1に記載の非導電性樹脂、有機溶剤、水を添加して混合した。実施例2〜4、6〜10、14〜15、比較例3〜4ではアルカリ剤を添加して表1に記載のpHとなるように調製した。
1.導電性ポテンシャル
1−1.ラマンスペクトル
導電性組成物を、ガラス基材(松浪硝子工業株式会社製のMICRO SLIDE GLASS)上にワイヤーバーを用いて塗布し、200℃で10分間乾燥させることにより、膜厚10μmの塗膜を有する試験片を作成した。この塗膜に対して、レーザーラマン分光測定装置NRS−5500(日本分光株式会社製)を使用してラマンスペクトルを測定した。励起波長531.974nmのレーザーを用い、レーザー強度比は1%、照射時間は300秒、測定波長は930〜1800cm−1に設定し、1260cm−1におけるピーク強度I1、1420cm−1におけるピーク強度I2を測定した。
PET基材(東レ製ルミラーT60 厚さ188μm)に導電性組成物を塗布し、120℃で5分間乾燥させることにより、膜厚70nmの塗膜を有する試験片を作成した。次に、この塗膜に対して、紫外可視近赤外分光光度計V−670(日本分光株式会社製)を使用して光吸収スペクトルを測定した。測定波長は500〜2500nm、ランプはハロゲンランプを使用して光吸収スペクトル測定を行い、基材の光吸収スペクトルをバックグラウンドとして差し引いて、波長950nmにおける吸光度A1、波長2300nmにおける吸光度A2を測定した。
α=(I1/I2 )−0.135×(A2/A1) (1)
導電性組成物を、表1記載の基材上に、理論乾燥膜厚が400nmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、40℃で5分間、または150℃で5分間乾燥させることにより、塗膜を作成した。次に、40℃で乾燥させた試験片の表面抵抗率(SR1)と、150℃で乾燥させた試験片の表面抵抗率(SR2)を、抵抗率計(三菱ケミカル株式会社製、ロレスターGP MCP−T600、ハイレスターUP MCP−HT450)を用いて測定し、下記式に導入することにより、乾燥温度による導電性の変動率を求めた。
乾燥温度による導電性の変動率=SR1/SR2
実施例9〜11、14〜15、比較例3〜4の導電性組成物を、表1記載の基材上に、理論乾燥膜厚が2000nmとなるようにワイヤーバーで塗布し、100℃で3分間乾燥させることにより塗膜を作成した。得られた塗膜の表面抵抗率SR3を上述の方法で測定した。次に、一軸方向に延伸率40%で10回伸縮することにより得られた試験片の、塗膜の表面抵抗率SR4を測定した。SR3およびSR4を下記式に導入することにより、塗膜の伸縮による導電性の変動率を求めた。
伸縮による導電性の変動率=SR4/SR3
Claims (10)
- PEDOTとポリアニオンからなり、
ラマンスペクトルの1260cm−1におけるピーク強度をI1、1420cm−1におけるピーク強度をI2とし、
光吸収スペクトルの波長950nmにおける吸光度をA1、波長2300nmにおける吸光度をA2としたときに、下記式(1):
α=(I1/I2)−0.135×(A2/A1) (1)
で導かれる導電性ポテンシャルαが−0.23以上である、
導電性高分子複合体。 - I1/I2が0.05以上である、請求項1に記載の導電性高分子複合体。
- A2/A1が0.5〜7である、請求項1または2に記載の導電性高分子複合体。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の導電性高分子複合体、および水を含む、導電性組成物。
- さらに非導電性樹脂を含む請求項4に記載の導電性組成物。
- さらに沸点100℃以上の有機溶剤を1重量%以上含有する請求項4または5に記載の導電性組成物。
- pHが5以上である請求項4〜6のいずれかに記載の導電性組成物。
- 延伸率40%で10回伸縮させた後の表面抵抗率が、伸縮前の表面抵抗率の2.5倍以下である塗膜を製造するための、請求項4〜7のいずれかに記載の導電性組成物。
- 40℃で乾燥させたときの表面抵抗率が、150℃で乾燥させたときの表面抵抗率の1.7倍以下となる塗膜を製造するための、請求項4〜8のいずれかに記載の導電性組成物。
- 請求項4〜9のいずれかに記載の導電性組成物を乾燥してなる塗膜。
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