JP2021116331A - Sealing resin composition, electronic component device, and method for producing electronic component device - Google Patents

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Abstract

To provide a sealing resin composition that reduces a dielectric loss tangent of a cured product of it and reduces a defective appearances of the cured product.SOLUTION: A sealing resin composition contains epoxy resin, a curing agent containing an active ester compound, an inorganic filler, and polyether-modified silicone.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、封止用樹脂組成物、電子部品装置、及び電子部品装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a sealing resin composition, an electronic component device, and a method for manufacturing the electronic component device.

通信のために発信された電波が誘電体において熱変換されることで発生する伝送損失の量は、周波数と比誘電率の平方根と誘電正接との積として表される。つまり伝送信号は周波数に比例して熱に変わりやすいので、伝送損失を抑制するために高周波帯ほど通信部材の材料に低誘電特性が要求される。 The amount of transmission loss caused by the thermal conversion of radio waves transmitted for communication in a dielectric is expressed as the product of the square root of frequency and relative permittivity and the dielectric loss tangent. That is, since the transmission signal is easily converted into heat in proportion to the frequency, the material of the communication member is required to have low dielectric properties in the high frequency band in order to suppress the transmission loss.

例えば特許文献1〜2には、エポキシ樹脂用硬化剤として活性エステル樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成物が開示されており、硬化物の誘電正接を低く抑えることができるとされている。 For example, Patent Documents 1 and 2 disclose a thermosetting resin composition containing an active ester resin as a curing agent for an epoxy resin, and it is said that the dielectric loss tangent of the cured product can be suppressed to a low level.

特開2012−246367号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-246367 特開2014−114352号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-114352

情報通信分野においては、チャンネル数の増加と伝送される情報量の増加にともなって電波の高周波化が進行している。現在、第5世代移動通信システムの検討が世界的に進められており、使用する周波帯の候補に約30GHz〜70GHzの範囲の幾つかが挙げられている。今後は無線通信の主流がこれほどの高周波帯での通信になるため、通信部材の材料にはさらなる誘電正接の低さが求められている。特に、素子の封止に用いる封止用樹脂組成物では、硬化物となったときの誘電正接の低さが求められる。
一方で、無機充填材を含む封止用樹脂組成物では、素子を封止することにより形成された封止用樹脂組成物の硬化物において、無機充填材の凝集に起因する外観不良が生じる場合があり、上記硬化物の外観不良を抑制することも求められている。
In the information and communication field, the frequency of radio waves is increasing along with the increase in the number of channels and the amount of information to be transmitted. Currently, the 5th generation mobile communication system is being studied worldwide, and some of the frequency band candidates to be used are in the range of about 30 GHz to 70 GHz. In the future, the mainstream of wireless communication will be communication in such a high frequency band, so that the material of the communication member is required to have a lower dielectric loss tangent. In particular, a sealing resin composition used for sealing an element is required to have a low dielectric loss tangent when it becomes a cured product.
On the other hand, in the sealing resin composition containing the inorganic filler, the appearance of the cured product of the sealing resin composition formed by sealing the element may be poor due to the aggregation of the inorganic filler. Therefore, it is also required to suppress the appearance defect of the cured product.

本開示の実施形態は、上記状況のもとになされた。
本開示は、硬化物の誘電正接を低減し、かつ、硬化物の外観不良が抑制される封止用樹脂組成物、これを用いて封止された電子部品装置、及びこれを用いて封止する電子部品装置の製造方法を提供することを課題とする。
The embodiments of the present disclosure have been made under the above circumstances.
In the present disclosure, a sealing resin composition that reduces the dielectric loss tangent of a cured product and suppresses an appearance defect of the cured product, an electronic component device sealed using the same, and sealing using the same. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electronic component device.

前記課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。 Specific means for solving the above problems include the following aspects.

<1>
エポキシ樹脂と、
活性エステル化合物を含む硬化剤と、
無機充填材と、
ポリエーテル変性シリコーンと、
を含有する封止用樹脂組成物。
<2>
前記ポリエーテル変性シリコーンの25℃における粘度が1.00Pa・s〜4.00Pa・sである<1>に記載の封止用樹脂組成物。
<3>
前記無機充填材の含有率が前記封止用樹脂組成物全体に対して55体積%〜80体積%である、<1>又は<2>に記載の封止用樹脂組成物。
<4>
ウエハレベルパッケージ用である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の封止用樹脂組成物。
<5>
トランスファ成形用である<1>〜<4>のいずれか1つに記載の封止用樹脂組成物。
<6>
支持部材と、
前記支持部材上に配置された素子と、
前記素子を封止している<1>〜<5>のいずれか1つに記載の封止用樹脂組成物の硬化物と、
を備える電子部品装置。
<7>
素子を支持部材上に配置する工程と、
前記素子を<1>〜<5>のいずれか1つに記載の封止用樹脂組成物で封止する工程と、
を含む電子部品装置の製造方法。
<8>
複数個の素子をウエハ上に配置する工程と、
前記複数個の素子を<1>〜<5>のいずれか1つに記載の封止用樹脂組成物で一括して封止する工程と、
封止された素子ごとに個片化する工程と、
を含む電子部品装置の製造方法。
<9>
前記封止する工程が、トランスファ成形により封止する工程である<7>又は<8>に記載の電子部品装置の製造方法。
<1>
Epoxy resin and
A curing agent containing an active ester compound and
Inorganic filler and
With polyether-modified silicone,
A resin composition for sealing containing.
<2>
The sealing resin composition according to <1>, wherein the polyether-modified silicone has a viscosity at 25 ° C. of 1.00 Pa · s to 4.00 Pa · s.
<3>
The sealing resin composition according to <1> or <2>, wherein the content of the inorganic filler is 55% by volume to 80% by volume with respect to the entire sealing resin composition.
<4>
The sealing resin composition according to any one of <1> to <3> for a wafer level package.
<5>
The sealing resin composition according to any one of <1> to <4> for transfer molding.
<6>
Support members and
The element arranged on the support member and
The cured product of the sealing resin composition according to any one of <1> to <5>, which seals the element, and the cured product.
Electronic component device equipped with.
<7>
The process of arranging the element on the support member and
The step of sealing the element with the sealing resin composition according to any one of <1> to <5>, and
Manufacturing method of electronic component equipment including.
<8>
The process of arranging multiple elements on the wafer,
A step of collectively sealing the plurality of elements with the sealing resin composition according to any one of <1> to <5>, and a step of collectively sealing the plurality of elements.
The process of individualizing each sealed element and
Manufacturing method of electronic component equipment including.
<9>
The method for manufacturing an electronic component device according to <7> or <8>, wherein the sealing step is a step of sealing by transfer molding.

本開示によれば、硬化物の誘電正接を低減し、かつ、硬化物の外観不良が抑制される封止用樹脂組成物、これを用いて封止された電子部品装置、及びこれを用いて封止する電子部品装置の製造方法が提供される。 According to the present disclosure, a sealing resin composition that reduces the dielectric loss tangent of the cured product and suppresses the appearance defect of the cured product, an electronic component device sealed using the same, and the use thereof. A method of manufacturing an electronic component device to be sealed is provided.

本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
In the present disclosure, the term "process" includes not only a process independent of other processes but also the process if the purpose of the process is achieved even if the process cannot be clearly distinguished from the other process. ..
The numerical range indicated by using "~" in the present disclosure includes the numerical values before and after "~" as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. .. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
In the present disclosure, each component may contain a plurality of applicable substances. When a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition, the content or content of each component is the total content or content of the plurality of substances present in the composition unless otherwise specified. Means quantity.
In the present disclosure, a plurality of types of particles corresponding to each component may be contained. When a plurality of particles corresponding to each component are present in the composition, the particle size of each component means a value for a mixture of the plurality of particles present in the composition unless otherwise specified.

以下、本開示を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本開示は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示を制限するものではない。 Hereinafter, modes for carrying out the present disclosure will be described in detail. However, the present disclosure is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the components (including element steps and the like) are not essential unless otherwise specified. The same applies to the numerical values and their ranges, and does not limit this disclosure.

<封止用樹脂組成物>
本開示の一実施形態に係る封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、活性エステル化合物を含む硬化剤と、無機充填材と、ポリエーテル変性シリコーンと、を含有する。
<Resin composition for sealing>
The sealing resin composition according to one embodiment of the present disclosure contains an epoxy resin, a curing agent containing an active ester compound, an inorganic filler, and a polyether-modified silicone.

本開示における活性エステル化合物とは、エポキシ基と反応するエステル基を1分子中に1個以上有し、エポキシ樹脂の硬化作用を有する化合物をいう。 The active ester compound in the present disclosure refers to a compound having one or more ester groups that react with an epoxy group in one molecule and having a curing action of an epoxy resin.

従来、エポキシ樹脂の硬化剤としては一般的にフェノール硬化剤、アミン硬化剤等が使用されているところ、エポキシ樹脂とフェノール硬化剤又はアミン硬化剤との反応においては2級水酸基が発生する。これに対して、エポキシ樹脂と活性エステル化合物との反応においては2級水酸基のかわりにエステル基が生じる。エステル基は2級水酸基に比べて極性が低い故、本開示の封止用樹脂組成物は、硬化剤として2級水酸基を発生させる硬化剤のみを含有する封止用樹脂組成物に比べて、硬化物の誘電正接を低く抑えることができる。 Conventionally, a phenol curing agent, an amine curing agent, or the like is generally used as a curing agent for an epoxy resin, but a secondary hydroxyl group is generated in the reaction between the epoxy resin and the phenol curing agent or the amine curing agent. On the other hand, in the reaction between the epoxy resin and the active ester compound, an ester group is generated instead of the secondary hydroxyl group. Since the ester group has a lower polarity than the secondary hydroxyl group, the sealing resin composition of the present disclosure is compared with the sealing resin composition containing only a curing agent that generates a secondary hydroxyl group as a curing agent. The dielectric positive contact of the cured product can be kept low.

また、硬化物中の極性基は硬化物の吸水性を高めるところ、硬化剤として活性エステル化合物を用いることによって硬化物の極性基濃度を抑えることができ、硬化物の吸水性を抑制することができる。そして、硬化物の吸水性を抑制すること、つまりは極性分子であるHOの含有量を抑制することにより、硬化物の誘電正接をさらに低く抑えることができる。 Further, the polar groups in the cured product enhance the water absorption of the cured product, and by using an active ester compound as the curing agent, the concentration of polar groups in the cured product can be suppressed, and the water absorption of the cured product can be suppressed. can. Then, suppressing the water absorption of the cured product, that is, by suppressing the H 2 O content is a polar molecule, it is possible to suppress even lower dielectric loss tangent of a cured product.

一方で、無機充填材を含む封止用樹脂組成物では、素子を封止することにより形成された封止用樹脂組成物の硬化物において、無機充填材の凝集に起因する外観不良が生じる場合がある。例えば、トランスファ成形により素子を封止した場合、無機充填材が凝集して封止用樹脂組成物の流動性が低下し、硬化物の表面にフローマークが現れることで、外観不良が生じることがある。また、コンプレッション成形により素子を封止した場合、無機充填材が凝集することで、硬化物の表面において、樹脂の比率が高い領域が黒点となる等の外観不良が生じることがある。 On the other hand, in the sealing resin composition containing the inorganic filler, the appearance of the cured product of the sealing resin composition formed by sealing the element may be poor due to the aggregation of the inorganic filler. There is. For example, when the element is sealed by transfer molding, the inorganic filler aggregates to reduce the fluidity of the sealing resin composition, and flow marks appear on the surface of the cured product, resulting in poor appearance. be. Further, when the element is sealed by compression molding, the inorganic filler agglomerates, which may cause appearance defects such as black spots in a region having a high resin ratio on the surface of the cured product.

これに対して、本実施形態の封止用樹脂組成物では、エポキシ樹脂、活性エステル化合物を含む硬化剤、及び無機充填材に加え、ポリエーテル変性シリコーンを含有するため、硬化物の誘電正接を低減し、かつ、硬化物の外観不良が抑制される。その理由は定かではないが、封止用樹脂組成物に含有されるポリエーテル変性シリコーンが無機充填材の分散剤として働くことで、無機充填材の凝集が抑制され、封止用樹脂組成物自体の流動性が向上することにより、硬化物の外観不良が抑制されるものと推測される。
以下、本実施形態に係る封止用樹脂組成物に含まれる各成分について説明する。
On the other hand, in the sealing resin composition of the present embodiment, since it contains a polyether-modified silicone in addition to the epoxy resin, the curing agent containing the active ester compound, and the inorganic filler, the dielectric loss tangent of the cured product is formed. It is reduced and the appearance defect of the cured product is suppressed. Although the reason is not clear, the polyether-modified silicone contained in the sealing resin composition acts as a dispersant for the inorganic filler, thereby suppressing the aggregation of the inorganic filler and the sealing resin composition itself. It is presumed that the poor appearance of the cured product is suppressed by improving the fluidity of the cured product.
Hereinafter, each component contained in the sealing resin composition according to the present embodiment will be described.

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂は、分子中にエポキシ基を有するものであればその種類は特に制限されない。
(Epoxy resin)
The type of epoxy resin is not particularly limited as long as it has an epoxy group in the molecule.

エポキシ樹脂として具体的には、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものであるノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等);上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂;上記フェノール化合物及びナフトール化合物と、アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものである共重合型エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のジグリシジルエーテルであるジフェニルメタン型エポキシ樹脂;アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン系フェノール化合物のジグリシジルエーテルであるスチルベン型エポキシ樹脂;ビスフェノールS等のジグリシジルエーテルである硫黄原子含有エポキシ樹脂;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の多価カルボン酸化合物のグリシジルエステルであるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;アニリン、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したものであるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂をエポキシ化したものであるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;分子内のオレフィン結合をエポキシ化したものであるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシル−5,5−スピロ(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるパラキシリレン変性エポキシ樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるメタキシリレン変性エポキシ樹脂;テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるテルペン変性エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルである多環芳香環変性エポキシ樹脂;ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるナフタレン型エポキシ樹脂;ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるアラルキル型エポキシ樹脂;などが挙げられる。さらにはアクリル樹脂のエポキシ化物等もエポキシ樹脂として挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specifically, the epoxy resin is at least one selected from the group consisting of phenol compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, and bisphenol F, and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol, and dihydroxynaphthalene. A novolak type epoxy resin (phenol novolak) which is an epoxidized novolak resin obtained by condensing or cocondensing a seed phenolic compound and an aliphatic aldehyde compound such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, etc. under an acidic catalyst. Type epoxy resin, orthocresol novolac type epoxy resin, etc.); Triphenylmethane type phenol resin obtained by condensing or cocondensing the above phenolic compound with aromatic aldehyde compounds such as benzaldehyde and salicylaldehyde under an acidic catalyst. Triphenylmethane type epoxy resin obtained by epoxidizing the above; copolymerized epoxy obtained by co-condensing the above phenol compound, naphthol compound, and aldehyde compound under an acidic catalyst. Resin: Diphenylmethane type epoxy resin which is a diglycidyl ether such as bisphenol A and bisphenol F; Biphenyl type epoxy resin which is an alkyl-substituted or unsubstituted biphenol diglycidyl ether; Stilben-type epoxy which is a diglycidyl ether of a stilben-based phenol compound. Resin: Sulfur atom-containing epoxy resin that is a diglycidyl ether such as bisphenol S; Epoxy resin that is an alcoholic glycidyl ether such as butanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol; Glysidyl ester type epoxy resin which is a glycidyl ester of a carboxylic acid compound; Glysidylamine type epoxy resin which is obtained by substituting an active hydrogen bonded to a nitrogen atom such as aniline, diaminodiphenylmethane, or isocyanuric acid with a glycidyl group; dicyclopentadiene and phenol. Dicyclopentadiene type epoxy resin which is an epoxidized cocondensate resin of a compound; vinylcyclohexene epoxide which is an epoxide of an olefin bond in a molecule, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane Carboxylate, 2- (3,4-epoxy) cyclohexyl An alicyclic epoxy resin such as -5,5-spiro (3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane; paraxylylene-modified epoxy resin which is a glycidyl ether of a paraxylylene-modified phenol resin; metaxylylene which is a glycidyl ether of a metaxylylene-modified phenol resin. Modified epoxy resin; Terpen-modified epoxy resin, which is a glycidyl ether of a terpene-modified phenol resin; Dicyclopentadiene-modified epoxy resin, which is a glycidyl ether of a dicyclopentadiene-modified phenol resin; Cyclopentadiene-modified epoxy, which is a glycidyl ether of a cyclopentadiene-modified phenol resin. Resin; Polycyclic aromatic ring-modified epoxy resin which is a glycidyl ether of a polycyclic aromatic ring-modified phenol resin; Naphthalene type epoxy resin which is a glycidyl ether of a naphthalene ring-containing phenol resin; Halogenated phenol novolac type epoxy resin; Hydroquinone type epoxy resin; Trimethylol propane type epoxy resin; linear aliphatic epoxy resin obtained by oxidizing an olefin bond with a peracid such as peracetic acid; aralkyl which is an epoxidized aralkyl type phenol resin such as phenol aralkyl resin and naphthol aralkyl resin. Type epoxy resin; etc. Further, an epoxy resin such as an acrylic resin is also mentioned as an epoxy resin. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂のエポキシ当量(分子量/エポキシ基数)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、100g/eq〜1000g/eqであることが好ましく、150g/eq〜500g/eqであることがより好ましい。
エポキシ樹脂のエポキシ当量は、JIS K 7236:2009に準じた方法で測定される値とする。
The epoxy equivalent (molecular weight / number of epoxy groups) of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various characteristics such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, it is preferably 100 g / eq to 1000 g / eq, and more preferably 150 g / eq to 500 g / eq.
The epoxy equivalent of the epoxy resin shall be a value measured by a method according to JIS K 7236: 2009.

エポキシ樹脂が固体である場合、エポキシ樹脂の軟化点又は融点は特に制限されない。成形性と耐リフロー性の観点からは40℃〜180℃であることが好ましく、封止用樹脂組成物の調製の際の取扱い性の観点からは50℃〜130℃であることがより好ましい。
エポキシ樹脂の融点又は軟化点は、示差走査熱量測定(DSC)又はJIS K 7234:1986に準じた方法(環球法)で測定される値とする。
When the epoxy resin is a solid, the softening point or melting point of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of moldability and reflow resistance, the temperature is preferably 40 ° C. to 180 ° C., and from the viewpoint of handleability when preparing the sealing resin composition, the temperature is more preferably 50 ° C. to 130 ° C.
The melting point or softening point of the epoxy resin shall be a value measured by differential scanning calorimetry (DSC) or a method according to JIS K 7234: 1986 (ring ball method).

封止用樹脂組成物の全量に占めるエポキシ樹脂の質量割合は、強度、流動性、耐熱性、成形性等の観点から0.5質量%〜50質量%であることが好ましく、2質量%〜30質量%であることがより好ましい。 The mass ratio of the epoxy resin to the total amount of the sealing resin composition is preferably 0.5% by mass to 50% by mass from the viewpoint of strength, fluidity, heat resistance, moldability, etc., and is preferably 2% by mass to 50% by mass. It is more preferably 30% by mass.

(硬化剤)
本実施形態の封止用樹脂組成物は、硬化剤として少なくとも活性エステル化合物を含む。封止用樹脂組成物は、活性エステル化合物以外の硬化剤を含んでもよい。
先述のとおり、硬化剤として活性エステル化合物を用いることによって、硬化物の誘電正接を低く抑えることができる。
(Hardener)
The sealing resin composition of the present embodiment contains at least an active ester compound as a curing agent. The sealing resin composition may contain a curing agent other than the active ester compound.
As described above, by using the active ester compound as the curing agent, the dielectric loss tangent of the cured product can be suppressed to a low level.

活性エステル化合物は、エポキシ基と反応するエステル基を分子中に1個以上有する化合物であればその種類は特に制限されない。活性エステル化合物としては、フェノールエステル化合物、チオフェノールエステル化合物、N−ヒドロキシアミンエステル化合物、複素環ヒドロキシ化合物のエステル化物等が挙げられる。 The type of the active ester compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more ester groups in the molecule that react with the epoxy group. Examples of the active ester compound include a phenol ester compound, a thiophenol ester compound, an N-hydroxyamine ester compound, and an esterified product of a heterocyclic hydroxy compound.

活性エステル化合物としては、例えば、脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸の少なくとも1種と脂肪族ヒドロキシ化合物及び芳香族ヒドロキシ化合物の少なくとも1種とから得られるエステル化合物が挙げられる。脂肪族化合物を重縮合の成分とするエステル化合物は、脂肪族鎖を有することによりエポキシ樹脂との相溶性に優れる傾向にある。芳香族化合物を重縮合の成分とするエステル化合物は、芳香環を有することにより耐熱性に優れる傾向にある。 Examples of the active ester compound include ester compounds obtained from at least one of an aliphatic carboxylic acid and an aromatic carboxylic acid and at least one of an aliphatic hydroxy compound and an aromatic hydroxy compound. Ester compounds containing an aliphatic compound as a component of polycondensation tend to have excellent compatibility with an epoxy resin because they have an aliphatic chain. Ester compounds containing an aromatic compound as a component of polycondensation tend to have excellent heat resistance due to having an aromatic ring.

活性エステル化合物の具体例としては、芳香族カルボン酸とフェノール性水酸基との縮合反応にて得られる芳香族エステルが挙げられる。中でも、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニル、ジフェニルプロパン、ジフェニルメタン、ジフェニルエーテル、ジフェニルスルホン酸等の芳香環の水素原子の2〜4個をカルボキシ基で置換した芳香族カルボン酸成分と、前記した芳香環の水素原子の1個を水酸基で置換した1価フェノールと、前記した芳香環の水素原子の2〜4個を水酸基で置換した多価フェノールとの混合物を原材料として、芳香族カルボン酸とフェノール性水酸基との縮合反応にて得られる芳香族エステルが好ましい。すなわち、上記芳香族カルボン酸成分由来の構造単位と上記1価フェノール由来の構造単位と上記多価フェノール由来の構造単位とを有する芳香族エステルが好ましい。 Specific examples of the active ester compound include aromatic esters obtained by a condensation reaction between an aromatic carboxylic acid and a phenolic hydroxyl group. Among them, an aromatic carboxylic acid component in which 2 to 4 hydrogen atoms of an aromatic ring such as benzene, naphthalene, biphenyl, diphenylpropane, diphenylmethane, diphenyl ether, and diphenylsulfonic acid are substituted with a carboxy group, and the hydrogen atom of the aromatic ring described above. A mixture of a monovalent phenol in which one of the above is substituted with a hydroxyl group and a polyhydric phenol in which 2 to 4 hydrogen atoms of the aromatic ring are substituted with a hydroxyl group as a raw material, and an aromatic carboxylic acid and a phenolic hydroxyl group are used as raw materials. Aromatic esters obtained by the condensation reaction are preferred. That is, an aromatic ester having a structural unit derived from the aromatic carboxylic acid component, a structural unit derived from the monovalent phenol, and a structural unit derived from the multivalent phenol is preferable.

活性エステル化合物の具体例としては、特開2012−246367号公報に記載されている、脂肪族環状炭化水素基を介してフェノール化合物が結節された分子構造を有するフェノール樹脂と、芳香族ジカルボン酸又はそのハライドと、芳香族モノヒドロキシ化合物と、を反応させて得られる構造を有する活性エステル樹脂が挙げられる。当該活性エステル樹脂としては、下記の構造式(1)で表される化合物が好ましい。 Specific examples of the active ester compound include a phenol resin having a molecular structure in which a phenol compound is knotted via an aliphatic cyclic hydrocarbon group described in JP2012-246367, and an aromatic dicarboxylic acid or Examples thereof include an active ester resin having a structure obtained by reacting the halide with an aromatic monohydroxy compound. As the active ester resin, a compound represented by the following structural formula (1) is preferable.

Figure 2021116331
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構造式(1)中、Rは炭素数1〜4のアルキル基であり、Xはベンゼン環、ナフタレン環、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環、又はビフェニル基であり、Yはベンゼン環、ナフタレン環、又は炭素数1〜4のアルキル基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環であり、kは0又は1であり、nは繰り返し数の平均を表し0.25〜1.5である。 In the structural formula (1), R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X is a benzene ring, a naphthalene ring, a benzene ring or a naphthalene ring substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a biphenyl group. Y is a benzene ring, a naphthalene ring, or a benzene ring or a naphthalene ring substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, k is 0 or 1, and n represents the average number of repetitions. It is 25 to 1.5.

構造式(1)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(1−1)〜(1−10)が挙げられる。構造式中のt−Buは、tert−ブチル基である。 Specific examples of the compound represented by the structural formula (1) include the following exemplified compounds (1-1) to (1-10). T-Bu in the structural formula is a tert-butyl group.

Figure 2021116331
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Figure 2021116331
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活性エステル化合物の別の具体例としては、特開2014−114352号公報に記載されている、下記の構造式(2)で表される化合物及び下記の構造式(3)で表される化合物が挙げられる。 As another specific example of the active ester compound, the compound represented by the following structural formula (2) and the compound represented by the following structural formula (3) described in JP-A-2014-114352 can be used. Can be mentioned.

Figure 2021116331
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構造式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数1〜4のアルコキシ基であり、Zはベンゾイル基、ナフトイル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたベンゾイル基又はナフトイル基、及び炭素数2〜6のアシル基からなる群から選ばれるエステル形成構造部位(z1)、又は水素原子(z2)であり、Zのうち少なくとも1個はエステル形成構造部位(z1)である。 In the structural formula (2), R 1 and R 2 are independently hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, or alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, and Z is a benzoyl group, a naphthoyl group, and carbon. An ester-forming structural site (z1) or hydrogen atom (z2) selected from the group consisting of a benzoyl group or a naphthoyl group substituted with an alkyl group of number 1 to 4 and an acyl group having 2 to 6 carbon atoms, and Z. At least one of them is an ester-forming structural site (z1).

構造式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数1〜4のアルコキシ基であり、Zはベンゾイル基、ナフトイル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたベンゾイル基又はナフトイル基、及び炭素数2〜6のアシル基からなる群から選ばれるエステル形成構造部位(z1)、又は水素原子(z2)であり、Zのうち少なくとも1個はエステル形成構造部位(z1)である。 In the structural formula (3), R 1 and R 2 are independently hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, or alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, and Z is a benzoyl group, a naphthoyl group, and carbon. An ester-forming structural site (z1) or hydrogen atom (z2) selected from the group consisting of a benzoyl group or a naphthoyl group substituted with an alkyl group of number 1 to 4 and an acyl group having 2 to 6 carbon atoms, and Z. At least one of them is an ester-forming structural site (z1).

構造式(2)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(2−1)〜(2−6)が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the structural formula (2) include the following exemplified compounds (2-1) to (2-6).

Figure 2021116331
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構造式(3)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(3−1)〜(3−6)が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the structural formula (3) include the following exemplified compounds (3-1) to (3-6).

Figure 2021116331
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活性エステル化合物としては、市販品を用いてもよい。活性エステル化合物の市販品としては、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物として「EXB9451」、「EXB9460」、「EXB9460S」、「HPC−8000−65T」(DIC株式会社製);芳香族構造を含む活性エステル化合物として「EXB9416−70BK」、「EXB−8」、「EXB−9425」(DIC株式会社製);フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物として「DC808」(三菱ケミカル株式会社製);フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物として「YLH1026」(三菱ケミカル株式会社製);等が挙げられる。 As the active ester compound, a commercially available product may be used. Commercially available products of the active ester compound include "EXB9451", "EXB9460", "EXB9460S", "HPC-8000-65T" (manufactured by DIC Co., Ltd.) as active ester compounds containing a dicyclopentadiene type diphenol structure; aromatics. "EXB9416-70BK", "EXB-8", "EXB-9425" (manufactured by DIC Co., Ltd.) as active ester compounds containing a structure; "DC808" (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) as an active ester compound containing an acetylated product of phenol novolac. (Manufactured); Examples of the active ester compound containing a benzoylated product of phenol novolac include "YLH1026" (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.).

活性エステル化合物は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The active ester compound may be used alone or in combination of two or more.

活性エステル化合物のエステル当量は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、150g/eq〜400g/eqが好ましく、170g/eq〜300g/eqがより好ましく、200g/eq〜250g/eqがさらに好ましい。
活性エステル化合物のエステル当量は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
The ester equivalent of the active ester compound is not particularly limited. From the viewpoint of balancing various characteristics such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, 150 g / eq to 400 g / eq is preferable, 170 g / eq to 300 g / eq is more preferable, and 200 g / eq to 250 g / eq is preferable. More preferred.
The ester equivalent of the active ester compound shall be a value measured by a method according to JIS K 0070: 1992.

エポキシ樹脂と活性エステル化合物との当量比(エステル基/エポキシ基)は、硬化物の誘電正接を低く抑える観点からは、0.9以上が好ましく、0.95以上がより好ましく、0.97以上がさらに好ましい。
エポキシ樹脂と活性エステル化合物との当量比(エステル基/エポキシ基)は、活性エステル化合物の未反応分を少なく抑える観点からは、1.1以下が好ましく、1.05以下がより好ましく、1.03以下がさらに好ましい。
The equivalent ratio (ester group / epoxy group) of the epoxy resin to the active ester compound is preferably 0.9 or more, more preferably 0.95 or more, and 0.97 or more from the viewpoint of suppressing the dielectric loss tangent of the cured product to be low. Is even more preferable.
The equivalent ratio (ester group / epoxy group) of the epoxy resin to the active ester compound is preferably 1.1 or less, more preferably 1.05 or less, from the viewpoint of suppressing the unreacted content of the active ester compound. 03 or less is more preferable.

硬化剤は、活性エステル化合物以外のその他の硬化剤を含んでもよい。この場合、その他の硬化剤の種類は特に制限されず、封止用樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。その他の硬化剤としては、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、ブロックイソシアネート硬化剤等が挙げられる。 The curing agent may contain other curing agents other than the active ester compound. In this case, the type of other curing agent is not particularly limited and can be selected according to the desired properties of the sealing resin composition and the like. Examples of other curing agents include phenol curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, blocked isocyanate curing agents and the like.

フェノール硬化剤として具体的には、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、置換又は非置換のビフェノール等の多価フェノール化合物;フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール化合物及びα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル等と、から合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂、メタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジシクロペンタジエンと、から共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂及びジシクロペンタジエン型ナフトール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂;ビフェニル型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂;これら2種以上を共重合して得たフェノール樹脂などが挙げられる。これらのフェノール硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specifically, the phenol curing agent is a polyhydric phenol compound such as resorsin, catecor, bisphenol A, bisphenol F, substituted or unsubstituted biphenol; phenol, cresol, xylenol, resorsin, catecol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol. , At least one phenolic compound selected from the group consisting of phenol compounds such as aminophenols and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol and dihydroxynaphthalene, and aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde and salicylaldehyde. A novolac-type phenolic resin obtained by condensing or co-condensing a compound with an acidic catalyst; a phenol-aralkyl resin, naphthol-aralkyl, which is synthesized from the above-mentioned phenolic compound and dimethoxyparaxylene, bis (methoxymethyl) biphenyl, and the like. Aralkyl-type phenolic resin such as resin; paraxylylene-modified phenolic resin, metaxylylene-modified phenolic resin; melamine-modified phenolic resin; terpen-modified phenolic resin; dicyclopentadiene-type synthesized from the above phenolic compound and dicyclopentadiene by copolymerization. Phenol resin and dicyclopentadiene type naphthol resin; cyclopentadiene-modified phenol resin; polycyclic aromatic ring-modified phenol resin; biphenyl-type phenol resin; Examples thereof include a triphenylmethane-type phenol resin obtained by condensing or co-condensing below; a phenol resin obtained by copolymerizing two or more of these. These phenol curing agents may be used alone or in combination of two or more.

その他の硬化剤の官能基当量(フェノール硬化剤の場合は水酸基当量)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、70g/eq〜1000g/eqであることが好ましく、80g/eq〜500g/eqであることがより好ましい。
その他の硬化剤の官能基当量(フェノール硬化剤の場合は水酸基当量)は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
The functional group equivalents of other curing agents (hydroxyl equivalents in the case of phenol curing agents) are not particularly limited. From the viewpoint of balancing various characteristics such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, it is preferably 70 g / eq to 1000 g / eq, and more preferably 80 g / eq to 500 g / eq.
The functional group equivalents of other curing agents (hydroxyl equivalents in the case of phenol curing agents) shall be values measured by a method according to JIS K 0070: 1992.

硬化剤の軟化点又は融点は、特に制限されない。成形性と耐リフロー性の観点からは、40℃〜180℃であることが好ましく、封止用樹脂組成物の製造時における取扱い性の観点からは、50℃〜160℃であることがより好ましい。 The softening point or melting point of the curing agent is not particularly limited. From the viewpoint of moldability and reflow resistance, the temperature is preferably 40 ° C. to 180 ° C., and from the viewpoint of handleability during production of the sealing resin composition, the temperature is more preferably 50 ° C. to 160 ° C. ..

硬化剤の融点又は軟化点は、エポキシ樹脂の融点又は軟化点と同様にして測定される値とする。 The melting point or softening point of the curing agent shall be a value measured in the same manner as the melting point or softening point of the epoxy resin.

エポキシ樹脂とすべての硬化剤(活性エステル化合物及びその他の硬化剤)との当量比、すなわちエポキシ樹脂中の官能基数に対する硬化剤中の官能基数の比(硬化剤中の官能基数/エポキシ樹脂中の官能基数)は、特に制限されない。それぞれの未反応分を少なく抑える観点からは、0.5〜2.0の範囲に設定されることが好ましく、0.6〜1.3の範囲に設定されることがより好ましい。成形性と耐リフロー性の観点からは、0.8〜1.2の範囲に設定されることがさらに好ましい。 Equivalent ratio of epoxy resin to all curing agents (active ester compounds and other curing agents), that is, the ratio of the number of functional groups in the curing agent to the number of functional groups in the epoxy resin (number of functional groups in the curing agent / in the epoxy resin) The number of functional groups) is not particularly limited. From the viewpoint of suppressing each unreacted component to a small extent, it is preferably set in the range of 0.5 to 2.0, and more preferably set in the range of 0.6 to 1.3. From the viewpoint of moldability and reflow resistance, it is more preferable to set the range from 0.8 to 1.2.

活性エステル化合物及びその他の硬化剤の合計量に占める活性エステル化合物の質量割合は、硬化物の誘電正接を低く抑える観点から、80質量%以上であることが好ましく、85質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましい。 The mass ratio of the active ester compound to the total amount of the active ester compound and other curing agents is preferably 80% by mass or more, preferably 85% by mass or more, from the viewpoint of suppressing the dielectric adjacency of the cured product to be low. More preferably, it is 90% by mass or more.

エポキシ樹脂、活性エステル化合物及びその他の硬化剤の合計量に占めるエポキシ樹脂及び活性エステル化合物の合計質量割合は、硬化物の誘電正接を低く抑える観点から、80質量%以上であることが好ましく、85質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましい。 The total mass ratio of the epoxy resin and the active ester compound to the total amount of the epoxy resin, the active ester compound and other curing agents is preferably 80% by mass or more from the viewpoint of suppressing the dielectric loss tangent of the cured product to be low. It is more preferably mass% or more, and further preferably 90 mass% or more.

(無機充填材)
本実施形態の封止用樹脂組成物は、無機充填材を含む。無機充填材の種類は、特に制限されない。具体的には、溶融シリカ、結晶シリカ、ガラス、アルミナ、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の無機材料が挙げられる。難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。
(Inorganic filler)
The sealing resin composition of the present embodiment contains an inorganic filler. The type of inorganic filler is not particularly limited. Specifically, fused silica, crystalline silica, glass, alumina, calcium carbonate, zirconium silicate, calcium silicate, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mulite. , Titania, talc, clay, mica and other inorganic materials. An inorganic filler having a flame-retardant effect may be used. Examples of the inorganic filler having a flame-retardant effect include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, composite metal hydroxide such as a composite hydroxide of magnesium and zinc, and zinc borate.

無機充填材の中でも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカ等のシリカが好ましく、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。無機充填材は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。無機充填材の形態としては粉末、粉末を球形化したビーズ、繊維等が挙げられる。 Among the inorganic fillers, silica such as fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the coefficient of linear expansion, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity. The inorganic filler may be used alone or in combination of two or more. Examples of the form of the inorganic filler include powder, beads obtained by spheroidizing the powder, fibers and the like.

無機充填材が粒子状である場合、その平均粒径は、特に制限されない。例えば、平均粒径が0.2μm〜100μmであることが好ましく、0.5μm〜50μmであることがより好ましい。平均粒径が0.2μm以上であると、封止用樹脂組成物の粘度の上昇がより抑制される傾向にある。平均粒径が100μm以下であると、充填性がより向上する傾向にある。無機充填材の平均粒径は、レーザー散乱回折法粒度分布測定装置により、体積平均粒径(D50)として求める。 When the inorganic filler is in the form of particles, its average particle size is not particularly limited. For example, the average particle size is preferably 0.2 μm to 100 μm, and more preferably 0.5 μm to 50 μm. When the average particle size is 0.2 μm or more, the increase in viscosity of the sealing resin composition tends to be further suppressed. When the average particle size is 100 μm or less, the filling property tends to be further improved. The average particle size of the inorganic filler is determined as the volume average particle size (D50) by a laser scattering diffraction method particle size distribution measuring device.

封止用樹脂組成物に含まれる無機充填材の含有率は、封止用樹脂組成物の硬化物の誘電正接を制御する観点から、封止用樹脂組成物全体の55体積%〜80体積%であることが好ましく、63体積%〜78体積%であることがより好ましく、68体積%〜75体積%であることがさらに好ましい。 The content of the inorganic filler contained in the sealing resin composition is 55% by volume to 80% by volume of the entire sealing resin composition from the viewpoint of controlling the dielectric adjacency of the cured product of the sealing resin composition. It is preferably 63% by volume to 78% by volume, more preferably 68% by volume to 75% by volume.

封止用樹脂組成物における無機充填材の体積割合は、下記の方法により求めることができる。
封止用樹脂組成物の硬化物の薄片試料を走査型電子顕微鏡(SEM)にて撮像する。SEM画像において任意の面積Sを特定し、面積Sに含まれる無機充填材の総面積Aを求める。無機充填材の総面積Aを面積Sで除算した値を百分率(%)に換算し、この値を封止用樹脂組成物に占める無機充填材の体積割合とする。
面積Sは、無機充填材の大きさに対して十分大きい面積とする。例えば、無機充填材が100個以上含まれる大きさとする。面積Sは、複数個の切断面の合計でもよい。
無機充填材は、封止用樹脂組成物の硬化時の重力方向において存在割合に偏りが生じることがある。その場合、SEMにて撮像する際、硬化物の重力方向全体を撮像し、硬化物の重力方向全体が含まれる面積Sを特定する。
The volume ratio of the inorganic filler in the sealing resin composition can be determined by the following method.
A flaky sample of the cured resin composition for encapsulation is imaged with a scanning electron microscope (SEM). An arbitrary area S is specified in the SEM image, and the total area A of the inorganic filler contained in the area S is obtained. The value obtained by dividing the total area A of the inorganic filler by the area S is converted into a percentage (%), and this value is taken as the volume ratio of the inorganic filler in the sealing resin composition.
The area S is a sufficiently large area with respect to the size of the inorganic filler. For example, the size may include 100 or more inorganic fillers. The area S may be the sum of a plurality of cut surfaces.
The presence ratio of the inorganic filler may be biased in the direction of gravity during curing of the sealing resin composition. In that case, when the image is taken by the SEM, the entire gravity direction of the cured product is imaged, and the area S including the entire gravity direction of the cured product is specified.

(ポリエーテル変性シリコーン)
ポリエーテル変性シリコーンは、シロキサン結合による主骨格を持つ高分子化合物であるシリコーンにポリエーテル基が導入された化合物であれば特に限定されるものではない。ポリエーテル変性シリコーンは、1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
ポリエーテル変性シリコーンは、側鎖変性型ポリエーテル変性シリコーンであってもよく、末端変性型ポリエーテル変性シリコーンであってもよい。ポリエーテル変性シリコーンは、これらの中でも、硬化物の外観不良抑制の観点から、側鎖変性型ポリエーテル変性シリコーンが好ましい。
(Polyether-modified silicone)
The polyether-modified silicone is not particularly limited as long as it is a compound in which a polyether group is introduced into silicone, which is a polymer compound having a main skeleton due to a siloxane bond. As the polyether-modified silicone, one type may be used alone or two or more types may be used in combination.
The polyether-modified silicone may be a side chain-modified polyether-modified silicone or a terminal-modified polyether-modified silicone. Among these, the polyether-modified silicone is preferably a side chain-modified polyether-modified silicone from the viewpoint of suppressing poor appearance of the cured product.

ポリエーテル変性シリコーンの一例として、エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンが挙げられる。エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンは、シロキサン結合による主骨格を持つ高分子化合物であるシリコーンにポリエーテル基及びエポキシ基が導入された化合物であれば特に限定されるものではない。
エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンは、側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンであってもよく、末端変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンであってもよく、側鎖及び末端変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンであってもよい。エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンの主骨格としては、ポリジメチルシロキサンが好ましい。ポリエーテル基としては、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドの一方又は双方が重合したポリエーテル基が好ましい。
エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンは、ポリエーテル基(好ましくはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドの一方又は双方が重合したポリエーテル基)及びエポキシ基がそれぞれシリコーン(好ましくはポリジメチルシロキサン)の側鎖に存在する側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。当該エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンの市販品としては、例えば、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「SIM768E」が挙げられる。
An example of a polyether-modified silicone is an epoxy-polyether-modified silicone. The epoxy-polyether-modified silicone is not particularly limited as long as it is a compound in which a polyether group and an epoxy group are introduced into silicone, which is a polymer compound having a main skeleton due to a siloxane bond.
The epoxy / polyether-modified silicone may be a side chain-modified epoxy / polyether-modified silicone, a terminal-modified epoxy / polyether-modified silicone, or a side-chain and terminal-modified epoxy / polyether-modified silicone. It may be silicone. Polydimethylsiloxane is preferred as the main skeleton of the epoxy-polyether-modified silicone. As the polyether group, a polyether group obtained by polymerizing one or both of ethylene oxide and propylene oxide is preferable.
The epoxy-polyether-modified silicone is a side chain in which a polyether group (preferably a polyether group in which one or both of ethylene oxide and propylene oxide are polymerized) and an epoxy group are present in the side chain of the silicone (preferably polydimethylsiloxane). It is preferably a modified epoxy / polyether modified silicone. Examples of commercially available products of the epoxy / polyether-modified silicone include "SIM768E" manufactured by Momentive Performance Materials.

ポリエーテル変性シリコーンの25℃における粘度は特に制限されない。ポリエーテル変性シリコーンの粘度(25℃)は、封止用樹脂組成物の硬化物の外観不良を抑制する観点および耐熱性の観点から、0.50Pa・s〜40.00Pa・sが好ましく、0.50Pa・s〜20.00Pa・sがより好ましく、1.00Pa・s〜10.00Pa・sが更に好ましく、1.00Pa・s〜4.00Pa・sが特に好ましい。
ポリエーテル変性シリコーンの25℃における粘度は、JIS Z 8803:2011に準じた方法で測定される値とする。具体的には、例えば、測定装置としてレオメータ(TA instruments社、品名「ARES −G2」)を用い、温度25℃、ひずみ2%、1Hzの条件で測定する。
The viscosity of the polyether-modified silicone at 25 ° C. is not particularly limited. The viscosity (25 ° C.) of the polyether-modified silicone is preferably 0.50 Pa · s to 40.00 Pa · s from the viewpoint of suppressing poor appearance of the cured product of the sealing resin composition and from the viewpoint of heat resistance, and is 0. .50 Pa · s to 20.00 Pa · s is more preferable, 1.00 Pa · s to 10.00 Pa · s is further preferable, and 1.00 Pa · s to 4.00 Pa · s is particularly preferable.
The viscosity of the polyether-modified silicone at 25 ° C. is a value measured by a method according to JIS Z 8803: 2011. Specifically, for example, a rheometer (TA instruments, product name "ARES-G2") is used as a measuring device, and measurement is performed under the conditions of a temperature of 25 ° C., a strain of 2%, and 1 Hz.

ポリエーテル変性シリコーンのガラス転移温度は、硬化物の外観不良を抑制する観点から、70℃以下であることが好ましく、50℃以下であることがより好ましく、30℃以下であることがさらに好ましい。
ここで、ポリエーテル変性シリコーンのガラス転移温度は、示差走査熱量測定(DSC,Differential Scanning Calorimetry)により得られるDSC曲線から求める温度であり、JIS K7121:1987「プラスチックの転移温度測定方法」の「ガラス転移温度の求め方」に記載の「補外ガラス転移開始温度」である。
具体的には、例えば、測定装置としてTA instruments社、品名「Q2000」)を用い、窒素雰囲気下で昇温速度5℃/minの条件において測定を行う。
The glass transition temperature of the polyether-modified silicone is preferably 70 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower, and even more preferably 30 ° C. or lower, from the viewpoint of suppressing poor appearance of the cured product.
Here, the glass transition temperature of the polyether-modified silicone is a temperature obtained from the DSC curve obtained by differential scanning calorimetry (DSC), and is defined in JIS K7121: 1987, "Method for Measuring Transition Temperature of Plastics", "Glass". It is the "external glass transition start temperature" described in "How to determine the transition temperature".
Specifically, for example, TA instruments, product name "Q2000") is used as a measuring device, and measurement is performed under a nitrogen atmosphere at a heating rate of 5 ° C./min.

ポリエーテル変性シリコーンの含有量は、硬化性の観点から、エポキシ樹脂100質量部に対して1質量部〜40質量部であることが好ましく、5質量部〜30質量部であることがより好ましく、8質量部〜20質量部であることがさらに好ましい。
また、ポリエーテル変性シリコーンの含有量は、硬化物の外観不良を抑制する観点から、無機充填材100質量部に対して0.1質量部〜3質量部であることが好ましく、0.4質量部〜2.5質量部であることがより好ましく、0.8質量部〜2質量部であることがさらに好ましい。
また、ポリエーテル変性シリコーンの含有率は、成型性の観点から、封止用樹脂組成物全体に対して0.07質量%〜2.5質量%であることが好ましく、0.3質量%〜1.8質量%であることがより好ましく、0.6質量%〜1.2質量%あることがさらに好ましい。
From the viewpoint of curability, the content of the polyether-modified silicone is preferably 1 part by mass to 40 parts by mass, and more preferably 5 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. It is more preferably 8 parts by mass to 20 parts by mass.
Further, the content of the polyether-modified silicone is preferably 0.1 part by mass to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler, and is 0.4 mass by mass, from the viewpoint of suppressing poor appearance of the cured product. It is more preferably parts to 2.5 parts by mass, and further preferably 0.8 parts by mass to 2 parts by mass.
Further, the content of the polyether-modified silicone is preferably 0.07% by mass to 2.5% by mass, preferably 0.3% by mass to 2.5% by mass, based on the entire sealing resin composition, from the viewpoint of moldability. It is more preferably 1.8% by mass, and even more preferably 0.6% by mass to 1.2% by mass.

(硬化促進剤)
封止用樹脂組成物は、必要に応じて硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤の種類は特に制限されず、エポキシ樹脂又は硬化剤の種類、封止用樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。
(Curing accelerator)
The sealing resin composition may contain a curing accelerator, if necessary. The type of the curing accelerator is not particularly limited, and can be selected according to the type of the epoxy resin or the curing agent, the desired properties of the sealing resin composition, and the like.

硬化促進剤としては、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等のジアザビシクロアルケン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール等の環状アミジン化合物;前記環状アミジン化合物の誘導体;前記環状アミジン化合物又はその誘導体のフェノールノボラック塩;これらの化合物に無水マレイン酸、1,4−ベンゾキノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;DBUのテトラフェニルボレート塩、DBNのテトラフェニルボレート塩、2−エチル−4−メチルイミダゾールのテトラフェニルボレート塩、N−メチルモルホリンのテトラフェニルボレート塩等の環状アミジニウム化合物;ピリジン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン化合物;前記三級アミン化合物の誘導体;酢酸テトラ−n−ブチルアンモニウム、リン酸テトラ−n−ブチルアンモニウム、酢酸テトラエチルアンモニウム、安息香酸テトラ−n−ヘキシルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム等のアンモニウム塩化合物;トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p−トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン等の三級ホスフィン;前記三級ホスフィンと有機ボロン類との錯体等のホスフィン化合物;前記三級ホスフィン又は前記ホスフィン化合物に、無水マレイン酸、1,4−ベンゾキノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;前記三級ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と4−ブロモフェノール、3−ブロモフェノール、2−ブロモフェノール、4−クロロフェノール、3−クロロフェノール、2−クロロフェノール、4−ヨウ化フェノール、3−ヨウ化フェノール、2−ヨウ化フェノール、4−ブロモ−2−メチルフェノール、4−ブロモ−3−メチルフェノール、4−ブロモ−2,6−ジメチルフェノール、4−ブロモ−3,5−ジメチルフェノール、4−ブロモ−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−クロロ−1−ナフトール、1−ブロモ−2−ナフトール、6−ブロモ−2−ナフトール、4−ブロモ−4’−ヒドロキシビフェニル等のハロゲン化フェノール化合物とを反応させた後に、脱ハロゲン化水素の工程を経て得られる、分子内分極を有する化合物;テトラフェニルホスホニウム等のテトラ置換ホスホニウム、テトラ−p−トリルボレート等のホウ素原子に結合したフェニル基がないテトラ置換ホスホニウム及びテトラ置換ボレート;テトラフェニルホスホニウムとフェノール化合物との塩;テトラアルキルホスホニウムと芳香族カルボン酸無水物の部分加水分解物との塩などが挙げられる。 Examples of the curing accelerator include diazabicycloalkenes such as 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonen-5 (DBN) and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU). Cyclic amidin compounds such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole; derivatives of the cyclic amidin compound; phenol novolac salt of the cyclic amidin compound or a derivative thereof; Maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-turquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1 , 4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone and other quinone compounds, and diazophenylmethane and other quinone compounds with π-bonded compounds added. Compounds; Cyclic amidinium compounds such as DBU tetraphenylborate salt, DBN tetraphenylborate salt, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate salt, N-methylmorpholin tetraphenylborate salt; pyridine, triethylamine, tri Tertiary amine compounds such as ethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol; derivatives of the tertiary amine compound; tetra-n-butylammonium acetate, tetra-n-phosphate Ammonium salt compounds such as butylammonium, tetraethylammonium acetate, tetra-n-hexylammonium benzoate, tetrapropylammonium hydroxide; triphenylphosphine, diphenyl (p-tolyl) phosphine, tris (alkylphenyl) phosphine, tris (alkoxyphenyl) ) Hosphin, Tris (alkyl / alkoxyphenyl) phosphin, Tris (dialkylphenyl) phosphin, Tris (trialkylphenyl) phosphin, Tris (tetraalkylphenyl) phosphin, Tris (dialkoxyphenyl) phosphin, Tris (trialkoxyphenyl) phosphine , Tris (tetraalkoxyphenyl) phosphine, trialkylphosphine, dialkylarylphosphine, alkyldiarylphosphine and other tertiary phosphines; Phosphine compound; the tertiary phosphine or the phosphine compound, in which maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-torquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2 , 3-Dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone and other quinone compounds, diazophenylmethane and other compounds with π bonds Compound having intramolecular polarization formed by adding the above; the tertiary phosphine or the phosphine compound and 4-bromophenol, 3-bromophenol, 2-bromophenol, 4-chlorophenol, 3-chlorophenol, 2-chlorophenol. , 4-Io ratherated Phenol, 3-Iyoated Phenol, 2-Iodized Phenol, 4-Bromo-2-methylphenol, 4-Bromo-3-Methylphenol, 4-Bromo-2,6-Dimethylphenol, 4- Bromo-3,5-dimethylphenol, 4-bromo-2,6-di-tert-butylphenol, 4-chloro-1-naphthol, 1-bromo-2-naphthol, 6-bromo-2-naphthol, 4-bromo A compound having intramolecular polarization obtained by reacting with a halogenated phenol compound such as -4'-hydroxybiphenyl and then undergoing a step of dehalogenating; a tetra-substituted phosphonium such as tetraphenylphosphonium, tetra-p- Tetra-substituted phosphonium and tetra-substituted borate without a phenyl group bonded to a boron atom such as trillborate; salt of tetraphenylphosphonium and a phenol compound; salt of tetraalkylphosphonium and a partial hydrolyzate of aromatic carboxylic acid anhydride, etc. Can be mentioned.

封止用樹脂組成物が硬化促進剤を含む場合、その量は、樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対して0.1質量部〜30質量部であることが好ましく、1質量部〜15質量部であることがより好ましい。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.1質量部以上であると、短時間で良好に硬化する傾向にある。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して30質量部以下であると、硬化速度が速すぎず良好な成形品が得られる傾向にある。 When the sealing resin composition contains a curing accelerator, the amount thereof is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent). More preferably, it is 1 part by mass to 15 parts by mass. When the amount of the curing accelerator is 0.1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin component, it tends to be cured well in a short time. When the amount of the curing accelerator is 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin component, the curing rate is not too fast and a good molded product tends to be obtained.

[各種添加剤]
封止用樹脂組成物は、上述の成分に加えて、以下に例示するカップリング剤、イオン交換体、離型剤、難燃剤、着色剤等の各種添加剤を含んでもよい。封止用樹脂組成物は、以下に例示する添加剤以外にも必要に応じて当技術分野で周知の各種添加剤を含んでもよい。
[Various additives]
In addition to the above-mentioned components, the sealing resin composition may contain various additives such as a coupling agent, an ion exchanger, a mold release agent, a flame retardant, and a colorant exemplified below. The sealing resin composition may contain various additives well known in the art, if necessary, in addition to the additives exemplified below.

(カップリング剤)
封止用樹脂組成物は、カップリング剤を含んでもよい。樹脂成分と無機充填材との接着性を高める観点からは、封止用樹脂組成物はカップリング剤を含むことが好ましい。カップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、ジシラザン等のシラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウム/ジルコニウム系化合物などの公知のカップリング剤が挙げられる。
(Coupling agent)
The sealing resin composition may contain a coupling agent. From the viewpoint of enhancing the adhesiveness between the resin component and the inorganic filler, the sealing resin composition preferably contains a coupling agent. Examples of the coupling agent include known coupling agents such as silane compounds such as epoxysilane, mercaptosilane, aminosilane, alkylsilane, ureidosilane, vinylsilane and disilazane, titanium compounds, aluminum chelate compounds and aluminum / zirconium compounds. Can be mentioned.

封止用樹脂組成物がカップリング剤を含む場合、カップリング剤の量は、無機充填材100質量部に対して0.05質量部〜5質量部であることが好ましく、0.1質量部〜2.5質量部であることがより好ましい。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して0.05質量部以上であると、フレームとの接着性がより向上する傾向にある。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して5質量部以下であると、パッケージの成形性がより向上する傾向にある。 When the sealing resin composition contains a coupling agent, the amount of the coupling agent is preferably 0.05 parts by mass to 5 parts by mass, and 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler. More preferably, it is ~ 2.5 parts by mass. When the amount of the coupling agent is 0.05 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler, the adhesiveness with the frame tends to be further improved. When the amount of the coupling agent is 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler, the moldability of the package tends to be further improved.

(イオン交換体)
封止用樹脂組成物は、イオン交換体を含んでもよい。封止用樹脂組成物は、封止される素子を備える電子部品装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、イオン交換体を含むことが好ましい。イオン交換体は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、及びビスマスからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物等が挙げられる。イオン交換体は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、下記一般式(A)で表されるハイドロタルサイトが好ましい。
(Ion exchanger)
The sealing resin composition may contain an ion exchanger. The sealing resin composition preferably contains an ion exchanger from the viewpoint of improving the moisture resistance and high temperature standing characteristics of the electronic component device including the element to be sealed. The ion exchanger is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. Specific examples thereof include hydrotalcite compounds and hydroxides containing at least one element selected from the group consisting of magnesium, aluminum, titanium, zirconium, and bismuth. As the ion exchanger, one type may be used alone or two or more types may be used in combination. Of these, hydrotalcite represented by the following general formula (A) is preferable.

Mg(1−X)Al(OH)(COX/2・mHO ……(A)
(0<X≦0.5、mは正の数)
Mg (1-X) Al X (OH) 2 (CO 3 ) X / 2・ mH 2 O …… (A)
(0 <X ≤ 0.5, m is a positive number)

封止用樹脂組成物がイオン交換体を含む場合、その含有量は、ハロゲンイオン等のイオンを捕捉するのに充分な量であれば特に制限はない。例えば、樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対して0.1質量部〜30質量部であることが好ましく、1質量部〜10質量部であることがより好ましい。 When the sealing resin composition contains an ion exchanger, the content thereof is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to capture ions such as halogen ions. For example, it is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 1 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent).

(離型剤)
封止用樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を含んでもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Release agent)
The sealing resin composition may contain a mold release agent from the viewpoint of obtaining good mold releasability from the mold at the time of molding. The release agent is not particularly limited, and conventionally known release agents can be used. Specific examples thereof include higher fatty acids such as carnauba wax, montanic acid and stearic acid, ester waxes such as higher fatty acid metal salts and montanic acid esters, and polyolefin waxes such as polyethylene oxide and non-oxidized polyethylene. The release agent may be used alone or in combination of two or more.

封止用樹脂組成物が離型剤を含む場合、その量は樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対して0.01質量部〜10質量部が好ましく、0.1質量部〜5質量部がより好ましい。離型剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.01質量部以上であると、離型性が充分に得られる傾向にある。10質量部以下であると、より良好な接着性が得られる傾向にある。 When the sealing resin composition contains a mold release agent, the amount thereof is preferably 0.01 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent), 0.1 part by mass. More preferably, parts by mass to 5 parts by mass. When the amount of the mold release agent is 0.01 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin component, the mold release property tends to be sufficiently obtained. When it is 10 parts by mass or less, better adhesiveness tends to be obtained.

(難燃剤)
封止用樹脂組成物は、難燃剤を含んでもよい。難燃剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む有機又は無機の化合物、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Flame retardants)
The sealing resin composition may contain a flame retardant. The flame retardant is not particularly limited, and conventionally known flame retardants can be used. Specific examples thereof include organic or inorganic compounds containing halogen atoms, antimony atoms, nitrogen atoms or phosphorus atoms, metal hydroxides and the like. The flame retardant may be used alone or in combination of two or more.

封止用樹脂組成物が難燃剤を含む場合、その量は、所望の難燃効果を得るのに充分な量であれば特に制限されない。例えば、樹脂成分100質量部(エポキシ樹脂と硬化剤の合計量)に対して1質量部〜30質量部であることが好ましく、2質量部〜20質量部であることがより好ましい。 When the sealing resin composition contains a flame retardant, the amount thereof is not particularly limited as long as it is sufficient to obtain the desired flame retardant effect. For example, it is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 2 parts by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component (total amount of epoxy resin and curing agent).

(着色剤)
封止用樹脂組成物は、着色剤を含んでもよい。着色剤としてはカーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。
着色剤の含有量は、目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Colorant)
The sealing resin composition may contain a colorant. Examples of the colorant include known colorants such as carbon black, organic dyes, organic pigments, titanium oxide, lead tan, and red iron oxide.
The content of the colorant can be appropriately selected depending on the purpose and the like. As the colorant, one type may be used alone or two or more types may be used in combination.

(封止用樹脂組成物の調製方法)
封止用樹脂組成物の調製方法は、特に制限されない。一般的な手法としては、所定の配合量の成分をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。より具体的には、例えば、上述した成分の所定量を均一に攪拌及び混合し、予め70℃〜140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。
(Method for preparing resin composition for sealing)
The method for preparing the sealing resin composition is not particularly limited. As a general method, a method in which a predetermined amount of components are sufficiently mixed by a mixer or the like, then melt-kneaded by a mixing roll, an extruder or the like, cooled and pulverized can be mentioned. More specifically, for example, a method in which a predetermined amount of the above-mentioned components is uniformly stirred and mixed, kneaded with a kneader, roll, extruder or the like preheated to 70 ° C. to 140 ° C., cooled and pulverized. Can be mentioned.

封止用樹脂組成物は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)において固体であることが好ましい。封止用樹脂組成物が固体である場合の形状は特に制限されず、粉状、粒状、タブレット状等が挙げられる。封止用樹脂組成物がタブレット状である場合の寸法及び質量は、パッケージの成形条件に合うような寸法及び質量となるようにすることが取り扱い性の観点から好ましい。 The sealing resin composition is preferably solid at normal temperature and pressure (for example, 25 ° C. and atmospheric pressure). When the sealing resin composition is a solid, the shape is not particularly limited, and examples thereof include powder, granules, and tablets. When the sealing resin composition is in the shape of a tablet, it is preferable that the dimensions and mass are suitable for the molding conditions of the package from the viewpoint of handleability.

(封止用樹脂組成物の用途)
封止用樹脂組成物は、例えば、後述する電子部品装置の製造において素子を封止する用途に適用することができる。封止用樹脂組成物は、比較的大面積を封止する(例えば、パッケージを個片化する前に封止工程を行う)実装技術にも好適に用いられる。このような実装技術としては、FO−WLP(Fan Out Wafer Level Package)、FI−WLP(Fan In Wafer Level Package)等のウエハレベルパッケージ(以下「WLP」ともいう)が挙げられる。つまり、本実施形態の封止用樹脂組成物は、ウエハレベルパッケージ用にも好ましく用いられる。
封止用樹脂組成物を用いて半導体チップを封止する方法としては、圧縮成形法、トランスファ成形法、インジェクション成形法等が挙げられ、これらのいずれも採用できる。その中でも、本実施形態の封止用樹脂組成物は、トランスファ成形用に用いられることが好ましい。
(Use of sealing resin composition)
The sealing resin composition can be applied to, for example, an application for sealing an element in the manufacture of an electronic component device described later. The sealing resin composition is also suitably used in a mounting technique for sealing a relatively large area (for example, performing a sealing step before individualizing a package). Examples of such mounting technology include wafer level packages (hereinafter, also referred to as “WLP”) such as FO-WLP (Fan Out Wafer Level Package) and FI-WLP (Fan In Wafer Level Package). That is, the sealing resin composition of the present embodiment is also preferably used for wafer level packaging.
Examples of the method for sealing the semiconductor chip using the sealing resin composition include a compression molding method, a transfer molding method, an injection molding method, and the like, and any of these can be adopted. Among them, the sealing resin composition of the present embodiment is preferably used for transfer molding.

封止用樹脂組成物を用いて封止する際の支持体の材質は特に制限されない。例えば、シリコン等の半導体、ガラス、セラミックス等が挙げられる。支持体の形状は特に制限されず、円盤状(ウエハ)でもその他の形状であってもよい。
WLPに用いられるウエハの素材は、通常は半導体材料の結晶であり、シリコンの単結晶が一般的である。ウエハの大きさは、特に制限されず、たとえば、6インチ〜12インチであり、好ましくは直径10インチ〜12インチである。
The material of the support when sealing with the sealing resin composition is not particularly limited. For example, semiconductors such as silicon, glass, ceramics and the like can be mentioned. The shape of the support is not particularly limited, and may be a disk shape (wafer) or another shape.
The material of the wafer used for WLP is usually a crystal of a semiconductor material, and a single crystal of silicon is generally used. The size of the wafer is not particularly limited, and is, for example, 6 inches to 12 inches, preferably 10 inches to 12 inches in diameter.

<電子部品装置>
本開示の一実施形態である電子部品装置は、支持部材と、前記支持部材上に配置された素子と、前記素子を封止している本開示の封止用樹脂組成物の硬化物と、を備える。
<Electronic component equipment>
The electronic component device according to the embodiment of the present disclosure includes a support member, an element arranged on the support member, and a cured product of the sealing resin composition of the present disclosure that seals the element. To be equipped.

電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ、有機基板等の支持部材に、素子(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子など)を搭載して得られた素子部を封止用樹脂組成物で封止したものが挙げられる。
より具体的には、リードフレーム上に素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部とをワイヤボンディング、バンプ等で接続した後、封止用樹脂組成物を用いてトランスファ成形等によって封止した構造を有するDIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J−lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC;テープキャリアにバンプで接続した素子を封止用樹脂組成物で封止した構造を有するTCP(Tape Carrier Package);支持部材上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した素子を、封止用樹脂組成物で封止した構造を有するCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール等;裏面に配線板接続用の端子を形成した支持部材の表面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と支持部材に形成された配線とを接続した後、封止用樹脂組成物で素子を封止した構造を有するBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)、MCP(Multi Chip Package)などが挙げられる。また、プリント配線板においても封止用樹脂組成物を好適に使用することができる。
Electronic component devices include lead frames, pre-wired tape carriers, wiring boards, glass, silicon wafers, organic substrates, and other support members, as well as elements (semiconductor chips, transistors, diodes, active elements such as thyristors, capacitors, resistors). , A passive element such as a coil, etc.), and the element portion obtained by mounting the element portion is sealed with a sealing resin composition.
More specifically, after fixing the element on the lead frame and connecting the terminal part and the lead part of the element such as a bonding pad by wire bonding, bumps, etc., transfer molding or the like using a sealing resin composition or the like. DIP (Dual Inline Package), PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier), QFP (Quad Flat Package), SOP (Small Outline Package), SOJ (SmallOdlinePack) General resin-sealed ICs such as Outline Package) and TQFP (Thin Quad Flat Package); TCP (Tape Carrier Package) having a structure in which an element connected to a tape carrier with a bump is sealed with a sealing resin composition. A COB (Chip On Board) module, hybrid IC, or multi having a structure in which an element connected by wire bonding, flip chip bonding, solder, or the like is sealed to a wiring formed on a support member with a sealing resin composition. Chip module, etc .; An element is mounted on the front surface of a support member having terminals for connecting a wiring plate on the back surface, and after connecting the element and the wiring formed on the support member by bump or wire bonding, a resin composition for sealing is provided. Examples thereof include BGA (Ball Grid Array), CSP (Chip Size Package), and MCP (Multi Chip Package) having a structure in which an element is sealed with an object. Further, the sealing resin composition can also be preferably used in the printed wiring board.

また、本実施形態に係る電子部品装置は、ウエハレベルパッケージ(Wafer level package,WLP)によって製造されたものであってもよい。即ち、本実施形態の電子部品装置は、ウエハ上に、複数個の素子(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子など)を搭載したのち、複数個の素子を封止用樹脂組成物で一括して封止し、封止された素子ごとに個片化されたものであってもよい。WLPは、FOWLP(Fan Out Wafer Level Package)でもよく、FIWLP(Fan In Wafer Level Package.WLCSP(Wafer level Chip Size Package)とも呼ばれる。)でもよい。 Further, the electronic component device according to the present embodiment may be manufactured by a wafer level package (WLP). That is, in the electronic component device of the present embodiment, after mounting a plurality of elements (active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, psyllistas, passive elements such as capacitors, resistors, coils, etc.) on a wafer, A plurality of elements may be collectively sealed with a sealing resin composition, and each sealed element may be individualized. The WLP may be FOWLP (Fan Out Wafer Level Package) or FIWLP (Fan In Wafer Level Package.WLCSP) (also referred to as Wafer Level Chip Size Package).

<電子部品装置の製造方法>
本開示の一実施形態に係る電子部品装置の製造方法は、素子を支持部材上に配置する工程と、前記素子を本開示の封止用樹脂組成物で封止する工程と、を含む。
また、電子部品装置がWLPによって製造される場合、電子部品装置の製造方法は、複数個の素子をウエハ上に配置する工程と、前記複数個の素子を本開示の封止用樹脂組成物で一括して封止する工程と、封止された素子ごとに個片化する工程と、を含む(すなわち、ウエハレベルパッケージングを含む)製造方法であってもよい。
<Manufacturing method of electronic component equipment>
The method for manufacturing an electronic component device according to an embodiment of the present disclosure includes a step of arranging an element on a support member and a step of sealing the element with the sealing resin composition of the present disclosure.
When the electronic component device is manufactured by WLP, the manufacturing method of the electronic component device includes a step of arranging a plurality of elements on a wafer and the plurality of elements in the sealing resin composition of the present disclosure. The manufacturing method may include a step of collectively sealing and a step of individualizing each sealed element (that is, including wafer level packaging).

上記各工程を実施する方法は特に制限されず、一般的な手法により行うことができる。また、電子部品装置の製造に使用する支持部材及び素子の種類は特に制限されず、電子部品装置の製造に一般的に用いられる支持部材及び素子を使用できる。電子部品装置をWLPにより製造する場合に使用するウエハ及び素子の種類も特に制限されず、電子部品装置の製造に一般的に用いられるウエハ及び素子を使用できる。 The method of carrying out each of the above steps is not particularly limited, and can be carried out by a general method. Further, the types of support members and elements used in the manufacture of electronic component devices are not particularly limited, and support members and elements generally used in the manufacture of electronic component devices can be used. The types of wafers and elements used when manufacturing electronic component devices by WLP are not particularly limited, and wafers and devices generally used for manufacturing electronic component devices can be used.

本開示の封止用樹脂組成物を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法等のトランスファ成形法、インジェクション成形法、圧縮成形法などが挙げられる。これらの中では、トランスファ成形法が一般的である。 Examples of the method for sealing the element using the sealing resin composition of the present disclosure include a transfer molding method such as a low-pressure transfer molding method, an injection molding method, and a compression molding method. Among these, the transfer molding method is common.

以下、上記実施形態を実施例により具体的に説明するが、上記実施形態の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the above-described embodiment will be specifically described with reference to Examples, but the scope of the above-mentioned Embodiment is not limited to these Examples.

<封止用樹脂組成物の調製>
下記に示す成分を表1に示す配合割合(質量部)で混合し、実施例と比較例の封止用樹脂組成物を調製した。この封止用樹脂組成物は、常温常圧下において固体であった。なお、封止用樹脂組成物全体に対する無機充填材全体の体積基準の含有率を併せて表1に示す。
<Preparation of resin composition for sealing>
The components shown below were mixed at the blending ratios (parts by mass) shown in Table 1 to prepare resin compositions for encapsulation of Examples and Comparative Examples. This sealing resin composition was a solid under normal temperature and pressure. Table 1 also shows the volume-based content of the entire inorganic filler with respect to the entire sealing resin composition.

・エポキシ樹脂1:ビフェニル型エポキシ樹脂、エポキシ当量186g/eq(三菱ケミカル株式会社、品名「YX−4000」)
・エポキシ樹脂2:トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、エポキシ当量167g/eq(三菱ケミカル株式会社、品名「1032H60」)
-Epoxy resin 1: Biphenyl type epoxy resin, epoxy equivalent 186 g / eq (Mitsubishi Chemical Corporation, product name "YX-4000")
-Epoxy resin 2: Triphenylmethane type epoxy resin, epoxy equivalent 167 g / eq (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., product name "1032H60")

・硬化剤1:活性エステル化合物(DIC株式会社、品名「EXB−8」)
・硬化剤2:フェノール硬化剤、ビフェニルアラルキル樹脂、水酸基当量203g/eq(明和化成株式会社、品名「MEHC7851SS」)
-Curing agent 1: Active ester compound (DIC Corporation, product name "EXB-8")
-Curing agent 2: Phenol curing agent, biphenyl aralkyl resin, hydroxyl group equivalent 203 g / eq (Meiwa Kasei Co., Ltd., product name "MEHC7851SS")

・硬化促進剤1:トリフェニルホスフィン/1,4−ベンゾキノン付加物
・カップリング剤1:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社、品名「KBM−503」)
・カップリング剤3:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社、品名「KBM−573」)
・離型剤1:モンタン酸エステルワックス(クラリアントジャパン株式会社、品名「HW−E」)
・着色剤1:カーボンブラック(三菱ケミカル株式会社、品名「MA600」)
-Curing accelerator 1: triphenylphosphine / 1,4-benzoquinone adduct-Coupling agent 1: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name "KBM-503")
-Coupling agent 3: N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name "KBM-573")
-Release agent 1: Montanic acid ester wax (Clariant Japan Co., Ltd., product name "HW-E")
-Colorant 1: Carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, product name "MA600")

・シリコーン1:側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン、粘度(25℃):1.50Pa・s(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、品名「SIM768E」)
・シリコーン2:側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン、粘度(25℃):2.40Pa・s(東レ・ダウコーニング株式会社、品名「BY16−876」)
・シリコーン3:側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン、粘度(25℃):0.55Pa・s(東レ・ダウコーニング株式会社、品名「BY16−870」)
・シリコーン4:エポキシ変性シリコーン、粘度(25℃):6.00Pa・s(東レ・ダウコーニング株式会社、品名「BY16−839」)
・シリコーン5:エポキシ変性シリコーン、粘度(25℃):17.00Pa・s(東レ・ダウコーニング株式会社、品名「SF−8413EG」)
・シリコーン6:側鎖変性型エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン、粘度(25℃):3.10Pa・s(東レ・ダウコーニング株式会社、品名「SF8421 EG」)
-Silicone 1: Side chain modified epoxy / polyether modified silicone, viscosity (25 ° C): 1.50 Pa · s (Momentive Performance Materials, product name "SIM768E")
-Silicone 2: Side chain modified epoxy / polyether modified silicone, viscosity (25 ° C): 2.40 Pa · s (Toray Dow Corning Co., Ltd., product name "BY16-876")
-Silicone 3: Side chain modified epoxy / polyether modified silicone, viscosity (25 ° C): 0.55 Pa · s (Toray Dow Corning Co., Ltd., product name "BY16-870")
-Silicone 4: Epoxy-modified silicone, viscosity (25 ° C): 6.00 Pa · s (Toray Dow Corning Co., Ltd., product name "BY16-839")
-Silicone 5: Epoxy-modified silicone, viscosity (25 ° C.): 17.00 Pa · s (Toray Dow Corning Co., Ltd., product name "SF-8413EG")
-Silicone 6: Side chain modified epoxy / polyether modified silicone, viscosity (25 ° C): 3.10 Pa · s (Toray Dow Corning Co., Ltd., product name "SF8421 EG")

・無機充填材1:溶融シリカ(平均粒径4.5μm)
・無機充填材2:溶融シリカ(平均粒径0.6μm)
-Inorganic filler 1: Fused silica (average particle size 4.5 μm)
-Inorganic filler 2: fused silica (average particle size 0.6 μm)

<封止用樹脂組成物の性能評価>
(流動性:スパイラルフロー)
EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用樹脂組成物を金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で成形し、流動距離(inch)を求めた。結果を表1に示す。
<Performance evaluation of sealing resin composition>
(Liquidity: Spiral flow)
Using a spiral flow measuring mold according to EMMI-1-66, the sealing resin composition was molded under the conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds. inch) was sought. The results are shown in Table 1.

(溶融粘度)
封止用樹脂組成物を加熱して溶融させ、高化式フローテスターを用いて175℃における溶融粘度を測定した。結果を表1に示す。
(Melting viscosity)
The sealing resin composition was heated and melted, and the melt viscosity at 175 ° C. was measured using an enhanced flow tester. The results are shown in Table 1.

(比誘電率及び誘電正接)
封止用樹脂組成物を真空ハンドプレス機に仕込み、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形し、後硬化を180℃で6時間行い、板状の硬化物(縦12.5mm、横25mm、厚さ0.2mm)を得た。この板状の硬化物を試験片として、誘電率測定装置(アジレント・テクノロジー社、品名「ネットワークアナライザN5227A」)を用いて、温度25±3℃下、約60GHzでの比誘電率と誘電正接を測定した。結果を表1に示す。
(Relative permittivity and dielectric loss tangent)
The sealing resin composition is charged into a vacuum hand press machine, molded under the conditions of a mold temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 600 seconds, and post-curing is performed at 180 ° C. for 6 hours to cure the plate. An article (length 12.5 mm, width 25 mm, thickness 0.2 mm) was obtained. Using this plate-shaped cured product as a test piece, a permittivity measuring device (Agilent Technologies, Inc., product name "Network Analyzer N5227A") was used to determine the relative permittivity and dielectric loss tangent at about 60 GHz at a temperature of 25 ± 3 ° C. It was measured. The results are shown in Table 1.

(外観評価)
以下のようにして、外観評価を行った。
直径12インチのシリコンウエハ上に厚さ300μmの樹脂硬化物が積層した積層体を、トランスファ成形にて成形するための金型及び離型フィルムを用意した。この金型、離型フィルム、12インチのシリコンウエハ、及び封止用樹脂組成物を用いて、金型温度175℃、クランプ圧0.7MPa、硬化時間240秒の条件で、シリコンウエハ上に封止用樹脂組成物の硬化物が積層した積層体を成形した。この積層体の硬化物面に対して、垂直方向から目視で観察を行い、フローマークを評価した。評価基準は以下のとおりであり、結果を表1に示す。
(Appearance evaluation)
The appearance was evaluated as follows.
A mold and a release film were prepared for molding a laminated body in which a cured resin product having a thickness of 300 μm was laminated on a silicon wafer having a diameter of 12 inches by transfer molding. Using this mold, mold release film, 12-inch silicon wafer, and sealing resin composition, the mold is sealed on the silicon wafer under the conditions of a mold temperature of 175 ° C., a clamping pressure of 0.7 MPa, and a curing time of 240 seconds. A laminate in which the cured product of the release resin composition was laminated was formed. The flow mark was evaluated by visually observing the cured product surface of this laminated body from the vertical direction. The evaluation criteria are as follows, and the results are shown in Table 1.

−評価基準−
A(〇):フローマークがほぼ見られなかった。
B(△):フローマークが見られたが、顕著ではなかった。
C(×):フローマークが顕著に見られた。
-Evaluation criteria-
A (○): Almost no flow mark was seen.
B (Δ): A flow mark was observed, but it was not remarkable.
C (x): Flow marks were prominently seen.

Figure 2021116331
Figure 2021116331

実施例の封止用樹脂組成物は、比較例の封止用樹脂組成物に比べて、硬化物の誘電正接を低減し、かつ、硬化物の外観不良が抑制された。 The sealing resin composition of the example reduced the dielectric loss tangent of the cured product and suppressed the appearance defect of the cured product as compared with the sealing resin composition of the comparative example.

Claims (9)

エポキシ樹脂と、
活性エステル化合物を含む硬化剤と、
無機充填材と、
ポリエーテル変性シリコーンと、
を含有する封止用樹脂組成物。
Epoxy resin and
A curing agent containing an active ester compound and
Inorganic filler and
With polyether-modified silicone,
A resin composition for sealing containing.
前記ポリエーテル変性シリコーンの25℃における粘度が1.00Pa・s〜4.00Pa・sである請求項1に記載の封止用樹脂組成物。 The sealing resin composition according to claim 1, wherein the polyether-modified silicone has a viscosity at 25 ° C. of 1.00 Pa · s to 4.00 Pa · s. 前記無機充填材の含有率が前記封止用樹脂組成物全体に対して55体積%〜80体積%である、請求項1又は請求項2に記載の封止用樹脂組成物。 The sealing resin composition according to claim 1 or 2, wherein the content of the inorganic filler is 55% by volume to 80% by volume with respect to the entire sealing resin composition. ウエハレベルパッケージ用である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の封止用樹脂組成物。 The sealing resin composition according to any one of claims 1 to 3, which is for a wafer level package. トランスファ成形用である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の封止用樹脂組成物。 The sealing resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is for transfer molding. 支持部材と、
前記支持部材上に配置された素子と、
前記素子を封止している請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の封止用樹脂組成物の硬化物と、
を備える電子部品装置。
Support members and
The element arranged on the support member and
The cured product of the sealing resin composition according to any one of claims 1 to 5, which seals the element, and the cured product.
Electronic component device equipped with.
素子を支持部材上に配置する工程と、
前記素子を請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の封止用樹脂組成物で封止する工程と、
を含む電子部品装置の製造方法。
The process of arranging the element on the support member and
The step of sealing the element with the sealing resin composition according to any one of claims 1 to 5.
Manufacturing method of electronic component equipment including.
複数個の素子をウエハ上に配置する工程と、
前記複数個の素子を請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の封止用樹脂組成物で一括して封止する工程と、
封止された素子ごとに個片化する工程と、
を含む電子部品装置の製造方法。
The process of arranging multiple elements on the wafer,
A step of collectively sealing the plurality of elements with the sealing resin composition according to any one of claims 1 to 5.
The process of individualizing each sealed element and
Manufacturing method of electronic component equipment including.
前記封止する工程が、トランスファ成形により封止する工程である請求項7又は請求項8に記載の電子部品装置の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component device according to claim 7 or 8, wherein the sealing step is a step of sealing by transfer molding.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021193158A (en) * 2020-06-08 2021-12-23 信越化学工業株式会社 Thermosetting epoxy resin composition, thermosetting epoxy resin sheet, and cured product of the same
WO2023063266A1 (en) * 2021-10-14 2023-04-20 味の素株式会社 Resin composition
WO2024122548A1 (en) * 2022-12-08 2024-06-13 株式会社レゾナック Resin composition and electronic component device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003026769A (en) * 2001-05-09 2003-01-29 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin molding material for sealing and electronic part device
JP2009235165A (en) * 2008-03-26 2009-10-15 Dic Corp Epoxy resin composition and its cured product
JP2017193691A (en) * 2016-04-22 2017-10-26 日立化成株式会社 Adhesive film for multilayer printed board
WO2018008416A1 (en) * 2016-07-06 2018-01-11 Dic株式会社 Active ester composition and cured product thereof
WO2019004458A1 (en) * 2017-06-29 2019-01-03 日立化成株式会社 Resin composition for encapsulation, rearranged wafer, semiconductor package, and method for manufacturing semiconductor package

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003026769A (en) * 2001-05-09 2003-01-29 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin molding material for sealing and electronic part device
JP2009235165A (en) * 2008-03-26 2009-10-15 Dic Corp Epoxy resin composition and its cured product
JP2017193691A (en) * 2016-04-22 2017-10-26 日立化成株式会社 Adhesive film for multilayer printed board
WO2018008416A1 (en) * 2016-07-06 2018-01-11 Dic株式会社 Active ester composition and cured product thereof
WO2019004458A1 (en) * 2017-06-29 2019-01-03 日立化成株式会社 Resin composition for encapsulation, rearranged wafer, semiconductor package, and method for manufacturing semiconductor package

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021193158A (en) * 2020-06-08 2021-12-23 信越化学工業株式会社 Thermosetting epoxy resin composition, thermosetting epoxy resin sheet, and cured product of the same
JP7336419B2 (en) 2020-06-08 2023-08-31 信越化学工業株式会社 Thermosetting epoxy resin composition, thermosetting epoxy resin sheet, and cured product thereof
WO2023063266A1 (en) * 2021-10-14 2023-04-20 味の素株式会社 Resin composition
WO2024122548A1 (en) * 2022-12-08 2024-06-13 株式会社レゾナック Resin composition and electronic component device

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