JP2021109358A - ナノワイヤ付きフィルム及びナノワイヤの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明に係るナノワイヤの製造方法は、結晶性樹脂からなる基材を用意する工程(a)と、基材の表面に、微細な凹凸構造を形成する工程(b)と、基材を水熱合成溶液に浸漬させて、金属酸化物からなるナノワイヤを、基材の表面に形成した凹凸構造の上に直接成長させる工程(c)とを含む。
10A 微細な凹凸構造
20 ZnOナノワイヤ
30 容器
40 水熱合成溶液
50 治具
Claims (9)
- 結晶性樹脂からなる基材と、
前記基材上に直接成長した金属酸化物からなるナノワイヤと
を備えたナノワイヤ付きフィルムであって、
前記基材の表面に、微細な凹凸構造が形成され、該凹凸構造から前記ナノワイヤが直接成長している、ナノワイヤ付きフィルム。 - 前記凹凸構造は、大きさがマイクロメータ以下で、深さがナノメータレベルの形状に形成されている、請求項1に記載のナノワイヤ付きフィルム。
- 前記結晶性樹脂は、ポリイミドまたはポリエステルからなる、請求項1または2に記載のナノワイヤ付きフィルム。
- 前記ナノワイヤは、酸化亜鉛または酸化チタンからなる、請求項1または2に記載のナノワイヤ付きフィルム。
- 結晶性樹脂からなる基材を用意する工程(a)と、
前記基材の表面に、微細な凹凸構造を形成する工程(b)と、
前記基材を水熱合成溶液に浸漬させて、金属酸化物からなるナノワイヤを、前記基材の表面に形成した前記凹凸構造の上に直接成長させる工程(c)と
を含むナノワイヤの製造方法。 - 前記工程(b)は、前記基材を表面処理する工程からなる、請求項5に記載のナノワイヤの製造方法。
- 前記工程(b)において、前記凹凸構造は、大きさがマイクロメータ以下で、深さがナノメータレベルの形状に形成される、請求項5または6に記載のナノワイヤの製造方法。
- 前記結晶性樹脂は、ポリイミドまたはポリエステルからなる、請求項5〜7の何れかに記載のナノワイヤの製造方法。
- 前記ナノワイヤは、酸化亜鉛または酸化チタンからなる、請求項5〜7の何れかに記載のナノワイヤの製造方法。
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