JP2021103226A - Optical film and bilayer film - Google Patents

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JP2021103226A JP2019234229A JP2019234229A JP2021103226A JP 2021103226 A JP2021103226 A JP 2021103226A JP 2019234229 A JP2019234229 A JP 2019234229A JP 2019234229 A JP2019234229 A JP 2019234229A JP 2021103226 A JP2021103226 A JP 2021103226A
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勇輝 畑
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Abstract

To provide an optical film excellent in slidability and transparency, and a bilayer film using the same.SOLUTION: An optical film includes a base material including a cycloolefin polymer, on a surface thereof. Arithmetic average roughness Ra and a maximum height Rz of the surface of the optical film on the base material side satisfy formulae (1) and (2), and an internal haze is 0.5% or less. Ra≥0.04 μm (1) and Rz≥0.7 μm (2).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光学フィルム及び複層フィルムに関する。 The present invention relates to optical films and multilayer films.

シクロオレフィン重合体を含む樹脂は、透明性等に優れることから、従来から、光学フィルムの材料として、使用されている。 Resins containing cycloolefin polymers have been conventionally used as materials for optical films because they are excellent in transparency and the like.

光学フィルムにおいては、ハンドリング性に優れることも求められる。シクロオレフィン重合体を含む樹脂を用いた光学フィルムでは、フィルムを巻き重ねた際にフィルム同士の固着が生じやすい。このような問題を解決するために、従来から、光学フィルムを構成する樹脂にシリカ粒子を含ませて、フィルム表面の滑り性を改善し、ハンドリング性に優れたものとすることが行われている(例えば特許文献1)。 The optical film is also required to have excellent handleability. In an optical film using a resin containing a cycloolefin polymer, the films tend to stick to each other when the films are wound. In order to solve such a problem, it has been conventionally practiced to impregnate silica particles in a resin constituting an optical film to improve the slipperiness of the film surface and improve the handleability. (For example, Patent Document 1).

特開2011−128356号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-128356

特許文献1には、ノルボルネン系樹脂と、シリカ粒子を含むノルボルネン系樹脂とを、共押出して多層フィルムとする方法が記載されている。また、樹脂にシリカ粒子を含ませる方法としては、シリカ粒子を含む塗布液をフィルムの表面に塗布する方法も採りうる。 Patent Document 1 describes a method of co-extruding a norbornene-based resin and a norbornene-based resin containing silica particles to form a multilayer film. Further, as a method of including silica particles in the resin, a method of applying a coating liquid containing silica particles to the surface of the film can also be adopted.

このような方法によれば、フィルム表面の滑り性を改善することはできるが、シリカ粒子を含ませることに起因して光学フィルムのヘイズが高くなり、透明性が低下することがあった。 According to such a method, the slipperiness of the film surface can be improved, but the haze of the optical film may be increased due to the inclusion of silica particles, and the transparency may be decreased.

本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたもので、滑り性に優れ、かつ透明性に優れる光学フィルム、および、この光学フィルムを用いた複層フィルムを提供することを目的とする。 The present invention has been devised in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an optical film having excellent slipperiness and transparency, and a multilayer film using this optical film.

本発明者は、前記の課題を解決するべく鋭意検討を行った。その結果、本発明者は、表面にシクロオレフィン重合体を含む基材を含む光学フィルムにおいて、基材側の表面の算術平均粗さRa及び最大高さRzを所定範囲とし、かつ内部ヘイズを0.5以下とすることにより、優れた滑り性と優れた透明性とを両立できるということを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。
The present inventor has made diligent studies to solve the above problems. As a result, in the optical film containing a base material containing a cycloolefin polymer on the surface, the present inventor sets the arithmetic mean roughness Ra and the maximum height Rz of the surface on the base material side within a predetermined range, and sets the internal haze to 0. The present invention has been completed by finding that excellent slipperiness and excellent transparency can be achieved at the same time by setting the content to 5.5 or less.
That is, the present invention includes the following.

〔1〕 表面に基材を備える光学フィルムであって、
前記基材はシクロオレフィン重合体を含み、
前記光学フィルムの前記基材側の表面の、算術平均粗さRaおよび最大高さRzが、式(1)および式(2)を満たし、内部ヘイズが0.5%以下である、光学フィルム。
Ra≧0.04μm (1)
Rz≧0.7μm (2)
〔2〕 前記光学フィルムの前記基材側の表面は、直接賦形により、前記算術平均粗さRaおよび前記最大高さRzが、前記式(1)および前記式(2)を満たすように、形成されている、〔1〕に記載の光学フィルム。
〔3〕 前記光学フィルムの面内方向のレターデーションReが下記式(3)を満たし、
前記光学フィルムの厚み方向のレターデーションRthが下記式(4)を満たす、〔1〕または〔2〕に記載の光学フィルム。
−10nm≦Re≦10nm (3)
−30nm≦Rth≦30nm (4)
〔4〕 〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの、前記基材側の表面の上に設けられたハードコート層と、を含む、複層フィルム。
[1] An optical film having a base material on its surface.
The substrate contains a cycloolefin polymer and contains
An optical film having an arithmetic mean roughness Ra and a maximum height Rz on the surface of the optical film on the substrate side, satisfying the formulas (1) and (2), and having an internal haze of 0.5% or less.
Ra ≧ 0.04 μm (1)
Rz ≧ 0.7 μm (2)
[2] The surface of the optical film on the substrate side is directly shaped so that the arithmetic mean roughness Ra and the maximum height Rz satisfy the formulas (1) and (2). The optical film according to [1], which is formed.
[3] The in-plane retardation Re of the optical film satisfies the following formula (3).
The optical film according to [1] or [2], wherein the retardation Rth in the thickness direction of the optical film satisfies the following formula (4).
-10nm ≤ Re ≤ 10nm (3)
-30nm ≤ Rth ≤ 30nm (4)
[4] The optical film according to any one of [1] to [3] and
A multi-layer film including a hard coat layer provided on the surface of the optical film on the substrate side.

本発明によれば、滑り性に優れ、かつ透明性に優れた光学フィルム、および、この光学フィルムを用いた複層フィルムを提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical film having excellent slipperiness and excellent transparency, and a multilayer film using this optical film.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and can be arbitrarily modified and implemented without departing from the scope of claims of the present invention and the equivalent scope thereof.

以下の説明において、光学フィルム等のフィルムの面内レターデーションReは、別に断らない限り、Re=(nx−ny)×dで表される値である。また、フィルムの厚み方向のレターデーションRthは、別に断らない限り、Rth={(nx+ny)/2−nz}×dで表される値である。ここで、nxは、フィルムの面内方向即ち厚み方向に垂直な方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。nyは、面内方向であってnxの方向に直交する方向の屈折率を表す。nzは厚み方向の屈折率を表す。dは、フィルムの厚みを表す。測定波長は、別に断らない限り、590nmである。 In the following description, the in-plane retardation Re of a film such as an optical film is a value represented by Re = (nx-ny) × d unless otherwise specified. Further, the retardation Rth in the thickness direction of the film is a value represented by Rth = {(nx + ny) /2-nz} × d unless otherwise specified. Here, nx represents the refractive index in the in-plane direction of the film, that is, the direction perpendicular to the thickness direction and in the direction that gives the maximum refractive index. ny represents the refractive index in the in-plane direction and orthogonal to the nx direction. nz represents the refractive index in the thickness direction. d represents the thickness of the film. The measurement wavelength is 590 nm unless otherwise specified.

以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して、5倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。長さの上限に特段の制限は無いが、通常、幅に対して10万倍以下である。 In the following description, the "long" film means a film having a length of 5 times or more, preferably 10 times or more, and specifically a roll. A film that has a length that allows it to be rolled up and stored or transported. There is no particular limitation on the upper limit of the length, but it is usually 100,000 times or less with respect to the width.

[1.光学フィルム]
本発明の光学フィルムは、表面に基材を備える。本発明において、基材はシクロオレフィン重合体を含む。本発明の光学フィルムの基材側の表面の算術平均粗さRaおよび最大高さRzが、式(1)および式(2)を満たし、内部ヘイズが0.5%以下である。
Ra≧0.04μm (1)
Rz≧0.7μm (2)
[1. Optical film]
The optical film of the present invention has a base material on the surface. In the present invention, the substrate contains a cycloolefin polymer. The arithmetic mean roughness Ra and the maximum height Rz of the surface of the optical film of the present invention on the substrate side satisfy the formulas (1) and (2), and the internal haze is 0.5% or less.
Ra ≧ 0.04 μm (1)
Rz ≧ 0.7 μm (2)

[基材]
光学フィルムは表面に基材を備える。基材は樹脂からなる。基材を構成する樹脂はシクロオレフィン重合体を含む。シクロオレフィン重合体とは、シクロオレフィン単量体を重合して得られる構造を有する重合体である。このようなシクロオレフィン重合体を含む樹脂は、通常、透明性、寸法安定性、位相差発現性、及び低温での成形の容易性等の性能に優れる。
[Base material]
The optical film has a base material on the surface. The base material is made of resin. The resin constituting the base material contains a cycloolefin polymer. The cycloolefin polymer is a polymer having a structure obtained by polymerizing a cycloolefin monomer. A resin containing such a cycloolefin polymer is usually excellent in performance such as transparency, dimensional stability, phase difference development, and ease of molding at a low temperature.

シクロオレフィン重合体は、主鎖にシクロアルケン構造を有する重合体、側鎖にシクロアルケン構造を有する重合体、主鎖及び側鎖にシクロアルケン構造を有する重合体、並びに、これらの2以上の任意の比率の混合物としうる。中でも、機械的強度及び耐熱性の観点から、主鎖にシクロアルケン構造を有する重合体が好ましい。 The cycloolefin polymer is a polymer having a cycloalkene structure in the main chain, a polymer having a cycloalkene structure in the side chain, a polymer having a cycloalkene structure in the main chain and the side chain, and two or more of these. Can be a mixture of the ratios of. Of these, a polymer having a cycloalkene structure in the main chain is preferable from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance.

シクロアルケン構造を構成する炭素原子数は、一つのシクロアルケン構造あたり、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下である。シクロアルケン構造を構成する炭素原子数がこの範囲であると、シクロオレフィン重合体を含む樹脂の機械強度、耐熱性及び成形性が高度にバランスされる。 The number of carbon atoms constituting the cycloalkene structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and particularly preferably 15 per cycloalkene structure. Less than or equal to. When the number of carbon atoms constituting the cycloalkene structure is in this range, the mechanical strength, heat resistance and moldability of the resin containing the cycloolefin polymer are highly balanced.

シクロオレフィン重合体において、シクロアルケン構造を有する構造単位の割合は、得られる製品の使用目的に応じて選択しうる。シクロオレフィン重合体におけるシクロアルケン構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。シクロオレフィン重合体におけるシクロアルケン構造を有する構造単位の割合がこの範囲にあると、シクロオレフィン樹脂の透明性及び耐熱性が良好となる。 In the cycloolefin polymer, the proportion of structural units having a cycloalkene structure can be selected according to the intended use of the obtained product. The proportion of the structural unit having a cycloalkene structure in the cycloolefin polymer is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. When the ratio of the structural units having a cycloalkene structure in the cycloolefin polymer is in this range, the transparency and heat resistance of the cycloolefin resin are improved.

シクロオレフィン重合体は、シクロオレフィン単量体を重合して得られる構造を有する。シクロオレフィン単量体は、炭素原子で形成される環構造を有し、かつ該環構造中に重合性の炭素−炭素二重結合を有する化合物である。重合性の炭素−炭素二重結合の例としては、開環重合等の重合が可能な炭素−炭素二重結合が挙げられる。また、シクロオレフィン単量体の環構造の例としては、単環、多環、縮合多環、橋かけ環及びこれらを組み合わせた多環等が挙げられる。中でも、得られる重合体の誘電特性及び耐熱性等の特性を高度にバランスさせる観点から、多環のシクロオレフィン単量体が好ましい。 The cycloolefin polymer has a structure obtained by polymerizing a cycloolefin monomer. The cycloolefin monomer is a compound having a ring structure formed by carbon atoms and having a polymerizable carbon-carbon double bond in the ring structure. Examples of the polymerizable carbon-carbon double bond include a carbon-carbon double bond capable of polymerization such as ring-opening polymerization. Examples of the ring structure of the cycloolefin monomer include a monocycle, a polycycle, a condensed polycycle, a crosslinked ring, and a polycycle combining these. Among them, a polycyclic cycloolefin monomer is preferable from the viewpoint of highly balancing the characteristics such as the dielectric property and the heat resistance of the obtained polymer.

シクロオレフィン重合体の中でも好ましいものとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、及び、これらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、ノルボルネン系重合体は、成形性が良好なため、特に好適である。 Preferred cycloolefin polymers include norbornene-based polymers, monocyclic cyclic olefin-based polymers, cyclic conjugated diene-based polymers, and hydrides thereof. Among these, the norbornene-based polymer is particularly suitable because it has good moldability.

ノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びその水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びその水素化物が挙げられる。また、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の開環単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の開環共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる他の単量体との開環共重合体が挙げられる。さらに、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の付加単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の付加共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる他の単量体との付加共重合体が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素化物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適である。 Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof; an addition polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof. Examples of ring-opening polymers of monomers having a norbornene structure include a ring-opening copolymer of one type of monomer having a norbornene structure and ring-opening of two or more types of monomers having a norbornene structure. Examples thereof include a copolymer and a ring-opening copolymer with a monomer having a norbornene structure and another monomer copolymerizable therewith. Further, as an example of the addition polymer of the monomer having a norbornene structure, the addition homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure and the addition copolymer of two or more kinds of monomers having a norbornene structure , And an addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer copolymerizable therewith. Among these, the hydride of the ring-opening polymer of the monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, light weight and the like.

ノルボルネン構造を有する単量体の例としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、およびこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)を挙げることができる。ここで、置換基の例としては、アルキル基、アルキレン基、及び極性基を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of monomers having a norbornene structure are bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (trivial name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7. -Diene (trivial name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3-ene (trivial name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4. 0.1 2, 5 . 17, 10 ] Dodeca-3-ene (trivial name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent on the ring) can be mentioned. Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. Further, these substituents may be the same or different from each other, and a plurality of these substituents may be bonded to the ring. As the monomer having a norbornene structure, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

極性基の例としては、ヘテロ原子、及びヘテロ原子を有する原子団が挙げられる。ヘテロ原子の例としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子が挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、アミド基、イミド基、ニトリル基、及びスルホン酸基が挙げられる。 Examples of polar groups include heteroatoms and atomic groups having heteroatoms. Examples of heteroatoms include oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms, silicon atoms, and halogen atoms. Specific examples of the polar group include a carboxyl group, a carbonyloxycarbonyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, an oxy group, an ester group, a silanol group, a silyl group, an amino group, an amide group, an imide group, a nitrile group, and a sulfonic acid group. Can be mentioned.

ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な単量体の例としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体が挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of monomer having a norbornene structure and a monomer capable of ring-opening copolymerization include monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene and cyclooctene and derivatives thereof; cyclic conjugated diene such as cyclohexene and cycloheptadiene and The derivative is mentioned. As the monomer having a norbornene structure and the monomer capable of ring-opening copolymerization, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体は、例えば、単量体を開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。 A ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing the monomer in the presence of a ring-opening polymerization catalyst.

ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な単量体の例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素原子数2〜20のα−オレフィンおよびこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体;並びに1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエンが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。また、ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of monomers that can be additionally copolymerized with a monomer having a norbornene structure include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, and 1-butene and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, and cyclohexene. Cycloolefins and derivatives thereof; and non-conjugated diene such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene. Among these, α-olefins are preferable, and ethylene is more preferable. Further, as the monomer having a norbornene structure and the monomer capable of addition copolymerization, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体は、例えば、単量体を付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。 A monomer addition polymer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing the monomer in the presence of an addition polymerization catalyst.

上述した開環重合体及び付加重合体の水素添加物は、例えば、これらの開環重合体及び付加重合体の溶液において、炭素−炭素不飽和結合を、好ましくは90%以上水素添加することによって製造しうる。水素添加は、ニッケル、パラジウム等の遷移金属を含む水素添加触媒の存在下で行いうる。 The above-mentioned hydrogenated compounds of the ring-opening polymer and the addition polymer are prepared by, for example, hydrogenating a carbon-carbon unsaturated bond in a solution of the ring-opening polymer and the addition polymer in an amount of preferably 90% or more. Can be manufactured. Hydrogenation can be carried out in the presence of a hydrogenation catalyst containing transition metals such as nickel and palladium.

ノルボルネン系重合体の中でも、構造単位として、X:ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4−ジイル−エチレン構造と、Y:トリシクロ[4.3.0.12,5]デカン−7,9−ジイル−エチレン構造とを有し、これらの構造単位の量が、ノルボルネン系重合体の構造単位全体に対して90重量%以上であり、かつ、Xの割合とYの割合との比が、X:Yの重量比で100:0〜40:60であるものが好ましい。このような重合体を用いることにより、当該ノルボルネン系重合体を含むオレフィン樹脂層を、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れるものにできる。 Among the norbornene-based polymers, as structural units, X: bicyclo [3.3.0] octane-2,4-diyl-ethylene structure and Y: tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] decane- It has a 7,9-diyl-ethylene structure, the amount of these structural units is 90% by weight or more with respect to the total structural units of the norbornene-based polymer, and the ratio of X and the ratio of Y The ratio is preferably 100: 0 to 40:60 in terms of the weight ratio of X: Y. By using such a polymer, the olefin resin layer containing the norbornene-based polymer can be made to have no dimensional change in a long period of time and have excellent stability of optical characteristics.

単環の環状オレフィン系重合体の例としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。 Examples of the monocyclic cyclic olefin polymer include an addition polymer of a cyclic olefin monomer having a monocycle such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.

環状共役ジエン系重合体の例としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの1,2−または1,4−付加重合体;およびこれらの水素化物を挙げることができる。
Examples of cyclic conjugated diene-based polymers are polymers obtained by cyclization reaction of addition polymers of conjugated diene-based monomers such as 1,3-butadiene, isoprene, and chloroprene; cyclic conjugates such as cyclopentadiene and cyclohexadiene. 1,2- or 1,4-additional polymers of diene-based monomers; and hydrides thereof can be mentioned.

さらに、上述したシクロオレフィン重合体は、当該シクロオレフィン重合体の分子が極性基を含まないことが好ましい。分子中に極性基を含まない環状オレフィン重合体を用いることにより、得られる光学フィルムにおける樹脂層の吸水性を低減できる。 Further, in the above-mentioned cycloolefin polymer, it is preferable that the molecule of the cycloolefin polymer does not contain a polar group. By using a cyclic olefin polymer containing no polar group in the molecule, the water absorption of the resin layer in the obtained optical film can be reduced.

シクロオレフィン重合体の重量平均分子量(Mw)は、得られる製品の使用目的に応じて適宜選定でき、好ましくは10,000以上、より好ましくは15,000以上、特に好ましくは20,000以上であり、好ましくは100,000以下、より好ましくは80,000以下、特に好ましくは50,000以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、得られる製品中の樹脂層の機械的強度および成型加工性が高度にバランスされる。ここで、前記の重量平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサンを用いて(但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい)ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量である。 The weight average molecular weight (Mw) of the cycloolefin polymer can be appropriately selected according to the intended use of the obtained product, and is preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, and particularly preferably 20,000 or more. It is preferably 100,000 or less, more preferably 80,000 or less, and particularly preferably 50,000 or less. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and moldability of the resin layer in the obtained product are highly balanced. Here, the weight average molecular weight is converted to polyisoprene or polystyrene as measured by gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent (however, toluene may be used if the sample does not dissolve in cyclohexane). Weight average molecular weight of.

シクロオレフィン重合体の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.5以上、特に好ましくは1.8以上であり、好ましくは3.5以下、より好ましくは3.0以下、特に好ましくは2.7以下である。分子量分布を前記下限値以上にすることにより、重合体の生産性を高め、製造コストを抑制できる。また、上限値以下にすることにより、低分子成分の量が小さくなるので、高温曝露時の緩和を抑制して、基材の安定性を高めることができる。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the cycloolefin polymer is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, and particularly preferably 1.8 or more. Is 3.5 or less, more preferably 3.0 or less, and particularly preferably 2.7 or less. By setting the molecular weight distribution to the above lower limit value or more, the productivity of the polymer can be increased and the production cost can be suppressed. Further, when the value is not more than the upper limit, the amount of the low molecular weight component becomes small, so that the relaxation at the time of high temperature exposure can be suppressed and the stability of the base material can be improved.

基材を構成する樹脂中のシクロオレフィン重合体の割合は、好ましくは90重量%以上、より好ましくは92重量%以上、特に好ましくは95重量%以上であり、好ましくは99.9重量%以下、より好ましくは99重量%以下、特に好ましくは98重量%以下である。シクロオレフィン重合体の割合を前記範囲の下限値以上にすることにより、基材の吸水性を低減できる。 The proportion of the cycloolefin polymer in the resin constituting the base material is preferably 90% by weight or more, more preferably 92% by weight or more, particularly preferably 95% by weight or more, and preferably 99.9% by weight or less. It is more preferably 99% by weight or less, and particularly preferably 98% by weight or less. By setting the proportion of the cycloolefin polymer to the lower limit of the above range or more, the water absorption of the base material can be reduced.

基材を構成する樹脂は、シクロオレフィン重合体に加えて、更に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、エステル化合物、顔料、染料等の着色剤;蛍光増白剤;分散剤;熱安定剤;光安定剤;紫外線吸収剤;帯電防止剤;酸化防止剤;微粒子;界面活性剤等の添加剤が挙げられる。これらの成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The resin constituting the base material may further contain any component in addition to the cycloolefin polymer. Optional components include, for example, colorants such as ester compounds, pigments, dyes; optical brighteners; dispersants; heat stabilizers; light stabilizers; UV absorbers; antistatic agents; antioxidants; fine particles; surfactants. Examples include additives such as activators. One of these components may be used alone, or two or more of these components may be used in combination at any ratio.

基材を構成する樹脂のガラス転移温度は、好ましくは100℃以上、より好ましくは110℃以上、特に好ましくは120℃以上であり、好ましくは190℃以下、より好ましくは180℃以下、特に好ましくは170℃以下である。ガラス転移温度が前記範囲内であることにより、耐久性に優れる基材を容易に製造することができる。また、上限値以下にすることにより、成形を容易に行える。 The glass transition temperature of the resin constituting the base material is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, particularly preferably 120 ° C. or higher, preferably 190 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower, particularly preferably. It is 170 ° C. or lower. When the glass transition temperature is within the above range, a base material having excellent durability can be easily produced. Further, by setting the value to the upper limit or less, molding can be easily performed.

[光学フィルムの層構成]
光学フィルムは、単一の基材のみからなる態様であってもよいし、基材とともに任意の層を含む態様であってもよい。光学フィルムが任意の層を含む場合、任意の層は一つであっても二以上であってもよい。また、光学フィルムは、二以上の基材と任意の層とを備える態様であってもよい。この態様の場合、光学フィルムは、おもて面と裏面にそれぞれ基材を備え、2つの基材の間に任意の層を備える態様であってもよい。任意の層としては、基材を保護するための保護フィルム層、2つの層を接着する接着層等が挙げられる。
[Layer structure of optical film]
The optical film may consist of only a single base material, or may include an arbitrary layer together with the base material. When the optical film contains any layer, the number of arbitrary layers may be one or two or more. Further, the optical film may have a mode in which two or more base materials and an arbitrary layer are provided. In the case of this aspect, the optical film may have a base material on the front surface and the back surface, respectively, and an arbitrary layer may be provided between the two base materials. Examples of the optional layer include a protective film layer for protecting the base material, an adhesive layer for adhering the two layers, and the like.

[光学フィルムの表面粗さ]
光学フィルムの基材側の表面は、所定の算術平均粗さRaおよび所定の最大高さRzを有する凹凸面でありうる。
[Surface roughness of optical film]
The surface of the optical film on the substrate side can be a concavo-convex surface having a predetermined arithmetic mean roughness Ra and a predetermined maximum height Rz.

光学フィルムの基材側の表面の算術平均粗さRaは上記式(1)を満たす。つまり、光学フィルムの基材側の表面のRaは、0.04μm以上である。光学フィルムの基材側の表面のRaは、好ましくは0.05μm以上、より好ましくは0.06μm以上であり、好ましくは0.12μm以下、より好ましくは0.10μm以下である。光学フィルムの基材側の表面のRaが、0.04μm以上であることにより、光学フィルムを巻き重ねた際に重なり合うフィルムの面同士(すなわち、光学フィルムの基材側の表面と、当該表面とは反対側の面との間)に生じうる摩擦を小さくし、光学フィルムの滑り性を優れたものとしうる。 The arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical film on the substrate side satisfies the above formula (1). That is, Ra on the surface of the optical film on the substrate side is 0.04 μm or more. The Ra on the surface of the optical film on the substrate side is preferably 0.05 μm or more, more preferably 0.06 μm or more, preferably 0.12 μm or less, and more preferably 0.10 μm or less. When the Ra of the surface of the optical film on the substrate side is 0.04 μm or more, the surfaces of the films that overlap when the optical films are wound (that is, the surface of the optical film on the substrate side and the surface thereof) Can reduce the friction that can occur between the surface and the opposite surface, and improve the slipperiness of the optical film.

本発明の光学フィルムの基材側の表面の最大高さRzは上記式(2)を満たす。つまり、光学フィルムの基材側の表面のRzは、0.7μm以上である。光学フィルムの基材側の表面のRzは、好ましくは0.8μm以上、より好ましくは0.9μm以上であり、好ましくは1.5μm以下、より好ましくは1.3μm以下である。光学フィルムの基材側の表面のRzが、0.7μm以上であることにより、光学フィルムを巻き重ねた際に、重なり合うフィルムの面同士(すなわち、光学フィルムの基材側の表面と、当該表面とは反対側の面との間)に生じうる摩擦を小さくし、光学フィルムの滑り性を優れたものとしうる。 The maximum height Rz of the surface of the optical film of the present invention on the substrate side satisfies the above formula (2). That is, the Rz of the surface of the optical film on the substrate side is 0.7 μm or more. The Rz of the surface of the optical film on the substrate side is preferably 0.8 μm or more, more preferably 0.9 μm or more, preferably 1.5 μm or less, and more preferably 1.3 μm or less. When the Rz of the surface of the optical film on the substrate side is 0.7 μm or more, when the optical films are wound, the surfaces of the overlapping films (that is, the surface of the optical film on the substrate side and the surface thereof) The friction that can occur between the surface and the surface on the opposite side can be reduced, and the slipperiness of the optical film can be improved.

光学フィルムが単一の基材からなる態様である場合、および、光学フィルムがおもて面と裏面にそれぞれ基材を備える態様である場合、光学フィルムのおもて面と裏面の両方が基材側の表面となりうる。このような場合、光学フィルムのおもて面及び裏面のうち、少なくとも一方の面において、Ra及びRzが上記式(1)および上記式(2)を満たしていればよい。また、このような場合、光学フィルムのおもて面及び裏面における、RaおよびRzはともに同一であってもよいし、RaおよびRzのいずれか一方又は両方が異なっていてもよい。 When the optical film is composed of a single substrate and when the optical film is provided with substrates on the front surface and the back surface, both the front surface and the back surface of the optical film are based. It can be the surface on the material side. In such a case, Ra and Rz may satisfy the above formulas (1) and (2) on at least one of the front surface and the back surface of the optical film. Further, in such a case, Ra and Rz on the front surface and the back surface of the optical film may be the same, or either one or both of Ra and Rz may be different.

光学フィルムの表面のRaおよびRzは、例えば、微細形状測定器(小坂研究所社製、SurfcorderET4000A)を用いて測定しうる。 Ra and Rz on the surface of the optical film can be measured using, for example, a fine shape measuring instrument (Surfcorder ET4000A manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.).

本発明において、光学フィルムの基材側の表面は、直接賦形により、RaおよびRzが上記式(1)および上記式(2)を満たすように形成しうる。本発明において、「直接賦形」とは、光学フィルムの基材側の表面に物理的加工を施して凹凸を形成することを意味する。直接賦形の方法としては、ブラスト処理法、タッチロール成形法等が挙げられる。 In the present invention, the surface of the optical film on the substrate side can be formed so that Ra and Rz satisfy the above formulas (1) and (2) by direct shaping. In the present invention, "direct shaping" means that the surface of the optical film on the substrate side is physically processed to form irregularities. Examples of the direct shaping method include a blasting method and a touch roll forming method.

本発明において、ブラスト処理法は、フィルムの表面に研磨材を吹き付けて凹凸を形成する方法である。ブラスト処理法としては、例えば、研磨材を吹き付けて凹凸を形成するサンドブラスト法、研磨剤を含むブラスト用流体を吹き付けて凹凸を形成するウエットブラスト法等が挙げられる。ブラスト処理後のフィルムにおける研磨剤の残留を防止できるという観点から、ウエットブラスト法が好ましい。ブラスト処理に用いる研磨剤としては、アルミナ、樹脂、ガラス粒子、ジルコニア、ステンレス等を用いうる。ウエットブラストに用いるブラスト用流体は、液体の媒体と、媒体中に懸濁された固形の研磨剤を含むスラリー状の分散液としうる。媒体の例としては、水が挙げられる。 In the present invention, the blasting method is a method of spraying an abrasive on the surface of a film to form irregularities. Examples of the blasting method include a sandblasting method in which an abrasive is sprayed to form irregularities, a wet blasting method in which a blasting fluid containing an abrasive is sprayed to form irregularities, and the like. The wet blast method is preferable from the viewpoint of preventing the residual abrasive from remaining in the film after the blast treatment. As the abrasive used for the blasting treatment, alumina, resin, glass particles, zirconia, stainless steel and the like can be used. The blasting fluid used for wet blasting can be a slurry-like dispersion containing a liquid medium and a solid abrasive suspended in the medium. An example of a medium is water.

ウエットブラスト法により、光学フィルムの基材側の表面に凹凸を形成する場合、ブラスト用流体を吹き付ける時間、速度、及び圧力、研磨剤の粒子径、ブラスト用流体中の研磨剤の含有割合等のブラスト条件を調整することにより、フィルム表面のRaおよびRzを調整しうる。 When unevenness is formed on the surface of the optical film on the substrate side by the wet blast method, the time, speed, and pressure of spraying the blasting fluid, the particle size of the abrasive, the content ratio of the abrasive in the blasting fluid, etc. Ra and Rz on the film surface can be adjusted by adjusting the blasting conditions.

本発明において、タッチロール成形法は、フィルムに凹凸形状を付与するタッチロールと、バックアップロールとの間に配したフィルムを押圧して、凹凸を形成する方法である。使用するタッチロールの材質は、特に限定されないが、ゴム等の弾性体からなるタッチロール、金属等の剛体からなるタッチロール等が挙げられる。フィルムの幅方向における転写を安定なものとするという観点から、弾性体からなるタッチロールが好ましい。 In the present invention, the touch roll molding method is a method of forming irregularities by pressing a film arranged between a touch roll that imparts an uneven shape to a film and a backup roll. The material of the touch roll to be used is not particularly limited, and examples thereof include a touch roll made of an elastic body such as rubber and a touch roll made of a rigid body such as metal. A touch roll made of an elastic body is preferable from the viewpoint of stabilizing the transfer in the width direction of the film.

タッチロール成形法によりフィルムに凹凸を形成する場合、凹凸形状を付与しやすいという観点から、溶融押出し法により製造したフィルムを用いるのが好ましい。また、タッチロールのRaおよびRzは、最終的にフィルムに形成されるRaおよびRzに対して、100%以上200%以下であることが好ましい。 When forming irregularities on the film by the touch roll molding method, it is preferable to use the film produced by the melt extrusion method from the viewpoint of easily imparting the irregularities. Further, Ra and Rz of the touch roll are preferably 100% or more and 200% or less with respect to Ra and Rz finally formed on the film.

[光学フィルムの静摩擦係数]
本発明の光学フィルムの一方の面と、光学フィルムの前記面とは反対側の面との静摩擦係数は、好ましくは0.5以下、より好ましくは0.4以下、さらにより好ましくは0.3以下である 。光学フィルムの静摩擦係数が0.5以下であることにより、光学フィルムの滑り性を優れたものとし、光学フィルムを巻き重ねたときにブロッキングの発生を防止し、巻き姿を良好なものとしうる。特に光学フィルムの静摩擦係数が0.3以下であることにより、ブロッキングに由来する傷などの欠陥発生をより有効に抑制しうる。ここで、欠陥は、フィルム端末を目視検査するか、もしくは、インラインで、傷検査装置(メック社製)を用いることにより検査しうる。
[Coefficient of static friction of optical film]
The coefficient of static friction between one surface of the optical film of the present invention and the surface of the optical film opposite to the surface is preferably 0.5 or less, more preferably 0.4 or less, and even more preferably 0.3. It is as follows. When the coefficient of static friction of the optical film is 0.5 or less, the slipperiness of the optical film can be made excellent, blocking can be prevented when the optical films are rolled up, and the wound shape can be made good. In particular, when the coefficient of static friction of the optical film is 0.3 or less, it is possible to more effectively suppress the occurrence of defects such as scratches due to blocking. Here, the defect can be inspected by visually inspecting the film terminal or in-line by using a scratch inspection device (manufactured by MEC).

光学フィルムの静摩擦係数は、JIS K7125に規定する方法に準拠して、例えば摩擦測定器(東洋精機製作所製、「TR−2」)を用いて測定しうる。 The coefficient of static friction of the optical film can be measured by using, for example, a friction measuring instrument (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, “TR-2”) in accordance with the method specified in JIS K7125.

[光学フィルムの内部ヘイズ]
本発明の光学フィルムの内部ヘイズは0.5%以下である。光学フィルムの内部ヘイズは、好ましくは0.4%以下、より好ましくは0.3%以下であり、より好ましくは0である。内部ヘイズが0.5%以下であることにより、光学フィルムを、光学用途において充分な透明性を有するものとしうる。
[Internal haze of optical film]
The internal haze of the optical film of the present invention is 0.5% or less. The internal haze of the optical film is preferably 0.4% or less, more preferably 0.3% or less, and more preferably 0. When the internal haze is 0.5% or less, the optical film can have sufficient transparency in optical applications.

光学フィルムの内部ヘイズは、石英セル内に、臭化亜鉛を純水で希釈した水溶液を入れ、光学フィルムから切り出された長方形状のフィルム片を前記石英セル中に挿入して、石英セルをヘイズメーターに設置してそのヘイズを測定することにより、測定しうる。 For the internal haze of the optical film, an aqueous solution obtained by diluting zinc bromide with pure water is placed in the quartz cell, and a rectangular film piece cut out from the optical film is inserted into the quartz cell to haze the quartz cell. It can be measured by installing it on a meter and measuring its haze.

[光学フィルムのレターデーション]
本発明において、光学フィルムの面内方向のレターデーションReは、下記式(3)を満たすのが好ましい。
−10nm≦Re≦10nm (3)
[Optical film retardation]
In the present invention, the in-plane retardation Re of the optical film preferably satisfies the following formula (3).
-10nm ≤ Re ≤ 10nm (3)

光学フィルムのReは、より好ましくは−8nm以上、特に好ましくは−5nm以上であり、より好ましくは8nm以下、特に好ましくは5nm以下である。 The Re of the optical film is more preferably -8 nm or more, particularly preferably -5 nm or more, more preferably 8 nm or less, and particularly preferably 5 nm or less.

本発明において、光学フィルムの厚み方向のレターデーションRthは、下記式(4)を満たすのが好ましい。
−30nm≦Rth≦30nm (4)
In the present invention, the retardation Rth in the thickness direction of the optical film preferably satisfies the following formula (4).
-30nm ≤ Rth ≤ 30nm (4)

光学フィルムのRthは、より好ましくは−20nm以上、特に好ましくは−10nm以上であり、より好ましくは20nm以下、特に好ましくは10nm以下である。 The Rth of the optical film is more preferably −20 nm or more, particularly preferably −10 nm or more, more preferably 20 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less.

光学フィルムのReおよびRthは、例えば、AXOMETRICS社製、Axo Scan OPMF−1により、測定しうる。測定波長は590nmとしうる。 The Re and Rth of the optical film can be measured by, for example, AXO Scan OPMF-1 manufactured by AXOMETRICS. The measurement wavelength can be 590 nm.

[光学フィルムの形態]
光学フィルムは枚葉のフィルムであってもよいし、長尺のフィルムであってもよい。長尺のフィルムは、通常、フィルムロールの形態とされ得るが、本発明の光学フィルムは、基材側の表面は所定のRaおよびRzを有し、滑り性に優れるので、フィルムロールとしたときに、ブロッキング等の発生が抑制され、巻き姿を良好なものとしうる。また、ロール・トゥ・ロール法によって効率的に製造できるという観点からも、光学フィルムとしては、長尺のフィルムが好ましい。
[Form of optical film]
The optical film may be a single-wafer film or a long film. A long film can usually be in the form of a film roll, but the optical film of the present invention has predetermined Ra and Rz on the surface on the substrate side and is excellent in slipperiness. In addition, the occurrence of blocking and the like can be suppressed, and the winding shape can be improved. Further, from the viewpoint of efficient production by the roll-to-roll method, a long film is preferable as the optical film.

光学フィルムは、延伸されていない未延伸フィルムであってもよく、延伸された延伸フィルムであってもよい。 The optical film may be an unstretched unstretched film or a stretched stretched film.

[光学フィルムの厚み]
光学フィルムの厚みに、特に制限は無い。光学フィルムの具体的な厚みは、薄型化の観点から、好ましくは20μm以上、より好ましくは25μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは60μm以下である。
[Thickness of optical film]
The thickness of the optical film is not particularly limited. The specific thickness of the optical film is preferably 20 μm or more, more preferably 25 μm or more, preferably 200 μm or less, and more preferably 60 μm or less from the viewpoint of thinning.

[光学フィルムの製造方法]
次に、本発明の光学フィルムの製造方法の一例を説明する。
本発明の光学フィルムは、基材を含むフィルムを製造する工程1と、前記フィルムの基材側の表面に、RaおよびRzが上記式(1)および上記式(2)を満たすように凹凸を形成する工程2と、を含む製造方法により、製造しうる。
[Manufacturing method of optical film]
Next, an example of the method for producing the optical film of the present invention will be described.
The optical film of the present invention has irregularities on the surface of the film on the base material side in step 1 of manufacturing a film containing a base material so that Ra and Rz satisfy the above formulas (1) and (2). It can be produced by a production method including step 2 of forming.

[工程1]
工程1は基材を含むフィルムを製造する工程である。
光学フィルムが単一の基材からなる態様である場合、基材の材料となるシクロオレフィン重合体を含む樹脂を、フィルム状に成形することにより、基材を含むフィルムが得られる。
[Step 1]
Step 1 is a step of producing a film containing a base material.
When the optical film is composed of a single base material, a film containing the base material can be obtained by molding a resin containing a cycloolefin polymer as a material of the base material into a film shape.

シクロオレフィン重合体を含む樹脂をフィルム状に成形する方法には、特に制限は無い。樹脂をフィルム状に成形する方法としては、溶融押出し法、溶液キャスト法、溶液流延法等が挙げられる。これらのうち、工程2において凹凸が形成しやすいという観点から、溶融押出し法が好ましい。 The method for molding the resin containing the cycloolefin polymer into a film is not particularly limited. Examples of the method for forming the resin into a film include a melt extrusion method, a solution casting method, and a solution casting method. Of these, the melt extrusion method is preferable from the viewpoint that unevenness is likely to be formed in step 2.

基材を含むフィルムが複数の層からなる態様である場合、別々に製造した二以上の層を接着剤等により貼合する方法、各層を構成する樹脂を共押出することにより複数の層を有するフィルムを製造する方法、一つの層を製造した後、当該層に、塗布により別の層を形成する方法等により、基材を含むフィルムを得ることができる。 When the film containing the base material is composed of a plurality of layers, a method of laminating two or more separately produced layers with an adhesive or the like, or coextruding the resin constituting each layer to have the plurality of layers. A film containing a base material can be obtained by a method of producing a film, a method of producing one layer and then forming another layer on the layer by coating, or the like.

[工程2]
工程2は、基材を含むフィルムの、基材側の表面に、RaおよびRzが上記式(1)および上記式(2)を満たすように凹凸を形成する工程である。
基材を含むフィルムの基材側の表面に、凹凸を形成する方法としては、ブラスト処理法、タッチロール成形法等の直接賦形による方法が好ましい。ブラスト処理法およびタッチロール成形法については、上述した通りである。
[Step 2]
The step 2 is a step of forming irregularities on the surface of the film containing the base material on the base material side so that Ra and Rz satisfy the above formulas (1) and (2).
As a method for forming irregularities on the surface of the film containing the base material on the base material side, a method by direct shaping such as a blast treatment method and a touch roll molding method is preferable. The blasting method and the touch roll forming method are as described above.

[任意工程]
光学フィルムの製造方法は、基材を含むフィルムを延伸する延伸工程を含みうる。所望のRaおよびRzを有する光学フィルムを得るという観点から、延伸工程は、工程2を行う前に行うことが好ましい。
延伸工程における、延伸条件(延伸方向、延伸温度等)については特に制限はなく、光学フィルムの用途等に応じて適宜選択しうる。
[Arbitrary process]
The method for producing an optical film may include a stretching step of stretching a film containing a base material. From the viewpoint of obtaining an optical film having desired Ra and Rz, the stretching step is preferably performed before the step 2.
The stretching conditions (stretching direction, stretching temperature, etc.) in the stretching step are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the application of the optical film and the like.

[用途]
本発明の光学フィルムは、基材側の表面のRaが0.04以上、Rzが0.7以上であり、滑り性に優れるので、フィルムを巻き重ねた際にフィルム同士の固着が生じにくくハンドリング性に優れる。また、本発明の光学フィルムはシクロオレフィン重合体を含み、内部ヘイズが0.5%以下なので、透明性に優れており、光学用途に好適である。本発明の光学フィルムはこのような優れた性質を有するので、例えば、偏光板保護用のフィルム等として好適に用いうる。
[Use]
The optical film of the present invention has Ra of 0.04 or more and Rz of 0.7 or more on the surface of the base material side and is excellent in slipperiness. Therefore, when the films are wound, the films are less likely to stick to each other for handling. Excellent in sex. Further, since the optical film of the present invention contains a cycloolefin polymer and has an internal haze of 0.5% or less, it has excellent transparency and is suitable for optical applications. Since the optical film of the present invention has such excellent properties, it can be suitably used as, for example, a film for protecting a polarizing plate.

本発明の光学フィルムの、一方の面または両方の面には、用途に応じ任意の層を設けうる。任意の層としては、例えば、ハードコート層、低屈折率層、帯電防止層等が挙げられる。これらの任意の層は、例えば、巻き取られた状態の光学フィルムから光学フィルムを繰り出して、繰り出された光学フィルムの一方の面または両方の面に、任意の層の材料となる樹脂等を塗布する方法等により設けうる。 An arbitrary layer may be provided on one surface or both surfaces of the optical film of the present invention depending on the application. Examples of the optional layer include a hard coat layer, a low refractive index layer, an antistatic layer and the like. For these arbitrary layers, for example, the optical film is unwound from the wound optical film, and one or both surfaces of the unwound optical film are coated with a resin or the like as a material for the arbitrary layer. It can be provided by a method or the like.

[2.複層フィルム]
本発明の複層フィルムは、本発明の光学フィルムと、当該光学フィルムの基材側の表面の上に設けられたハードコート層と、を含む。光学フィルムの表面にハードコート層を設けることにより、反射防止、帯電防止、耐擦傷性、強度等の性能を付与しうる。ハードコート層は、クリアハードコート層およびアンチグレアハードコート層を含みうる。
[2. Multi-layer film]
The multilayer film of the present invention includes the optical film of the present invention and a hard coat layer provided on the surface of the optical film on the substrate side. By providing the hard coat layer on the surface of the optical film, performances such as antireflection, antistatic, scratch resistance, and strength can be imparted. The hard coat layer may include a clear hard coat layer and an anti-glare hard coat layer.

光学フィルムが単一の基材からなる態様である場合、および、光学フィルムがおもて面と裏面にそれぞれ基材を備える態様である場合、光学フィルムのおもて面及び裏面のうち、一方の面または両方の面にハードコート層を設けうる。光学フィルムの一方の面が基材側の面ではない場合、当該面にハードコート層が設けられていてもよい。 When the optical film is composed of a single base material and when the optical film is provided with a base material on the front surface and the back surface, one of the front surface and the back surface of the optical film. A hard coat layer may be provided on one or both surfaces. When one surface of the optical film is not the surface on the substrate side, a hard coat layer may be provided on the surface.

ハードコート層を形成する工程と、光学フィルムを製造する工程とは、通常、生産速度が相違する。そのため、ハードコート層は、巻き取られた状態の光学フィルムから光学フィルムを繰り出して、繰り出された光学フィルムの基材側の表面に、ハードコート層を形成する組成物を塗布することにより形成しうる。本発明の光学フィルムは、フィルムを巻き重ねた際にフィルム同士の固着が生じにくくハンドリング性に優れるので、当該光学フィルムの表面にハードコート層を形成する工程を円滑に行うことができ、作業効率に優れる。 The production speed is usually different between the process of forming the hard coat layer and the process of producing the optical film. Therefore, the hard coat layer is formed by feeding out an optical film from the wound optical film and applying a composition for forming the hard coat layer to the surface of the drawn optical film on the substrate side. sell. Since the optical film of the present invention is less likely to stick to each other when the films are wound and has excellent handleability, the process of forming a hard coat layer on the surface of the optical film can be smoothly performed, and work efficiency can be achieved. Excellent for.

ハードコート層を形成する組成物としては、例えば、活性エネルギー線により硬化しうる、活性エネルギー線硬化型樹脂と微粒子とを含む組成物が挙げられる。活性エネルギー線としては、紫外線、電子線などが挙げられる。 Examples of the composition for forming the hard coat layer include a composition containing an active energy ray-curable resin and fine particles that can be cured by active energy rays. Examples of the active energy ray include ultraviolet rays and electron beams.

活性エネルギー線硬化型樹脂としては、硬化後にJIS K5600−5−4に規定される鉛筆硬度試験で、「HB」以上の硬度を示す樹脂が好ましい。 As the active energy ray-curable resin, a resin having a hardness of "HB" or higher in a pencil hardness test specified in JIS K5600-5-4 after curing is preferable.

活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系、多官能アクリレート系の、活性エネルギー線硬化型樹脂が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、強靭性及び生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂及び/又は多官能アクリレート系紫外線硬化型樹脂が好ましい。 Examples of the active energy ray-curable resin include organic silicone-based, melamine-based, epoxy-based, acrylic-based, urethane acrylate-based, and polyfunctional acrylate-based active energy ray-curable resins. Among them, urethane acrylate-based ultraviolet curable resin and / or polyfunctional acrylate-based ultraviolet curable resin are preferable from the viewpoint of good adhesive strength, excellent toughness and productivity.

微粒子は、有機物から構成される有機微粒子であっても、無機物から構成される無機微粒子であってもよい。微粒子は、好ましくは無機微粒子であり、より好ましくは無機酸化物の微粒子である。微粒子を構成しうる無機酸化物としては、例えば、シリカ、チタニア(酸化チタン)、ジルコニア(酸化ジルコニウム)、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化セリウム、五酸化アンチモン、二酸化チタン、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、リンをドープした酸化錫(PTO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、及びフッ素をドープした酸化スズ(FTO)が挙げられる。 The fine particles may be organic fine particles composed of an organic substance or inorganic fine particles composed of an inorganic substance. The fine particles are preferably inorganic fine particles, and more preferably inorganic oxide fine particles. Examples of the inorganic oxides that can form fine particles include silica, titania (titanium oxide), zirconia (zinc oxide), zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony pentoxide, titanium dioxide, and tin-doped indium oxide (tin). ITO), antimonated tin oxide (ATO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), zinc-doped indium oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), and fluorine-doped tin oxide. (FTO) can be mentioned.

微粒子としては、ハードコート層を形成するバインダーとしての樹脂との密着性と、透明性とのバランスに優れ、ハードコート層の屈折率を容易に調整できるので、シリカ微粒子が好ましい。 As the fine particles, silica fine particles are preferable because they have an excellent balance between the adhesion to the resin as a binder for forming the hard coat layer and the transparency, and the refractive index of the hard coat layer can be easily adjusted.

ハードコート層を形成するための組成物は、微粒子を1種単独で含んでいても、2種以上の組み合わせで含んでいてもよい。 The composition for forming the hard coat layer may contain fine particles of one kind alone or in a combination of two or more kinds.

微粒子の数平均粒子径は、好ましくは1nm以上1000nm以下であり、より好ましくは、1nm以上500nm以下であり、更に好ましくは、1nm以上250nm以下である。微粒子の数平均粒子径が小さいほど、ハードコート層のヘイズを低くすることができ、微粒子と、ハードコート層を形成するバインダーとしての樹脂との密着性を高くすることができる。 The number average particle size of the fine particles is preferably 1 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 1 nm or more and 500 nm or less, and further preferably 1 nm or more and 250 nm or less. The smaller the number average particle size of the fine particles, the lower the haze of the hard coat layer, and the higher the adhesion between the fine particles and the resin as a binder forming the hard coat layer.

ハードコート層を形成するための組成物において、微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化型樹脂100重量部に対して、好ましくは10〜80重量部であり、より好ましくは10〜50重量部であり、更に好ましくは20〜40重量部である。微粒子の含有量が上記範囲であると、ヘイズ値等の光学特性に優れる。 In the composition for forming the hard coat layer, the content of the fine particles is preferably 10 to 80 parts by weight, more preferably 10 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin. Yes, more preferably 20-40 parts by weight. When the content of the fine particles is in the above range, the optical characteristics such as the haze value are excellent.

ハードコート層を形成するための組成物は、活性エネルギー線硬化型樹脂を溶解又は分散させるための溶剤を含んでいてもよい。該溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等のアルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等が挙げられる。 The composition for forming the hard coat layer may contain a solvent for dissolving or dispersing the active energy ray-curable resin. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol; such as ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether, and diacetone glycol. Glycols; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; methyl ethyl ketooxime Oxymes such as; and combinations consisting of two or more of these; etc.

活性エネルギー線硬化型樹脂を紫外線により硬化させる場合、ハードコート層を形成するための組成物は、更に光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、例えば、従前公知の光重合開始剤が挙げられ、具体的には、例えば、ベンゾフェノン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「ダロキュアー1173」、「イルガキュアー651」、「イルガキュアー184」、「イルガキュアー907」、「イルガキュアー754」などが挙げられる。 When the active energy ray-curable resin is cured by ultraviolet rays, the composition for forming the hard coat layer may further contain a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include previously known photopolymerization initiators. Specifically, for example, benzophenone, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. "DaroCure 1173", "Irgacure 651", "Irgacure" 184 ”,“ Irgacure 907 ”,“ Irgacure 754 ”and the like.

ハードコート層を形成するための組成物は、上記微粒子及び活性エネルギー線硬化型樹脂以外に、各種添加剤(例、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、光安定剤、溶剤、消泡剤、レベリング剤)を含んでいてもよい。 In addition to the above-mentioned fine particles and active energy ray-curable resin, the composition for forming the hard coat layer includes various additives (eg, polymerization inhibitor, antioxidant, ultraviolet absorber, antistatic agent, light stabilizer, etc. It may contain a solvent, a defoaming agent, a leveling agent).

複層フィルムは、光学フィルムの基材側の表面に、ハードコート層を形成する組成物を塗布した後、当該組成物からなる塗布層を乾燥させて乾燥された塗布層を得る工程、当該乾燥された塗工層に、たとえば紫外線等の活性エネルギー線を照射してハードコート層を得る工程を行うことにより、製造しうる。塗布層の乾燥条件(乾燥温度、乾燥時間等)、活性エネルギー線の照射条件(照射量、照射時間等)は、ハードコート層を形成する組成物の成分等を考慮して、選択しうる。また、光学フィルムに、ハードコート層を形成する組成物を塗布する前に、光学フィルムの基材側の面にコロナ処理などの表面処理を施してもよい。 The multi-layer film is a step of applying a composition for forming a hard coat layer to the surface of an optical film on the substrate side and then drying the coating layer made of the composition to obtain a dried coating layer. It can be produced by irradiating the coated layer with active energy rays such as ultraviolet rays to obtain a hard coat layer. The drying conditions (drying temperature, drying time, etc.) of the coating layer and the irradiation conditions (irradiation amount, irradiation time, etc.) of the active energy rays can be selected in consideration of the components of the composition forming the hard coat layer. Further, before applying the composition for forming the hard coat layer to the optical film, a surface treatment such as a corona treatment may be applied to the surface of the optical film on the substrate side.

ハードコート層の厚みは、好ましくは3μm以上20μm以下であり、より好ましくは、7μm以上13μm以下である。 The thickness of the hard coat layer is preferably 3 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 7 μm or more and 13 μm or less.

複層フィルムはハードコート層の上に、任意の層を含んでいてもよい。任意の層としては、位相差フィルム等と接着するための接着層、フィルムの滑り性を良くするマット層、反射防止層、防汚層等が挙げられる。 The multilayer film may contain an arbitrary layer on the hard coat layer. Examples of the optional layer include an adhesive layer for adhering to a retardation film and the like, a matte layer for improving the slipperiness of the film, an antireflection layer, an antifouling layer and the like.

本発明の複層フィルムは、種々の用途に使用されうるが、たとえば位相差フィルム、偏光子などの機能層と組み合わせて種々の光学フィルムを製造するために使用されうる。 The multilayer film of the present invention can be used for various purposes, and can be used for producing various optical films in combination with a functional layer such as a retardation film or a polarizer.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and can be arbitrarily modified and implemented without departing from the scope of claims of the present invention and the equivalent scope thereof.

以下の説明において、量を表す「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。 In the following description, the "part" representing the quantity is based on weight unless otherwise specified. The operations described below were performed under normal temperature and pressure conditions unless otherwise specified.

[評価方法]
(内部ヘイズの測定)
高さ55mm、横40mm、幅14mmの石英セル内に、臭化亜鉛を純水で希釈した臭化亜鉛水溶液(屈折率1.53)を入れた。石英セルをヘイズメーター(日本電色社製「NDH7000」)に設置し、ヘイズを測定し、ゼロ補正を行った。次いで、各例で得られたフィルムを長方形状に切り出し、切り出されたフィルム片を前記石英セル中に挿入した。フィルム片を挿入した石英セルをヘイズメーター(日本電色社製「NDH7000」)に設置し、フィルムの内部ヘイズを測定した。
[Evaluation method]
(Measurement of internal haze)
An aqueous zinc bromide solution (refractive index 1.53) obtained by diluting zinc bromide with pure water was placed in a quartz cell having a height of 55 mm, a width of 40 mm, and a width of 14 mm. A quartz cell was installed in a haze meter (“NDH7000” manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.), haze was measured, and zero correction was performed. Next, the film obtained in each example was cut out in a rectangular shape, and the cut out film piece was inserted into the quartz cell. A quartz cell in which a film piece was inserted was placed in a haze meter (“NDH7000” manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.), and the internal haze of the film was measured.

(静摩擦係数の測定)
各例で得られたフィルムの静摩擦係数は以下の方法により測定した。各例で製造したフィルムを、50mm×50mmのサイズに切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、JIS K7125に準拠して、摩擦測定器(東洋精機製作所製、「TR‐2」)を用いて、速度500mm/分の条件で、静摩擦係数を測定した。測定の相手材(測定時に試験片の表面と接触する部材)としては、試験片を切り出したのと同じフィルムを用いた。実施例で得られた光学フィルムについては、フィルムのブラスト処理面と、フィルムのブラスト処理面とは反対側の面との静摩擦係数を測定した。比較例で得られたフィルムについては、フィルムの一方の面と、当該面とは反対側の面との静摩擦係数を測定した。
(Measurement of coefficient of static friction)
The coefficient of static friction of the films obtained in each example was measured by the following method. The film produced in each example was cut into a size of 50 mm × 50 mm to obtain a test piece. Using this test piece, the coefficient of static friction was measured at a speed of 500 mm / min using a friction measuring instrument (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, "TR-2") in accordance with JIS K7125. As the mating material for measurement (a member that comes into contact with the surface of the test piece during measurement), the same film that was cut out from the test piece was used. For the optical film obtained in the examples, the coefficient of static friction between the blasted surface of the film and the surface opposite to the blasted surface of the film was measured. For the film obtained in the comparative example, the coefficient of static friction between one surface of the film and the surface opposite to the surface was measured.

(表面粗さの測定)
フィルムの表面の、算術平均粗さRaおよび最大高さRzの測定は、微細形状測定器(小坂研究所社製、SurfcorderET4000A)を用いて行った。測定は、測定範囲1000μm×1000μm、測定速度2m/秒、2CRフィルタ低域カット(カットオフ値0.800mm)、2CRフィルタ高域カット(カットオフ値0.000mm)の条件で行った。
(Measurement of surface roughness)
The arithmetic mean roughness Ra and the maximum height Rz on the surface of the film were measured using a fine shape measuring instrument (Surfcorder ET4000A manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.). The measurement was performed under the conditions of a measurement range of 1000 μm × 1000 μm, a measurement speed of 2 m / sec, a 2CR filter low frequency cut (cutoff value 0.800 mm), and a 2CR filter high frequency cut (cutoff value 0.000 mm).

(レターデーションの測定方法)
フィルムの面内レタデーションRe、厚み方向のレタデーションRthは、AXOMETRICS社製、Axo Scan OPMF−1により測定した。この際、測定は、波長590nmで行った。
(Measurement method of retardation)
The in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth of the film were measured by Axo Scan OPMF-1 manufactured by AXOMETRICS. At this time, the measurement was performed at a wavelength of 590 nm.

[実施例1]
(1−1)基材の製造
ノルボルネン重合体を含む脂環式オレフィン樹脂(日本ゼオン社製「ZEONOR」、ガラス転移温度160℃)のペレットを用意した。
[Example 1]
(1-1) Production of Substrate A pellet of an alicyclic olefin resin containing a norbornene polymer (“ZEONOR” manufactured by Nippon Zeon Corporation, glass transition temperature 160 ° C.) was prepared.

樹脂ペレットを100℃で5時間乾燥した後、押出機に供給し、溶融後ポリマーフィルターを通し、Tダイよりキャスティングドラム上にシート状に押出冷却し、厚み40μmの基材を作成した。 The resin pellets were dried at 100 ° C. for 5 hours, supplied to an extruder, melted, passed through a polymer filter, and extruded and cooled from a T-die onto a casting drum in the form of a sheet to prepare a substrate having a thickness of 40 μm.

(1−2)光学フィルムの製造
(1−1)で製造した基材の一方の面に対し、ウエットブラスト装置(マコー社製「シグマ」)を用いて、ウエットブラスト処理を行い、光学フィルムを得た。ウエットブラスト用の流体としては、液体の媒体及びその中に分散された固形の研磨剤を含む分散液を用いた。研磨剤としては、アルミナ(A♯2000)を用い、媒体としては水を用いた。処理面が所定の表面粗さとなるように、ブラスト用流体中の研磨剤の含有割合、ブラスト液の吹き付け速度、吹き付け時間等のブラスト条件を調整した。得られた光学フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、光学フィルムの処理面のRaは0.05μm、Rzは0.8μmであり、内部ヘイズは0%、静摩擦係数は0.4、Reは2nm、Rthは7nmであった。得られた光学フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいてブロッキングは認められず、巻き姿は良好であった。
(1-2) Manufacture of Optical Film One surface of the base material manufactured in (1-1) is wet-blasted using a wet blasting device (“Sigma” manufactured by Macau) to obtain an optical film. Obtained. As the fluid for wet blasting, a liquid medium and a dispersion liquid containing a solid abrasive dispersed therein were used. Alumina (A # 2000) was used as the abrasive, and water was used as the medium. The blasting conditions such as the content ratio of the abrasive in the blasting fluid, the spraying speed of the blasting liquid, and the spraying time were adjusted so that the treated surface had a predetermined surface roughness. The obtained optical film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra of the treated surface of the optical film was 0.05 μm, Rz was 0.8 μm, the internal haze was 0%, the coefficient of static friction was 0.4, Re was 2 nm, and Rth was 7 nm. No blocking was observed in the film roll obtained by winding the obtained optical film into a roll, and the rolled shape was good.

[実施例2]
実施例1の(1−2)において、ウエットブラスト処理後の処理面のRaが0.07μm、Rzが1.1μmとなるように、ブラスト条件を調整してウエットブラスト処理を行ったこと以外は、実施例1の(1−2)と同じ操作を行い、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、光学フィルムの処理面のRaは0.07μm、Rzは1.1μmであり、内部ヘイズは0%、静摩擦係数は0.3、Reは2nm、Rthは7nmであった。得られた光学フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいてブロッキングは認められず、巻き姿は良好であった。
[Example 2]
Except that in (1-2) of Example 1, the wet blasting treatment was performed by adjusting the blasting conditions so that the Ra of the treated surface after the wet blasting treatment was 0.07 μm and the Rz was 1.1 μm. The same operation as in (1-2) of Example 1 was carried out to obtain an optical film. The obtained optical film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra of the treated surface of the optical film was 0.07 μm, Rz was 1.1 μm, the internal haze was 0%, the coefficient of static friction was 0.3, Re was 2 nm, and Rth was 7 nm. No blocking was observed in the film roll obtained by winding the obtained optical film into a roll, and the rolled shape was good.

[実施例3]
実施例1の(1−2)において、ウエットブラスト処理後の処理面のRaが0.10μm、Rzが1.3μmとなるように、ブラスト条件を調整してウエットブラスト処理を行ったこと以外は、実施例1の(1−2)と同じ操作を行い、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、光学フィルムの処理面のRaは0.10μm、Rzは1.3μm、内部ヘイズは0%、静摩擦係数は0.3、Reは2nm、Rthは7nmであった。得られた光学フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいてブロッキングは認められず、巻き姿は良好であった。
[Example 3]
Except that in (1-2) of Example 1, the wet blasting treatment was performed by adjusting the blasting conditions so that the Ra of the treated surface after the wet blasting treatment was 0.10 μm and the Rz was 1.3 μm. The same operation as in (1-2) of Example 1 was carried out to obtain an optical film. The obtained optical film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra of the treated surface of the optical film was 0.10 μm, Rz was 1.3 μm, the internal haze was 0%, the coefficient of static friction was 0.3, Re was 2 nm, and Rth was 7 nm. No blocking was observed in the film roll obtained by winding the obtained optical film into a roll, and the rolled shape was good.

[比較例1]
(C1−1)シリカ粒子含有樹脂の製造
ノルボルネン重合体を含む脂環式オレフィン樹脂(日本ゼオン社製「ZEONOR」;ガラス転移温度160℃)のペレットと、所定量のシリカ粒子(DIC社製、平均粒子径0.5μm)と、を混合して、二軸押出機(東芝機械社製:TEM‐35B)にて混練し、シリカ粒子含有樹脂を製造した。シリカ粒子の含有量は前記樹脂に対し0.5重量%であった。
[Comparative Example 1]
(C1-1) Production of Silica Particle-Containing Resin Pellets of alicyclic olefin resin (“ZEONOR” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature 160 ° C.) containing a norbornene polymer and a predetermined amount of silica particles (manufactured by DIC Co., Ltd., An average particle size of 0.5 μm) was mixed and kneaded with a twin-screw extruder (manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd .: TEM-35B) to produce a silica particle-containing resin. The content of silica particles was 0.5% by weight based on the resin.

(C1−2)積層フィルムの製造
(C1−1)で製造した樹脂をA層用の樹脂として用意した。(C1−1)で用いたノルボルネン重合体を含む脂環式オレフィン樹脂(日本ゼオン社製「ZEONOR」;ガラス転移温度160℃)のペレットをB層用の樹脂として用意した。
A層用の樹脂及びB層用の樹脂を、多層シート成形機(Collin社製)に供し、A層/B層/A層がこの順で積層され、A層の厚みが10μm、B層の厚みが20μmとなるように成形することにより、厚みが40μmの積層フィルムを得た。当該積層フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、積層フィルムの表面のRaは0.04μm、Rzは0.8μm、内部ヘイズは0.8%、静摩擦係数は0.7、Reは4nm、Rthは10nmであった。得られた積層フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいては、ブロッキングが発生し、巻き姿は不良であった。
(C1-2) Production of Laminated Film The resin produced in (C1-1) was prepared as the resin for the A layer. Pellets of the alicyclic olefin resin (“ZEONOR” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature 160 ° C.) containing the norbornene polymer used in (C1-1) were prepared as the resin for the B layer.
The resin for the A layer and the resin for the B layer were subjected to a multilayer sheet molding machine (manufactured by Collin), and the A layer / B layer / A layer were laminated in this order, and the thickness of the A layer was 10 μm and the thickness of the B layer was increased. By molding so as to have a thickness of 20 μm, a laminated film having a thickness of 40 μm was obtained. The laminated film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra on the surface of the laminated film was 0.04 μm, Rz was 0.8 μm, the internal haze was 0.8%, the coefficient of static friction was 0.7, Re was 4 nm, and Rth was 10 nm. In the film roll obtained by winding the obtained laminated film into a roll shape, blocking occurred and the wound shape was poor.

[比較例2]
(C2−1)シリカ含有樹脂の製造
シリカ粒子の含有量が1.0%となるように、シリカ粒子を混合したこと以外は比較例1の(C1−1)と同じ操作を行い、シリカ含有樹脂を得た。
[Comparative Example 2]
(C2-1) Production of Silica-Containing Resin The same operation as in (C1-1) of Comparative Example 1 was performed except that the silica particles were mixed so that the content of the silica particles was 1.0%, and the silica was contained. The resin was obtained.

(C2−2)積層フィルムの製造
比較例1の(C1−2)において、A層用の樹脂として(C1−1)で製造した樹脂に代えて、上記(C2−1)で製造したシリカ粒子含有樹脂を用いたこと以外は、比較例1の(C1−2)と同じ操作を行い、A層の厚みが10μm、B層の厚みが20μm、総厚みが40μmの積層フィルムを得た。当該積層フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、積層フィルムの表面のRaは0.04μm、Rzは1.0μm、内部ヘイズは1.2%、静摩擦係数は0.7、Reは4nm、Rthは10nmであった。得られた積層フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいては、ブロッキングが発生し、巻き姿は不良であった。
(C2-2) Production of Laminated Film In (C1-2) of Comparative Example 1, the silica particles produced in (C2-1) above were replaced with the resin produced in (C1-1) as the resin for the A layer. The same operation as in (C1-2) of Comparative Example 1 was carried out except that the contained resin was used to obtain a laminated film having a thickness of the A layer of 10 μm, a thickness of the B layer of 20 μm, and a total thickness of 40 μm. The laminated film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra on the surface of the laminated film was 0.04 μm, Rz was 1.0 μm, the internal haze was 1.2%, the coefficient of static friction was 0.7, Re was 4 nm, and Rth was 10 nm. In the film roll obtained by winding the obtained laminated film into a roll shape, blocking occurred and the wound shape was poor.

[比較例3]
(C3−1)シリカ含有樹脂の製造
シリカ粒子として平均粒子径が1μmのシリカ粒子を用いたこと以外は比較例1の(C1−1)と同じ操作を行い、シリカ含有樹脂を得た。
[Comparative Example 3]
(C3-1) Production of Silica-Containing Resin The same operation as in (C1-1) of Comparative Example 1 was carried out except that silica particles having an average particle diameter of 1 μm were used as the silica particles to obtain a silica-containing resin.

(C3−2)積層フィルムの製造
比較例1の(C1−2)において、A層用の樹脂として(C1−1)で製造した樹脂に代えて、上記(C3−1)で製造したシリカ粒子含有樹脂を用いたこと以外は、比較例1の(C1−2)と同じ操作を行い、A層の厚みが10μm、B層の厚みが20μm、総厚みが40μmの積層フィルムを得た。当該積層フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、積層フィルムの表面のRaは0.06μm、Rzは1.2μm、内部ヘイズは1.0%、静摩擦係数は0.7、Reは4nm、Rthは10nmであった。得られた積層フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいては、ブロッキングが発生し、巻き姿は不良であった。
(C3-2) Production of Laminated Film In (C1-2) of Comparative Example 1, the silica particles produced in (C3-1) above were replaced with the resin produced in (C1-1) as the resin for the A layer. The same operation as in (C1-2) of Comparative Example 1 was carried out except that the contained resin was used to obtain a laminated film having a thickness of the A layer of 10 μm, a thickness of the B layer of 20 μm, and a total thickness of 40 μm. The laminated film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra on the surface of the laminated film was 0.06 μm, Rz was 1.2 μm, the internal haze was 1.0%, the coefficient of static friction was 0.7, Re was 4 nm, and Rth was 10 nm. In the film roll obtained by winding the obtained laminated film into a roll shape, blocking occurred and the wound shape was poor.

[比較例4]
(C4−1)シリカ含有樹脂の製造
シリカ粒子として平均粒子径が1μmのシリカ粒子を用いたこと、及びシリカ粒子の含有量が1.0%となるように、シリカ粒子を混合したこと以外は比較例1の(C1−1)と同じ操作を行い、シリカ含有樹脂を得た。
[Comparative Example 4]
(C4-1) Production of Silica-Containing Resin Except that silica particles having an average particle diameter of 1 μm were used as silica particles and that the silica particles were mixed so that the content of the silica particles was 1.0%. The same operation as (C1-1) of Comparative Example 1 was carried out to obtain a silica-containing resin.

(C4−2)積層フィルムの製造
比較例1の(C1−2)において、A層用の樹脂として(C1−1)で製造した樹脂に代えて、上記(C4−1)で製造したシリカ粒子含有樹脂を用いたこと以外は、比較例1の(C1−2)と同じ操作を行い、A層の厚みが10μm、B層の厚みが20μm、総厚みが40μmの積層フィルムを得た。当該積層フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、積層フィルムの表面のRaは0.07μm、Rzは1.4μm、内部ヘイズは2.2%、静摩擦係数は0.6、Reは4nm、Rthは10nmであった。得られた積層フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいては、比較例1よりは少ないが、ブロッキングが認められ、巻き姿は、実施例1〜3よりも劣っていた。
(C4-2) Production of Laminated Film In (C1-2) of Comparative Example 1, the silica particles produced in (C4-1) above were replaced with the resin produced in (C1-1) as the resin for the A layer. The same operation as in (C1-2) of Comparative Example 1 was carried out except that the contained resin was used to obtain a laminated film having a thickness of the A layer of 10 μm, a thickness of the B layer of 20 μm, and a total thickness of 40 μm. The laminated film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra on the surface of the laminated film was 0.07 μm, Rz was 1.4 μm, the internal haze was 2.2%, the coefficient of static friction was 0.6, Re was 4 nm, and Rth was 10 nm. In the film roll obtained by winding the obtained laminated film into a roll shape, blocking was observed, although it was less than that of Comparative Example 1, and the rolled shape was inferior to that of Examples 1 to 3.

[比較例5]
(C5−1)シリカ含有樹脂の製造
シリカ粒子として平均粒子径が1μmのシリカ粒子を用いたこと、及びシリカ粒子の含有量が2.0%となるように、シリカ粒子を混合したこと以外は比較例1の(C1−1)と同じ操作を行い、シリカ含有樹脂を得た。
[Comparative Example 5]
(C5-1) Production of Silica-Containing Resin Except that silica particles having an average particle diameter of 1 μm were used as silica particles and that the silica particles were mixed so that the content of the silica particles was 2.0%. The same operation as (C1-1) of Comparative Example 1 was carried out to obtain a silica-containing resin.

(C5−2)積層フィルムの製造
比較例1の(C1−2)において、A層用の樹脂として(C1−1)で製造した樹脂に代えて、上記(C5−1)で製造したシリカ粒子含有樹脂を用いたこと以外は、比較例1の(C1−2)と同じ操作を行い、A層の厚みが10μm、B層の厚みが20μm、総厚みが40μmの積層フィルムを得た。当該積層フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、積層フィルムの表面のRaは0.10μm、Rzは1.5μm、内部ヘイズは3.7%、静摩擦係数は0.5、Reは4nm、Rthは10nmであった。得られた積層フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいては、ブロッキングは認められず巻き姿は、良好であった。しかしながら、本例で得られた積層フィルムは内部ヘイズが高く、光学フィルムの用途には適さないものであった。
(C5-2) Production of Laminated Film In (C1-2) of Comparative Example 1, the silica particles produced in (C5-1) above were replaced with the resin produced in (C1-1) as the resin for the A layer. The same operation as in (C1-2) of Comparative Example 1 was carried out except that the contained resin was used to obtain a laminated film having a thickness of layer A of 10 μm, a thickness of layer B of 20 μm, and a total thickness of 40 μm. The laminated film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra on the surface of the laminated film was 0.10 μm, Rz was 1.5 μm, the internal haze was 3.7%, the coefficient of static friction was 0.5, Re was 4 nm, and Rth was 10 nm. In the film roll obtained by winding the obtained laminated film into a roll, no blocking was observed and the rolled appearance was good. However, the laminated film obtained in this example has a high internal haze and is not suitable for use as an optical film.

[比較例6]
(C6−1)塗布液の調製
ポリウレタンの水分散体(第一工業製薬社製「スーパーフレックス210」)をポリウレタンの量で100部と、架橋材としてエポキシ化合物(ナガセケムテックス社製「デコナールEX313」)15部と、不揮発性塩基としてアジピン酸ジヒドラシド2部と、滑剤としてシリカ粒子の水分散液(日産化学社製「スノーテックスZL」;平均粒子径85nm)をシリカ粒子の量で10部と、濡れ剤としてアセチレン系界面活性剤(エアープロダクツアンドケミカル社製「サーフィノール440」)を固形分合計量に対し0.5重量%と、水と、を配合して、固形分濃度4%の液状組成物を塗布液として得た。かかる塗布液の粘度は1.2mPa・sであった。
[Comparative Example 6]
(C6-1) Preparation of coating liquid 100 parts of polyurethane aqueous dispersion (“Superflex 210” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) and an epoxy compound (“Deconal EX313” manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd.) as a cross-linking material. 15 parts, 2 parts of adihydric acid adipate as a non-volatile base, and 10 parts of an aqueous dispersion of silica particles (“Snowtex ZL” manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd .; average particle size 85 nm) as a lubricant. As a wetting agent, an acetylene-based surfactant (“Surfinol 440” manufactured by Air Products and Chemicals Co., Ltd.) is blended with 0.5% by weight based on the total solid content and water to obtain a solid content concentration of 4%. The liquid composition was obtained as a coating liquid. The viscosity of the coating liquid was 1.2 mPa · s.

(C6−2)光学フィルムの製造
ノルボルネン重合体を含む脂環式オレフィン樹脂(日本ゼオン社製「ZEONOR」;ガラス転移温度126℃)のペレットを100℃で5時間乾燥した後、押出機に供給し、溶融後ポリマーフィルターを通し、Tダイよりキャスティングドラム上にシート状に押出冷却し、厚み80μmの基材を作成した。
この基材の一方の表面に対し、コロナ放電処理を行い、乾燥後の塗布厚みが45nmになるように(C6−1)で調製した塗布液を塗布した。塗布液を風乾により乾燥させた後、延伸装置で両端を把持し、延伸温度139℃、延伸倍率1.50倍で延伸処理を施し、光学フィルムを得た。当該フィルムについて、上記評価方法により評価した。その結果、当該フィルムの表面のRaは0.03μm、Rzは0.1μm、内部ヘイズは0.1%、静摩擦係数は0.6、Reは52nm、Rthは125nmであった。得られた積層フィルムをロール状に巻き取って得られるフィルムロールにおいては、比較例1よりは少ないが、ブロッキングが認められ、巻き姿は、実施例1〜3よりも劣っていた。
(C6-2) Production of Optical Film Pellets of alicyclic olefin resin (“ZEONOR” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature 126 ° C.) containing a norbornene polymer are dried at 100 ° C. for 5 hours and then supplied to an extruder. After melting, it was passed through a polymer filter and extruded from a T-die onto a casting drum in the form of a sheet to prepare a substrate having a thickness of 80 μm.
One surface of this base material was subjected to a corona discharge treatment, and the coating liquid prepared in (C6-1) was applied so that the coating thickness after drying was 45 nm. After the coating liquid was dried by air drying, both ends were grasped by a stretching device, and stretching treatment was performed at a stretching temperature of 139 ° C. and a stretching ratio of 1.50 times to obtain an optical film. The film was evaluated by the above evaluation method. As a result, Ra on the surface of the film was 0.03 μm, Rz was 0.1 μm, the internal haze was 0.1%, the coefficient of static friction was 0.6, Re was 52 nm, and Rth was 125 nm. In the film roll obtained by winding the obtained laminated film into a roll shape, blocking was observed, although it was less than that of Comparative Example 1, and the rolled shape was inferior to that of Examples 1 to 3.

表1及び表2に、実施例および比較例の評価結果を示す。
表中、「加工方法」とはフィルムの表面に凹凸を形成する加工の方法を意味する。表中、「ブラスト」とはフィルムの表面をウエットブラスト処理したことを示す。表中、「混練」とは、シリカを混練して得られるシリカ含有樹脂の層を、フィルムの表面側に設けたことを示す。表中、「塗布」とはフィルムの表面に、シリカを含む塗布液を塗布する処理を行ったことを示す。
Tables 1 and 2 show the evaluation results of Examples and Comparative Examples.
In the table, the "processing method" means a processing method for forming irregularities on the surface of the film. In the table, "blast" means that the surface of the film has been wet blasted. In the table, "kneading" means that a layer of silica-containing resin obtained by kneading silica is provided on the surface side of the film. In the table, "coating" means that the surface of the film is coated with a coating liquid containing silica.

Figure 2021103226
Figure 2021103226

Figure 2021103226
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表1及び表2に示す結果から明らかなように、本発明の光学フィルムでは、静摩擦係数が低く、かつ内部ヘイズが低いことが分かる。これより、本発明によれば、滑り性に優れ、かつ透明性に優れた光学フィルムを提供できるということがわかる。 As is clear from the results shown in Tables 1 and 2, it can be seen that the optical film of the present invention has a low coefficient of static friction and a low internal haze. From this, it can be seen that according to the present invention, it is possible to provide an optical film having excellent slipperiness and excellent transparency.

Claims (4)

表面に基材を備える光学フィルムであって、
前記基材はシクロオレフィン重合体を含み、
前記光学フィルムの前記基材側の表面の、算術平均粗さRaおよび最大高さRzが、式(1)および式(2)を満たし、内部ヘイズが0.5%以下である、光学フィルム。
Ra≧0.04μm (1)
Rz≧0.7μm (2)
An optical film having a base material on its surface.
The substrate contains a cycloolefin polymer and contains
An optical film having an arithmetic mean roughness Ra and a maximum height Rz on the surface of the optical film on the substrate side, satisfying the formulas (1) and (2), and having an internal haze of 0.5% or less.
Ra ≧ 0.04 μm (1)
Rz ≧ 0.7 μm (2)
前記光学フィルムの前記基材側の表面は、直接賦形により、前記算術平均粗さRaおよび前記最大高さRzが、前記式(1)および前記式(2)を満たすように、形成されている、請求項1に記載の光学フィルム。 The surface of the optical film on the substrate side is formed by direct shaping so that the arithmetic mean roughness Ra and the maximum height Rz satisfy the formulas (1) and (2). The optical film according to claim 1. 前記光学フィルムの面内方向のレターデーションReが下記式(3)を満たし、
前記光学フィルムの厚み方向のレターデーションRthが下記式(4)を満たす、請求項1または2に記載の光学フィルム。
−10nm≦Re≦10nm (3)
−30nm≦Rth≦30nm (4)
The in-plane retardation Re of the optical film satisfies the following formula (3).
The optical film according to claim 1 or 2, wherein the retardation Rth in the thickness direction of the optical film satisfies the following formula (4).
-10nm ≤ Re ≤ 10nm (3)
-30nm ≤ Rth ≤ 30nm (4)
請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの、前記基材側の表面の上に設けられたハードコート層と、を含む、複層フィルム。
The optical film according to any one of claims 1 to 3 and
A multi-layer film including a hard coat layer provided on the surface of the optical film on the substrate side.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115044087A (en) * 2022-08-15 2022-09-13 江苏康辉新材料科技有限公司 Low-haze optical film and preparation method and application thereof

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