JP2021097170A - Light-emitting element and light-emitting device - Google Patents

Light-emitting element and light-emitting device Download PDF

Info

Publication number
JP2021097170A
JP2021097170A JP2019228557A JP2019228557A JP2021097170A JP 2021097170 A JP2021097170 A JP 2021097170A JP 2019228557 A JP2019228557 A JP 2019228557A JP 2019228557 A JP2019228557 A JP 2019228557A JP 2021097170 A JP2021097170 A JP 2021097170A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
light emitting
external connection
light
emitting element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019228557A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7410381B2 (en
Inventor
康寛 三木
Yasuhiro Miki
康寛 三木
義行 井手
Yoshiyuki Ide
義行 井手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nichia Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Nichia Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nichia Chemical Industries Ltd filed Critical Nichia Chemical Industries Ltd
Priority to JP2019228557A priority Critical patent/JP7410381B2/en
Publication of JP2021097170A publication Critical patent/JP2021097170A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7410381B2 publication Critical patent/JP7410381B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Led Devices (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

To provide a light-emitting element and a light-emitting device that can reduce thermal stress burden while the light extraction efficiency is maintained.SOLUTION: A light-emitting element includes a semiconductor stack including a plurality of exposure parts where a first semiconductor layer is exposed from a second semiconductor layer, a light-reflective electrode provided on and connected to the second semiconductor layer, a second electrode provided on the light-reflective electrode, an insulating film covering the semiconductor stack and the light-reflective electrode and having an opening over the exposure parts, a first electrode being connected to the first semiconductor layer at the opening and being partially disposed on the second semiconductor layer through the insulating film, a plurality of first external connection electrodes and second external connection electrodes disposed on the first electrode and the second electrode, and a first partition wall being disposed on the first electrode and surrounding the first external connection electrodes. In a plan view, an outer edge of the light-reflective electrode is disposed inside an outer edge of the second semiconductor layer and the first partition wall is disposed inside an outer edge of the light-reflective electrode.SELECTED DRAWING: Figure 1A

Description

本発明は、発光素子及び発光装置に関する。 The present invention relates to a light emitting element and a light emitting device.

発光素子は、一般照明分野及び車載照明分野等で、用途に応じてさらなる高品質化をはかりつつ、広く利用されている。
例えば、発光素子がバンプを用いて実装基板にフリップチップ実装され、さらに光反射性樹脂を発光素子と実装基板の間に入り込ませた構造の発光装置が知られている。(例えば、特許文献1等)。
The light emitting element is widely used in the general lighting field, the in-vehicle lighting field, and the like, while further improving the quality according to the application.
For example, there is known a light emitting device having a structure in which a light emitting element is flip-chip mounted on a mounting substrate using bumps and a light reflecting resin is further inserted between the light emitting element and the mounting substrate. (For example, Patent Document 1 etc.).

特開2015−188053号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-188053

しかし、このような構造の発光装置では、発光素子の下面と実装基板の上面との間におけるバンプの高さ分の隙間に入り込んだ光反射性樹脂が熱膨張して、発光素子を持ち上げることがある。このような場合、発光素子と実装基板との導通が確保できず発光装置の信頼性を低下させるおそれがある。
本発明の一実施形態は、光取り出し効率を維持しつつ、熱による応力負荷を低減することができる発光素子及び発光装置を提供することを目的とする。
However, in a light emitting device having such a structure, the light-reflecting resin that has entered the gap corresponding to the height of the bump between the lower surface of the light emitting element and the upper surface of the mounting substrate may thermally expand and lift the light emitting element. is there. In such a case, the continuity between the light emitting element and the mounting substrate cannot be ensured, and the reliability of the light emitting device may be lowered.
One embodiment of the present invention aims to provide a light emitting element and a light emitting device capable of reducing a stress load due to heat while maintaining light extraction efficiency.

本発明の一実施形態は、以下を含む。
(1)第1半導体層、発光層及び第2半導体層を順に有する半導体積層体であって、前記第1半導体層は前記第2半導体層の上面側に前記第2半導体層から前記第1半導体層が露出する複数の露出部を有する半導体積層体と、
前記第2半導体層上に設けられ、前記第2半導体層と接続された光反射性電極と、
前記光反射性電極上に設けられた第2電極と、
前記半導体積層体及び前記光反射性電極を覆うとともに、前記複数の露出部の上方に開口部を有する絶縁膜と、
前記開口部にて前記第1半導体層と接続され、かつ一部が前記絶縁膜を介して前記第2半導体層上に配置された第1電極と、
前記第1電極上に配置された複数の第1外部接続電極と、
前記第2電極上に配置された複数の第2外部接続電極と、
前記第1電極上に配置され、平面視において前記複数の第1外部接続電極を取り囲む第1隔壁とを備え、
前記光反射性電極の外縁は、平面視において前記第2半導体層の外縁よりも内側に配置されており、
前記第1隔壁は、平面視において前記光反射性電極の外縁よりも内側に配置されている発光素子。
(2)上面に配線パターンを有する配線基板と、
前記配線パターン上に、複数の第1外部接続電極及び複数の第2外部接続電極により実装される上述した発光素子と、
前記発光素子と、第1隔壁の外側面とを被覆する被覆部材とを備える発光装置。
One embodiment of the present invention includes:
(1) A semiconductor laminate having a first semiconductor layer, a light emitting layer, and a second semiconductor layer in this order, and the first semiconductor layer is on the upper surface side of the second semiconductor layer from the second semiconductor layer to the first semiconductor. A semiconductor laminate having a plurality of exposed parts where the layers are exposed, and
A light-reflecting electrode provided on the second semiconductor layer and connected to the second semiconductor layer,
A second electrode provided on the light-reflecting electrode and
An insulating film that covers the semiconductor laminate and the light-reflecting electrode and has an opening above the plurality of exposed portions.
A first electrode connected to the first semiconductor layer at the opening and partially arranged on the second semiconductor layer via the insulating film.
A plurality of first external connection electrodes arranged on the first electrode,
A plurality of second external connection electrodes arranged on the second electrode,
A first partition wall arranged on the first electrode and surrounding the plurality of first external connection electrodes in a plan view is provided.
The outer edge of the light-reflecting electrode is arranged inside the outer edge of the second semiconductor layer in a plan view.
The first partition wall is a light emitting element arranged inside the outer edge of the light reflecting electrode in a plan view.
(2) A wiring board having a wiring pattern on the upper surface and
The above-mentioned light emitting element mounted by the plurality of first external connection electrodes and the plurality of second external connection electrodes on the wiring pattern,
A light emitting device including the light emitting element and a covering member that covers the outer surface of the first partition wall.

本発明の一実施形態によれば、光取り出し効率を維持しつつ、熱による応力負荷を低減することができる発光素子及び発光装置を提供することができる。 According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a light emitting element and a light emitting device capable of reducing a stress load due to heat while maintaining light extraction efficiency.

本発明の発光素子の一実施形態を表す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows one Embodiment of the light emitting element of this invention. 図1AのI−I’線断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line I-I'of FIG. 1A. 図1AのII−II’線断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II'of FIG. 1A. 図1Aの発光素子における、第1外部接続電極、第2外部接続電極、第1隔壁、第2隔壁の配置を示した概略平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view showing the arrangement of the first external connection electrode, the second external connection electrode, the first partition wall, and the second partition wall in the light emitting element of FIG. 1A. 図1Aの要部の拡大平面図である。It is an enlarged plan view of the main part of FIG. 1A. 本発明の発光素子の別の実施形態における、第1外部接続電極、第2外部接続電極、第1隔壁の配置を示した概略平面図である。It is a schematic plan view which showed the arrangement of the 1st external connection electrode, the 2nd external connection electrode, and the 1st partition wall in another embodiment of the light emitting element of this invention. 本発明の発光装置の一実施形態を表す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows one Embodiment of the light emitting device of this invention. 図3AのIII−III’線断面図である。FIG. 3A is a sectional view taken along line III-III'of FIG. 3A. 本発明の発光装置の別の実施形態を表す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows the other embodiment of the light emitting device of this invention. 本発明の発光装置のさらに別の実施形態を表す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows the still another embodiment of the light emitting device of this invention.

以下に図面を参照しながら、本発明を実施するための形態を説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための例示であって、本発明を以下に限定するものではない。また、各図面が示す部材の大きさ及び位置関係等は、説明を明確にするために誇張していることがある。さらに、同一の名称、符号については、原則として同一又は同質の部材を示しており、重複した説明は適宜省略する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the forms shown below are examples for embodying the technical idea of the present invention, and the present invention is not limited to the following. In addition, the size and positional relationship of the members shown in each drawing may be exaggerated to clarify the explanation. Furthermore, with respect to the same name and code, in principle, members of the same or the same quality are shown, and duplicate description will be omitted as appropriate.

〔発光素子10〕
本実施形態の発光素子10は、図1Aから図1Dに示すように、半導体積層体11と、光反射性電極15と、光反射性電極15上に設けられた第2電極16と、開口部12aを有する絶縁膜12と、第1電極18と、複数の第1外部接続電極19と、複数の第2外部接続電極20と、第1隔壁21とを備える。光反射性電極15の外縁15aは、図1A及び図1Eに示すように、平面視において半導体積層体11、つまり第2半導体層11pの外縁11cよりも内側に配置されており、第1隔壁21は、平面視において光反射性電極15の外縁15aよりも内側に配置されている。
なお、発光素子10及び/又は半導体積層体11の平面形状は、例えば、四角形(略正方形、長方形等)、六角形等の多角形、これらの角に丸みを帯びた形状、円形又は楕円形等、種々の形状とすることができる。
[Light emitting element 10]
As shown in FIGS. 1A to 1D, the light emitting element 10 of the present embodiment includes a semiconductor laminate 11, a light reflecting electrode 15, a second electrode 16 provided on the light reflecting electrode 15, and an opening. An insulating film 12 having 12a, a first electrode 18, a plurality of first external connection electrodes 19, a plurality of second external connection electrodes 20, and a first partition wall 21 are provided. As shown in FIGS. 1A and 1E, the outer edge 15a of the light-reflecting electrode 15 is arranged inside the semiconductor laminate 11, that is, the outer edge 11c of the second semiconductor layer 11p, and is arranged inside the outer edge 11c of the second semiconductor layer 11p. Is arranged inside the outer edge 15a of the light reflecting electrode 15 in a plan view.
The planar shape of the light emitting element 10 and / or the semiconductor laminate 11 is, for example, a polygon such as a quadrangle (approximately square, rectangle, etc.), a hexagon, a shape with rounded corners, a circle, an ellipse, or the like. , Can be in various shapes.

このような構成の発光素子により、この発光素子を後述する配線基板32の配線パターン31上に、複数の第1外部接続電極19及び前記複数の第2外部接続電極20により実装する際、つまり、いわゆるフリップチップ実装する際、第1隔壁21によって、発光素子と配線基板32との間に樹脂が入り込むことを効果的に防止することができる。これによって、発光素子の熱による樹脂の熱膨張に起因する発光素子への応力負荷を低減することができる。その結果、発光素子の配線基板32からの剥がれなどを有効に防止することができる。
また、第1隔壁21は、第1電極18上に配置され、複数の第1外部接続電極19を取り囲み、配線パターン31に実装されることにより、第1隔壁21によっても放熱経路を確保することができる。よって、発光素子によって発生した熱を効果的に逃がすことができ、より信頼性の高い発光素子を得ることができる。
さらに、第1隔壁21によって、発光素子と配線基板32との間へ樹脂を入り込ませず、第1隔壁21の外側に樹脂を配置させることができる。そのため、第1隔壁21の外側で生じることがある発光素子からの光漏れを、光拡散性を有する樹脂、つまり、後述する被覆部材33によって抑制する構造とすることができる。特に、第1隔壁21の外側に光反射性電極15の外縁15aが配置されることにより、発光素子の外周において生じる発光素子の光漏れを効果的に低減でき、信頼性及び光取り出し効率を向上させることができる。
When the light emitting element having such a configuration is mounted on the wiring pattern 31 of the wiring board 32 described later by the plurality of first external connection electrodes 19 and the plurality of second external connection electrodes 20, that is, When mounting a so-called flip chip, the first partition wall 21 can effectively prevent the resin from entering between the light emitting element and the wiring board 32. This makes it possible to reduce the stress load on the light emitting element due to the thermal expansion of the resin due to the heat of the light emitting element. As a result, it is possible to effectively prevent the light emitting element from peeling off from the wiring board 32.
Further, the first partition wall 21 is arranged on the first electrode 18, surrounds the plurality of first external connection electrodes 19, and is mounted on the wiring pattern 31 to secure the heat dissipation path by the first partition wall 21 as well. Can be done. Therefore, the heat generated by the light emitting element can be effectively dissipated, and a more reliable light emitting element can be obtained.
Further, the first partition wall 21 allows the resin to be arranged outside the first partition wall 21 without allowing the resin to enter between the light emitting element and the wiring board 32. Therefore, a structure can be formed in which light leakage from the light emitting element that may occur outside the first partition wall 21 is suppressed by a resin having light diffusivity, that is, a covering member 33 described later. In particular, by arranging the outer edge 15a of the light reflecting electrode 15 on the outside of the first partition wall 21, light leakage of the light emitting element generated on the outer periphery of the light emitting element can be effectively reduced, and reliability and light extraction efficiency are improved. Can be made to.

(半導体積層体11)
半導体積層体11は、第1半導体層11n、発光層11a及び第2半導体層11pがこの順に積層されて構成される。なお、半導体積層体11は、例えば、基板13上に積層されている。なお、基板13は半導体積層体11から除去してもよい。
基板13は、半導体層をエピタキシャル成長させることができるものであればよい。このような基板13としては、サファイア(Al23)基板、スピネル(MgA124)基板のような絶縁性基板、GaN基板のような導電性基板等が挙げられる。
第1半導体層11n、発光層11a及び第2半導体層11pは、例えば、III−V族化合物半導体、II−VI族化合物半導体等、種々の半導体が挙げられる。具体的には、InXAlYGa1-X-YN(0≦X、0≦Y、X+Y≦1)等の窒化物系の半導体材料が挙げられ、InN、AlN、GaN、InGaN、AlGaN、InGaAlN等を用いることができる。各層の膜厚及び層構造は、当該分野で公知のものを利用することができる。
(Semiconductor laminate 11)
The semiconductor laminate 11 is configured by laminating the first semiconductor layer 11n, the light emitting layer 11a, and the second semiconductor layer 11p in this order. The semiconductor laminate 11 is laminated on the substrate 13, for example. The substrate 13 may be removed from the semiconductor laminate 11.
The substrate 13 may be any as long as it can epitaxially grow the semiconductor layer. Examples of such a substrate 13 include an insulating substrate such as a sapphire (Al 2 O 3 ) substrate, a spinel (Mg A1 2 O 4 ) substrate, and a conductive substrate such as a GaN substrate.
Examples of the first semiconductor layer 11n, the light emitting layer 11a, and the second semiconductor layer 11p include various semiconductors such as a group III-V compound semiconductor and a group II-VI compound semiconductor. Specific examples thereof include nitride-based semiconductor materials such as In X Al Y Ga 1-XY N (0 ≦ X, 0 ≦ Y, X + Y ≦ 1), and include InN, AlN, GaN, InGaN, AlGaN, and InGaAlN. Etc. can be used. As the film thickness and layer structure of each layer, those known in the art can be used.

(露出部11b)
第1半導体層11nは、第2半導体層11p及び発光層11aが形成されておらず、第1半導体層11nが第2半導体層11p及び発光層11aから露出する複数の露出部11bを有する。つまり、半導体積層体11は、第2半導体層11p側の表面に孔を有し、孔の底面に第1半導体層11nが露出している。そして、孔の側面には第2半導体層11p、発光層11a、任意に第1半導体層11nが露出している。
露出部11bの形状、大きさ、位置、数は、意図する発光素子の大きさ、形状、電極パターン等によって適宜設定することができる。露出部11bは、半導体積層体11の縁部よりも内側に複数形成されていることが好ましい。露出部11bは、三角格子状又は四角格子状に配置していることが好ましい。これによって、発光素子の輝度ムラを抑制して、均一に光取り出しすることができる。
露出部11bの形状は、例えば、平面視において円又は楕円、三角形、四角形、六角形等の多角形等が挙げられ、なかでも、円形又は円形に近い形状(例えば楕円又は六角形以上の多角形)が好ましい。露出部の大きさは、半導体積層体11の大きさ、求められる発光素子の出力、輝度等によって適宜調整することができ、例えば、直径が数十〜数百μm程度の大きさであることが好ましい。別の観点から、直径が、半導体積層体11の一辺の1/20〜1/5程度の大きさであることが好ましい。
露出部11bは、後述する第1電極18と電気的に接続される。露出部11bと接続される第1電極18は、その一部が、後述する絶縁膜12を介して第2半導体層11p上に配置される。このような露出部11bは、平面視においてそれぞれが一定の距離をあけて離間して配列されていることが好ましい。具体的には、露出部11bは、第1方向に沿って複数列配置されていることが好ましい。ここでの第1方向とは、例えば、半導体積層体11又は発光素子10の一辺に平行な一方向を指す。また、露出部11bは、第1方向に直交する第2方向にも数行以上配置されていることが好ましい。例えば、第2方向に数行〜十数行配置されていることが好ましい。
複数の露出部11bはすべてが同じ形状、大きさであってもよいし、それぞれ又は一部が異なる形状、大きさであってもよい。複数の露出部11bは、発光素子における輝度ムラの低減の観点から、全てが同程度の大きさ及び形状であることが好ましい。露出部11bは発光層11aを有さない領域であるため、同程度の大きさの複数の露出部を規則的に整列して配置することで、発光面積及び電流の供給量の偏りを抑制することができる。その結果、発光素子全体として、輝度ムラを抑制することができる。
露出部11bは、半導体積層体11の縁部の内側に配置されるものの合計面積が、半導体積層体11の平面積の30%以下、25%以下が好ましい。露出部11bの合計面積を半導体積層体11の平面積の30%以下とすることで、第1半導体層11n及び第2半導体層11pへの電流供給のバランスを図ることができ、供給される電力の偏りによる輝度ムラを抑制することができる。
(Exposure part 11b)
The first semiconductor layer 11n has a plurality of exposed portions 11b in which the second semiconductor layer 11p and the light emitting layer 11a are not formed, and the first semiconductor layer 11n is exposed from the second semiconductor layer 11p and the light emitting layer 11a. That is, the semiconductor laminate 11 has holes on the surface on the side of the second semiconductor layer 11p, and the first semiconductor layer 11n is exposed on the bottom surface of the holes. A second semiconductor layer 11p, a light emitting layer 11a, and optionally a first semiconductor layer 11n are exposed on the side surface of the hole.
The shape, size, position, and number of the exposed portion 11b can be appropriately set according to the size, shape, electrode pattern, and the like of the intended light emitting element. It is preferable that a plurality of exposed portions 11b are formed inside the edge portion of the semiconductor laminate 11. The exposed portions 11b are preferably arranged in a triangular lattice pattern or a square lattice pattern. As a result, uneven brightness of the light emitting element can be suppressed and light can be extracted uniformly.
Examples of the shape of the exposed portion 11b include polygons such as a circle or an ellipse, a triangle, a quadrangle, and a hexagon in a plan view. ) Is preferable. The size of the exposed portion can be appropriately adjusted depending on the size of the semiconductor laminate 11, the required output of the light emitting element, the brightness, and the like, and for example, the diameter may be several tens to several hundreds of μm. preferable. From another viewpoint, the diameter is preferably about 1/2 to 1/5 of one side of the semiconductor laminate 11.
The exposed portion 11b is electrically connected to the first electrode 18 described later. A part of the first electrode 18 connected to the exposed portion 11b is arranged on the second semiconductor layer 11p via an insulating film 12 described later. It is preferable that such exposed portions 11b are arranged apart from each other with a certain distance in a plan view. Specifically, it is preferable that the exposed portions 11b are arranged in a plurality of rows along the first direction. The first direction here refers to, for example, one direction parallel to one side of the semiconductor laminate 11 or the light emitting element 10. Further, it is preferable that the exposed portion 11b is arranged in several rows or more in the second direction orthogonal to the first direction. For example, it is preferable that several rows to a dozen rows are arranged in the second direction.
The plurality of exposed portions 11b may all have the same shape and size, or each or part of the exposed portions 11b may have different shapes and sizes. From the viewpoint of reducing the unevenness of brightness in the light emitting element, it is preferable that all of the plurality of exposed portions 11b have the same size and shape. Since the exposed portion 11b is a region that does not have the light emitting layer 11a, by regularly arranging a plurality of exposed portions of the same size in a regular arrangement, it is possible to suppress a bias in the light emitting area and the amount of current supplied. be able to. As a result, it is possible to suppress the uneven brightness of the light emitting element as a whole.
Although the exposed portion 11b is arranged inside the edge portion of the semiconductor laminate 11, the total area is preferably 30% or less and 25% or less of the flat area of the semiconductor laminate 11. By setting the total area of the exposed portion 11b to 30% or less of the flat area of the semiconductor laminate 11, it is possible to balance the current supply to the first semiconductor layer 11n and the second semiconductor layer 11p, and the supplied electric power can be achieved. Brightness unevenness due to bias can be suppressed.

(光反射性電極15)
光反射性電極15は、第2半導体層11p上に設けられ、第2半導体層11pと電気的に接続されている。光反射性電極15は、第2半導体層11pの上面に直接配置されている。
図1Aから1C及び1Eに示すように、光反射性電極15は、その外縁15aが、平面視において第2半導体層11pの外縁11cよりも内側に配置されている。平面視において、光反射性電極15の全ては、第2半導体層11p上に配置されている。発光素子の光取り出し効率を向上させるためには、光反射性電極15は第2半導体層11pの上面のより広い面積に形成されることが好ましい。このことから、例えば、光反射性電極15の外縁15aと第2半導体層11pの外縁11cとの距離は、数μmから数十μmの範囲が挙げられ、1μmから20μmの範囲が好ましく、5μmから15μmの範囲がさらに好ましい。別の観点から、光反射性電極15の外縁15aは、第2半導体層11pの中心(又は重心)を基準として、第2半導体層11pの外縁11cから、0.1%から20%の範囲で縮小した位置に配置されていればよく、0.5%から15%の範囲で縮小した位置に配置されていることが好ましい。また、光反射性電極15の平面積は、第2半導体層11pの平面積の60%以上とすることが好ましく、70%以上がより好ましい。
光反射性電極15としては、銀、アルミニウム又はこれらのいずれかの金属を主成分とする合金を用いることができ、特に発光層から発せられる光に対して高い光反射性を有する銀又は銀合金がより好ましい。
光反射性電極15が銀を含む場合には、銀のマイグレーションを抑制するために、その上面、好ましくは、上面及び側面を被覆する保護層17を設けてもよい。保護層17としては、絶縁性部材を用いることができる。絶縁性部材としては、後述する絶縁膜12と同様の材料が挙げられるが、なかでもSiNを用いることが好ましい。保護層17の厚みは、効果的に銀のマイグレーションを抑制するために、数百nm〜数μm程度であることが好ましい。保護層17には光反射性電極15の上方に開口が設けられ、その開口にて光反射性電極15と後述する第2電極とが電気的に接続される。なお、発光素子10が第2半導体層11p上に光反射性電極15及び保護層17を有する場合、半導体積層体11を覆う絶縁膜12は光反射性電極15及び保護層17を覆い、かつ、第2電極16の直下の領域に開口部12aを有し、この開口部12aにより第2電極16と光反射性電極15とが電気的に接続される。
光反射性電極15は、発光層から出射される光を反射することができる厚みを有することが好ましい。光反射性電極15の厚みは、例えば、20nmから1μmの範囲が挙げられる。
(Light reflective electrode 15)
The light-reflecting electrode 15 is provided on the second semiconductor layer 11p and is electrically connected to the second semiconductor layer 11p. The light reflective electrode 15 is directly arranged on the upper surface of the second semiconductor layer 11p.
As shown in FIGS. 1A to 1C and 1E, the outer edge 15a of the light reflecting electrode 15 is arranged inside the outer edge 11c of the second semiconductor layer 11p in a plan view. In a plan view, all of the light-reflecting electrodes 15 are arranged on the second semiconductor layer 11p. In order to improve the light extraction efficiency of the light emitting element, it is preferable that the light reflecting electrode 15 is formed in a wider area on the upper surface of the second semiconductor layer 11p. From this, for example, the distance between the outer edge 15a of the light reflecting electrode 15 and the outer edge 11c of the second semiconductor layer 11p is in the range of several μm to several tens of μm, preferably in the range of 1 μm to 20 μm, and is preferably in the range of 5 μm. A range of 15 μm is even more preferred. From another viewpoint, the outer edge 15a of the light reflecting electrode 15 is in the range of 0.1% to 20% from the outer edge 11c of the second semiconductor layer 11p with reference to the center (or the center of gravity) of the second semiconductor layer 11p. It suffices if it is arranged in the reduced position, and it is preferable that it is arranged in the reduced position in the range of 0.5% to 15%. The flat area of the light-reflecting electrode 15 is preferably 60% or more, more preferably 70% or more of the flat area of the second semiconductor layer 11p.
As the light-reflecting electrode 15, an alloy containing silver, aluminum or any of these metals as a main component can be used, and in particular, a silver or silver alloy having high light reflectivity with respect to light emitted from the light emitting layer. Is more preferable.
When the light-reflecting electrode 15 contains silver, a protective layer 17 may be provided to cover the upper surface, preferably the upper surface and the side surface thereof, in order to suppress the migration of silver. An insulating member can be used as the protective layer 17. Examples of the insulating member include the same materials as the insulating film 12 described later, and among them, SiN is preferably used. The thickness of the protective layer 17 is preferably about several hundred nm to several μm in order to effectively suppress the migration of silver. The protective layer 17 is provided with an opening above the light-reflecting electrode 15, and the light-reflecting electrode 15 and the second electrode described later are electrically connected through the opening. When the light emitting element 10 has the light-reflecting electrode 15 and the protective layer 17 on the second semiconductor layer 11p, the insulating film 12 covering the semiconductor laminate 11 covers the light-reflecting electrode 15 and the protective layer 17 and An opening 12a is provided in a region directly below the second electrode 16, and the second electrode 16 and the light-reflecting electrode 15 are electrically connected by the opening 12a.
The light-reflecting electrode 15 preferably has a thickness capable of reflecting the light emitted from the light emitting layer. The thickness of the light reflecting electrode 15 includes, for example, a range of 20 nm to 1 μm.

(第1電極18及び第2電極16)
第1電極18及び第2電極16は、半導体積層体11の上面側(つまり、半導体積層体11の基板13が設けられている側とは反対側)に配置されている。第1電極18及び第2電極16は、第1半導体層11n及び第2半導体層11pと、それぞれ直接接触していてもよいし、上述した光反射性電極15を介して電気的に接続されていてもよい。
(1st electrode 18 and 2nd electrode 16)
The first electrode 18 and the second electrode 16 are arranged on the upper surface side of the semiconductor laminate 11 (that is, the side of the semiconductor laminate 11 opposite to the side on which the substrate 13 is provided). The first electrode 18 and the second electrode 16 may be in direct contact with the first semiconductor layer 11n and the second semiconductor layer 11p, respectively, or are electrically connected via the light-reflecting electrode 15 described above. You may.

第1電極18及び第2電極16は、例えば、Au、Pt、Pd、Rh、Ni、W、Mo、Cr、Ti、Al、Cu等の金属又はこれらの合金の単層膜又は積層膜によって形成することができる。具体的には、これら電極は、半導体層側からTi/Rh/Au、Ti/Pt/Au、W/Pt/Au、Rh/Pt/Au、Ni/Pt/Au、Al-Cu合金/Ti/Pt/Au、Al-Si-Cu合金/Ti/Pt/Au、Ti/Rhなどの積層膜によって形成することができる。上述した第1電極18及び第2電極16の膜厚は、当該分野で用いられる電極の膜厚範囲であればよい。
第1電極18の平面視形状は、半導体積層体11の平面視形状が矩形の場合、同様に矩形又は略矩形であることが好ましい。第2電極16の平面視形状は、半導体積層体11の平面視形状が矩形の場合、同様に矩形又は略矩形であることが好ましい。1つの半導体積層体11に設けられる第1電極18及び第2電極16は、平面視において、一方向に並行して交互に配置されていることが好ましい。例えば、平面視において、第1電極18が第2電極16を挟むように配置されていることが好ましい。
The first electrode 18 and the second electrode 16 are formed of, for example, a single-layer film or a laminated film of a metal such as Au, Pt, Pd, Rh, Ni, W, Mo, Cr, Ti, Al, Cu or an alloy thereof. can do. Specifically, these electrodes are Ti / Rh / Au, Ti / Pt / Au, W / Pt / Au, Rh / Pt / Au, Ni / Pt / Au, Al—Cu alloy / Ti / from the semiconductor layer side. It can be formed by a laminated film of Pt / Au, Al—Si—Cu alloy / Ti / Pt / Au, Ti / Rh and the like. The film thickness of the first electrode 18 and the second electrode 16 described above may be within the film thickness range of the electrodes used in the art.
When the plan view shape of the semiconductor laminate 11 is rectangular, the plan view shape of the first electrode 18 is preferably rectangular or substantially rectangular. When the plan view shape of the semiconductor laminate 11 is rectangular, the plan view shape of the second electrode 16 is preferably rectangular or substantially rectangular. It is preferable that the first electrode 18 and the second electrode 16 provided on one semiconductor laminate 11 are alternately arranged in parallel in one direction in a plan view. For example, in a plan view, it is preferable that the first electrode 18 is arranged so as to sandwich the second electrode 16.

第1電極18は、上述した半導体積層体11の第2半導体層11p側に配置される露出部11bと電気的に接続される。第1電極18は複数の露出部11bを一体的に覆い、複数の露出部11bと接続されることが好ましく、全ての露出部11bを一体的に覆い接続されることがより好ましい。従って、第1電極18は、第1半導体層11n上のみならず、第2半導体層11pの上方にも配置される。この場合、第1電極18は絶縁膜12を介して、露出部11bを形成する孔の側面(つまり発光層11a及び第2半導体層11pの側面)及び第2半導体層11p上に配置される。 The first electrode 18 is electrically connected to the exposed portion 11b arranged on the second semiconductor layer 11p side of the semiconductor laminate 11 described above. The first electrode 18 preferably covers the plurality of exposed portions 11b integrally and is connected to the plurality of exposed portions 11b, and more preferably all the exposed portions 11b are integrally covered and connected. Therefore, the first electrode 18 is arranged not only on the first semiconductor layer 11n but also above the second semiconductor layer 11p. In this case, the first electrode 18 is arranged on the side surface of the hole forming the exposed portion 11b (that is, the side surface of the light emitting layer 11a and the second semiconductor layer 11p) and the second semiconductor layer 11p via the insulating film 12.

第2電極16は、上述した半導体積層体11の第2半導体層11p上に配置され、第2半導体層11pと電気的に接続される。第2電極16は、光反射性電極15を介して第2半導体層11p上に配置されることが好ましい。第2電極16は、例えば、第1方向に長い形状であり、第1方向において光反射性電極15と略同等の長さを有し、第2方向において半導体積層体11の長さの5〜20%の長さが挙げられる。
第2電極16は、例えば、第1方向に沿って設けられた第1電極18の間に挟まれて配置されていることが好ましい。つまり、平面視において、第2電極16は第2方向よりも第1方向に長い形状であり、第1電極18は、第2電極16を挟んで配置されていることが好ましい。この場合、第1電極18は、第2電極16の第1方向の中心線に対して線対称に配置されていることがより好ましい。これにより、発光素子10を配線基板32上にフリップチップ実装する際に第1電極18及び第2電極16にかかる応力の偏りを少なくすることができる。その結果、発光素子10を配線基板に実装する際の実装精度が安定する。なお、第2電極16の両側に配置された第1電極18は、互いに電気的に接続されていてもよい。
The second electrode 16 is arranged on the second semiconductor layer 11p of the semiconductor laminate 11 described above, and is electrically connected to the second semiconductor layer 11p. The second electrode 16 is preferably arranged on the second semiconductor layer 11p via the light reflecting electrode 15. The second electrode 16 has, for example, a long shape in the first direction, has a length substantially equal to that of the light reflecting electrode 15 in the first direction, and has a length of 5 to 5 of the length of the semiconductor laminate 11 in the second direction. 20% length is mentioned.
The second electrode 16 is preferably arranged so as to be sandwiched between the first electrodes 18 provided along the first direction, for example. That is, in a plan view, it is preferable that the second electrode 16 has a shape longer in the first direction than the second direction, and the first electrode 18 is arranged so as to sandwich the second electrode 16. In this case, it is more preferable that the first electrode 18 is arranged line-symmetrically with respect to the center line of the second electrode 16 in the first direction. As a result, it is possible to reduce the bias of the stress applied to the first electrode 18 and the second electrode 16 when the light emitting element 10 is flip-chip mounted on the wiring board 32. As a result, the mounting accuracy when mounting the light emitting element 10 on the wiring board is stable. The first electrodes 18 arranged on both sides of the second electrode 16 may be electrically connected to each other.

(絶縁膜12)
絶縁膜12は、半導体積層体11の上面及び側面を被覆するとともに、露出部11bの上方に開口部12aを有する。絶縁膜12が半導体積層体11を被覆し、かつ露出部11bの上方に開口部12aを有することにより、絶縁膜12の上面の広範囲に第1電極18を形成することができる。開口部12aの大きさは、露出部11bの大きさ、発光素子の大きさ等によって適宜設定することができる。
絶縁膜12は、当該分野で公知の材料を、電気的な絶縁性を確保し得る材料及び厚みで形成されている。具体的には、絶縁膜12には、金属酸化物及び金属窒化物等を用いることができ、例えば、Si、Ti、Zr、Nb、Ta、Alからなる群より選択された少なくとも一種の酸化物又は窒化物を用いることが好ましい。
(Insulating film 12)
The insulating film 12 covers the upper surface and side surfaces of the semiconductor laminate 11 and has an opening 12a above the exposed portion 11b. Since the insulating film 12 covers the semiconductor laminate 11 and has the opening 12a above the exposed portion 11b, the first electrode 18 can be formed over a wide range on the upper surface of the insulating film 12. The size of the opening 12a can be appropriately set depending on the size of the exposed portion 11b, the size of the light emitting element, and the like.
The insulating film 12 is made of a material known in the art, which is made of a material and a thickness capable of ensuring electrical insulation. Specifically, a metal oxide, a metal nitride, or the like can be used for the insulating film 12, and for example, at least one oxide selected from the group consisting of Si, Ti, Zr, Nb, Ta, and Al. Alternatively, it is preferable to use a nitride.

(第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20)
第1外部接続電極19は第1電極18と電気的に接続される。第2外部接続電極20は第2電極16と電気的に接続される。
第1外部接続電極19は、第1電極18上に設けられる。つまり、第1電極18と電気的に接続されるように配置されている。第1外部接続電極19は、第2半導体層11pの上方において、絶縁膜12の上面に設けられた第1電極18上に設けられている。第1外部接続電極19は、平面視において、露出部11bとは離間して配置されている。第1外部接続電極19は、第1方向に沿って配列された露出部11bの列間において、第1方向に沿って複数配置されている。第1外部接続電極19は、例えば、平面視、円形又は楕円形、多角形あるいはこれらに近い形状とすることができる。第1外部接続電極19は、それらの一部又は全てが異なる大きさ及び形状であってもよい。第1外部接続電極19のうち、少なくとも同じ第1方向に沿って配置される複数の第1外部接続電極19は大きさ及び形状が同じであることが好ましい。第1外部接続電極19は、第1方向に沿って配列する露出部11bの列間ごとに複数配置されることが好ましい。
平面視において、第1外部接続電極19と露出部11bとが重ならないため、後述する発光素子の配線基板32への実装の際に、実装時に生じる負荷による露出部11b近傍の絶縁膜及び電極の破損を回避することができる。
平面視において、第1外部接続電極19と露出部11bとの間の距離は、例えば、半導体積層体11の一辺の長さの0.1%から2%の距離とすることが挙げられる。第1外部接続電極19と露出部11bとの間の距離は、具体的には、10μmから200μmとすることが好ましい。
第2外部接続電極20は、第2電極16上に設けられる。上述したように、第2方向において第1電極18が第2電極16を挟むように配置されている場合には、平面視において、第2外部接続電極20の両側に、第1外部接続電極19が配置されていることが好ましい。
第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20の平面形状及び大きさは、当該分野で通常用いられる程度に設定することができる。第1外部接続電極19または第2外部接続電極20の平面形状は、例えば、平面視、円形、楕円形、四角形及び六角形等の多角形、これらに近似する形状等が挙げられる。平面視における第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20の最大幅は、例えば、10μmから300μmの範囲とすることが好ましく、20μmから200μmの範囲とすることがさらに好ましい。
第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20の厚みは、当該分野で通常用いられている程度に設定することができる。第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20の厚みは、例えば、10μmから100μmの範囲の厚みが挙げられる。第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20の上面は、例えば、第2半導体層11pの表面からの高さが同じ位置に配置されていることが好ましい。
第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20は、金、銀、銅、錫、白金、亜鉛、ニッケル、アルミニウム又はこれらの合金により、単層又は積層構造で形成することができる。第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20は、腐食防止及びAu−Sn共晶半田などのAu合金系の接着部材を用いた配線基板との接合性を高めるために、少なくとも最上層をAuで形成することが好ましい。
第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20は、これらの材料を用いて、例えば、めっき法、スパッタリング法又は蒸着法とフォトレジスト法とを組合せた方法等により形成することができる。
例えば、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20をめっき法で形成する場合、Al、Ag、Al合金及びAg合金、Cu、Au、Niなどの金属の単層又は積層構造を用いることができる。
第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20を半導体積層体11に配置される複数の露出部11bと離間させ、発光素子の表面に高密度に配置することが好ましい。これにより、発光素子10に供給される電流密度が分散され、輝度むらが抑制される。さらに、発光素子10の発光によって発生する熱を、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20を介して配線基板32側へ逃がす放熱経路を増大させることができる。
(1st external connection electrode 19 and 2nd external connection electrode 20)
The first external connection electrode 19 is electrically connected to the first electrode 18. The second external connection electrode 20 is electrically connected to the second electrode 16.
The first external connection electrode 19 is provided on the first electrode 18. That is, it is arranged so as to be electrically connected to the first electrode 18. The first external connection electrode 19 is provided on the first electrode 18 provided on the upper surface of the insulating film 12 above the second semiconductor layer 11p. The first external connection electrode 19 is arranged apart from the exposed portion 11b in a plan view. A plurality of the first external connection electrodes 19 are arranged along the first direction between the rows of the exposed portions 11b arranged along the first direction. The first external connection electrode 19 may have, for example, a plan view, a circular shape or an elliptical shape, a polygonal shape, or a shape close to these. The first external connection electrode 19 may have a part or all of them having a different size and shape. Of the first external connection electrodes 19, it is preferable that a plurality of first external connection electrodes 19 arranged along at least the same first direction have the same size and shape. It is preferable that a plurality of first external connection electrodes 19 are arranged between rows of exposed portions 11b arranged along the first direction.
Since the first external connection electrode 19 and the exposed portion 11b do not overlap in a plan view, the insulating film and the electrode in the vicinity of the exposed portion 11b due to the load generated at the time of mounting the light emitting element described later on the wiring board 32 Damage can be avoided.
In a plan view, the distance between the first external connection electrode 19 and the exposed portion 11b is, for example, 0.1% to 2% of the length of one side of the semiconductor laminate 11. Specifically, the distance between the first external connection electrode 19 and the exposed portion 11b is preferably 10 μm to 200 μm.
The second external connection electrode 20 is provided on the second electrode 16. As described above, when the first electrode 18 is arranged so as to sandwich the second electrode 16 in the second direction, the first external connection electrode 19 is placed on both sides of the second external connection electrode 20 in a plan view. Is preferably arranged.
The planar shape and size of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 can be set to the extent normally used in the art. Examples of the planar shape of the first external connection electrode 19 or the second external connection electrode 20 include polygons such as a plan view, a circle, an ellipse, a quadrangle, and a hexagon, and a shape similar thereto. The maximum width of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 in a plan view is preferably in the range of, for example, 10 μm to 300 μm, and more preferably in the range of 20 μm to 200 μm.
The thickness of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 can be set to the extent normally used in the art. The thickness of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 includes, for example, a thickness in the range of 10 μm to 100 μm. It is preferable that the upper surfaces of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 are arranged at the same height from the surface of the second semiconductor layer 11p, for example.
The first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 can be formed of gold, silver, copper, tin, platinum, zinc, nickel, aluminum or an alloy thereof in a single layer or laminated structure. The first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 have at least the uppermost layer in order to prevent corrosion and improve the bondability with a wiring substrate using an Au alloy-based adhesive member such as Au—Sn eutectic solder. It is preferably formed with Au.
The first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 can be formed by using these materials, for example, by a plating method, a sputtering method, or a method combining a vapor deposition method and a photoresist method.
For example, when the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 are formed by a plating method, a single layer or laminated structure of a metal such as Al, Ag, Al alloy and Ag alloy, Cu, Au, Ni is used. Can be done.
It is preferable that the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 are separated from the plurality of exposed portions 11b arranged on the semiconductor laminate 11 and arranged at a high density on the surface of the light emitting element. As a result, the current density supplied to the light emitting element 10 is dispersed, and uneven brightness is suppressed. Further, it is possible to increase the heat dissipation path for releasing the heat generated by the light emission of the light emitting element 10 to the wiring board 32 side via the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20.

(第1隔壁21、41及び第2隔壁22)
第1隔壁21は、図1A及び1Dに示すように、第1電極18上に配置され、平面視において複数の第1外部接続電極19を取り囲む。上述したように、平面視において、第1外部接続電極19が第2外部接続電極20の両側に配置されている場合には、第1隔壁21は、第2外部接続電極20の両側で、それぞれ複数の第1外部接続電極19を取り囲むように、2つの第1隔壁21を含むことができる。
また、図2に示す発光素子40のように、第1隔壁41は、複数の第1外部接続電極19を取り囲む限り、複数の第2外部接続電極20の一部又は全部を、複数の第1外部接続電極19とともに取り囲んでいてもよい。
第1隔壁21、41は、第1電極18と接触していてもよいし、例えば、第1電極18上に絶縁膜を設け、その絶縁膜を介して非接触で配置されていてもよい。第1電極18と配線基板32との導通経路を増加させるために、第1隔壁21、41は、第1電極18と接触して配置されることが好ましい。第1隔壁21、41は、製造方法の簡略化の観点から、第1外部接続電極19と同一工程によって形成することが好ましい。この場合、第1隔壁21、41及び第1外部接続電極19は、同じ材料を含んで又は同じ材料によって形成されていることが好ましく、同じ金属材料によって形成されていることがより好ましい。
第1隔壁21、41は、平面視において、図1B、1C、1E及び図2に示すように、光反射性電極15の外縁15aよりも内側に配置されていることが好ましい。言い換えると、第1隔壁21、41は、その全部が光反射性電極15上に配置されていることが好ましい。また、第1隔壁21、41は、その底面が、同じ光反射性電極15又は光反射性電極15の上に配置されている同じ第1電極18の上に配置されていることが好ましい。平面視において、第1隔壁21、41(例えば、第1隔壁21、41の外側面21a、41a)と外縁15aとの距離は、数μmから数十μmの範囲が挙げられ、1μmから30μmの範囲とすることができる。
(1st partition wall 21, 41 and 2nd partition wall 22)
As shown in FIGS. 1A and 1D, the first partition wall 21 is arranged on the first electrode 18 and surrounds a plurality of first external connection electrodes 19 in a plan view. As described above, when the first external connection electrode 19 is arranged on both sides of the second external connection electrode 20 in a plan view, the first partition wall 21 is located on both sides of the second external connection electrode 20, respectively. Two first partition walls 21 can be included so as to surround the plurality of first external connection electrodes 19.
Further, as in the light emitting element 40 shown in FIG. 2, the first partition wall 41 may cover a part or all of the plurality of second external connection electrodes 20 as long as it surrounds the plurality of first external connection electrodes 19. It may be surrounded together with the external connection electrode 19.
The first partition walls 21 and 41 may be in contact with the first electrode 18, or may be, for example, provided with an insulating film on the first electrode 18 and arranged in a non-contact manner via the insulating film. In order to increase the conduction path between the first electrode 18 and the wiring board 32, the first partition walls 21 and 41 are preferably arranged in contact with the first electrode 18. The first partition walls 21 and 41 are preferably formed by the same process as the first external connection electrode 19 from the viewpoint of simplifying the manufacturing method. In this case, the first partition walls 21, 41 and the first external connection electrode 19 preferably contain the same material or are formed of the same material, and more preferably formed of the same metal material.
In a plan view, the first partition walls 21 and 41 are preferably arranged inside the outer edge 15a of the light reflecting electrode 15, as shown in FIGS. 1B, 1C, 1E and 2. In other words, it is preferable that all of the first partition walls 21 and 41 are arranged on the light reflecting electrode 15. Further, it is preferable that the bottom surfaces of the first partition walls 21 and 41 are arranged on the same light reflecting electrode 15 or the same first electrode 18 arranged on the same light reflecting electrode 15. In a plan view, the distance between the first partition walls 21, 41 (for example, the outer surfaces 21a, 41a of the first partition walls 21, 41) and the outer edge 15a ranges from several μm to several tens of μm, and ranges from 1 μm to 30 μm. Can be a range.

第2隔壁22は、第1隔壁21とは別に、平面視において、図1Dに示すように、複数の第2外部接続電極20を取り囲むように配置されていることが好ましい。この場合、第2隔壁22は、図1A、1B及び1Cに示すように、第2電極16上に配置することができる。第2隔壁22は、第2電極16と接触していてもよいし、例えば、第2電極16上に絶縁膜を設け、その絶縁膜を介して非接触で配置されていてもよい。第2電極16と配線基板32との導通経路を増加させるために、第2隔壁22は、第2電極16と接触して配置されることが好ましい。第2隔壁22は、製造方法の簡略化の観点から、第2外部接続電極20と同一工程によって形成することが好ましい。この場合、第2隔壁22及び第2外部接続電極20は、同じ材料を含んで又は同じ材料によって形成されていることが好ましく、同じ金属材料によって形成されていることがより好ましい。
第2隔壁22が配置される場合、図1A、1B、1Eに示すように、第2隔壁22は、平面視において、光反射性電極15の外縁15aよりも内側に配置されていることが好ましい。言い換えると、第2隔壁22は、その全部が光反射性電極15上に配置されていることが好ましい。また、第2隔壁22は、その底面が、同じ光反射性電極15又は光反射性電極15の上に配置されている同じ第2電極16の上に配置されていることが好ましい。平面視において、第2隔壁22(例えば、第2隔壁22の外側面22a)と外縁15aとの距離は、数μmから数十μmの範囲が挙げられ、1μmから50μmの範囲とすることが好ましく、20μmから30μmの範囲とすることがより好ましい。
なお、第1隔壁21、41と外縁15aとの距離は、第2隔壁22と外縁15aとの距離と同じでもよいが、異なっていてもよい。例えば、第1隔壁21、41と外縁15aとの距離は、第2隔壁22と外縁15aとの距離よりも小さいことが好ましい。
The second partition wall 22 is preferably arranged separately from the first partition wall 21 so as to surround the plurality of second external connection electrodes 20 as shown in FIG. 1D in a plan view. In this case, the second partition wall 22 can be arranged on the second electrode 16 as shown in FIGS. 1A, 1B and 1C. The second partition wall 22 may be in contact with the second electrode 16, or may be, for example, provided with an insulating film on the second electrode 16 and arranged in a non-contact manner via the insulating film. In order to increase the conduction path between the second electrode 16 and the wiring board 32, the second partition wall 22 is preferably arranged in contact with the second electrode 16. The second partition wall 22 is preferably formed by the same process as the second external connection electrode 20 from the viewpoint of simplifying the manufacturing method. In this case, the second partition wall 22 and the second external connection electrode 20 are preferably made of the same material or the same material, and more preferably made of the same metal material.
When the second partition wall 22 is arranged, as shown in FIGS. 1A, 1B, and 1E, it is preferable that the second partition wall 22 is arranged inside the outer edge 15a of the light reflecting electrode 15 in a plan view. .. In other words, it is preferable that the second partition wall 22 is entirely arranged on the light reflecting electrode 15. Further, it is preferable that the bottom surface of the second partition wall 22 is arranged on the same light-reflecting electrode 15 or the same second electrode 16 arranged on the light-reflecting electrode 15. In a plan view, the distance between the second partition wall 22 (for example, the outer surface 22a of the second partition wall 22) and the outer edge 15a is in the range of several μm to several tens of μm, and is preferably in the range of 1 μm to 50 μm. , 20 μm to 30 μm is more preferable.
The distance between the first partition walls 21 and 41 and the outer edge 15a may be the same as the distance between the second partition wall 22 and the outer edge 15a, but may be different. For example, the distance between the first partition walls 21 and 41 and the outer edge 15a is preferably smaller than the distance between the second partition wall 22 and the outer edge 15a.

第1隔壁21、41及び第2隔壁22の平面形状及び大きさは、それらの材料等によって適宜調整することができる。第1隔壁21、41及び第2隔壁22の平面形状は、環状が挙げられる。第1隔壁21、41及び第2隔壁22の幅は、例えば、それぞれ、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20の幅よりも小さいことが好ましい。このように、第1隔壁21、41及び第2隔壁22の幅が小さくすることで、実装時に第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20よりも小さい負荷で接合が可能になる。したがって、実装時に第1隔壁21、41及び第2隔壁22が第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20による接合の妨げを抑制し、実装性を確保することができる。第1隔壁21及び第2隔壁22は、それぞれ全ての部分で同じ幅でもよいし、一部異なる幅であってもよい。具体的には、平面視において、第1隔壁21及び第2隔壁22の幅は、5μmから50μmの範囲が挙げられる。
第1隔壁21、41及び第2隔壁22の厚みは、例えば、10μmから100μmの範囲の厚みが挙げられ、10μmから30μmの範囲が好ましい。第1隔壁21、41及び第2隔壁22の厚みは、それぞれ、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20と同じ厚みであってもよいし、異なる厚みであってもよい。なかでも、第1隔壁21、41の厚みは、第1外部接続電極19の厚みよりも小さいことが好ましい。この場合、第1隔壁21、41の厚みは、第1外部接続電極19の厚みよりも、5%〜20%の範囲で小さい厚みが挙げられる。また、第2隔壁22の厚みは、第2外部接続電極20の厚みよりも小さいことが好ましい。この場合、第2隔壁22の厚みは、第2外部接続電極20の厚みよりも、5%〜20%の範囲で小さい厚みが挙げられる。第1隔壁21、41及び第2隔壁22の上面は、第2半導体層11pの表面からの高さが同じ位置に配置されていることが好ましい。第1隔壁21及び第2隔壁22の上面は、それぞれ、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20の上面と、第2半導体層11p表面から同じ高さに配置されていてもよいし、異なる高さに配置されていてもよい。なかでも、第1隔壁21、41及び第2隔壁22の上面は、それぞれ、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20の上面よりも、第2半導体層11pの表面から低い高さ、つまり、第2半導体層11p側に配置していることが好ましい。これにより、発光素子を配線基板に実装する際、第1隔壁21、41及び/又は第2隔壁22よりも、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20が配線基板に先に接触するために、発光素子の実装性を確保することができる。第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20は、配線基板に圧着等により接合されることで厚みが小さくなる。そして、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20よりも厚みを小さく形成した第1隔壁21、41及び第2隔壁22が配線基板と接触、または第1隔壁21、41及び第2隔壁22と配線基板との隙間が小さくなる。従って、発光素子の実装性を確保しつつ、第1隔壁21、41及び第2隔壁22を樹脂をせき止める部材として機能させることができる。
特に、第1隔壁21、41及び第2隔壁22は、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20と同じ材料を含んで又は同じ材料によって、同一工程によって形成することが好ましい。
The planar shape and size of the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 can be appropriately adjusted depending on their materials and the like. Examples of the planar shape of the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 include an annular shape. The widths of the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 are preferably smaller than, for example, the widths of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20, respectively. By reducing the widths of the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 in this way, bonding can be performed with a load smaller than that of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 at the time of mounting. Therefore, at the time of mounting, the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 can suppress the hindrance of joining by the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20, and the mountability can be ensured. The first partition wall 21 and the second partition wall 22 may have the same width in all parts or may have different widths in some parts. Specifically, in a plan view, the widths of the first partition wall 21 and the second partition wall 22 are in the range of 5 μm to 50 μm.
The thickness of the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 includes, for example, a thickness in the range of 10 μm to 100 μm, and is preferably in the range of 10 μm to 30 μm. The thicknesses of the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 may be the same as or different from those of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20, respectively. Above all, the thickness of the first partition walls 21 and 41 is preferably smaller than the thickness of the first external connection electrode 19. In this case, the thickness of the first partition walls 21 and 41 may be smaller in the range of 5% to 20% than the thickness of the first external connection electrode 19. Further, the thickness of the second partition wall 22 is preferably smaller than the thickness of the second external connection electrode 20. In this case, the thickness of the second partition wall 22 may be smaller in the range of 5% to 20% than the thickness of the second external connection electrode 20. It is preferable that the upper surfaces of the first partition walls 21, 41 and the second partition wall 22 are arranged at the same height from the surface of the second semiconductor layer 11p. The upper surfaces of the first partition wall 21 and the second partition wall 22 may be arranged at the same height as the upper surfaces of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20, respectively, from the surface of the second semiconductor layer 11p. , May be arranged at different heights. Among them, the upper surfaces of the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 are lower than the upper surfaces of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20, respectively, from the surface of the second semiconductor layer 11p. That is, it is preferable that the second semiconductor layer is arranged on the 11p side. As a result, when the light emitting element is mounted on the wiring board, the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 come into contact with the wiring board before the first partition wall 21, 41 and / or the second partition wall 22. Therefore, the mountability of the light emitting element can be ensured. The thickness of the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 is reduced by being joined to the wiring board by crimping or the like. Then, the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 formed to be smaller in thickness than the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 come into contact with the wiring board, or the first partition wall 21, 41 and the second partition wall are formed. The gap between 22 and the wiring board becomes smaller. Therefore, the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 can function as members for damming the resin while ensuring the mountability of the light emitting element.
In particular, it is preferable that the first partition wall 21, 41 and the second partition wall 22 are formed by the same process containing or using the same material as the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20.

〔発光装置30〕
本実施形態の発光装置30は、図3A及び3Bに示すように、上面に配線パターン31を有する配線基板32と、配線パターン31上に、複数の第1外部接続電極19及び複数の第2外部接続電極20を用いて接続される発光素子10と、発光素子10と、第1隔壁21の外側面21aとを被覆する被覆部材33とを備える。
このような構成とすることにより、発光素子における第1隔壁21が、発光素子と配線基板32との間へ被覆部材33を入り込ませず、第1隔壁21の外側に被覆部材33をせき止めることができる。よって、発光素子と配線基板32との間に入り込んだ被覆部材33が発光素子の熱によって膨張することによる発光素子の配線基板32から浮き又は剥がれ等を効果的に防止することができる。
また、発光素子の外周の近傍で生じる発光素子からの光漏れを、第1隔壁21の外側に配置された被覆部材33によって、効果的に抑制する構造とすることができる。また、第1隔壁21は、発光素子に設けられた光反射性電極15の外縁15aよりも内側に配置されており、被覆部材33が入り込まない領域については発光素子からの光を光反射性電極15によって反射する構造としている。その結果、発光素子の光漏れを低減でき、光取り出し効率を維持しつつ、信頼性を向上させることができる。
[Light emitting device 30]
As shown in FIGS. 3A and 3B, the light emitting device 30 of the present embodiment includes a wiring board 32 having a wiring pattern 31 on the upper surface, a plurality of first external connection electrodes 19 and a plurality of second externals on the wiring pattern 31. It includes a light emitting element 10 connected by using the connection electrode 20, a covering member 33 that covers the light emitting element 10 and the outer surface 21a of the first partition wall 21.
With such a configuration, the first partition wall 21 in the light emitting element does not allow the covering member 33 to enter between the light emitting element and the wiring board 32, and the covering member 33 can be dammed outside the first partition wall 21. it can. Therefore, it is possible to effectively prevent the covering member 33 that has entered between the light emitting element and the wiring board 32 from floating or peeling off from the wiring board 32 of the light emitting element due to expansion due to the heat of the light emitting element.
Further, the light leakage from the light emitting element generated in the vicinity of the outer periphery of the light emitting element can be effectively suppressed by the covering member 33 arranged on the outside of the first partition wall 21. Further, the first partition wall 21 is arranged inside the outer edge 15a of the light-reflecting electrode 15 provided in the light-emitting element, and the light from the light-emitting element is transmitted to the light-reflecting electrode in the region where the covering member 33 does not enter. It has a structure that is reflected by 15. As a result, light leakage of the light emitting element can be reduced, and reliability can be improved while maintaining light extraction efficiency.

(配線基板32)
配線基板32は、上面に配線パターン31を有する。
配線基板32の材料としては、例えば、樹脂やセラミックスなどの絶縁性部材、表面に絶縁性部材を形成した金属部材等が挙げられる。なかでも、基板の材料は、耐熱性及び耐候性の高いセラミックスを利用したものが好ましい。セラミックス材料としては、アルミナ、窒化アルミニウムなどが挙げられる。
配線パターン31は、発光素子に電流を供給し得るものであればよく、当該分野で通常使用されている材料、厚み、形状等で形成されている。具体的には、配線パターン31は、例えば、銅、アルミニウム、金、銀、プラチナ、チタン、タングステン、パラジウム、鉄、ニッケル等の金属又はこれらを含む合金等によって形成することができる。特に、配線基板32の上面に配置される配線パターン31の最表面の一部は、発光素子10からの光を効率よく取り出すために、銀などの反射率の高い材料で覆われていることが好ましい。配線パターン31は、電解めっき、無電解めっき、蒸着、スパッタ等によって形成される。
発光素子10における第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20と、配線パターン31の接合は、例えば、超音波接合法を用いて接合することができる。また、接合部材として、金、銀、銅などのバンプ、銀、金、銅、プラチナ、アルミニウム、パラジウムなどの金属粉末と樹脂バインダを含む金属ペースト、錫−ビスマス系、錫−銅系、錫−銀系、金−錫系などの半田、低融点金属などのろう材等を用いてもよい。例えば、発光素子の配線基板32への実装にAuを最表面に含む第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20を用いる場合、配線パターン31の最表面にAuを用いると、発光素子と基板との接合性が向上できる。
配線パターン31は、配線基板32の上面に正負一対のパターンを有していることが好ましい。このような配線パターン31によって、発光素子10における第1電極18及び第2電極16を、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20をそれぞれ介して接続することができる。
(Wiring board 32)
The wiring board 32 has a wiring pattern 31 on the upper surface.
Examples of the material of the wiring board 32 include an insulating member such as resin and ceramics, a metal member having an insulating member formed on the surface, and the like. Among them, the material of the substrate is preferably one using ceramics having high heat resistance and weather resistance. Examples of the ceramic material include alumina and aluminum nitride.
The wiring pattern 31 may be any as long as it can supply an electric current to the light emitting element, and is formed of a material, thickness, shape, or the like usually used in the art. Specifically, the wiring pattern 31 can be formed of, for example, a metal such as copper, aluminum, gold, silver, platinum, titanium, tungsten, palladium, iron, nickel, or an alloy containing these. In particular, a part of the outermost surface of the wiring pattern 31 arranged on the upper surface of the wiring board 32 may be covered with a material having high reflectance such as silver in order to efficiently take out the light from the light emitting element 10. preferable. The wiring pattern 31 is formed by electrolytic plating, electroless plating, thin film deposition, sputtering, or the like.
The first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 in the light emitting element 10 and the wiring pattern 31 can be joined by, for example, an ultrasonic joining method. In addition, as joining members, bumps such as gold, silver and copper, metal powders such as silver, gold, copper, platinum, aluminum and palladium and metal pastes containing resin binders, tin-bismuth-based, tin-copper-based, tin- A silver-based solder, a gold-tin-based solder, a brazing material such as a low-melting metal may be used. For example, when the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 containing Au on the outermost surface are used for mounting the light emitting element on the wiring board 32, if Au is used on the outermost surface of the wiring pattern 31, the light emitting element and the light emitting element Bondability with the substrate can be improved.
The wiring pattern 31 preferably has a pair of positive and negative patterns on the upper surface of the wiring board 32. With such a wiring pattern 31, the first electrode 18 and the second electrode 16 in the light emitting element 10 can be connected via the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20, respectively.

(被覆部材33)
被覆部材33は、発光素子10と、第1隔壁21の外側面21aとを被覆する。つまり、被覆部材33は、発光素子10と配線基板32及び/又は配線パターン31との間において、少なくとも第1外部接続電極19を被覆しない。
また、図1Cに示すように、複数の第2外部接続電極20を取り囲む第2隔壁22が、第1隔壁21とは別に設けられている場合には、発光素子10と、第1隔壁21の外側面21a、第2隔壁22の外側面22aとを被覆する。つまり、被覆部材33は、発光素子10と配線基板32及び/又は配線パターン31との間において、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20を被覆しない。
これにより、発光素子10と配線基板32及び/又は配線パターン31との間において、被覆部材33が存在しないか、存在するとしても、極めて少量又は小面積を被覆する程度とすることができる。よって、発光素子10の熱による被覆部材33の熱膨張に起因する発光素子10への応力負荷を低減することができる。その結果、発光素子10の配線基板32からの剥がれなどを有効に抑制することができる。
被覆部材33は、図3B等に示すように、発光素子10の第1隔壁21の外側及び/又は第2隔壁22の外側と、発光素子10の側面を被覆することが好ましい。発光素子の側面は、後述するように、接着材(図3B中、35)等の透光性の材料で一部被覆されることがあるため、この場合には、発光素子の側方の透光性の材料の表面を被覆することが好ましい。
(Coating member 33)
The covering member 33 covers the light emitting element 10 and the outer surface 21a of the first partition wall 21. That is, the covering member 33 does not cover at least the first external connection electrode 19 between the light emitting element 10 and the wiring board 32 and / or the wiring pattern 31.
Further, as shown in FIG. 1C, when the second partition wall 22 surrounding the plurality of second external connection electrodes 20 is provided separately from the first partition wall 21, the light emitting element 10 and the first partition wall 21 It covers the outer side surface 21a and the outer surface 22a of the second partition wall 22. That is, the covering member 33 does not cover the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 between the light emitting element 10 and the wiring board 32 and / or the wiring pattern 31.
As a result, between the light emitting element 10 and the wiring board 32 and / or the wiring pattern 31, the covering member 33 does not exist, or even if it exists, it can cover an extremely small amount or a small area. Therefore, it is possible to reduce the stress load on the light emitting element 10 due to the thermal expansion of the covering member 33 due to the heat of the light emitting element 10. As a result, peeling of the light emitting element 10 from the wiring board 32 can be effectively suppressed.
As shown in FIG. 3B and the like, the covering member 33 preferably covers the outside of the first partition wall 21 of the light emitting element 10 and / or the outside of the second partition wall 22 and the side surface of the light emitting element 10. As will be described later, the side surface of the light emitting element may be partially covered with a translucent material such as an adhesive (35 in FIG. 3B). In this case, the side surface of the light emitting element is transparent. It is preferable to coat the surface of the light material.

被覆部材33は、光反射性、透光性、遮光性等を有する樹脂を用いることができる。具体的には、被覆部材33は、樹脂に光反射性物質が含有された樹脂を用いることができる。被覆部材33を構成する樹脂、光反射性物質等は、当該分野で通常使用されているもののいずれをも利用することができる。
例えば、樹脂としては、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、アクリル樹脂の1種以上を含む樹脂又はハイブリッド樹脂等が挙げられる。光反射性物質としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ムライトなどが挙げられる。
被覆部材33は、例えば、樹脂に光反射性物質を20wt%以上含有することが好ましい。被覆部材33は、例えば、射出成形、ポッティング成形、樹脂印刷法、トランスファーモールド法、圧縮成形などで成形することができる。
As the covering member 33, a resin having light reflectivity, translucency, light shielding property and the like can be used. Specifically, as the covering member 33, a resin containing a light-reflecting substance in the resin can be used. As the resin, the light-reflecting substance, and the like constituting the covering member 33, any of those usually used in the art can be used.
For example, examples of the resin include a silicone resin, a modified silicone resin, an epoxy resin, a modified epoxy resin, a resin containing one or more of acrylic resins, a hybrid resin, and the like. Examples of the light-reflecting substance include titanium oxide, silicon oxide, zirconium oxide, potassium titanate, alumina, aluminum nitride, boron nitride, and mullite.
The coating member 33 preferably contains, for example, 20 wt% or more of a light-reflecting substance in the resin. The covering member 33 can be molded by, for example, injection molding, potting molding, resin printing method, transfer molding method, compression molding, or the like.

(透光部材34)
発光装置30は、発光素子10の上に透光部材34を有することが好ましい。例えば、発光素子10は第1電極18及び第2電極16を有する面を下面として配線パターン31上にフリップチップ実装される場合、発光素子10は、下面と反対側の上面を主な光取り出し面として、この上面と透光部材34の下面とが接合される。
透光部材34は、発光素子10の上面を被覆し、発光素子10から出射される光の50%以上又は60%以上、好ましくは70%以上を透過させ、外部に放出することが可能な部材である。透光部材34は、光反射性物質や、発光素子10から出射される光の少なくとも一部を波長変換可能な蛍光体を含有することができる。
透光部材34の下面は、発光素子10の上面の面積の80〜150%程度の面積を有することが好ましい。透光部材34の下面外縁は、発光素子の上面外縁と一致するか、上面外縁より内側又は外側のどちらかのみに位置していることが好ましい。透光部材34の厚みは、例えば、50μmから300μmの範囲が挙げられる。
(Translucent member 34)
The light emitting device 30 preferably has a light transmitting member 34 on the light emitting element 10. For example, when the light emitting element 10 is flip-chip mounted on the wiring pattern 31 with the surface having the first electrode 18 and the second electrode 16 as the lower surface, the light emitting element 10 has the upper surface opposite to the lower surface as the main light extraction surface. As a result, the upper surface and the lower surface of the translucent member 34 are joined.
The light transmitting member 34 is a member that covers the upper surface of the light emitting element 10 and can transmit 50% or more or 60% or more, preferably 70% or more of the light emitted from the light emitting element 10 to the outside. Is. The light-transmitting member 34 can contain a light-reflecting substance and a phosphor capable of wavelength-converting at least a part of the light emitted from the light emitting element 10.
The lower surface of the light transmitting member 34 preferably has an area of about 80 to 150% of the area of the upper surface of the light emitting element 10. It is preferable that the outer edge of the lower surface of the light transmitting member 34 coincides with the outer edge of the upper surface of the light emitting element, or is located only inside or outside the outer edge of the upper surface. The thickness of the light transmitting member 34 may be, for example, in the range of 50 μm to 300 μm.

透光部材34は、例えば、樹脂、ガラス等により形成することができる。また、蛍光体を含有する透光部材34は、例えば、蛍光体の焼結体、樹脂又はガラスに蛍光体を含有させたもの等が挙げられる。 The translucent member 34 can be formed of, for example, resin, glass, or the like. Further, as the translucent member 34 containing a fluorescent substance, for example, a sintered body of the fluorescent substance, a resin or glass containing the fluorescent substance, and the like can be mentioned.

透光部材34に含有させる蛍光体としては、例えば、発光素子10として、青色光を発する発光素子又は紫外光を発する発光素子を用いる場合には、セリウムで賦活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(YAG:Ce)、セリウムで賦活されたルテチウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(LAG:Ce)、ユウロピウム及び/又はクロムで賦活された窒素含有アルミノ珪酸カルシウム系蛍光体(CaO−Al23−SiO2:Eu)、ユウロピウムで賦活されたシリケート系蛍光体(例えば(Sr,Ba)2SiO4:Eu)、β サイアロン系蛍光体(例えばSi6-zAlzz8-z:Eu(0<Z<4.2))、CASN系蛍光体、SCASN系蛍光体等の窒化物系蛍光体、KSF系蛍光体(K2SiF6:Mn)、硫化物系蛍光体、量子ドット蛍光体等が挙げられる。これらの蛍光体と、青色光を発する発光素子又は紫外光を発する発光素子との組み合わせにより、所望の発光色の発光装置(例えば白色系の発光装置)を得ることができる。このような蛍光体を透光部材34に含有させる場合、蛍光体の濃度を、例えば5〜50%程度とすることが好ましい。 As the phosphor contained in the translucent member 34, for example, when a light emitting element that emits blue light or a light emitting element that emits ultraviolet light is used as the light emitting element 10, yttrium aluminum garnet-based fluorescence activated by cerium is used. Body (YAG: Ce), cerium-activated yttrium aluminum garnet-based phosphor (LAG: Ce), europium and / or chromium-activated nitrogen-containing calcium aluminum silicate-based phosphor (CaO-Al 2 O 3) −SiO 2 : Eu), silicate-based phosphor activated with europium (for example, (Sr, Ba) 2SiO 4 : Eu), β-sialon-based phosphor (for example, Si 6-z Al z O z N 8-z : Eu) (0 <Z <4.2)), nitride-based phosphors such as CASN-based phosphors and SCASN-based phosphors, KSF-based phosphors (K 2 SiF 6 : Mn), sulfide-based phosphors, quantum dot fluorescence The body etc. can be mentioned. By combining these phosphors with a light emitting element that emits blue light or a light emitting element that emits ultraviolet light, a light emitting device having a desired light emitting color (for example, a white light emitting device) can be obtained. When such a phosphor is contained in the translucent member 34, the concentration of the phosphor is preferably set to, for example, about 5 to 50%.

透光部材34は、発光素子10の上面を被覆するように配置する場合、接着材35を介して接合することができる。接着材は、例えば、エポキシ又はシリコーンのような周知の透光性を有する樹脂を用いることができる。この場合、接着材35は、透光部材34の下面と発光素子10との間のみならず、発光素子10の側面を被覆してもよい。また、透光部材34と発光素子10との接合には、圧着、焼結による接合法や、表面活性化接合、原子拡散接合、水酸基接合による直接接合法を用いてもよい。
発光装置30は、任意に、保護素子36等の別の素子、電子部品等を有していてもよい。例えば、保護素子36は、図3Bに示すように、被覆部材33及び/又は後述する第2被覆部材37に埋設されていることが好ましい。
When the translucent member 34 is arranged so as to cover the upper surface of the light emitting element 10, it can be joined via the adhesive 35. As the adhesive, a well-known translucent resin such as epoxy or silicone can be used. In this case, the adhesive 35 may cover not only between the lower surface of the light transmitting member 34 and the light emitting element 10 but also the side surface of the light emitting element 10. Further, for the bonding between the translucent member 34 and the light emitting element 10, a bonding method by crimping or sintering, or a direct bonding method by surface activation bonding, atomic diffusion bonding or hydroxyl group bonding may be used.
The light emitting device 30 may optionally have another element such as a protective element 36, an electronic component, or the like. For example, as shown in FIG. 3B, the protective element 36 is preferably embedded in the covering member 33 and / or the second covering member 37 described later.

(第2被覆部材37)
発光装置30は、透光部材34を有する場合、透光部材34の側面の一部又は全部を被覆する第2被覆部材37をさらに備えることが好ましい。第2被覆部材37の上面は、例えば、透光部材34の上面と面一又は略面一に配置されることが好ましい。また、第2被覆部材37は、発光装置30の外形の一部を構成することができる。
第2被覆部材37は、被覆部材33と同様の材料を利用して形成することができる。
(Second covering member 37)
When the light emitting device 30 has the translucent member 34, it is preferable that the light emitting device 30 further includes a second covering member 37 that covers a part or all of the side surface of the translucent member 34. The upper surface of the second covering member 37 is preferably arranged flush with or substantially flush with the upper surface of the translucent member 34, for example. Further, the second covering member 37 can form a part of the outer shape of the light emitting device 30.
The second covering member 37 can be formed by using the same material as the covering member 33.

〔発光装置50〕
発光装置50では、図2に示すように、複数の第1外部接続電極19のみならず、複数の第2外部接続電極20をも取り囲む第1隔壁41が設けられた発光素子40を用いる。図4に示すように、上面に配線パターン51を有する配線基板52を用いて、配線パターン51上に、発光素子40を複数の第1外部接続電極19及び複数の第2外部接続電極20により実装する。
ここで用いる配線基板52は、発光素子40における第1隔壁41が対向する部分に、配線パターン51が配置されないか、配置されるとしても、その一部が配線基板52内に埋設されている。このような配線基板52を用いることにより、第1隔壁41が発光素子40の第1電極18又は第2電極16に接続されている場合においても、第1隔壁41と配線パターン51との導通が防止されるため、短絡を防止することができる。
その他の構成は、実質的に発光装置30と同様である。
このような配線基板52を用いた場合においても、発光素子40と配線基板52及び/又は配線パターン51との間において、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20は、被覆部材33に被覆されない。つまり、被覆部材33は、第1隔壁41の外側面41aを被覆し、第1隔壁41の外側に配置されることで、発光素子の外周の近傍で生じる光漏れを抑制する効果を発揮する。
[Light emitting device 50]
As shown in FIG. 2, the light emitting device 50 uses a light emitting element 40 provided with a first partition wall 41 that surrounds not only the plurality of first external connection electrodes 19 but also the plurality of second external connection electrodes 20. As shown in FIG. 4, a wiring board 52 having a wiring pattern 51 on the upper surface is used, and a light emitting element 40 is mounted on the wiring pattern 51 by a plurality of first external connection electrodes 19 and a plurality of second external connection electrodes 20. To do.
In the wiring board 52 used here, the wiring pattern 51 is not arranged in the portion of the light emitting element 40 facing the first partition wall 41, or even if the wiring pattern 51 is arranged, a part thereof is embedded in the wiring board 52. By using such a wiring board 52, even when the first partition wall 41 is connected to the first electrode 18 or the second electrode 16 of the light emitting element 40, the continuity between the first partition wall 41 and the wiring pattern 51 can be achieved. Since it is prevented, a short circuit can be prevented.
Other configurations are substantially the same as those of the light emitting device 30.
Even when such a wiring board 52 is used, the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 are attached to the covering member 33 between the light emitting element 40 and the wiring board 52 and / or the wiring pattern 51. Not covered. That is, the covering member 33 covers the outer surface 41a of the first partition wall 41 and is arranged outside the first partition wall 41, thereby exerting an effect of suppressing light leakage that occurs in the vicinity of the outer periphery of the light emitting element.

〔発光装置60〕
発光装置60では、上述した発光装置50と同様に、図2に示す発光素子40を用いる。図5に示すように、上面に配線パターン61を有する配線基板62を用いて、配線パターン61上に、発光素子40を複数の第1外部接続電極19及び複数の第2外部接続電極20により実装する。
ここで用いる配線基板62は、発光素子40における第1隔壁41が対向する配線パターン61上に、被覆層63が配置されている。この被覆層63は、絶縁性の材料で形成されている。このような配線基板62を用いることにより、第1隔壁41が発光素子の電極に接続されている場合においても、第1隔壁41と配線パターン61との導通が防止されるため、短絡を防止することができる。
その他の構成は、実質的に発光装置30と同様である。
このような配線基板62を用いた場合においても、発光素子40と配線基板62及び/又は配線パターン61との間において、第1外部接続電極19及び第2外部接続電極20は、被覆部材33に被覆されない。つまり、被覆部材33は、第1隔壁41の外側面41aを被覆し、第1隔壁41の外側に配置されることで、発光素子の外周の近傍で生じる光漏れを抑制する効果を発揮する。
[Light emitting device 60]
In the light emitting device 60, the light emitting element 40 shown in FIG. 2 is used in the same manner as the light emitting device 50 described above. As shown in FIG. 5, a wiring board 62 having a wiring pattern 61 on the upper surface is used, and a light emitting element 40 is mounted on the wiring pattern 61 by a plurality of first external connection electrodes 19 and a plurality of second external connection electrodes 20. To do.
In the wiring board 62 used here, the coating layer 63 is arranged on the wiring pattern 61 on which the first partition wall 41 of the light emitting element 40 faces. The coating layer 63 is made of an insulating material. By using such a wiring board 62, even when the first partition wall 41 is connected to the electrode of the light emitting element, the conduction between the first partition wall 41 and the wiring pattern 61 is prevented, so that a short circuit is prevented. be able to.
Other configurations are substantially the same as those of the light emitting device 30.
Even when such a wiring board 62 is used, the first external connection electrode 19 and the second external connection electrode 20 are attached to the covering member 33 between the light emitting element 40 and the wiring board 62 and / or the wiring pattern 61. Not covered. That is, the covering member 33 covers the outer surface 41a of the first partition wall 41 and is arranged outside the first partition wall 41, thereby exerting an effect of suppressing light leakage that occurs in the vicinity of the outer periphery of the light emitting element.

本発明の発光素子は、照明用光源、各種インジケーター用光源、車載用光源、ディスプレイ用光源、液晶のバックライト用光源、センサー用光源、信号機、車載部品、看板用チャンネルレター等、種々の光源に使用することができる。 The light emitting element of the present invention can be used for various light sources such as lighting light sources, various indicator light sources, in-vehicle light sources, display light sources, liquid crystal backlight light sources, sensor light sources, traffic lights, in-vehicle parts, and signage channel letters. Can be used.

10 発光素子
11 半導体積層体
11a 発光層
11b 露出部
11n 第1半導体層
11p 第2半導体層
11c 外縁
12 絶縁膜
12a 開口部
13 基板
15 光反射性電極
15a 外縁
16 第2電極
17 保護層
18 第1電極
19 第1外部接続電極
20 第2外部接続電極
21、41 第1隔壁
21a、41a 外側面
22 第2隔壁
22a 外側面
30、50、60 発光装置
31、51、61 配線パターン
32、52、62 配線基板
33 被覆部材
34 透光部材
35 接着材
36 保護素子
63 被覆層
10 Light emitting element 11 Semiconductor laminate 11a Light emitting layer 11b Exposed part 11n First semiconductor layer 11p Second semiconductor layer 11c Outer edge 12 Insulating film 12a Opening 13 Substrate 15 Light reflective electrode 15a Outer edge 16 Second electrode 17 Protective layer 18 First Electrode 19 1st external connection electrode 20 2nd external connection electrode 21, 41 1st partition 21a, 41a Outer side surface 22 2nd partition 22a Outer side surface 30, 50, 60 Light emitting device 31, 51, 61 Wiring pattern 32, 52, 62 Wiring board 33 Coating member 34 Translucent member 35 Adhesive material 36 Protective element 63 Coating layer

Claims (13)

第1半導体層、発光層及び第2半導体層を順に有する半導体積層体であって、前記第1半導体層は前記第2半導体層の上面側に前記第2半導体層から前記第1半導体層が露出する複数の露出部を有する半導体積層体と、
前記第2半導体層上に設けられ、前記第2半導体層と接続された光反射性電極と、
前記光反射性電極上に設けられた第2電極と、
前記半導体積層体及び前記光反射性電極を覆うとともに、前記複数の露出部の上方に開口部を有する絶縁膜と、
前記開口部にて前記第1半導体層と接続され、かつ一部が前記絶縁膜を介して前記第2半導体層上に配置された第1電極と、
前記第1電極上に配置された複数の第1外部接続電極と、
前記第2電極上に配置された複数の第2外部接続電極と、
前記第1電極上に配置され、平面視において前記複数の第1外部接続電極を取り囲む第1隔壁とを備え、
前記光反射性電極の外縁は、平面視において前記第2半導体層の外縁よりも内側に配置されており、
前記第1隔壁は、平面視において前記光反射性電極の外縁よりも内側に配置されている発光素子。
A semiconductor laminate having a first semiconductor layer, a light emitting layer, and a second semiconductor layer in this order, in which the first semiconductor layer is exposed from the second semiconductor layer on the upper surface side of the second semiconductor layer. A semiconductor laminate having a plurality of exposed parts and
A light-reflecting electrode provided on the second semiconductor layer and connected to the second semiconductor layer,
A second electrode provided on the light-reflecting electrode and
An insulating film that covers the semiconductor laminate and the light-reflecting electrode and has an opening above the plurality of exposed portions.
A first electrode connected to the first semiconductor layer at the opening and partially arranged on the second semiconductor layer via the insulating film.
A plurality of first external connection electrodes arranged on the first electrode,
A plurality of second external connection electrodes arranged on the second electrode,
A first partition wall arranged on the first electrode and surrounding the plurality of first external connection electrodes in a plan view is provided.
The outer edge of the light-reflecting electrode is arranged inside the outer edge of the second semiconductor layer in a plan view.
The first partition wall is a light emitting element arranged inside the outer edge of the light reflecting electrode in a plan view.
さらに、前記複数の第2外部接続電極を取り囲む第2隔壁が配置され、
前記第2隔壁の外縁は、平面視において前記光反射性電極の外縁よりも内側に配置されている請求項1に記載の発光素子。
Further, a second partition wall surrounding the plurality of second external connection electrodes is arranged.
The light emitting element according to claim 1, wherein the outer edge of the second partition wall is arranged inside the outer edge of the light reflecting electrode in a plan view.
前記第1隔壁は、前記複数の第1外部接続電極及び前記複数の第2外部接続電極を取り囲む請求項1に記載の発光素子。 The light emitting element according to claim 1, wherein the first partition wall surrounds the plurality of first external connection electrodes and the plurality of second external connection electrodes. 平面視において、前記第1外部接続電極は、前記第2外部接続電極の両側に配置されており、
前記第1隔壁は、前記第2外部接続電極の両側で、それぞれ前記複数の第1外部接続電極を取り囲む、2つの第1隔壁を含む請求項1又は2に記載の発光素子。
In a plan view, the first external connection electrode is arranged on both sides of the second external connection electrode.
The light emitting element according to claim 1 or 2, wherein the first partition wall includes two first partition walls that surround the plurality of first external connection electrodes on both sides of the second external connection electrode.
前記第1外部接続電極は、平面視において前記露出部と離間して配置されている請求項1から4のいずれか1つに記載の発光素子。 The light emitting element according to any one of claims 1 to 4, wherein the first external connection electrode is arranged apart from the exposed portion in a plan view. 前記第1電極は、前記複数の露出部を一体的に覆う請求項1から5のいずれか1つに記載の発光素子。 The light emitting element according to any one of claims 1 to 5, wherein the first electrode integrally covers the plurality of exposed portions. 前記第2電極は、前記光反射性電極を介して前記第2半導体層に接続されている請求項1から6のいずれか1つに記載の発光素子。 The light emitting element according to any one of claims 1 to 6, wherein the second electrode is connected to the second semiconductor layer via the light reflecting electrode. 前記第1隔壁の厚みは、前記第1外部接続電極の厚みよりも小さい請求項1から7のいずれか1つに記載の発光素子。 The light emitting element according to any one of claims 1 to 7, wherein the thickness of the first partition wall is smaller than the thickness of the first external connection electrode. 前記第1隔壁の幅は、前記第1外部接続電極の幅よりも小さい請求項1から8のいずれか1つに記載の発光素子。 The light emitting element according to any one of claims 1 to 8, wherein the width of the first partition wall is smaller than the width of the first external connection electrode. 前記第1外部接続電極及び前記第1隔壁は、同じ金属材料からなる請求項1から9のいずれか1つに記載の発光素子。 The light emitting element according to any one of claims 1 to 9, wherein the first external connection electrode and the first partition wall are made of the same metal material. 上面に配線パターンを有する配線基板と、
前記配線パターン上に、前記複数の第1外部接続電極及び前記複数の第2外部接続電極により実装される請求項1〜10のいずれか1つに記載の発光素子と、
前記発光素子と、前記第1隔壁の外側面とを被覆する被覆部材とを備える発光装置。
A wiring board with a wiring pattern on the top surface,
The light emitting element according to any one of claims 1 to 10, which is mounted on the wiring pattern by the plurality of first external connection electrodes and the plurality of second external connection electrodes.
A light emitting device including the light emitting element and a covering member that covers the outer surface of the first partition wall.
前記複数の第2外部接続電極を取り囲む前記第2隔壁と、
平面視において、前記第2隔壁の両側で、それぞれ前記複数の第1外部接続電極を取り囲む2つの前記第1隔壁とを含み、
前記被覆部材は、前記第1隔壁の外側面及び前記第2隔壁の外側面を被覆する請求項11に記載の発光装置。
The second partition wall surrounding the plurality of second external connection electrodes,
In plan view, both sides of the second bulkhead include two first bulkheads surrounding the plurality of first external connection electrodes, respectively.
The light emitting device according to claim 11, wherein the covering member covers the outer surface of the first partition wall and the outer surface of the second partition wall.
前記被覆部材は、光反射性物質を含む請求項11又は12に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 11 or 12, wherein the covering member contains a light-reflecting substance.
JP2019228557A 2019-12-18 2019-12-18 Light emitting element and light emitting device Active JP7410381B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019228557A JP7410381B2 (en) 2019-12-18 2019-12-18 Light emitting element and light emitting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019228557A JP7410381B2 (en) 2019-12-18 2019-12-18 Light emitting element and light emitting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021097170A true JP2021097170A (en) 2021-06-24
JP7410381B2 JP7410381B2 (en) 2024-01-10

Family

ID=76432240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019228557A Active JP7410381B2 (en) 2019-12-18 2019-12-18 Light emitting element and light emitting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7410381B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023191069A1 (en) * 2022-03-31 2023-10-05 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 Laminate and electronic apparatus

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06204291A (en) * 1992-12-28 1994-07-22 Rohm Co Ltd Semiconductor device
JPH1126645A (en) * 1997-07-03 1999-01-29 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor integrated circuit device and its manufacture
US20050093178A1 (en) * 2003-11-04 2005-05-05 Chen-Tung Huang Package structure with a retarding structure and method of making same
JP2007243076A (en) * 2006-03-11 2007-09-20 Nichia Chem Ind Ltd Light emitting device and manufacturing method of light emitting device
JP2011124248A (en) * 2009-12-08 2011-06-23 Nichia Corp Method of manufacturing light-emitting device
JP2018107371A (en) * 2016-12-28 2018-07-05 日亜化学工業株式会社 Light-emitting device and manufacturing method thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06204291A (en) * 1992-12-28 1994-07-22 Rohm Co Ltd Semiconductor device
JPH1126645A (en) * 1997-07-03 1999-01-29 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor integrated circuit device and its manufacture
US20050093178A1 (en) * 2003-11-04 2005-05-05 Chen-Tung Huang Package structure with a retarding structure and method of making same
JP2007243076A (en) * 2006-03-11 2007-09-20 Nichia Chem Ind Ltd Light emitting device and manufacturing method of light emitting device
JP2011124248A (en) * 2009-12-08 2011-06-23 Nichia Corp Method of manufacturing light-emitting device
JP2018107371A (en) * 2016-12-28 2018-07-05 日亜化学工業株式会社 Light-emitting device and manufacturing method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023191069A1 (en) * 2022-03-31 2023-10-05 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 Laminate and electronic apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP7410381B2 (en) 2024-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10367129B2 (en) Light emitting device
JP6277860B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP4773755B2 (en) Chip-type semiconductor light emitting device
US10629783B2 (en) Light emitting device
JP5781741B2 (en) Light emitting device
US10276767B2 (en) Light emitting device
US9666567B2 (en) Light emitting device having underlying protective element
JP6844606B2 (en) Light emitting element, its manufacturing method, and light emitting device
JP6523597B2 (en) Light emitting device
JP6428249B2 (en) Light emitting device
TW201511353A (en) Light emitting device and method of manufacturing the same
JP6520663B2 (en) Element mounting substrate and light emitting device
JP6638748B2 (en) Light emitting element and light emitting device
JP7410381B2 (en) Light emitting element and light emitting device
JP6773104B2 (en) Light emitting element and light emitting device
US20160091180A1 (en) Light emitting device, light emitting module, and method for manufacturing light emitting device
JP6191214B2 (en) Light emitting device
JP7216296B2 (en) Light-emitting element and light-emitting device
KR102553240B1 (en) Light emitting device and light emitting apparatus
JP7161105B2 (en) Light-emitting element and light-emitting device
JP2020065001A (en) Light-emitting device
JP7206521B2 (en) Light-emitting element and light-emitting device
JP6614313B2 (en) Light emitting device
JP2022119710A (en) Light-emitting element and light-emitting device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230711

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230712

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230907

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231121

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231204

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7410381

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151