JP2021064591A - 被覆粒子及びそれを含む導電性材料、並びに被覆粒子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記絶縁層が、非導電性の第1の材料と非導電性の第2の材料とを含み、
第1の材料と第2の材料とは、25℃、pH7の条件で測定されたゼータ電位の極性が互いに反対である被覆粒子を提供するものである。
第1の材料及び第2の材料は、25℃、pH7の条件で測定されたゼータ電位の極性が互いに反対であるものを用いる、被覆粒子の製造方法を提供するものである。
(ii)図2(c)に示すように、複数の第1絶縁性粒子6aと、第2の材料62からなる皮膜6cとが、導電性粒子5の表面に配置された形態。
(iii)図2(d)に示すように、第1の材料61及び第2の材料62を含む複合皮膜6dが導電性粒子5の表面に配置された形態。
C.V.(%)=(標準偏差/平均粒子径)×100・・・(I)
このC.V.が大きいということは粒度分布に幅があることを示し、一方、C.V.が小さいということは粒度分布がシャープであることを示す。本実施形態の被覆粒子は、C.V.が好ましくは0.1%以上20%以下、より好ましくは0.5%以上19%以下の絶縁性粒子を用いることが望ましい。C.V.がこの範囲であることにより、絶縁性粒子を含む絶縁層の厚みを均一にできる利点がある。
示差走査熱量計「STAR SYSTEM」(METTLER TOLEDO社製)を用いて、試料0.04〜0.06gを、200℃まで昇温し、その温度から降温速度5℃/minで25℃まで冷却した。次いで試料を昇温速度5℃/minで昇温し、熱量を測定した。ピークが観測されるときはそのピークの温度を、ピークが観測されずに段差が観測されるときは該段差部分の曲線の最大傾斜を示す接線と該段差の高温側のベースラインの延長線との交点の温度をガラス転移温度とした。
(A)一方の絶縁性粒子と導電性粒子とを任意の順序で分散媒に分散させた中間反応液中で中間被覆粒子を形成した後、他方の絶縁性粒子を該中間反応液に更に添加し分散させて、目的とする被覆粒子を形成する。
(B)二種の絶縁性粒子、又は導電性粒子を分散媒に分散させて中間分散液とし、該中間分散液に他方の粒子を添加して、目的とする被覆粒子を形成する。
(C)二種の絶縁性粒子並びに導電性粒子を分散媒に同時に混合して、目的とする被覆粒子を形成する。
これらのうち、イオン性基の電気的引力に起因した第1絶縁性粒子及び第2絶縁性粒子の意図しない凝集を防いで、均一且つ被覆率の高い絶縁層を形成させる観点から、前記(A)に示す混合方法で粒子の混合を行うことが好ましい。
測定対象の走査型電子顕微鏡(SEM)写真(絶縁性粒子は倍率100000倍、導電性粒子は倍率10000倍、被覆粒子は倍率10000倍)から、任意に200個の粒子を抽出して、それらについて上記の粒子径を測定し、その算術平均値を平均粒子径とした。
前記平均粒子径の測定から、下記式により求めた。
C.V.(%)=(標準偏差/平均粒子径)×100
示差走査熱量測定装置(METTLER TOLEDO社製、STAR SYSTEM)にて昇降温速度5℃/min、窒素雰囲気下、測定温度25℃から200℃までの熱量変化を上記の手順で測定した。
絶縁層の最大厚みは、上述した方法で測定した。
第1の材料を含む第1絶縁性粒子及び第2の材料を含む第2絶縁性粒子を用いた場合において、下記式により各絶縁性粒子の質量を算出し、その割合を含有比とした。なお、絶縁性粒子を皮膜に加工した被覆粒子は、皮膜にする前の粒子の状態で測定した値を含有比とした。
絶縁性粒子の含有量(質量部)=体積(cm3)×比重(g/cm3)×個数
体積:上述の方法で測定した平均粒子径から絶縁性粒子を球体と見立てて体積を求めた。
比重:比重測定装置(Micromeritics社製、AccuPyc II 1340)で絶縁性粒子の比重を測定した。
個数:被覆粒子の走査型電子顕微鏡(SEM)写真(倍率10000倍)において、任意に20個の粒子を抽出して、それらに付着している第1絶縁性粒子及び第2絶縁性粒子のそれぞれの個数をカウントした。
[工程1.第1の材料の製造]
長さ60mmの撹拌羽根を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、純水を100mL投入した。その後、架橋性モノマーとしてジビニルベンゼンモノマー(新日鉄住金株式会社製)15.0mmol、非架橋性モノマーとしてスチレンモノマー(関東化学(株)社製)30.0mmol、及びn−ブチルアクリレート(関東化学(株)社製)5.3mmol、4−(ビニルベンジル)トリエチルホスホニウムクロライド(日本化学工業(株)社製)0.03mmol、並びに重合開始剤として2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロライド(和光純薬工業社製、V−50)0.50mmolを投入した。窒素を15分間通気し、溶存酸素を追い出した後、60℃に昇温し、6時間保持して重合反応を進行させた。重合後の微粒子の分散液を目開き150μmのSUS篩にかけ、凝集物を除去した。凝集物を除去した分散液を、遠心分離機(日立工機(株)社製、CR−21N)にて20,000rpm、20分間の条件にて遠心分離して微粒子を沈降させ、上澄み液を除去した。得られた固形物に純水を加えて洗浄して、非導電性の第1の材料61を得た。本工程で製造された第1の材料61は、ポリ(スチレン/ジビニルベンゼン/n−ブチルアクリレート/4−(ビニルベンジル)トリエチルホスホニウムクロライド)の有機ポリマーのみからなる球状の第1絶縁性粒子であった。得られた第1絶縁性粒子は、これを純水に分散させて、25℃、pH7.0の分散液とし、上述の測定装置で該分散液を測定したときのゼータ電位が+50mVであり、粒子表面が正電荷を有していた。第1絶縁性粒子の平均粒子径は220nmであり、C.V.が9.7%であった。
上述した第1の材料の製造工程において、ジビニルベンゼン量を0.25mmolとし、4−(ビニルベンジル)トリエチルホスホニウムクロライドに代えて、ビニルベンゼンスルホン酸ナトリウムを0.03mmolとし、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロライド(和光純薬工業社製、V−50)に代えて、ペルオキソ二硫酸カリウムとした以外は工程1と同じ方法で第2の材料を製造した。本工程で製造された第2の材料62は、ポリ(スチレン/ジビニルベンゼン/n−ブチルアクリレート/ビニルベンゼンスルホン酸ナトリウム)の有機ポリマーのみからなる球状の第2絶縁性粒子であった。得られた第2絶縁性粒子は、これを純水に分散させて、25℃、pH7.0の分散液とし、上述の測定装置で該分散液を測定したときのゼータ電位が−45mVであり、粒子表面が負電荷を有していた。第2絶縁性粒子の平均粒子径は200nmであり、C.V.が9.5%であった。
芯材として、架橋性のアクリル樹脂(ガラス転移温度:120℃)からなる球状粒子を用い、該芯材粒子の表面に厚さが0.125μmのニッケルからなる導電性皮膜を有する、平均粒子径が3μmであり、表面が平滑な導電性粒子(Niめっき粒子;日本化学工業株式会社製)を用意した。前記Niめっき粒子5.0gに純水100mLを投入し、撹拌してNiめっき粒子の分散液を得た。この分散液に、第1絶縁性粒子25mgと、Na2SO4とを添加して第1絶縁性粒子を含む中間反応液とし、これを40℃で30分間撹拌した。中間反応液中、第1絶縁性粒子の固形分濃度は、質量基準で5000ppmであり、Na2SO4の濃度は5mmol/Lであった。その後、固液分離して新たな純水を加え洗浄する操作を3回繰り返した。洗浄後、純水100mLを投入し撹拌して得られた中間反応液に、第2絶縁性粒子25mgを添加して第2絶縁性粒子を含む反応液とし、これを40℃で30分間撹拌した。反応液中、第2絶縁性粒子の固形分濃度は、質量基準で5000ppmであった。上澄み液を除去後、固液分離して新たな純水を加え洗浄する操作を3回繰り返した後、50℃で真空乾燥して被覆粒子を得た。得られた被覆粒子は、導電性粒子5の表面に二種の複数の絶縁性粒子が均一かつ緻密に配列されていた。被覆粒子の平均粒子径は3.4μmであった。得られた被覆粒子における絶縁性粒子の被覆率を下記方法にて求めた。結果を表1に示す。
実施例1において、工程3の被覆粒子の製造工程の条件を平均高さ0.1μmの多数の突起部を有するNiめっき粒子に変更した他は、実施例1と同様に被覆粒子を製造した。得られた被覆粒子は、図2(b)に示すように、導電性粒子の表面に第1絶縁性粒子6aが複数配された粒子層を有し、第1絶縁性粒子6aからなる粒子層の外面に第2絶縁性粒子6bが複数配されているものであった。被覆粒子の平均粒子径は3.4μmであった。
実施例1で得られた被覆粒子1.0gを、純水20mL中に投入して分散液を得た。この分散液にテトラヒドロフラン10mLを加え、室温で6時間撹拌した。撹拌終了後、目開きが2μmのメンブレンフィルターにより固形物を分離して乾燥して、導電性粒子の表面に平均粒子径が220nmの第1絶縁性粒子6aと、第1絶縁性粒子6aどうしの隙間を厚さ50nmの皮膜6cによって被覆した絶縁層6を有する被覆粒子1を得た。得られた被覆粒子1は、図2(c)に示すように、導電性粒子5の表面に複数の第1絶縁性粒子6aと、各第1絶縁性粒子6aの隙間に連続した皮膜6cが形成されているものであった。被覆粒子の平均粒子径は3.4μmであった。
実施例1において、第2絶縁性粒子を用いずに、第1絶縁性粒子のみで被覆粒子を製造した他は、実施例1と同様に被覆粒子を製造した。得られた被覆粒子は、導電性粒子の表面に一種の絶縁性粒子が複数配されているものであった。被覆粒子の平均粒子径は3.4μmであった。
実施例1において、第1絶縁性粒子を用いずに、第2絶縁性粒子のみで被覆粒子を製造した他は、実施例1と同様に被覆粒子を製造した。得られた被覆粒子は、導電性粒子の表面に一種の絶縁性粒子が複数配されているものであった。被覆粒子の平均粒子径は3.4μmであった。
実施例及び比較例で得られた被覆粒子の被覆率を以下の方法によって算出した。すなわち、被覆粒子のSEM写真画像の反射電子組成(COMPO)像を自動画像解析装置(株式会社ニレコ製、ルーゼックス(登録商標)AP)に取り込み、前記COMPO像における20個の被覆粒子を対象として被覆粒子の被覆率を算出した。被覆率が高いほど、絶縁層が緻密に形成されていることを示す。結果を表1に示す。
実施例及び比較例で得られた被覆粒子1gを純水100mLに加え、超音波装置(VELVO−CLEAR社製、VS−D100)にて発振周波数24kHzの条件で超音波処理を2分間行って得られた被覆粒子を、前記被覆率の評価と同じ方法で被覆率を算出し、下記式により密着度を算出して密着性の評価とした。密着度の数値が高いほど、超音波処理による絶縁性粒子の脱落が少ないので、導電性粒子と絶縁性粒子との密着性が高いことを意味する。結果を表1に示す。
密着度(%)=(超音波処理後の被覆率/超音波処理前の被覆率)×100
実施例及び比較例の被覆粒子を用いて、導通性及び絶縁性の評価を以下の方法で行った。
エポキシ樹脂100質量部、硬化剤150質量部及びトルエン70質量部を混合した絶縁性接着剤と、実施例及び比較例で得られた被覆粒子15質量部とを混合して、絶縁性ペーストを得た。このペーストをシリコーン処理ポリエステルフィルム上にバーコーターを用いて塗布し、その後、ペーストを乾燥させて、フィルム上に薄膜を形成した。得られた薄膜形成フィルムを、全面がアルミニウムを蒸着させたガラス基板と、銅パターンが50μmピッチに形成されたポリイミドフィルム基板との間に配して、電気接続を行った。この基板間の導通抵抗を測定することで、被覆粒子の導通性を室温下(25℃・50%RH)で評価した。抵抗値が低いほど被覆粒子の導通性が高いものであると評価できる。被覆粒子の導通性評価は、抵抗値が2Ω未満であるものを「非常に良好」(表1中、記号「○」で示す。)とし、抵抗値が2Ω以上5Ω未満であるものを「良好」(表1中、記号「△」で示す。)とし、抵抗値が5Ω以上であるものを「不良」(表1中、記号「×」で示す。)とした。結果を表1に示す。
微小圧縮試験機MCTM−500(株式会社島津製作所製)を用いて、20個の被覆粒子を対象として、負荷速度0.5mN/秒の条件で実施例及び比較例の被覆粒子を圧縮し、抵抗値が検出されるまでの圧縮変位を測定することで被覆粒子の絶縁性を評価した。抵抗値が検出されるまでの圧縮変位が大きいほど、被覆粒子の絶縁性が高いものであると評価できる。被覆粒子の絶縁性評価は、抵抗値が検出されるまでの圧縮変位の算術平均値が10%以上であるものを「非常に良好」(表1中、記号「○」で示す。)とし、圧縮変位の算術平均値が3%超10%未満であるものを「良好」(表1中、記号「△」で示す。)とし、圧縮変位の算術平均値が3%以下であるものを「不良」(表1中、記号「×」で示す。)とした。結果を表1に示す。
Claims (16)
- 表面が導電性を有する導電性粒子と、該導電性粒子を被覆する絶縁層とを備え、
前記絶縁層が、非導電性の第1の材料と非導電性の第2の材料とを含み、
第1の材料と第2の材料とは、25℃、pH7の条件で測定されたゼータ電位の極性が互いに反対である被覆粒子。 - 第1の材料がイオン性基を有する有機ポリマーからなるか、又は無機化合物からなる請求項1に記載の被覆粒子。
- 第2の材料がイオン性基を有する有機ポリマーからなるか、又は無機化合物からなる請求項1又は2に記載の被覆粒子。
- 前記絶縁層が、第1の材料からなる表面を有する複数の第1絶縁性粒子と、第2の材料からなる表面を有する複数の第2絶縁性粒子とを含む請求項1ないし3のいずれか一項に記載の被覆粒子。
- 第1絶縁性粒子の平均粒子径が、第2絶縁性粒子の平均粒子径よりも大きい、請求項4に記載の被覆粒子。
- 前記絶縁層が、第1の材料からなる表面を有する複数の第1絶縁性粒子と、第2の材料からなる皮膜とを含む請求項1ないし3のいずれか一項に記載の被覆粒子。
- 第1絶縁性粒子どうしの隙間に前記皮膜が配されている請求項6に記載の被覆粒子。
- 第1の材料又は第2の材料がカチオン性基を有する有機ポリマーからなる請求項1ないし7のいずれか一項に記載の被覆粒子。
- 前記カチオン性基がアンモニウム基又はホスホニウム基である請求項8に記載の被覆粒子。
- 第1の材料又は第2の材料がアニオン性基を有する有機ポリマーからなる請求項1ないし7のいずれか一項に記載の被覆粒子。
- 前記アニオン性基がカルボキシ基、スルホン酸基又はリン酸基である請求項10に記載の被覆粒子。
- 前記有機ポリマー中の前記カチオン性基及び前記アニオン性基が結合したモノマー成分の割合が、0.01モル%以上99モル%以下である請求項8ないし11のいずれか一項に記載の被覆粒子。
- 前記導電性粒子の表面が、ニッケル、金、銀、銅、パラジウム、ニッケル合金、金合金、銀合金、銅合金及びパラジウム合金から選ばれる少なくとも一種からなる請求項1ないし12のいずれか一項に記載の被覆粒子。
- 請求項1ないし13のいずれか一項に記載の被覆粒子と、絶縁性樹脂とを含む導電性材料。
- 非導電性の第1の材料と非導電性の第2の材料とを含む絶縁層形成組成物と、導電性粒子とを混合して、第1の材料及び第2の材料を含む絶縁層を該導電性粒子の表面に形成する工程を備え、
第1の材料及び第2の材料は、25℃、pH7の条件で測定されたゼータ電位の極性が互いに反対であるものを用いる、被覆粒子の製造方法。 - 前記第1の材料及び前記第2の材料は、ともにイオン性基を有する有機ポリマーである、請求項15に記載の被覆粒子の製造方法。
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JP2003317827A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 異方導電性接着剤及び回路板 |
WO2006019154A1 (ja) * | 2004-08-20 | 2006-02-23 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | 導電性微粒子及び異方性導電材料 |
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---|---|---|---|---|
JPH05217617A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 異方導電性樹脂フィルム状接着剤 |
JP2003317827A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 異方導電性接着剤及び回路板 |
WO2006019154A1 (ja) * | 2004-08-20 | 2006-02-23 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | 導電性微粒子及び異方性導電材料 |
JP2014017213A (ja) * | 2012-07-11 | 2014-01-30 | Hitachi Chemical Co Ltd | 絶縁被覆導電粒子及びそれを用いた異方導電性接着剤 |
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