JP2021030410A - Elastic film, and substrate holding device - Google Patents

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Abstract

To provide an elastic film capable of being easily attached to a head body of a substrate holding device while suppressing variation in a degree of deformation of the elastic film in the circumferential direction.SOLUTION: An elastic film 10 according to the present invention comprises: a contact part 11 that contacts a substrate W and presses the substrate W against a polishing pad 19; and an edge peripheral wall 33 that extends from a peripheral end part of the contact part 11. The edge peripheral wall 33 has an edge peripheral wall lip part 33b on an upper part thereof, sandwiched between a head main body 2 of a substrate holding device 1 and an edge mounting member 47 for fixing the edge peripheral wall 33 to the head main body 2. The edge peripheral wall lip part 33b has a plurality of edge peripheral wall protrusions 33e, 33e', 33e'' to be fitted into first recess parts 60 formed in the edge mounting member 47 and/or second recess parts 61 formed in the head main body 2. The edge peripheral wall protrusions 33e, 33e', 33e'' are arranged at equal intervals along a circumferential direction of the edge peripheral wall 33.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、研磨装置の基板保持装置に用いられる弾性膜に関する。さらに、本発明は、弾性膜を備えた基板保持装置に関する。 The present invention relates to an elastic film used in a substrate holding device of a polishing device. Furthermore, the present invention relates to a substrate holding device provided with an elastic film.

CMPを行うための研磨装置は、研磨パッドを支持する研磨テーブルと、ウェハなどの基板を保持するための基板保持装置とを備えている。基板保持装置は、トップリングまたは研磨ヘッドと称されることもある。このような研磨装置を用いて基板の研磨を行う場合には、基板保持装置により基板を保持しつつ、この基板を研磨パッドの研磨面に対して所定の圧力で押圧する。このとき、研磨テーブルと基板保持装置とを相対運動させることにより基板が研磨面に摺接し、基板の表面が研磨される。 The polishing apparatus for performing CMP includes a polishing table for supporting the polishing pad and a substrate holding apparatus for holding a substrate such as a wafer. The substrate holding device is sometimes referred to as a top ring or a polishing head. When polishing a substrate using such a polishing device, the substrate is held by the substrate holding device and the substrate is pressed against the polished surface of the polishing pad with a predetermined pressure. At this time, by moving the polishing table and the substrate holding device relative to each other, the substrate is in sliding contact with the polished surface, and the surface of the substrate is polished.

研磨中の基板と研磨パッドの研磨面との間の相対的な押圧力が基板の全面に亘って均一でない場合には、基板の各部分に与えられる押圧力に応じて研磨不足や過研磨が生じてしまう。そこで、基板に対する押圧力を均一化するために、基板保持装置の下部に柔軟な弾性膜(メンブレン)から形成される圧力室を設け、この圧力室に空気などの流体を供給することで弾性膜を介して流体圧により基板を研磨パッドの研磨面に押圧することが行われている。 If the relative pressing force between the substrate being polished and the polishing surface of the polishing pad is not uniform over the entire surface of the substrate, insufficient polishing or overpolishing may occur depending on the pressing force applied to each part of the substrate. It will occur. Therefore, in order to make the pressing force on the substrate uniform, a pressure chamber formed of a flexible elastic membrane (membrane) is provided under the substrate holding device, and a fluid such as air is supplied to the pressure chamber to provide an elastic film. The substrate is pressed against the polished surface of the polishing pad by fluid pressure via the above.

このような基板保持装置は、例えば、基板を研磨パッドの研磨面に押圧するためのヘッド本体と、ヘッド本体に取り付けられる上記弾性膜と、該弾性膜をヘッド本体に固定するための取付部材と、弾性膜を介してヘッド本体に保持された基板の周囲を取り囲むリテーナリングと、を備える。弾性膜が取付部材を介してヘッド本体に固定されると、該弾性膜によって少なくとも1つの圧力室が形成される。このような弾性膜は消耗品であり、定期的なメンテナンスおよび/または交換が必要とされる。そのため、弾性膜は、取付部材を介してヘッド本体に着脱可能に構成される。 Such a substrate holding device includes, for example, a head body for pressing the substrate against the polishing surface of the polishing pad, the elastic film attached to the head body, and a mounting member for fixing the elastic film to the head body. It is provided with a retainer ring that surrounds the substrate held by the head body via an elastic film. When the elastic film is fixed to the head body via the mounting member, the elastic film forms at least one pressure chamber. Such elastic membranes are consumables and require regular maintenance and / or replacement. Therefore, the elastic membrane is configured to be removable from the head body via the mounting member.

特開2006−159392号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-159392

しかしながら、弾性膜は、一般的に、柔軟性だけでなく高い粘着性も有するゴムなどの材料から形成されている。そのため、作業者が弾性膜を取付部材を介してヘッド本体に固定する際に、該弾性膜の一部がヘッド本体および/または取付部材に密着して、弾性膜を適切にヘッド本体に固定することが困難な場合がある。より具体的には、弾性膜の一部分(または、複数部分)がヘッド本体および/または取付部材に密着すると、この密着部分が弾性膜の他の部分を引っ張ってしまい、該弾性膜の周方向における変形具合にばらつきが生じるおそれがある。言い換えれば、ヘッド本体に取り付けられた弾性膜がその周方向に不均一に歪んでしまうおそれがある。 However, elastic membranes are generally made of materials such as rubber that are not only flexible but also highly adhesive. Therefore, when the operator fixes the elastic film to the head body via the mounting member, a part of the elastic film is in close contact with the head body and / or the mounting member, and the elastic film is appropriately fixed to the head body. Can be difficult. More specifically, when a part (or a plurality of parts) of the elastic film is in close contact with the head body and / or the mounting member, this contacted part pulls the other part of the elastic film, and the elastic film is in the circumferential direction. There is a risk of variation in the degree of deformation. In other words, the elastic film attached to the head body may be distorted unevenly in the circumferential direction.

基板の研磨を行う際には、弾性膜によって形成された圧力室に所定の圧力を有する流体が供給される。そのため、弾性膜の周方向における変形具合にばらつきが生じていると、弾性膜がその周方向に均一に膨張せず、その結果、基板の周方向における研磨レートの均一性が悪化するおそれがある。 When polishing the substrate, a fluid having a predetermined pressure is supplied to the pressure chamber formed by the elastic film. Therefore, if the degree of deformation of the elastic film in the circumferential direction varies, the elastic film does not expand uniformly in the circumferential direction, and as a result, the uniformity of the polishing rate in the circumferential direction of the substrate may deteriorate. ..

上記不具合を防止するために、弾性膜をヘッド本体に固定する作業者が該弾性膜の周方向における変形具合のばらつきを解消しようとすると、この作業者の負担と労力が増大し、さらに、弾性膜をヘッド本体に固定するために長時間を要してしまう。 In order to prevent the above-mentioned problems, if an operator who fixes the elastic film to the head body tries to eliminate the variation in the degree of deformation of the elastic film in the circumferential direction, the burden and labor of the operator increases, and further, the elasticity It takes a long time to fix the film to the head body.

そこで、本発明は、弾性膜の周方向における変形具合のばらつきを抑えつつ、基板保持装置のヘッド本体に容易に取り付けることが可能な弾性膜を提供することを目的とする。また、本発明は、このような弾性膜を備えた基板保持装置を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide an elastic film that can be easily attached to the head body of the substrate holding device while suppressing variation in the degree of deformation of the elastic film in the circumferential direction. Another object of the present invention is to provide a substrate holding device provided with such an elastic film.

一態様では、基板保持装置に用いられる弾性膜であって、基板に当接して該基板を研磨パッドに押圧する当接部と、前記当接部の周端部から延びるエッジ周壁と、を備え、前記エッジ周壁は、その上部に、前記基板保持装置のヘッド本体と、該エッジ周壁を前記ヘッド本体に固定するためのエッジ取付部材との間に挟まれるエッジ周壁リップ部を有しており、前記エッジ周壁リップ部は、前記エッジ取付部材に形成された第1凹部および/または前記ヘッド本体に形成された第2凹部に嵌合される複数のエッジ周壁突起を有しており、前記エッジ周壁突起は、前記エッジ周壁の周方向に沿って等間隔に配置されていることを特徴とする弾性膜が提供される。 In one aspect, it is an elastic film used for a substrate holding device, and includes a contact portion that abuts on the substrate and presses the substrate against the polishing pad, and an edge peripheral wall extending from the peripheral end portion of the contact portion. The edge peripheral wall has an edge peripheral wall lip portion sandwiched between the head main body of the substrate holding device and an edge mounting member for fixing the edge peripheral wall to the head main body on the upper portion thereof. The edge peripheral wall lip portion has a plurality of edge peripheral wall protrusions fitted in a first concave portion formed in the edge mounting member and / or a second concave portion formed in the head body, and the edge peripheral wall. An elastic film is provided in which the protrusions are arranged at equal intervals along the circumferential direction of the edge peripheral wall.

一態様では、前記エッジ周壁突起は、前記エッジ周壁リップ部の上面または下面から突出する縦エッジ突起である。
一態様では、前記エッジ周壁突起は、前記エッジ周壁リップ部の先端から前記エッジ周壁の径方向に突出する横エッジ突起である。
一態様では、前記エッジ周壁突起のいくつかは、前記エッジ周壁リップ部の上面または下面から突出する縦エッジ突起であり、前記エッジ周壁突起の残りは、前記エッジ周壁リップ部の先端から前記エッジ周壁の径方向に突出する横エッジ突起である。
In one aspect, the edge peripheral wall protrusion is a vertical edge protrusion protruding from the upper surface or the lower surface of the edge peripheral wall lip portion.
In one aspect, the edge peripheral wall protrusion is a lateral edge protrusion that protrudes in the radial direction of the edge peripheral wall from the tip of the edge peripheral wall lip portion.
In one aspect, some of the edge peripheral protrusions are vertical edge protrusions protruding from the upper surface or the lower surface of the edge peripheral wall lip portion, and the rest of the edge peripheral wall protrusions are the edge peripheral wall from the tip of the edge peripheral wall lip portion. It is a lateral edge protrusion that protrudes in the radial direction of.

一態様では、前記弾性膜は、前記エッジ周壁の径方向内側に配置され、前記当接部から延びる少なくとも1つの内部周壁をさらに備え、前記内部周壁は、その上部に、前記ヘッド本体と、該内部周壁を前記ヘッド本体に固定するための内部取付部材との間に挟まれる内部周壁リップ部を有しており、前記内部周壁リップ部は、前記エッジ取付部材に形成された第3凹部および/または前記ヘッド本体に形成された第4凹部に嵌合される複数の内部周壁突起を有しており、前記内部周壁突起は、前記内部周壁の周方向に沿って等間隔に配置されている。
一態様では、前記内部周壁突起は、前記内部周壁リップ部の上面または下面から突出する縦内部突起である。
一態様では、前記内部周壁突起は、前記内部周壁リップ部の先端から前記内部周壁の径方向に突出する横内部突起である。
一態様では、前記内部周壁突起のいくつかは、前記内部周壁リップ部の上面または下面から突出する縦内部突起であり、前記内部周壁突起の残りは、前記内部周壁リップ部の先端から前記内部周壁の径方向に突出する横内部突起である。
In one aspect, the elastic film is disposed radially inside the edge peripheral wall and further comprises at least one internal peripheral wall extending from the abutting portion, the internal peripheral wall having the head body and the head body above it. It has an internal peripheral wall lip portion sandwiched between the internal peripheral wall and an internal mounting member for fixing the internal peripheral wall to the head body, and the internal peripheral wall lip portion has a third recess formed in the edge mounting member and /. Alternatively, it has a plurality of internal peripheral wall protrusions fitted in the fourth recess formed in the head body, and the internal peripheral wall protrusions are arranged at equal intervals along the circumferential direction of the internal peripheral wall.
In one aspect, the internal peripheral wall protrusion is a vertical internal protrusion protruding from the upper surface or the lower surface of the internal peripheral wall lip portion.
In one aspect, the internal peripheral wall protrusion is a lateral internal protrusion protruding in the radial direction of the internal peripheral wall from the tip of the internal peripheral wall lip portion.
In one aspect, some of the internal peripheral protrusions are vertical internal protrusions protruding from the upper surface or the lower surface of the internal peripheral wall lip portion, and the rest of the internal peripheral wall projections are the internal peripheral wall from the tip of the internal peripheral wall lip portion. It is a lateral internal protrusion that protrudes in the radial direction of.

一態様では、基板を押圧するための少なくとも1つの圧力室を形成する弾性膜と、前記弾性膜が固定されるヘッド本体と、前記弾性膜を前記ヘッド本体に固定する少なくとも1つの取付部材と、を備え、前記弾性膜は、上記弾性膜であることを特徴とする基板保持装置が提供される。 In one aspect, an elastic film forming at least one pressure chamber for pressing the substrate, a head body to which the elastic film is fixed, and at least one mounting member for fixing the elastic film to the head body. Provided is a substrate holding device, wherein the elastic film is the elastic film.

本発明によれば、エッジ周壁の周方向に沿って等間隔に配置された複数のエッジ周壁突起が第1凹部および/または第2凹部に嵌め込まれた状態で、弾性膜がヘッド本体に固定される。したがって、弾性膜の周方向における変形を最小限に抑制しながら、該弾性膜をヘッド本体に固定することができる。さらに、弾性膜を取付部材を介してヘッド本体に固定する際に、複数のエッジ周壁突起は、ヘッド本体および/またはエッジ取付部材に対するガイドして機能する。したがって、弾性膜をヘッド本体に容易に取り付けることができる。 According to the present invention, the elastic film is fixed to the head body in a state where a plurality of edge peripheral wall projections arranged at equal intervals along the circumferential direction of the edge peripheral wall are fitted into the first recess and / or the second recess. To. Therefore, the elastic film can be fixed to the head body while suppressing the deformation of the elastic film in the circumferential direction to the minimum. Further, when the elastic film is fixed to the head body via the mounting member, the plurality of edge peripheral wall projections function as a guide to the head body and / or the edge mounting member. Therefore, the elastic film can be easily attached to the head body.

図1は、一実施形態に係る研磨装置を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing a polishing apparatus according to an embodiment. 図2は、一実施形態に係る基板保持装置の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the substrate holding device according to the embodiment. 図3は、図2に示す弾性膜の一部を示す拡大断面図である。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a part of the elastic film shown in FIG. 図4は、図2に示す第2取付リングの近傍の拡大断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the second mounting ring shown in FIG. 図5は、図2のA−A線断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 図6は、他の実施形態に係る弾性膜のエッジ周壁の近傍の拡大断面図である。FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the edge peripheral wall of the elastic film according to another embodiment. 図7は、図6に示す弾性膜の下面図である。FIG. 7 is a bottom view of the elastic membrane shown in FIG. 図8は、さらに他の実施形態に係る弾性膜のエッジ周壁の近傍の拡大断面図である。FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the edge peripheral wall of the elastic film according to still another embodiment. 図9は、さらに他の実施形態に係る弾性膜のエッジ周壁を拡大して示す模式図である。FIG. 9 is a schematic view showing an enlarged edge peripheral wall of the elastic film according to still another embodiment.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、一実施形態に係る研磨装置を示す図である。図1に示すように、研磨装置は、研磨パッド19を支持する研磨テーブル18と、基板の一例としてのウェハWを保持して研磨テーブル18上の研磨パッド19に押圧する基板保持装置1を備えている、以下の説明では、基板保持装置1を「研磨ヘッド1」と称する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing a polishing apparatus according to an embodiment. As shown in FIG. 1, the polishing apparatus includes a polishing table 18 that supports the polishing pad 19, and a substrate holding device 1 that holds a wafer W as an example of a substrate and presses it against the polishing pad 19 on the polishing table 18. In the following description, the substrate holding device 1 is referred to as a "polishing head 1".

研磨テーブル18は、テーブル軸18aを介してその下方に配置されるテーブルモータ29に連結されており、そのテーブル軸18a周りに回転可能になっている。研磨パッド19は研磨テーブル18の上面に貼付されており、研磨パッド19の表面19aがウェハWを研磨する研磨面を構成している。研磨テーブル18の上方には研磨液供給ノズル25が設置されており、この研磨液供給ノズル25によって研磨テーブル18上の研磨パッド19上に研磨液Qが供給されるようになっている。 The polishing table 18 is connected to a table motor 29 arranged below the table shaft 18a via a table shaft 18a, and is rotatable around the table shaft 18a. The polishing pad 19 is attached to the upper surface of the polishing table 18, and the surface 19a of the polishing pad 19 constitutes a polishing surface for polishing the wafer W. A polishing liquid supply nozzle 25 is installed above the polishing table 18, and the polishing liquid Q is supplied onto the polishing pad 19 on the polishing table 18 by the polishing liquid supply nozzle 25.

研磨ヘッド1は、ウェハWを研磨面19aに対して押圧するヘッド本体2と、ウェハWを保持してウェハWが研磨ヘッド1から飛び出さないようにするリテーナリング3とを備えている。研磨ヘッド1は、ヘッドシャフト27に接続されており、このヘッドシャフト27は、上下動機構81によりヘッドアーム64に対して上下動するようになっている。このヘッドシャフト27の上下動により、ヘッドアーム64に対して研磨ヘッド1の全体を昇降させ位置決めするようになっている。ヘッドシャフト27の上端にはロータリージョイント82が取り付けられている。 The polishing head 1 includes a head body 2 that presses the wafer W against the polishing surface 19a, and a retainer ring 3 that holds the wafer W and prevents the wafer W from popping out of the polishing head 1. The polishing head 1 is connected to a head shaft 27, and the head shaft 27 moves up and down with respect to the head arm 64 by a vertical movement mechanism 81. The vertical movement of the head shaft 27 raises and lowers the entire polishing head 1 with respect to the head arm 64 for positioning. A rotary joint 82 is attached to the upper end of the head shaft 27.

ヘッドシャフト27および研磨ヘッド1を上下動させる上下動機構81は、軸受83を介してヘッドシャフト27を回転可能に支持するブリッジ84と、ブリッジ84に取り付けられたボールねじ88と、支柱86により支持された支持台85と、支持台85上に設けられたサーボモータ90とを備えている。サーボモータ90を支持する支持台85は、支柱86を介してヘッドアーム64に固定されている。 The vertical movement mechanism 81 that moves the head shaft 27 and the polishing head 1 up and down is supported by a bridge 84 that rotatably supports the head shaft 27 via a bearing 83, a ball screw 88 attached to the bridge 84, and a support column 86. The support base 85 is provided, and the servomotor 90 provided on the support base 85 is provided. The support base 85 that supports the servomotor 90 is fixed to the head arm 64 via the support column 86.

ボールねじ88は、サーボモータ90に連結されたねじ軸88aと、このねじ軸88aが螺合するナット88bとを備えている。ヘッドシャフト27は、ブリッジ84と一体となって上下動するようになっている。したがって、サーボモータ90を駆動すると、ボールねじ88を介してブリッジ84が上下動し、これによりヘッドシャフト27および研磨ヘッド1が上下動する。 The ball screw 88 includes a screw shaft 88a connected to the servomotor 90 and a nut 88b into which the screw shaft 88a is screwed. The head shaft 27 moves up and down integrally with the bridge 84. Therefore, when the servomotor 90 is driven, the bridge 84 moves up and down via the ball screw 88, which causes the head shaft 27 and the polishing head 1 to move up and down.

ヘッドシャフト27はキー(図示しない)を介して回転筒66に連結されている。この回転筒66はその外周部にタイミングプーリ67を備えている。ヘッドアーム64にはヘッドモータ68が固定されており、上記タイミングプーリ67は、タイミングベルト69を介してヘッドモータ68に設けられたタイミングプーリ70に接続されている。したがって、ヘッドモータ68を回転駆動することによってタイミングプーリ70、タイミングベルト69、およびタイミングプーリ67を介して回転筒66およびヘッドシャフト27が一体に回転し、研磨ヘッド1が回転する。ヘッドアーム64は、フレーム(図示しない)に回転可能に支持されたアームシャフト80によって支持されている。研磨装置は、ヘッドモータ68、サーボモータ90をはじめとする装置内の各機器を制御する制御装置40を備えている。 The head shaft 27 is connected to the rotary cylinder 66 via a key (not shown). The rotary cylinder 66 is provided with a timing pulley 67 on the outer peripheral portion thereof. A head motor 68 is fixed to the head arm 64, and the timing pulley 67 is connected to a timing pulley 70 provided on the head motor 68 via a timing belt 69. Therefore, by rotationally driving the head motor 68, the rotary cylinder 66 and the head shaft 27 rotate integrally via the timing pulley 70, the timing belt 69, and the timing pulley 67, and the polishing head 1 rotates. The head arm 64 is supported by an arm shaft 80 rotatably supported by a frame (not shown). The polishing device includes a control device 40 that controls each device in the device, including the head motor 68 and the servo motor 90.

研磨ヘッド1は、その下面にウェハWを保持できるように構成されている。ヘッドアーム64はアームシャフト80を中心として旋回可能に構成されており、下面にウェハWを保持した研磨ヘッド1は、ヘッドアーム64の旋回によりウェハWの受取位置から研磨テーブル18の上方位置に移動される。 The polishing head 1 is configured to hold the wafer W on its lower surface. The head arm 64 is configured to be rotatable around the arm shaft 80, and the polishing head 1 holding the wafer W on the lower surface moves from the receiving position of the wafer W to the upper position of the polishing table 18 by the rotation of the head arm 64. Will be done.

ウェハWの研磨は次のようにして行われる。研磨ヘッド1および研磨テーブル18をそれぞれ回転させ、研磨テーブル18の上方に設けられた研磨液供給ノズル25から研磨パッド19上に研磨液Qを供給する。この状態で、研磨ヘッド1を所定の位置(所定の高さ)まで下降させ、この所定の位置でウェハWを研磨パッド19の研磨面19aに押圧する。ウェハWは研磨パッド19の研磨面19aに摺接され、これによりウェハWの表面が研磨される。 Polishing of the wafer W is performed as follows. The polishing head 1 and the polishing table 18 are rotated, respectively, and the polishing liquid Q is supplied onto the polishing pad 19 from the polishing liquid supply nozzle 25 provided above the polishing table 18. In this state, the polishing head 1 is lowered to a predetermined position (predetermined height), and the wafer W is pressed against the polishing surface 19a of the polishing pad 19 at this predetermined position. The wafer W is slidably contacted with the polishing surface 19a of the polishing pad 19, whereby the surface of the wafer W is polished.

次に、図2を参照して、研磨ヘッド1の構成の一例について説明する。図2は、一実施形態に係る研磨ヘッド(基板保持装置)1の概略断面図である。図2に示すように、研磨ヘッド1は、ウェハWを研磨面19a(図1参照)に対して押圧するヘッド本体2と、ウェハWを囲むように配置されたリテーナリング3とを備えている。リテーナリング3は、ヘッド本体2に連結されており、ヘッド本体2およびリテーナリング3は、ヘッドシャフト27の回転により一体に回転するように構成される。さらに、ヘッド本体2およびリテーナリング3は、上下動機構81(図1参照)を動作させることにより、ヘッドシャフト27と一体に上下動するように構成されている。ヘッド本体2は、例えば、エンジニアリングプラスティック(例えば、PEEK)などの樹脂により形成されている。 Next, an example of the configuration of the polishing head 1 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the polishing head (board holding device) 1 according to the embodiment. As shown in FIG. 2, the polishing head 1 includes a head body 2 that presses the wafer W against the polishing surface 19a (see FIG. 1), and a retainer ring 3 arranged so as to surround the wafer W. .. The retainer ring 3 is connected to the head main body 2, and the head main body 2 and the retainer ring 3 are configured to rotate integrally by the rotation of the head shaft 27. Further, the head body 2 and the retainer ring 3 are configured to move up and down integrally with the head shaft 27 by operating the vertical movement mechanism 81 (see FIG. 1). The head body 2 is made of, for example, a resin such as engineering plastic (for example, PEEK).

リテーナリング3は、ヘッド本体2に固定された弾性膜10、および該弾性膜10を介してヘッド本体2に保持されたウェハWを囲むように配置されている。このリテーナリング3は、ウェハWの研磨中にウェハWが研磨ヘッド1から飛び出さないようにウェハWを保持している。 The retainer ring 3 is arranged so as to surround the elastic film 10 fixed to the head main body 2 and the wafer W held by the head main body 2 via the elastic film 10. The retainer ring 3 holds the wafer W so that the wafer W does not protrude from the polishing head 1 during polishing of the wafer W.

ヘッド本体2の下面には、ウェハWの裏面(すなわち、研磨すべき表面とは反対側の面)に当接する弾性膜10が固定されている。弾性膜10の下面が基板保持面10aを構成する。弾性膜10は複数の(図2では、4つの)環状の周壁30,31,32,33を有しており、これら周壁30〜33は、同心状に配置されている。 An elastic film 10 that comes into contact with the back surface of the wafer W (that is, the surface opposite to the surface to be polished) is fixed to the lower surface of the head body 2. The lower surface of the elastic film 10 constitutes the substrate holding surface 10a. The elastic membrane 10 has a plurality of (four in FIG. 2) annular peripheral walls 30, 31, 32, 33, and these peripheral walls 30 to 33 are arranged concentrically.

本実施形態では、研磨ヘッド1は、弾性膜10をヘッド本体2に固定する2つの取付部材45,47を備えている。2つの取付部材45,47は、それぞれ、略環状の形状を有する取付リングであり、以下の説明では、取付部材45を「第1取付リング45」と称することがあり、取付部材47を「第2取付リング47」と称することがある。 In the present embodiment, the polishing head 1 includes two mounting members 45 and 47 that fix the elastic film 10 to the head body 2. The two mounting members 45 and 47 are mounting rings having a substantially annular shape, respectively. In the following description, the mounting member 45 may be referred to as a "first mounting ring 45", and the mounting member 47 may be referred to as a "first mounting ring 45". 2 Mounting ring 47 ”.

周壁30〜33の上端は、2つの取付リング45,47を介してヘッド本体2の下面に固定される。より具体的には、第1取付リング45によって、周壁30,31の上端がヘッド本体2の下面に固定され、第2取付リング47によって、周壁32,33の上端がヘッド本体2の下面に固定される。これら取付リング45,47は、それぞれ、ねじなどの締結具(図示せず)によってヘッド本体2に着脱可能に固定されている。したがって、締結具を解除すると、取付リング45,47がヘッド本体2から離れ、これによって弾性膜10をヘッド本体2から取り外すことができる。 The upper ends of the peripheral walls 30 to 33 are fixed to the lower surface of the head body 2 via two mounting rings 45 and 47. More specifically, the first mounting ring 45 fixes the upper ends of the peripheral walls 30 and 31 to the lower surface of the head body 2, and the second mounting ring 47 fixes the upper ends of the peripheral walls 32 and 33 to the lower surface of the head body 2. Will be done. These mounting rings 45 and 47 are detachably fixed to the head body 2 by fasteners (not shown) such as screws, respectively. Therefore, when the fastener is released, the mounting rings 45 and 47 are separated from the head body 2, whereby the elastic film 10 can be removed from the head body 2.

周壁30〜33により、弾性膜10とヘッド本体2との間に4つの圧力室、すなわち、中央に位置する円形状の中央圧力室16a、最外周に位置する環状のエッジ圧力室16d、および中央圧力室16aとエッジ圧力室16dとの間に位置する中間圧力室16bおよび16cが形成されている。 The peripheral walls 30 to 33 provide four pressure chambers between the elastic membrane 10 and the head body 2, that is, a circular central pressure chamber 16a located at the center, an annular edge pressure chamber 16d located at the outermost periphery, and a center. Intermediate pressure chambers 16b and 16c located between the pressure chamber 16a and the edge pressure chamber 16d are formed.

これらの圧力室16a〜16dはロータリージョイント82を経由して圧力調整装置65に接続されており、圧力調整装置65から各圧力室16a〜16dにそれぞれ延びる流体ライン73を通って流体(例えば、空気)が供給されるようになっている。圧力調整装置65は、制御装置40に接続されており、これら4つの圧力室16a〜16d内の圧力を独立に調整できるようになっている。 These pressure chambers 16a to 16d are connected to the pressure adjusting device 65 via a rotary joint 82, and a fluid (for example, air) passes through a fluid line 73 extending from the pressure adjusting device 65 to each of the pressure chambers 16a to 16d. ) Is being supplied. The pressure adjusting device 65 is connected to the control device 40, and can independently adjust the pressure in these four pressure chambers 16a to 16d.

さらに、圧力調整装置65は、圧力室16a〜16d内に負圧を形成することも可能となっている。このように、研磨ヘッド1においては、ヘッド本体2と弾性膜10との間に形成される各圧力室16a〜16dに供給する流体の圧力を調整することにより、ウェハWに加えられる押圧力をウェハWの領域毎に調整できる。 Further, the pressure adjusting device 65 can also form a negative pressure in the pressure chambers 16a to 16d. In this way, in the polishing head 1, the pressing force applied to the wafer W is adjusted by adjusting the pressure of the fluid supplied to the pressure chambers 16a to 16d formed between the head body 2 and the elastic film 10. It can be adjusted for each area of the wafer W.

弾性膜10は、エチレンプロピレンゴム(EPDM)、ポリウレタンゴム、シリコンゴム等の強度および耐久性に優れた柔軟なゴム材によって形成されている。このような弾性膜10は、柔軟性だけでなく高い粘着性も有する。各圧力室16a〜16dは大気開放機構(図示しない)にも接続されており、圧力室16a〜16dを大気開放することも可能である。 The elastic film 10 is formed of a flexible rubber material having excellent strength and durability, such as ethylene propylene rubber (EPDM), polyurethane rubber, and silicon rubber. Such an elastic film 10 has not only flexibility but also high adhesiveness. The pressure chambers 16a to 16d are also connected to an air opening mechanism (not shown), and the pressure chambers 16a to 16d can be opened to the atmosphere.

次に、図2に示す弾性膜10についてより詳細に説明する。図3は、図2に示す弾性膜10の一部を示す拡大断面図である。より具体的には、図3は、弾性膜10の中心軸線CLを含む鉛直面で分割された弾性膜10の半分の概略断面を示している。図4は、図2に示す第2取付リング47の近傍(すなわち、後述するエッジ周壁近傍)の拡大断面図である。図5は、図2のA−A線断面図である。 Next, the elastic film 10 shown in FIG. 2 will be described in more detail. FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a part of the elastic film 10 shown in FIG. More specifically, FIG. 3 shows a schematic cross section of half of the elastic membrane 10 divided by the vertical plane including the central axis CL of the elastic membrane 10. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the second mounting ring 47 shown in FIG. 2 (that is, the vicinity of the edge peripheral wall described later). FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

図3に示す弾性膜10は、ウェハWの裏面に接触する円形の当接部11と、該当接部11に接続される4つの環状周壁30〜33を有している。当接部11はウェハWの裏面に接触し、ウェハWを研磨パッド19に対して押し付ける。すなわち、当接部11の下面が上記基板保持面10aとして機能する。環状周壁30〜33は、当接部11の上面から上方に延びる。 The elastic film 10 shown in FIG. 3 has a circular contact portion 11 that contacts the back surface of the wafer W, and four annular peripheral walls 30 to 33 that are connected to the contact portion 11. The contact portion 11 contacts the back surface of the wafer W and presses the wafer W against the polishing pad 19. That is, the lower surface of the contact portion 11 functions as the substrate holding surface 10a. The annular peripheral walls 30 to 33 extend upward from the upper surface of the contact portion 11.

周壁33は、最も外側の周壁であり、当接部11の周端部から上方に延びる。本明細書では、周壁33を「エッジ周壁33」と称する。さらに、本明細書では、エッジ周壁33の径方向内側に配置される周壁を内部周壁と称する。図3に示す例では、3つの周壁30,31,32が内部周壁として構成されている。以下の説明では、周壁30を「第1内部周壁30」と称することがあり、周壁31を「第2内部周壁31」と称することがあり、周壁32を「第3内部周壁32」と称することがある。なお、内部周壁の数は図示した例に限定されない。例えば、弾性膜10は、エッジ周壁33と1つの内部周壁を有していてもよく、エッジ周壁33と2つ以上の内部周壁を有していてもよい。あるいは、弾性膜10は、内部周壁を有さずに、エッジ周壁33のみを有していてもよい。 The peripheral wall 33 is the outermost peripheral wall and extends upward from the peripheral end portion of the contact portion 11. In the present specification, the peripheral wall 33 is referred to as "edge peripheral wall 33". Further, in the present specification, the peripheral wall arranged radially inside the edge peripheral wall 33 is referred to as an internal peripheral wall. In the example shown in FIG. 3, three peripheral walls 30, 31, and 32 are configured as internal peripheral walls. In the following description, the peripheral wall 30 may be referred to as a "first internal peripheral wall 30", the peripheral wall 31 may be referred to as a "second internal peripheral wall 31", and the peripheral wall 32 may be referred to as a "third internal peripheral wall 32". There is. The number of internal peripheral walls is not limited to the illustrated example. For example, the elastic film 10 may have an edge peripheral wall 33 and one internal peripheral wall, or may have an edge peripheral wall 33 and two or more internal peripheral walls. Alternatively, the elastic film 10 may have only the edge peripheral wall 33 without having an internal peripheral wall.

エッジ周壁33は、当接部11から延びるエッジ周壁本体33aと、該エッジ周壁本体33aに接続されるエッジ周壁リップ部33bとを有する。図3に示す例では、エッジ周壁本体33aは、当接部11から鉛直方向に上方に延びており、エッジ周壁リップ部33bは、エッジ周壁本体33aの先端から水平方向に延びている。エッジ周壁本体33aは、中心軸線CLまわりに環状に(すなわち、当接部11の全周にわたって)延びており、エッジ周壁リップ部33bはエッジ周壁本体33aの全周にわたってフランジ状に形成されている。エッジ周壁リップ部33bは、その下面にシール突起33cを有する。シール突起33cは、エッジ周壁リップ部33bの先端部の下面に形成されており、エッジ周壁リップ部33bの全周にわたって環状に形成されている。 The edge peripheral wall 33 has an edge peripheral wall main body 33a extending from the contact portion 11 and an edge peripheral wall lip portion 33b connected to the edge peripheral wall main body 33a. In the example shown in FIG. 3, the edge peripheral wall main body 33a extends vertically upward from the contact portion 11, and the edge peripheral wall lip portion 33b extends horizontally from the tip of the edge peripheral wall main body 33a. The edge peripheral wall main body 33a extends in an annular shape (that is, over the entire circumference of the contact portion 11) around the central axis CL, and the edge peripheral wall lip portion 33b is formed in a flange shape over the entire circumference of the edge peripheral wall main body 33a. .. The edge peripheral wall lip portion 33b has a seal protrusion 33c on its lower surface. The seal protrusion 33c is formed on the lower surface of the tip end portion of the edge peripheral wall lip portion 33b, and is formed in an annular shape over the entire circumference of the edge peripheral wall lip portion 33b.

さらに、エッジ周壁33は、エッジ周壁本体33aとエッジ周壁リップ部33bとの接続点から延びるフラップ33dを有していてもよい。フラップ33dは、エッジ周壁33の全周にわたって延びている。フラップ33dは、その断面が逆U字状のフラップ本体145と、フラップ本体145の先端から水平に延びるフラップリップ部146を有する。フラップリップ部146は、ヘッド本体2とリテーナリング3との間に挟まれる(図4参照)。 Further, the edge peripheral wall 33 may have a flap 33d extending from a connection point between the edge peripheral wall main body 33a and the edge peripheral wall lip portion 33b. The flap 33d extends over the entire circumference of the edge peripheral wall 33. The flap 33d has a flap body 145 having an inverted U-shaped cross section and a flap lip portion 146 extending horizontally from the tip of the flap body 145. The flap lip portion 146 is sandwiched between the head body 2 and the retainer ring 3 (see FIG. 4).

図4に示すように、エッジ周壁リップ部33bは、第2取付リング47とヘッド本体2との間に挟まれるエッジ周壁33の一部分である。したがって、エッジ周壁リップ部33bは、フラップ33dを除いたエッジ周壁33の上部に形成されている。言い換えれば、エッジ周壁リップ部33bは、エッジ周壁本体33aの上端に接続される。エッジ周壁リップ部33bをヘッド本体2と第2取付リング47とで挟んだ状態で、第2取付リング47をねじなどの締結具(図示せず)によってヘッド本体2に固定すると、エッジ周壁33がヘッド本体2に固定される。したがって、第2取付リング47は、エッジ周壁33をヘッド本体10に固定するためのエッジ取付部材として機能する。 As shown in FIG. 4, the edge peripheral wall lip portion 33b is a part of the edge peripheral wall 33 sandwiched between the second mounting ring 47 and the head body 2. Therefore, the edge peripheral wall lip portion 33b is formed on the upper portion of the edge peripheral wall 33 excluding the flap 33d. In other words, the edge peripheral wall lip portion 33b is connected to the upper end of the edge peripheral wall main body 33a. When the edge peripheral wall lip portion 33b is sandwiched between the head body 2 and the second mounting ring 47 and the second mounting ring 47 is fixed to the head body 2 with a fastener (not shown) such as a screw, the edge peripheral wall 33 becomes It is fixed to the head body 2. Therefore, the second mounting ring 47 functions as an edge mounting member for fixing the edge peripheral wall 33 to the head body 10.

第2取付リング47には、シール突起33cが嵌め込まれるシール凹部55が形成されている。シール凹部55は、シール突起33cに対応して、第2取付リング47の全周にわたって形成されている。エッジ周壁33をヘッド本体2に取り付ける際には、シール突起33cはシール凹部55に嵌め込まれる。この状態で、第2取付リング47を締結具(図示せず)を用いてヘッド本体2に取り付けると、シール突起33cがシール凹部55に押圧され、これにより、第2取付リング47とエッジ周壁リップ部33bと間の隙間がシールされる。 The second mounting ring 47 is formed with a seal recess 55 into which the seal protrusion 33c is fitted. The seal recess 55 corresponds to the seal protrusion 33c and is formed over the entire circumference of the second mounting ring 47. When the edge peripheral wall 33 is attached to the head body 2, the seal protrusion 33c is fitted into the seal recess 55. In this state, when the second mounting ring 47 is attached to the head body 2 using a fastener (not shown), the seal protrusion 33c is pressed against the seal recess 55, whereby the second mounting ring 47 and the edge peripheral wall lip are pressed. The gap between the portion 33b and the portion 33b is sealed.

第3内部周壁32も、当接部11から延びる第3内部周壁本体32aと、該第3内部周壁本体32aに接続される第3内部周壁リップ部32bとを有する。第3内部周壁本体32aも中心軸線CLまわりに環状に延びており、第3内部周壁リップ部32bは、第3内部周壁本体32aの全周にわたってフランジ状に形成されている。第3内部周壁本体32aは、当接部11から径方向内側に斜め上方に延びる傾斜部130と、傾斜部130に接続され、径方向内側に延びる水平部131と、水平部131に接続され、該水平部131から垂直に延びる垂直部132とから構成される。第3内部周壁リップ部32bは、第3内部周壁本体32aの垂直部132の先端に接続され、該先端から径方向外側に水平方向に延びる。第3内部周壁32も、第3内部周壁リップ部32bの全周わたって環状に形成されたシール突起32cを有する。 The third inner peripheral wall 32 also has a third inner peripheral wall main body 32a extending from the contact portion 11 and a third inner peripheral wall lip portion 32b connected to the third inner peripheral wall main body 32a. The third inner peripheral wall main body 32a also extends in an annular shape around the central axis CL, and the third inner peripheral wall lip portion 32b is formed in a flange shape over the entire circumference of the third inner peripheral wall main body 32a. The third inner peripheral wall main body 32a is connected to an inclined portion 130 extending diagonally upward in the radial direction from the contact portion 11 and an inclined portion 130, and is connected to a horizontal portion 131 extending inward in the radial direction and a horizontal portion 131. It is composed of a vertical portion 132 extending vertically from the horizontal portion 131. The third inner peripheral wall lip portion 32b is connected to the tip of the vertical portion 132 of the third inner peripheral wall main body 32a, and extends horizontally outward from the tip in the radial direction. The third inner peripheral wall 32 also has a seal protrusion 32c formed in an annular shape around the entire circumference of the third inner peripheral wall lip portion 32b.

第3内部周壁リップ部32bは、第2取付リング47とヘッド本体2との間に挟まれる第3内部周壁32の一部であり、第3内部周壁32の上部に形成されている。言い換えれば、第3内部周壁リップ部32bは、第3内部周壁本体32aの先端に接続される。第2取付リング47は、上述したエッジ周壁33に対してはエッジ取付部材として機能し、第3内部周壁32に対しては該第3内部周壁32をヘッド本体2に固定するための内部取付部材として機能する。そのため、第2取付リング47は、第3内部周壁32のシール突起32cに対応して形成されたシール凹部54も有している。シール凹部54は、第2取付リング47の全周にわたって形成されている。第2取付リング47を、図示しない締結具を用いてヘッド本体2に取り付けると、第3内部周壁リップ部32bは、ヘッド本体2と第2取付リング47との間に挟まれ、これにより第3内部周壁32がヘッド本体2に固定される。さらに、第3内部周壁32のシール突起32cがシール凹部54に押圧され、これにより、第2取付リング47と第3内部周壁リップ部32bと間の隙間がシールされる。 The third inner peripheral wall lip portion 32b is a part of the third inner peripheral wall 32 sandwiched between the second mounting ring 47 and the head main body 2, and is formed on the upper portion of the third inner peripheral wall 32. In other words, the third inner peripheral wall lip portion 32b is connected to the tip of the third inner peripheral wall main body 32a. The second mounting ring 47 functions as an edge mounting member for the above-mentioned edge peripheral wall 33, and for the third internal peripheral wall 32, the internal mounting member for fixing the third internal peripheral wall 32 to the head main body 2. Functions as. Therefore, the second mounting ring 47 also has a seal recess 54 formed corresponding to the seal protrusion 32c of the third inner peripheral wall 32. The seal recess 54 is formed over the entire circumference of the second mounting ring 47. When the second mounting ring 47 is mounted on the head body 2 using a fastener (not shown), the third internal peripheral wall lip portion 32b is sandwiched between the head body 2 and the second mounting ring 47, whereby the third mounting ring 47 is sandwiched between the head body 2 and the second mounting ring 47. The internal peripheral wall 32 is fixed to the head body 2. Further, the seal protrusion 32c of the third inner peripheral wall 32 is pressed against the seal recess 54, whereby the gap between the second mounting ring 47 and the third inner peripheral wall lip portion 32b is sealed.

図3に示すように、第1内部周壁30は、第3内部周壁32と同一の形状を有しており、第2内部周壁31は、第2内部周壁リップ部31bが径方向外側ではなく、径方向内側に延びている点のみで第3内部周壁32の形状と異なる。具体的には、第1内部周壁30は、当接部11から上方に延びる第1内部周壁本体30aと、該第1内部周壁本体30aに接続される第1内部周壁リップ部30bとを有し、第2内部周壁31は、当接部11から上方に延びる第2内部周壁本体31aと、該第2内部周壁本体31aに接続される第2内部周壁リップ部31bとを有する。第1内部周壁本体30aおよび第2内部周壁本体31aは、中心軸線CLまわりに環状に延びている。第1内部周壁リップ部30bは、第1内部周壁本体30aの全周にわたってフランジ状に形成され、第2内部周壁リップ部31bは、第2内部周壁本体31aの全周にわたってフランジ状に形成されている。 As shown in FIG. 3, the first inner peripheral wall 30 has the same shape as the third inner peripheral wall 32, and the second inner peripheral wall 31 has the second inner peripheral wall lip portion 31b not radially outside. It differs from the shape of the third inner peripheral wall 32 only in that it extends inward in the radial direction. Specifically, the first inner peripheral wall 30 has a first inner peripheral wall main body 30a extending upward from the contact portion 11 and a first inner peripheral wall lip portion 30b connected to the first inner peripheral wall main body 30a. The second inner peripheral wall 31 has a second inner peripheral wall main body 31a extending upward from the contact portion 11 and a second inner peripheral wall lip portion 31b connected to the second inner peripheral wall main body 31a. The first inner peripheral wall main body 30a and the second inner peripheral wall main body 31a extend in an annular shape around the central axis CL. The first inner peripheral wall lip portion 30b is formed in a flange shape over the entire circumference of the first inner peripheral wall main body 30a, and the second inner peripheral wall lip portion 31b is formed in a flange shape over the entire circumference of the second inner peripheral wall main body 31a. There is.

第1内部周壁本体30aは、当接部11から径方向内側に斜め上方に延びる傾斜部110と、傾斜部110に接続され、径方向内側に延びる水平部111と、水平部111に接続され、該水平部111から垂直に延びる垂直部112とから構成される。第2内部周壁本体31aは、当接部11から径方向内側に斜め上方に延びる傾斜部120と、傾斜部120に接続され、径方向内側に延びる水平部121と、水平部121に接続され、該水平部121から垂直に延びる垂直部122とから構成される。 The first inner peripheral wall main body 30a is connected to an inclined portion 110 extending diagonally upward in the radial direction from the contact portion 11 and an inclined portion 110, and is connected to a horizontal portion 111 extending inward in the radial direction and a horizontal portion 111. It is composed of a vertical portion 112 extending vertically from the horizontal portion 111. The second inner peripheral wall main body 31a is connected to an inclined portion 120 extending diagonally upward in the radial direction from the contact portion 11 and an inclined portion 120, and is connected to a horizontal portion 121 extending inward in the radial direction and a horizontal portion 121. It is composed of a vertical portion 122 extending vertically from the horizontal portion 121.

さらに、第1内部周壁30は、第1内部周壁リップ部30bの全周わたって環状に形成されたシール突起30cを有し、第2内部周壁31は、第2内部周壁リップ部31bの全周わたって環状に形成されたシール突起31cを有する。 Further, the first inner peripheral wall 30 has a seal protrusion 30c formed in an annular shape around the entire circumference of the first inner peripheral wall lip portion 30b, and the second inner peripheral wall 31 has the entire circumference of the second inner peripheral wall lip portion 31b. It has a seal protrusion 31c formed in an annular shape throughout.

第1取付リング45は、第1内部周壁30および第2内部周壁31をヘッド本体2に取り付ける内部取付部材として機能する(図2参照)。第1取付リング45も、第1内部周壁30のシール突起30c、および第2内部周壁31のシール突起31cがそれぞれ嵌合される2つのシール凹部を有する。これらシール凹部も第1取付リング45の全周にわたって形成されている。第1取付リング45を、図示しない締結具を用いてヘッド本体2に固定すると、第1内部周壁リップ部30bおよび第2内部周壁リップ部31bがヘッド本体2と第1取付リング45との間に挟まれ、これにより第1内部周壁30および第2内部周壁31がヘッド本体2に固定される。さらに、第1内部周壁30のシール突起30cが一方のシール凹部に押圧され、同時に、第2内部周壁31のシール突起31cが他方のシール凹部に押圧される。これにより、第1取付リング45と第1内部周壁リップ部30bと間の隙間がシールされ、同時に、第1取付リング45と第2内部周壁リップ部31bとの間の隙間がシールされる。 The first mounting ring 45 functions as an internal mounting member for mounting the first internal peripheral wall 30 and the second internal peripheral wall 31 to the head body 2 (see FIG. 2). The first mounting ring 45 also has two seal recesses into which the seal protrusion 30c of the first inner peripheral wall 30 and the seal protrusion 31c of the second inner peripheral wall 31 are fitted. These seal recesses are also formed over the entire circumference of the first mounting ring 45. When the first mounting ring 45 is fixed to the head body 2 using a fastener (not shown), the first internal peripheral wall lip portion 30b and the second internal peripheral wall lip portion 31b are placed between the head body 2 and the first mounting ring 45. It is sandwiched so that the first inner peripheral wall 30 and the second inner peripheral wall 31 are fixed to the head body 2. Further, the seal protrusion 30c of the first inner peripheral wall 30 is pressed against one seal recess, and at the same time, the seal protrusion 31c of the second inner peripheral wall 31 is pressed against the other seal recess. As a result, the gap between the first mounting ring 45 and the first inner peripheral wall lip portion 30b is sealed, and at the same time, the gap between the first mounting ring 45 and the second inner peripheral wall lip portion 31b is sealed.

上記したように、弾性膜10は、柔軟性だけなく高い粘着性も有している。そのため、弾性膜10を取付リング45,47を介してヘッド本体2に固定する際に、弾性膜10の周壁30〜33の一部分(または、複数部分)がヘッド本体2および/または取付リング45,47に密着してしまうことがある。この場合、弾性膜10の密着部分に他の部分が引っ張られ、弾性膜10の周方向における変形具合にばらつきが生じるおそれがある。特に、弾性膜10の最外周部に位置するエッジ周壁33がヘッド本体2および/または第2取付リング47に密着すると、弾性膜10の周方向の変形具合のばらつきが大きくなってしまう。 As described above, the elastic membrane 10 has not only flexibility but also high adhesiveness. Therefore, when the elastic film 10 is fixed to the head body 2 via the mounting rings 45 and 47, a part (or a plurality of parts) of the peripheral walls 30 to 33 of the elastic film 10 becomes the head body 2 and / or the mounting ring 45, It may stick to 47. In this case, another portion may be pulled by the close contact portion of the elastic film 10, and the degree of deformation of the elastic film 10 in the circumferential direction may vary. In particular, when the edge peripheral wall 33 located at the outermost peripheral portion of the elastic film 10 is in close contact with the head body 2 and / or the second mounting ring 47, the variation in the degree of deformation of the elastic film 10 in the circumferential direction becomes large.

そこで、本実施形態では、エッジ周壁33のエッジ周壁リップ部33bは、その先端(内周端)から径方向内側に突出する複数のエッジ周壁突起33eを有する。図5に示すように、本実施形態に係るエッジ周壁リップ部33bは、エッジ周壁33の周方向に沿って等間隔に配置された6個のエッジ周壁突起33eを有する。各エッジ周壁突起33eは、図5に示すような水平断面視で円弧形状を有しており、エッジ周壁リップ部33bの先端からエッジ周壁33の径方向内側にかつ水平に突出する。以下の説明では、エッジ周壁リップ部33bの径方向に突出するエッジ周壁突起33eを、「横エッジ突起33e」と称することがある。 Therefore, in the present embodiment, the edge peripheral wall lip portion 33b of the edge peripheral wall 33 has a plurality of edge peripheral wall projections 33e protruding inward in the radial direction from the tip end (inner peripheral end). As shown in FIG. 5, the edge peripheral wall lip portion 33b according to the present embodiment has six edge peripheral wall protrusions 33e arranged at equal intervals along the circumferential direction of the edge peripheral wall 33. Each edge peripheral wall projection 33e has an arc shape in a horizontal cross-sectional view as shown in FIG. 5, and projects horizontally from the tip of the edge peripheral wall lip portion 33b inward in the radial direction of the edge peripheral wall 33. In the following description, the edge peripheral wall projection 33e protruding in the radial direction of the edge peripheral wall lip portion 33b may be referred to as a "lateral edge projection 33e".

図4および図5に示すように、第2取付リング47は、各エッジ突起33eに対応して形成された複数の(図5では、6個の)凹部60を有している。これら凹部60は、横エッジ突起33eに対応する形状を有しており、第2取付リング47の周方向に沿って等間隔に配置されている。 As shown in FIGS. 4 and 5, the second mounting ring 47 has a plurality of recesses 60 (six in FIG. 5) formed corresponding to the edge protrusions 33e. These recesses 60 have a shape corresponding to the lateral edge protrusions 33e, and are arranged at equal intervals along the circumferential direction of the second mounting ring 47.

弾性膜10を取付リング45,47を介してヘッド本体2に固定する際には、エッジ周壁33のエッジ周壁リップ部33bに設けられた横エッジ突起33eが第2取付リング47に形成された凹部60に嵌め込まれる。この状態で、第2取付リング47がねじなどの締結具(図示せず)によってヘッド本体2に固定され、これにより、エッジ周壁33がヘッド本体2に固定される。すなわち、エッジ周壁33の周方向に沿って配置された複数の横エッジ突起33eが第2取付リング47に形成された凹部60に嵌め込まれた状態で、エッジ周壁33が第2取付リング47を介してヘッド本体2に固定される。したがって、エッジ周壁33の周方向における変形を最小限に抑制しながら、該エッジ周壁33をヘッド本体2に固定することができる。 When the elastic film 10 is fixed to the head body 2 via the mounting rings 45 and 47, the lateral edge protrusion 33e provided on the edge peripheral wall lip portion 33b of the edge peripheral wall 33 is formed in the second mounting ring 47. It is fitted in 60. In this state, the second mounting ring 47 is fixed to the head body 2 by a fastener (not shown) such as a screw, whereby the edge peripheral wall 33 is fixed to the head body 2. That is, in a state where a plurality of lateral edge protrusions 33e arranged along the circumferential direction of the edge peripheral wall 33 are fitted into the recess 60 formed in the second mounting ring 47, the edge peripheral wall 33 passes through the second mounting ring 47. Is fixed to the head body 2. Therefore, the edge peripheral wall 33 can be fixed to the head main body 2 while suppressing the deformation of the edge peripheral wall 33 in the circumferential direction to the minimum.

さらに、弾性膜10を取付リング45,47を介してヘッド本体2に固定する際に、複数のエッジ周壁突起33eは、第2取付リング47に対するガイドして機能する。したがって、弾性膜10をヘッド本体2に容易に取り付けることができる。横エッジ突起33eを容易に凹部60に挿入するために、横エッジ突起33eは、その先端に向かって断面積が減少するテーパ形状を有しているのが好ましい。 Further, when the elastic film 10 is fixed to the head body 2 via the mounting rings 45 and 47, the plurality of edge peripheral wall projections 33e function as guides for the second mounting ring 47. Therefore, the elastic film 10 can be easily attached to the head body 2. In order to easily insert the lateral edge protrusion 33e into the recess 60, the lateral edge protrusion 33e preferably has a tapered shape in which the cross-sectional area decreases toward the tip thereof.

図4および図5に示す例では、6個の横エッジ突起33eと、これら横エッジ突起33eにそれぞれ対応する6個の凹部60とが設けられているが、横エッジ突起33eの数および凹部60の数はこの例に限定されない。横エッジ突起33eの数および凹部60の数は、エッジ周壁33の周方向に等間隔で配置されている限り任意である。好ましくは、横エッジ突起33eの数および凹部60の数は2〜8個の範囲にある。さらに、横エッジ突起33eは、図4に示す鉛直断面視でテーパ形状を有し、図5に示す水平断面視で円弧形状を有しているが、横エッジ突起33eの形状もこの例に限定されない。例えば、横エッジ突起33eは、鉛直断面視で直方形状または三角形状を有していてもよい。好ましくは、横エッジ突起33eは、中心軸線CLを対称軸とする回転対称にある(図5参照)。 In the examples shown in FIGS. 4 and 5, six lateral edge protrusions 33e and six recesses 60 corresponding to these lateral edge protrusions 33e are provided, but the number of lateral edge protrusions 33e and the recesses 60 are provided. The number of is not limited to this example. The number of the lateral edge protrusions 33e and the number of the recesses 60 are arbitrary as long as they are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the edge peripheral wall 33. Preferably, the number of lateral edge protrusions 33e and the number of recesses 60 are in the range of 2-8. Further, the lateral edge protrusion 33e has a tapered shape in the vertical cross-sectional view shown in FIG. 4 and an arc shape in the horizontal cross-sectional view shown in FIG. 5, but the shape of the lateral edge protrusion 33e is also limited to this example. Not done. For example, the lateral edge protrusion 33e may have a rectangular shape or a triangular shape in a vertical cross-sectional view. Preferably, the lateral edge protrusion 33e is rotationally symmetric with the central axis CL as the axis of symmetry (see FIG. 5).

図3および図4に示すように、第3内部周壁32の第3内部周壁リップ部32bは、その先端(外周端)から内部周壁33の径方向外側にかつ水平に突出する複数の内部周壁突起32dを有していてもよい。以下の説明では、第3内部周壁32の径方向に突出する内部周壁突起32dを、「横内部突起32d」と称することがある。 As shown in FIGS. 3 and 4, the third inner peripheral wall lip portion 32b of the third inner peripheral wall 32 has a plurality of internal peripheral wall protrusions that project radially outward and horizontally from the tip end (outer peripheral end) of the inner peripheral wall 33. It may have 32d. In the following description, the internal peripheral wall projection 32d protruding in the radial direction of the third internal peripheral wall 32 may be referred to as a “lateral internal projection 32d”.

本実施形態に係る第3内部周壁リップ部32bは、第3内部周壁32の周方向に沿って等間隔に配置された複数の横内部突起32dを有する。横内部突起32dの数は、横エッジ突起33eと同様に、第3内部周壁32の周方向に等間隔で配置されている限り任意であり、好ましくは、2〜8個の範囲にある。さらに、横内部突起32dの形状も、横エッジ突起33eと同様に任意である。横内部突起32dは、その先端に向かって断面積が減少するテーパ形状を有しているのが好ましい。好ましくは、横内部突起32dは、中心軸線CLを対称軸とする回転対称にある。 The third inner peripheral wall lip portion 32b according to the present embodiment has a plurality of lateral internal protrusions 32d arranged at equal intervals along the circumferential direction of the third inner peripheral wall 32. The number of the lateral internal protrusions 32d is arbitrary as long as they are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the third internal peripheral wall 32, and is preferably in the range of 2 to 8. Further, the shape of the lateral internal projection 32d is also arbitrary as in the lateral edge projection 33e. The lateral internal protrusion 32d preferably has a tapered shape in which the cross-sectional area decreases toward the tip thereof. Preferably, the lateral internal projection 32d is rotationally symmetric with the central axis CL as the axis of symmetry.

第2取付リング47は、横内部突起32dに対応して形成された複数の凹部62を有する。弾性膜10を取付リング45,47を介してヘッド本体2に固定する際には、第3内部周壁32の周方向に沿って配置された複数の横内部突起32dが第2取付リング47に形成された凹部62に嵌め込まれ、この状態で、第3内部周壁32が第2取付リング47を介してヘッド本体2に固定される。 The second mounting ring 47 has a plurality of recesses 62 formed corresponding to the lateral internal protrusions 32d. When the elastic film 10 is fixed to the head body 2 via the mounting rings 45 and 47, a plurality of lateral internal protrusions 32d arranged along the circumferential direction of the third internal peripheral wall 32 are formed on the second mounting ring 47. It is fitted into the recess 62, and in this state, the third inner peripheral wall 32 is fixed to the head body 2 via the second mounting ring 47.

弾性膜10がエッジ周壁リップ部33bの横エッジ突起33eに加えて、第3内部周壁リップ部32bの横内部突起32dを有することにより、より効果的に弾性膜10の周方向における変形具合のばらつきを抑制することができる。 Since the elastic film 10 has the lateral internal protrusion 32d of the third inner peripheral wall lip portion 32b in addition to the lateral edge protrusion 33e of the edge peripheral wall lip portion 33b, the degree of deformation of the elastic film 10 in the circumferential direction varies more effectively. Can be suppressed.

さらに、図3の点線で示すように、第1内部周壁30の第1内部周壁リップ部30b、および第2内部周壁31の第2内部周壁リップ部31bも、その先端から径方向に突出する複数の横内部突起30d,31dを有していてもよい。第1内部周壁リップ部30bの横内部突起30dは、第1内部周壁リップ部30bの先端から径方向外側にかつ水平に突出し、第2内部周壁リップ部31bの横内部突起31dは、第2内部周壁リップ部31bの先端から径方向内側にかつ水平に突出する。第1内部周壁リップ部30bの横内部突起30dは、第3内部周壁リップ部32bの横内部突起32dと同様の構成を有する。第2内部周壁リップ部31bの横内部突起31dは、その突出方向が第3内部周壁リップ部32bの横内部突起32dと異なる点以外は、該横内部突起32dと同様の構成を有する。 Further, as shown by the dotted line in FIG. 3, a plurality of first inner peripheral wall lip portions 30b of the first inner peripheral wall 30 and second internal peripheral wall lip portions 31b of the second inner peripheral wall 31 also project radially from their tips. It may have lateral internal protrusions 30d and 31d. The lateral internal projection 30d of the first internal peripheral wall lip portion 30b projects radially outward and horizontally from the tip of the first internal peripheral wall lip portion 30b, and the lateral internal projection 31d of the second internal peripheral wall lip portion 31b is the second interior. It projects radially inward and horizontally from the tip of the peripheral wall lip portion 31b. The lateral internal projection 30d of the first internal peripheral wall lip portion 30b has the same configuration as the lateral internal projection 32d of the third internal peripheral wall lip portion 32b. The lateral internal projection 31d of the second internal peripheral wall lip portion 31b has the same configuration as the lateral internal projection 32d except that the projecting direction thereof is different from the lateral internal projection 32d of the third internal peripheral wall lip portion 32b.

第1取付リング45は、第1内部周壁リップ部30bの横内部突起30dに対応して形成された複数の凹部、および第2内部周壁リップ部31bの横内部突起31dに対応して形成された複数の凹部を有する。弾性膜10を取付リング45,47を介してヘッド本体2に固定する際には、第1内部周壁30の周方向に沿って配置された複数の横内部突起30d、および第2内部周壁31の周方向に沿って配置された複数の横内部突起31dがそれぞれ第1取付リング45に形成された複数の凹部に嵌め込まれ、この状態で、第1内部周壁30および第2内部周壁31が第1取付リング45を介してヘッド本体2に固定される。 The first mounting ring 45 is formed corresponding to a plurality of recesses formed corresponding to the lateral internal protrusions 30d of the first inner peripheral wall lip portion 30b and the lateral internal protrusions 31d of the second inner peripheral wall lip portion 31b. It has a plurality of recesses. When the elastic film 10 is fixed to the head body 2 via the mounting rings 45 and 47, the plurality of lateral internal protrusions 30d arranged along the circumferential direction of the first internal peripheral wall 30 and the second internal peripheral wall 31 A plurality of lateral internal protrusions 31d arranged along the circumferential direction are fitted into a plurality of recesses formed in the first mounting ring 45, respectively, and in this state, the first internal peripheral wall 30 and the second internal peripheral wall 31 are first. It is fixed to the head body 2 via the mounting ring 45.

このように、エッジ周壁リップ部33bだけでなく、第1内部周壁リップ部30b、第2内部周壁リップ部31b、および第3内部周壁リップ部32bのそれぞれが横内部突起30d,31d,32dを有していてもよい。一実施形態では、第1内部周壁リップ部30b、第2内部周壁リップ部31b、および第3内部周壁リップ部32bのうちのいずれか1つまたは2つが横内部突起を有していてもよい。このような構成により、より効果的に弾性膜10の周方向における変形具合のばらつきを抑制することができる。さらに、第1内部周壁リップ部30bの横内部突起30d、および第2内部周壁リップ部31bの横内部突起31dは第1取付リング45に対するガイドして機能するので、弾性膜10をより容易にヘッド本体2に固定することができる。 As described above, not only the edge peripheral wall lip portion 33b, but also the first internal peripheral wall lip portion 30b, the second internal peripheral wall lip portion 31b, and the third internal peripheral wall lip portion 32b each have lateral internal protrusions 30d, 31d, and 32d. You may be doing it. In one embodiment, any one or two of the first inner peripheral wall lip portion 30b, the second inner peripheral wall lip portion 31b, and the third inner peripheral wall lip portion 32b may have lateral internal protrusions. With such a configuration, it is possible to more effectively suppress the variation in the degree of deformation of the elastic film 10 in the circumferential direction. Further, since the lateral internal projection 30d of the first internal peripheral wall lip portion 30b and the lateral internal projection 31d of the second internal peripheral wall lip portion 31b function as a guide with respect to the first mounting ring 45, the elastic film 10 can be headed more easily. It can be fixed to the main body 2.

図6は、他の実施形態に係る弾性膜10のエッジ周壁33の近傍の拡大断面図である。図7は、図6に示す弾性膜10の下面図である。図7では、周壁30〜33の各リップ部30b〜33bが抽出して描かれている。特に説明しない構成は、上述した実施形態と同様であるため、その重複する説明を省略する。 FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the edge peripheral wall 33 of the elastic film 10 according to another embodiment. FIG. 7 is a bottom view of the elastic membrane 10 shown in FIG. In FIG. 7, each lip portion 30b to 33b of the peripheral walls 30 to 33 is extracted and drawn. Since the configuration not particularly described is the same as that of the above-described embodiment, the duplicate description will be omitted.

図6および図7に示すエッジ周壁33のエッジ周壁リップ部33bは、その下面から下方に突出する複数の(図7では、6つの)エッジ突起33e’を有している。以下の説明では、エッジ周壁リップ部33bの下面から下方に突出するエッジ突起33e’を、「縦エッジ突起33e’」と称することがある。 The edge peripheral wall lip portion 33b of the edge peripheral wall 33 shown in FIGS. 6 and 7 has a plurality of (six in FIG. 7) edge protrusions 33e'protruding downward from the lower surface thereof. In the following description, the edge protrusion 33e'protruding downward from the lower surface of the edge peripheral wall lip portion 33b may be referred to as "vertical edge protrusion 33e'".

複数の縦エッジ突起33e’は、エッジ周壁33の径方向に等間隔で配置されている。第2取付リング47は、複数の縦エッジ突起33e’に対応して形成された複数の凹部60を有している。縦エッジ突起33e’の数および凹部60の数は、横エッジ突起33eと同様に、エッジ周壁33の周方向に等間隔で配置されている限り任意であり、好ましくは、2〜8個の範囲にある。さらに、縦エッジ突起33e’の形状も、横エッジ突起33eと同様に任意である。好ましくは、縦エッジ突起33e’は、その先端に向かって断面積が減少するテーパ形状を有し(図6参照)、水平断面視で円弧形状を有する(図7参照)。さらに、複数の縦エッジ突起33e’は、中心軸線CLを対称軸とする回転対称にあるのが好ましい。 The plurality of vertical edge protrusions 33e'are arranged at equal intervals in the radial direction of the edge peripheral wall 33. The second mounting ring 47 has a plurality of recesses 60 formed corresponding to the plurality of vertical edge protrusions 33e'. The number of the vertical edge protrusions 33e'and the number of the recesses 60 are arbitrary as long as they are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the edge peripheral wall 33, and preferably in the range of 2 to 8. It is in. Further, the shape of the vertical edge protrusion 33e'is also arbitrary as in the case of the horizontal edge protrusion 33e. Preferably, the vertical edge protrusion 33e'has a tapered shape in which the cross-sectional area decreases toward the tip thereof (see FIG. 6), and has an arc shape in a horizontal cross-sectional view (see FIG. 7). Further, it is preferable that the plurality of vertical edge protrusions 33e'are rotationally symmetric with the central axis CL as the axis of symmetry.

本実施形態でも、エッジ周壁33の周方向に沿って配置された複数の縦エッジ突起33e’が第2取付リング47に形成された凹部60に嵌め込まれた状態で、エッジ周壁33が第2取付リング47を介してヘッド本体2に固定される。したがって、エッジ周壁33の周方向における変形を最小限に抑制しながら、該エッジ周壁33をヘッド本体2に固定することができる。さらに、弾性膜10を取付リング45,47を介してヘッド本体2に固定する際に、複数の縦エッジ突起33e’は、第2取付リング47に対するガイドして機能する。したがって、弾性膜10をヘッド本体2に容易に取り付けることができる。このように、エッジ周壁突起は、縦エッジ突起33e’のように、エッジ周壁リップ部33bの下面から下方に突出していてもよい。 Also in the present embodiment, the edge peripheral wall 33 is second-mounted in a state where a plurality of vertical edge protrusions 33e'arranged along the circumferential direction of the edge peripheral wall 33 are fitted into the recess 60 formed in the second mounting ring 47. It is fixed to the head body 2 via the ring 47. Therefore, the edge peripheral wall 33 can be fixed to the head main body 2 while suppressing the deformation of the edge peripheral wall 33 in the circumferential direction to the minimum. Further, when the elastic film 10 is fixed to the head body 2 via the mounting rings 45 and 47, the plurality of vertical edge protrusions 33e'function as a guide for the second mounting ring 47. Therefore, the elastic film 10 can be easily attached to the head body 2. As described above, the edge peripheral wall protrusion may protrude downward from the lower surface of the edge peripheral wall lip portion 33b like the vertical edge protrusion 33e'.

図6および図7に示すように、第3内部周壁32の第3内部周壁リップ部32bは、その下面から下方に突出する複数の(図7では、6つの)内部突起32d’を有していてもよい。以下の説明では、第3内部周壁リップ部32bの下面から下方に突出する内部突起32d’を、「縦内部突起32d’」と称することがある。 As shown in FIGS. 6 and 7, the third internal peripheral wall lip portion 32b of the third internal peripheral wall 32 has a plurality of (six in FIG. 7) internal protrusions 32d'protruding downward from the lower surface thereof. You may. In the following description, the internal protrusion 32d'protruding downward from the lower surface of the third inner peripheral wall lip portion 32b may be referred to as "vertical internal protrusion 32d'".

複数の縦内部突起32d’は、第3内部周壁32の周方向に沿って等間隔で配置されている。第2取付リング47は、複数の縦内部突起32d’に対応して形成された複数の凹部62を有している。縦内部突起32d’の数および凹部62の数も、縦エッジ突起33e’と同様に、第3内部周壁32の周方向に等間隔で配置されている限り任意であり、好ましくは、2〜8個の範囲にある。さらに、縦内部突起32d’の形状も、縦エッジ突起33e’と同様に任意である。好ましくは、縦内部突起32d’は、その先端に向かって断面積が減少するテーパ形状を有し(図6参照)、水平断面視で円弧形状を有する(図7参照)。さらに、複数の縦内部突起32d’は、中心軸線CLを対称軸とする回転対称にあるのが好ましい。 The plurality of vertical internal protrusions 32d'are arranged at equal intervals along the circumferential direction of the third internal peripheral wall 32. The second mounting ring 47 has a plurality of recesses 62 formed corresponding to the plurality of vertical internal protrusions 32d'. The number of the vertical internal protrusions 32d'and the number of the recesses 62 are also arbitrary as long as they are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the third internal peripheral wall 32, like the vertical edge protrusions 33e', and are preferably 2 to 8. It is in the range of pieces. Further, the shape of the vertical internal protrusion 32d'is also arbitrary as in the case of the vertical edge protrusion 33e'. Preferably, the vertical internal protrusion 32d'has a tapered shape in which the cross-sectional area decreases toward the tip thereof (see FIG. 6), and has an arc shape in a horizontal cross-sectional view (see FIG. 7). Further, it is preferable that the plurality of vertical internal protrusions 32d'are rotationally symmetric with the central axis CL as the axis of symmetry.

図7の点線で示すように、第1内部周壁30の第1内部周壁リップ部30b、および第2内部周壁31の第2内部周壁リップ部31bも、その下面から下方に突出する複数の縦内部突起30d’,31d’を有していてもよい。第1内部周壁リップ部30bの縦内部突起30d’および第2内部周壁リップ部31bの縦内部突起31d’は、第3内部周壁リップ部32bの縦内部突起32d’と同様の構成を有する。図示はしないが、第1取付リング45は、第1内部周壁リップ部30bの縦内部突起30d’に対応して形成された複数の凹部、および第2内部周壁リップ部31bの縦内部突起31d’に対応して形成された複数の凹部を有する。 As shown by the dotted line in FIG. 7, the first inner peripheral wall lip portion 30b of the first inner peripheral wall 30 and the second inner peripheral wall lip portion 31b of the second inner peripheral wall 31 also have a plurality of vertical interiors protruding downward from the lower surface thereof. It may have protrusions 30d'and 31d'. The vertical internal projection 30d'of the first internal peripheral wall lip portion 30b and the vertical internal projection 31d'of the second internal peripheral wall lip portion 31b have the same configuration as the vertical internal projection 32d'of the third internal peripheral wall lip portion 32b. Although not shown, the first mounting ring 45 has a plurality of recesses formed corresponding to the vertical internal protrusions 30d'of the first internal peripheral wall lip portion 30b, and the vertical internal protrusions 31d'of the second internal peripheral wall lip portion 31b. It has a plurality of recesses formed corresponding to.

このように、エッジ周壁リップ部33bだけでなく、第1内部周壁リップ部30b、第2内部周壁リップ部31b、および第3内部周壁リップ部32bのそれぞれが縦内部突起30d’,31d’,32d’を有していてもよい。一実施形態では、第1内部周壁リップ部30b、第2内部周壁リップ部31b、および第3内部周壁リップ部32bのうちのいずれか1つまたは2つが縦内部突起を有していてもよい。このような構成により、より効果的に弾性膜10の周方向における変形具合のばらつきを抑制することができる。さらに、第1内部周壁リップ部30bの縦内部突起30d’、および第2内部周壁リップ部31bの縦内部突起31d’は第1取付リング45に対するガイドして機能するので、弾性膜10をより容易にヘッド本体2に固定することができる。 As described above, not only the edge peripheral wall lip portion 33b but also the first internal peripheral wall lip portion 30b, the second internal peripheral wall lip portion 31b, and the third internal peripheral wall lip portion 32b have vertical internal protrusions 30d', 31d', 32d, respectively. May have a'. In one embodiment, any one or two of the first inner peripheral wall lip portion 30b, the second inner peripheral wall lip portion 31b, and the third inner peripheral wall lip portion 32b may have vertical internal protrusions. With such a configuration, it is possible to more effectively suppress the variation in the degree of deformation of the elastic film 10 in the circumferential direction. Further, since the vertical internal protrusion 30d'of the first inner peripheral wall lip portion 30b and the vertical internal protrusion 31d'of the second inner peripheral wall lip portion 31b function as a guide with respect to the first mounting ring 45, the elastic film 10 can be more easily formed. Can be fixed to the head body 2.

図8は、さらに他の実施形態に係る弾性膜10のエッジ周壁33の近傍の拡大断面図である。特に説明しない本実施形態の構成は、図6および図7に示した実施形態と同様であるため、その重複する説明を省略する。 FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the edge peripheral wall 33 of the elastic film 10 according to still another embodiment. Since the configuration of the present embodiment, which is not particularly described, is the same as that of the embodiments shown in FIGS. 6 and 7, the duplicate description thereof will be omitted.

図8に示すエッジ周壁33のエッジ周壁リップ部33bは、その上面から上方に突出する複数の縦エッジ突起33e’’を有する。本実施形態でも、複数の縦エッジ突起33e’’は、エッジ周壁33の周方向に沿って等間隔で配置されている。ヘッド本体2は、縦エッジ突起33e’’に対応して形成された複数の凹部61を有する。 The edge peripheral wall lip portion 33b of the edge peripheral wall 33 shown in FIG. 8 has a plurality of vertical edge protrusions 33e ″ protruding upward from the upper surface thereof. Also in this embodiment, the plurality of vertical edge protrusions 33e ″ are arranged at equal intervals along the circumferential direction of the edge peripheral wall 33. The head body 2 has a plurality of recesses 61 formed corresponding to the vertical edge protrusions 33e ″.

本実施形態では、エッジ周壁33の周方向に沿って配置された複数の縦エッジ突起33e’’がヘッド本体2に形成された凹部61に嵌め込まれた状態で、エッジ周壁33が第2取付リング47を介してヘッド本体2に固定される。この場合でも、エッジ周壁33の周方向における変形を最小限に抑制しながら、該エッジ周壁33をヘッド本体2に固定することができる。さらに、弾性膜10を取付リング45,47を介してヘッド本体2に固定する際に、複数の縦エッジ突起33e’’は、ヘッド本体2に対するガイドして機能する。したがって、弾性膜10をヘッド本体2に容易に取り付けることができる。このように、エッジ周壁突起は、縦エッジ突起33e’’のように、エッジ周壁リップ部33bの上面から上方に突出していてもよい。 In the present embodiment, the edge peripheral wall 33 is the second mounting ring in a state where a plurality of vertical edge protrusions 33e'' arranged along the circumferential direction of the edge peripheral wall 33 are fitted into the recesses 61 formed in the head body 2. It is fixed to the head body 2 via 47. Even in this case, the edge peripheral wall 33 can be fixed to the head main body 2 while suppressing the deformation of the edge peripheral wall 33 in the circumferential direction to the minimum. Further, when the elastic film 10 is fixed to the head body 2 via the mounting rings 45 and 47, the plurality of vertical edge protrusions 33e ″ function as a guide with respect to the head body 2. Therefore, the elastic film 10 can be easily attached to the head body 2. As described above, the edge peripheral wall protrusion may protrude upward from the upper surface of the edge peripheral wall lip portion 33b like the vertical edge protrusion 33e ″.

図8に示すように、第3内部周壁32の第3内部周壁リップ部32bも、その上面から突出する縦内部突起32d’’を有していてもよい。ヘッド本体2は、縦内部突起32d’’に対応して形成された複数の凹部63を有する。図示はしないが、第1内部周壁30の第1内部周壁リップ部30b、および第2内部周壁31の第2内部周壁リップ部31bも、それぞれ、その上面から突出する縦内部突起を有していてもよい。この場合、ヘッド本体2は、第1内部周壁リップ部30bの縦内部突起、および第2内部周壁リップ部31bの縦内部突起に対応して形成された複数の凹部を有する。一実施形態では、第1内部周壁リップ部30b、第2内部周壁リップ部31b、および第3内部周壁リップ部32bのうちのいずれか1つまたは2つが縦内部突起を有していてもよい。 As shown in FIG. 8, the third inner peripheral wall lip portion 32b of the third inner peripheral wall 32 may also have a vertical internal protrusion 32d ″ protruding from the upper surface thereof. The head body 2 has a plurality of recesses 63 formed corresponding to the vertical internal protrusions 32d ″. Although not shown, the first inner peripheral wall lip portion 30b of the first inner peripheral wall 30 and the second inner peripheral wall lip portion 31b of the second inner peripheral wall 31 each have vertical internal protrusions protruding from the upper surface thereof. May be good. In this case, the head main body 2 has a plurality of recesses formed corresponding to the vertical internal protrusions of the first internal peripheral wall lip portion 30b and the vertical internal protrusions of the second internal peripheral wall lip portion 31b. In one embodiment, any one or two of the first inner peripheral wall lip portion 30b, the second inner peripheral wall lip portion 31b, and the third inner peripheral wall lip portion 32b may have vertical internal protrusions.

このような構成でも、効果的に弾性膜10の周方向における変形具合のばらつきを抑制することができる。さらに、第1内部周壁リップ部30bの縦内部突起、および第2内部周壁リップ部31bの縦内部突起もヘッド本体2に対するガイドして機能するので、弾性膜10を容易にヘッド本体2に固定することができる。 Even with such a configuration, it is possible to effectively suppress variations in the degree of deformation of the elastic film 10 in the circumferential direction. Further, since the vertical internal protrusions of the first internal peripheral wall lip portion 30b and the vertical internal protrusions of the second internal peripheral wall lip portion 31b also function as guides to the head main body 2, the elastic film 10 is easily fixed to the head main body 2. be able to.

図9は、さらに他の実施形態に係る弾性膜10のエッジ周壁33を拡大して示す模式図である。特に説明しない本実施形態の構成は、上述した実施形態の構成と同様であるため、その重複する説明を省略する。 FIG. 9 is a schematic view showing an enlarged edge peripheral wall 33 of the elastic film 10 according to still another embodiment. Since the configuration of the present embodiment not particularly described is the same as the configuration of the above-described embodiment, the duplicate description will be omitted.

図9に示すエッジ周壁33は、当接部11の周端部から斜め上方に延びるエッジ周壁本体33aと、エッジ周壁本体33aの先端から延びるエッジ周壁リップ部33bとを有する。上述した実施形態では、エッジ周壁本体33aは、当接部11の周端部から鉛直方向に上方に延びているが、本発明は、これら実施形態に限定されない。エッジ周壁本体33aの形状は任意であり、例えば、図9に示すように斜め上方に延びていてもよい。 The edge peripheral wall 33 shown in FIG. 9 has an edge peripheral wall main body 33a extending obliquely upward from the peripheral end portion of the contact portion 11, and an edge peripheral wall lip portion 33b extending from the tip of the edge peripheral wall main body 33a. In the above-described embodiment, the edge peripheral wall main body 33a extends upward in the vertical direction from the peripheral end portion of the contact portion 11, but the present invention is not limited to these embodiments. The shape of the edge peripheral wall main body 33a is arbitrary, and may extend diagonally upward, for example, as shown in FIG.

さらに、図9に示すエッジ周壁33のエッジ周壁リップ部33bは、その上面から上方に突出するエッジ突起33e’’を有している。しかしながら、図9の点線で示すように、エッジ周壁リップ部33bは、エッジ周壁リップ部33bの下面から下方に突出するエッジ突起33e’を有していてもよいし、エッジ周壁リップ部33bの先端から径方向に突出する横エッジ突起33eを有していてもよい。 Further, the edge peripheral wall lip portion 33b of the edge peripheral wall 33 shown in FIG. 9 has an edge protrusion 33e ″ protruding upward from the upper surface thereof. However, as shown by the dotted line in FIG. 9, the edge peripheral wall lip portion 33b may have an edge protrusion 33e'protruding downward from the lower surface of the edge peripheral wall lip portion 33b, or the tip of the edge peripheral wall lip portion 33b. It may have a lateral edge protrusion 33e protruding in the radial direction from the.

図示はしないが、内部周壁30,31,32の内部周壁本体30a,31a,32aの形状も任意であり、図9に示すエッジ周壁33のように、当接部11から斜め上方に延びていてもよい。さらに、内部周壁30,31,32の内部周壁本体30a,31a,32aの形状は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。 Although not shown, the shapes of the internal peripheral wall bodies 30a, 31a, 32a of the internal peripheral walls 30, 31, 32 are also arbitrary, and extend diagonally upward from the contact portion 11 like the edge peripheral wall 33 shown in FIG. May be good. Further, the shapes of the inner peripheral wall bodies 30a, 31a, 32a of the inner peripheral walls 30, 31, 32 may be the same as or different from each other.

上述した実施形態では、エッジ周壁33のエッジ周壁リップ部33bは、横エッジ突起33e、縦エッジ突起33e’、および縦エッジ突起33e’’のいずれかを有しているが、本発明はこれらの実施形態に限定されない。例えば、エッジ周壁リップ部33bは、横エッジ突起33e、縦エッジ突起33e’、および縦エッジ突起33e’’のうちの2つを有していてもよいし、これら突起33e,33e’,33e’’の全てを有していてもよい。同様に、各内部周壁リップ部30b〜32bは、各内部周壁リップ部30b〜32bの先端から径方向に突出する横内部突起、各内部周壁リップ部30b〜32bの上面から突出する縦内部突起、および各内部周壁リップ部30b〜32bの下面から突出する縦内部突起のうちのの2つを有していてもよいし、これら突起の全てを有していてもよい。 In the above-described embodiment, the edge peripheral wall lip portion 33b of the edge peripheral wall 33 has any of a horizontal edge protrusion 33e, a vertical edge protrusion 33e', and a vertical edge protrusion 33e''. It is not limited to the embodiment. For example, the edge peripheral wall lip portion 33b may have two of the horizontal edge protrusion 33e, the vertical edge protrusion 33e', and the vertical edge protrusion 33e'', and these protrusions 33e, 33e', 33e'. You may have all of'. Similarly, each of the internal peripheral wall lip portions 30b to 32b has a lateral internal projection protruding radially from the tip of each internal peripheral wall lip portion 30b to 32b, and a vertical internal projection protruding from the upper surface of each internal peripheral wall lip portion 30b to 32b. And two of the vertical internal protrusions protruding from the lower surface of each internal peripheral wall lip portion 30b to 32b may be provided, or all of these protrusions may be provided.

上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。 The above-described embodiment is described for the purpose of enabling a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs to carry out the present invention. Various modifications of the above embodiment can be naturally made by those skilled in the art, and the technical idea of the present invention can be applied to other embodiments. Therefore, the present invention is not limited to the described embodiments, but is construed in the broadest range according to the technical idea defined by the claims.

1 基板保持装置(研磨ヘッド)
2 ヘッド本体
3 リテーナリング
10 弾性膜(メンブレン)
11 当接部
16a,16b,16c,16d 圧力室
18 研磨テーブル
19 研磨パッド
27 ヘッドシャフト
30,31,32 内部周壁
30a,31a,32a 内部周壁本体
30b,31b,32b 内部周壁リップ部
30c,31c,32c シール突起
32d 横内部突起
32d’,32d’’ 縦内部突起
33 エッジ周壁
33a エッジ周壁本体
33b エッジ周壁リップ部
33c シール突起
33e 横エッジ突起
33e’,33e’’ 縦エッジ突起
40 制御装置
45 内部取付リング(内部取付部材)
47 エッジ取付リング(エッジ取付部材)
54,55 シール凹部
60 第1凹部
61 第2凹部
62 第3凹部
63 第4凹部
1 Substrate holding device (polishing head)
2 Head body 3 Retainer ring 10 Elastic membrane (membrane)
11 Contact parts 16a, 16b, 16c, 16d Pressure chamber 18 Polishing table 19 Polishing pad 27 Head shafts 30, 31, 32 Internal peripheral walls 30a, 31a, 32a Internal peripheral wall bodies 30b, 31b, 32b Internal peripheral wall lip parts 30c, 31c, 32c Seal protrusion 32d Horizontal internal protrusion 32d', 32d'' Vertical internal protrusion 33 Edge peripheral wall 33a Edge peripheral wall body 33b Edge peripheral wall lip 33c Seal protrusion 33e Horizontal edge protrusion 33e', 33e'' Vertical edge protrusion 40 Control device 45 Internal mounting Ring (internal mounting member)
47 Edge mounting ring (edge mounting member)
54, 55 Seal recess 60 1st recess 61 2nd recess 62 3rd recess 63 4th recess

Claims (9)

基板保持装置に用いられる弾性膜であって、
基板に当接して該基板を研磨パッドに押圧する当接部と、
前記当接部の周端部から延びるエッジ周壁と、を備え、
前記エッジ周壁は、その上部に、前記基板保持装置のヘッド本体と、該エッジ周壁を前記ヘッド本体に固定するためのエッジ取付部材との間に挟まれるエッジ周壁リップ部を有しており、
前記エッジ周壁リップ部は、前記エッジ取付部材に形成された第1凹部および/または前記ヘッド本体に形成された第2凹部に嵌合される複数のエッジ周壁突起を有しており、
前記エッジ周壁突起は、前記エッジ周壁の周方向に沿って等間隔に配置されていることを特徴とする弾性膜。
An elastic film used in a substrate holding device.
A contact portion that abuts on the substrate and presses the substrate against the polishing pad,
An edge peripheral wall extending from the peripheral end of the contact portion is provided.
The edge peripheral wall has an edge peripheral wall lip portion sandwiched between the head main body of the substrate holding device and an edge mounting member for fixing the edge peripheral wall to the head main body on the upper portion thereof.
The edge peripheral wall lip portion has a plurality of edge peripheral wall protrusions fitted in a first recess formed in the edge mounting member and / or a second recess formed in the head body.
The elastic film is characterized in that the edge peripheral wall protrusions are arranged at equal intervals along the circumferential direction of the edge peripheral wall.
前記エッジ周壁突起は、前記エッジ周壁リップ部の上面または下面から突出する縦エッジ突起であることを特徴とする請求項1に記載の弾性膜。 The elastic film according to claim 1, wherein the edge peripheral wall protrusion is a vertical edge protrusion protruding from the upper surface or the lower surface of the edge peripheral wall lip portion. 前記エッジ周壁突起は、前記エッジ周壁リップ部の先端から前記エッジ周壁の径方向に突出する横エッジ突起であることを特徴とする請求項1に記載の弾性膜。 The elastic film according to claim 1, wherein the edge peripheral wall protrusion is a lateral edge protrusion protruding in the radial direction of the edge peripheral wall from the tip of the edge peripheral wall lip portion. 前記エッジ周壁突起のいくつかは、前記エッジ周壁リップ部の上面または下面から突出する縦エッジ突起であり、
前記エッジ周壁突起の残りは、前記エッジ周壁リップ部の先端から前記エッジ周壁の径方向に突出する横エッジ突起であることを特徴とする請求項1に記載の弾性膜。
Some of the edge peripheral protrusions are vertical edge protrusions protruding from the upper surface or the lower surface of the edge peripheral wall lip portion.
The elastic film according to claim 1, wherein the rest of the edge peripheral wall protrusions are lateral edge protrusions protruding in the radial direction of the edge peripheral wall from the tip of the edge peripheral wall lip portion.
前記エッジ周壁の径方向内側に配置され、前記当接部から延びる少なくとも1つの内部周壁をさらに備え、
前記内部周壁は、その上部に、前記ヘッド本体と、該内部周壁を前記ヘッド本体に固定するための内部取付部材との間に挟まれる内部周壁リップ部を有しており、
前記内部周壁リップ部は、前記エッジ取付部材に形成された第3凹部および/または前記ヘッド本体に形成された第4凹部に嵌合される複数の内部周壁突起を有しており、
前記内部周壁突起は、前記内部周壁の周方向に沿って等間隔に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の弾性膜。
Further provided with at least one internal peripheral wall arranged radially inside the edge peripheral wall and extending from the abutting portion.
The internal peripheral wall has an internal peripheral wall lip portion sandwiched between the head main body and an internal mounting member for fixing the internal peripheral wall to the head main body on the upper portion thereof.
The internal peripheral wall lip portion has a plurality of internal peripheral wall projections that are fitted into a third recess formed in the edge mounting member and / or a fourth recess formed in the head body.
The elastic film according to any one of claims 1 to 4, wherein the internal peripheral wall protrusions are arranged at equal intervals along the circumferential direction of the internal peripheral wall.
前記内部周壁突起は、前記内部周壁リップ部の上面または下面から突出する縦内部突起であることを特徴とする請求項5に記載の弾性膜。 The elastic film according to claim 5, wherein the internal peripheral wall protrusion is a vertical internal protrusion protruding from the upper surface or the lower surface of the inner peripheral wall lip portion. 前記内部周壁突起は、前記内部周壁リップ部の先端から前記内部周壁の径方向に突出する横内部突起であることを特徴とする請求項5に記載の弾性膜。 The elastic film according to claim 5, wherein the internal peripheral wall protrusion is a lateral internal protrusion protruding from the tip of the internal peripheral wall lip portion in the radial direction of the internal peripheral wall. 前記内部周壁突起のいくつかは、前記内部周壁リップ部の上面または下面から突出する縦内部突起であり、
前記内部周壁突起の残りは、前記内部周壁リップ部の先端から前記内部周壁の径方向に突出する横内部突起であることを特徴とする請求項5に記載の弾性膜。
Some of the internal peripheral wall protrusions are vertical internal protrusions protruding from the upper surface or the lower surface of the internal peripheral wall lip portion.
The elastic film according to claim 5, wherein the rest of the internal peripheral wall protrusions are lateral internal protrusions protruding in the radial direction of the internal peripheral wall from the tip of the internal peripheral wall lip portion.
基板を押圧するための少なくとも1つの圧力室を形成する弾性膜と、
前記弾性膜が固定されるヘッド本体と、
前記弾性膜を前記ヘッド本体に固定する少なくとも1つの取付部材と、を備え、
前記弾性膜は、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の弾性膜であることを特徴とする基板保持装置。
An elastic membrane forming at least one pressure chamber for pressing the substrate,
The head body to which the elastic film is fixed and
The elastic film is provided with at least one mounting member for fixing the elastic film to the head body.
The substrate holding device according to any one of claims 1 to 8, wherein the elastic film is the elastic film.
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