JP2021026853A - 自発光表示パネルの製造方法及び機能層形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の画素が行列状に配された自発光表示パネルにおいて、列方向における発光層の膜厚の変化に起因する行方向の筋状の輝度ムラを目立たなくする。【解決手段】基板上に行列状に形成された画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列バンクを並設する工程と、行方向に隣接する列バンク間の間隙に、複数のノズルが配されたヘッドを基板に対して行方向に相対的に移動させ、一部のノズルからインクを吐出して発光層を形成する工程とを含み、機能層を形成する工程において、同一種のインクを供給すべき複数の間隙のうち、第１の間隙においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第１のパターンと、次に同種のインクが塗布される第２の間隔においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第２のパターンが異なっており、第２のパターンは、第１のパターンを列方向の沿った一方方向にノズル１ピッチ分だけずらしてなる。【選択図】図８

Description

本開示は、複数の自発光素子を行列状に配してなる自発光表示パネルの製造方法および機能層形成装置に関する。

近年、自発光型の表示パネルとして、基板上に有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子をマトリックス状（行列状）に複数配列した有機ＥＬ表示パネルが実用化されている。この有機ＥＬ表示パネルは、各有機ＥＬ素子が自発光を行うので視認性が高い。

この有機ＥＬ表示パネルでは、一般に各有機ＥＬ素子の発光層と、隣接する有機ＥＬ素子の発光層とは、絶縁材料からなる隔壁で仕切られている。

カラー表示用の有機ＥＬ表示パネルにおいては、このような有機ＥＬ素子が、ＲＧＢ各色の画素を形成し、隣り合うＲＧＢの画素が合わさってカラー表示における単位画素が形成されている。各有機ＥＬ素子は、陽極と陰極の一対の電極の間に有機発光材料を含む発光層等の機能膜が配設された素子構造を有し、駆動時には、一対の電極対間に電圧を印加し、陽極から発光層に注入されるホールと、陰極から発光層に注入される電子との再結合に伴って発光する。

最近では、デバイスの大型化が進み、効率の良い機能膜の成膜方法として、機能性材料を含むインクをインクジェット法等に基づいて塗布するウエットプロセスが提案されている。

例えば、特許文献１では、列方向に延びる隔壁間に同一濃度の有機材料溶液を滴下し、隔壁内容積に応じた溶液量を塗布することによって成膜することができるので、簡単で且つ容易なプロセスで均質な有機発光層の形成が可能となることが記載されている。

特開２００７−２３４２３２号公報

しかしながら、特許文献１に記載の技術では、発光層を含む機能層に微小な膜厚のバラツキが残存する場合があり、これが行方向に連なった場合に、表示画像に筋状の輝度ムラが視認され得るという課題がある。

上記と同様な課題は、発光層として有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ表示パネル以外にも、発光層が無機材料からなる無機ＥＬ表示パネルや、発光層が、量子ドット発光素子（ＱＬＥＤ：quantum dot-LED）からなる量子ドット表示パネルなど、およそ発光素子を含む機能層をウエットプロセスで形成する自発光表示パネルについて共通に生じ得る課題である。

本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであって、行方向の筋状の輝度ムラが目立たない自発光表示パネルの製造方法および機能層形成装置を提供することを目的とする。

本開示の一態様は、複数の画素が行列状に配された自発光表示パネルの製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の画素電極を行列状に形成する工程と、前記基板上方であって、前記画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列バンクを並設する工程と、行方向に隣接する前記列バンク間の間隙に、複数のノズルが列設されたヘッドを、前記基板に対して行方向に相対的に移動させ、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルから機能性材料を含むインクを吐出した後、前記インクを乾燥させて機能層を形成する工程と、前記機能層上方に対向電極を形成する工程とを備え、前記機能層を形成する工程において、同一種のインクを供給すべき複数の前記間隙のうち、第１の間隙においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第１のパターンと、次に同種のインクが塗布される第２の間隔においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第２のパターンが異なっており、前記第２のパターンが、前記第１のパターンを前記列方向の沿った一方方向にノズル１ピッチ分だけずらしたパターンとなっていることを特徴とする。

ここで、「機能性材料」とは、特定の発光特性を有する材料や、正孔注入機能、正孔輸送機能、電子注入機能、電子輸送機能など、目的の表示パネルを構成するため特定の機能を発揮する材料を意味する。

本開示の一態様に係る自発光表示パネルの製造方法によれば、発光層を含む列状の機能層が並設されたパネル構造において、同一種のインクを塗布する機能層において列方向に生じる膜厚の変化が行方向に連続して生じるのを抑制して、行方向の筋状の輝度ムラを目立たなくすることができる。

実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の回路構成を示す模式ブロック図である。 有機ＥＬ表示装置に用いる有機ＥＬ表示パネルの各副画素における回路構成を示す模式回路図である。 有機ＥＬ表示パネルの模式平面図である。 図３におけるＡ０部の拡大平面図である。 列バンクと行バンクを形成した段階における基板の一部分の斜視図である。 （ａ）は、発光層の塗布装置の側面図、（ｂ）は同装置の正面図を、それぞれ示す。 有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、基板上の隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙に発光層形成用のインクを塗布する工程を示す模式平面図である。 （ａ）は、本開示に係るインク吐出ノズルを決定する基本となる単位パターン、（ｂ）は、パネル全体に展開した吐出ノズルのパターンを示す。 発光層の塗布装置における制御部の構成を示すブロック図である。 （ａ）は、有機ＥＬ表示パネルの寸法例を示す図であり、（ｂ）は、吐出ノズルの単位パターンの決定方法を示すフローチャートである。 塗布装置の制御部における塗布処理の制御内容を示すフローチャートである。 本実施の形態により形成した、有機ＥＬ表示パネルの表示画像を示す写真である。 図４における有機ＥＬ表示パネルをＡ２−Ａ２で切断した模式断面図である。 有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。 （ａ）〜（ｄ）は、有機ＥＬ表示パネルの製造における各工程での状態を示す模式断面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、図１５に続く有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す模式断面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、図１６に続く有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す模式断面図である。 （ａ）〜（ｇ）は、有機ＥＬ表示パネルの製造において、別途カラーフィルタ基板を製造する工程を示す模式断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、図１７に続く有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す模式断面図である。 （ａ）は別の開示に係る単位パターンの例を示し、（ｂ）は、当該単位パターンをパネル全体に展開した吐出ノズルのパターンの例を示す。 （ａ）は、インクジェット法により、基板上の隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙５２２ｚＸに発光層形成用のインクを塗布する工程を示す模式的な側面図であり、（ｂ）は、その平面図である。 （ａ）は、従来の有機ＥＬ表示パネルの表示画像を示す写真、（ｂ）は（ａ）の位置Ｘ１からＸ４におけるＹ方向の輝度分布の測定結果である。

≪本開示の一態様に至った経緯≫
表示パネルの製造における効率の良い機能膜の形成方法として、機能性材料を含むインクをインクジェット法等に基づいて塗布するウエットプロセスが提案されている。ウエットプロセスは機能膜を塗り分ける際の位置精度が基板サイズに依存せず、デバイスの大型化への技術的障壁が比較的低いメリットがある。

図２１（ａ）は、インクジェット法により、基板上の隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙５２２ｚＸに発光層形成用のインクを塗布する工程の一例を示す模式的な側面図であり、図２１（ｂ）は、その平面図である。

同工程では、図２１（ａ）に示すように、基板１００ｘ表面に対してインクヘッドＩを一方向に相対的に走査し、インクジェトヘッドＩの複数のノズルから基板表面の所定領域にインクＤ‘を滴下し、インクの溶媒を蒸発乾燥させて発光層１２３Ｘを成膜する。

その際、図２１（ｂ）に示すように、基板上にインクを滴下して塗布するプロセスにおいて、インクヘッドの複数のノズルから吐出されるインクＤ’の滴下量のバラツキ等に起因して形成される発光層１２３Ｘの膜厚１１〜１３がノズル列に平行な方向（Ｙ方向）で変動する傾向がある。

これは、主にインクヘッドのノズルから吐出されるインク滴の大きさのばらつき、ノズル間隔のばらつき、インク塗布面における濡れ広がりの不均一などに起因すると考えられる。

これに対して、特許文献１では、上述のとおり、Ｙ方向の隔壁間に同一濃度の有機材料溶液を滴下し、隔壁内容積に応じた溶液量を塗布することによって成膜するようにしているので、簡単で且つ容易なプロセスで均質な有機発光層の形成が可能となるとしている。

すなわち、塗布されたインクがノズル列に平行な方向に画素間の流動を許容するライン状のバンク間隙からなる列状塗布領域を設けることにより、塗布されたインクがノズル列に平行な方向（Ｙ方向）でレべリングされて機能層の膜厚バラツキが低減し、有機ＥＬ表示パネルにおいて筋状の輝度ムラを低減されることが可能となるものと考えられる。

しかしながら、発明者の検討によると、インクジェット装置のノズル列に平行な列状塗布領域を設けて塗布されたインクのレべリングした場合でも、機能層の微小な膜厚バラツキを完全に解消することは難しく、表示画面にＸ方向に伸びる筋状の輝度ムラが認識されるという課題があることが判明した。

図２２（ａ）は、従来の有機ＥＬ表示パネルの表示画像を示す写真であり、Ｘ、Ｙ方向とも、基板１００ｘ上の１５０副画素の領域を示した写真である。このように、発光層１２３Ｘの膜厚が異なると発光特性が異なるため、有機ＥＬ表示パネルとしてノズル走査方向に平行な筋状の輝度ムラ発生の原因となっていた。

特に、トップエミッション型の有機ＥＬ素子は、画素電極の表面部が高い光反射性を有する材料を用いるとともに、膜厚方向における光学的距離を最適に設定して光共振器構造を採用することにより出射される発光効率を向上させるように各機能層の膜厚が設計されているため、上述のように膜厚のムラが輝度ムラに与える影響は大きい。

図２２（ｂ）は、図２２（ａ）のＸ方向における、位置Ｘ１からＸ４におけるＹ方向に１５０副画素に相当する領域の輝度分布の測定結果である。図２２（ｂ）によると、インクヘッドＩの走査方向の異なる位置Ｘ１からＸ４での輝度分布は、列方向に類似した分布形状をなし、行方向に筋状の輝度ムラとして認識されることがわかる。

仮に、インクヘッドにおけるノズルの加工精度がさらに向上して、ノズル径やノズルピッチのバラツキが解消されたとしても、最近では、有機ＥＬ表示パネルの高精細化が進み、これに連れて間隙５２２ｚＸの幅が狭くなってきており、目的の膜厚の発光層１２３Ｘを得るために、一つの間隙５２２ｚＸに供給すべきインク量が少なくなり、インクヘッドＩの全部のノズルを駆動する必要がなくなってきており、これが行方向における筋状の輝度ムラを惹起する新たな要因となってきている。

そこで、発明者らは、上記課題に鑑み、発光層を含む列状の機能層が並設された表示パネル構造において、列方向における機能層の膜厚の変化に起因する行方向の筋状の輝度ムラを目立たなくする構成について鋭意検討を行い、以下の開示の形態に至ったものである。

≪本開示の一態様の概要≫
本開示の態様に係る自発光表示パネルの製造方法は、複数の画素が行列状に配された自発光表示パネルの製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の画素電極を行列状に形成する工程と、前記基板上方であって、前記画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列バンクを並設する工程と、行方向に隣接する前記列バンク間の間隙に、複数のノズルが列設されたヘッドを、前記基板に対して行方向に相対的に移動させ、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルから機能性材料を含むインクを吐出した後、前記インクを乾燥させて機能層を形成する工程と、前記機能層上方に対向電極を形成する工程とを備え、前記機能層を形成する工程において、同一種のインクを供給すべき複数の前記間隙のうち、第１の間隙においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第１のパターンと、次に同種のインクが塗布される第２の間隔においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第２のパターンが異なっており、前記第２のパターンが、前記第１のパターンを前記列方向の沿った一方方向にノズル１ピッチ分だけずらしたパターンとなっている。

係る構成により、列状の機能層が並設されたパネル構造において、一の間隙において膜厚の変化が生じたとしても、行方向に移動するに連れて、インクを吐出するノズルのパターンも移動するので、有機発光層を含む機能層の膜厚の変化の状態が行方向に連続しなくなり、筋状の輝度ムラの発生が軽減された自発光表示パネルを製造することができる。

また、本開示の別の態様は、前記第１のパターンは、列方向に連続するＮ個のノズルについて（Ｎは２以上の整数）、その吐出・非吐出の組み合わせを示す単位パターンを、複数回列方向に繰り返してなるパターンである。

係る態様により、第１のパターンを容易に作成できる。

また、本開示の別の態様は、上記機能層を形成する工程が、前記Ｎが所定の値以下のとき、同一種のインクを供給すべき、前記行方向における第Ｍ番目（Ｍは、1以上の整数）の間隙から第（Ｍ＋Ｎ）番目の間隙まで、順に第1のパターンを前記一方方向にノズル１ピッチずつずらしていき、第（Ｍ＋Ｎ＋１）番目の間隙には、第1のパターンに復帰する処理を繰り返して、インクを塗布するようになっている。

係る態様により、第１のパターンを何回も利用して、行方向への吐出ノズルのパターンが容易に展開できると共に、画像表示領域の列方向端部付近で吐出ノズルのパターンが大きく乱れて輝度ムラが発生するのを抑制できる。

また、本開示の別の態様として、前記Ｎが所定の値より大きく、列方向に連続する吐出ノズルもしくは非吐出ノズルの個数の最大値のうち大きい方の数をＬ（Ｌは２以上でＮより小さい整数）としたときに、同一種のインクを供給すべき、前記行方向における第Ｍ番目（Ｍは、1以上の整数）の間隙から第（Ｍ＋Ｌ＋１）番目の間隙まで、順に第1のパターンを前記一方方向にノズル１ピッチずつずらしていき、第（Ｍ＋Ｌ＋２）番目の間隙には、第1のパターンに復帰する処理を繰り返して、インクを塗布するようにしてもよい。

係る態様により、単位パターンの列方向長さが大きくなり、含まれるノズルの個数が、所定値以上となっても、早めに第１のパターンに復帰することができるので、画像表示領域の列方向端部付近で吐出ノズルのパターンが大きく乱れて輝度ムラが発生するのを抑制できると共に、行方向にＬ個以上連続してインクを吐出するノズルもしくは非吐出のノズルが現出することがないので、筋状の輝度ムラの発生が抑制される。

また、本開示の別の態様として、自発光表示パネルの画素形成領域における列方向の長さをＷｙ、前記ノズルの列方向における1ピッチの長さをｂとしたとき、Ｗｙ＝（Ｎ×ｂ）×ｈ （ｈは、１以上の整数）の関係が成立する。

係る態様によれば、単位パターンを整数回繰り返して、第１のパターンを作成することができ、列方向における吐出ノズルのパターンのより均一化が図れる。

また、本開示の別の態様は、複数の画素が行列状に配されてなる自発光表示パネルにおける機能層を形成する機能層形成装置であって、前記基板上方であって、少なくとも複数の画素電極の行方向における間に列方向に延在する複数の列バンクのうち、行方向に隣接する列バンク間の間隙のそれぞれに、機能性材料を含むインクを塗布する塗布装置を備え、前記塗布装置は、複数のノズルが列設されたヘッドと、前記ヘッドを前記基板に対して前記行方向に相対的に移動させる移動部と、前記複数のノズルから一部のノズルを選択してインクを吐出させる吐出ノズル選択部と、を有し、前記吐出ノズル選択部は、同一種のインクを供給すべき複数の前記間隙のうち、第１の間隙においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第１のパターンと、次に同種のインクが塗布される第２の間隔においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第２のパターンが異なっており、前記第２のパターンが、前記第１のパターンを前記列方向の沿った一方方向にノズル１ピッチ分だけずらしたパターンとなるようにインクを吐出させるノズルを選択する。

係る構成により、発光層等を含む機能層に列方向の膜厚の変化が生じたとしても、筋状の輝度ムラとして認識しにくい自発光表示パネルを製造することができる。

≪実施の形態≫
１．表示装置の構成
（１）表示装置１の回路構成
以下では、自発光表示パネルの一例として有機ＥＬ表示パネルを使用した有機ＥＬ表示装置１（以後、「表示装置１」と称する）の回路構成について、図１を用い説明する。

図１に示すように、表示装置１は、有機ＥＬ表示パネル１０（以後、「表示パネル１０」と称する）と、これに接続された駆動制御回路部２０とを有して構成されている。

表示パネル１０は、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネルであって、複数の有機ＥＬ素子が、例えば、マトリクス状（行列状）に配列され構成されている。

駆動制御回路部２０は、４つの駆動回路２１〜２４と制御回路２５とにより構成されている。

（２）表示パネル１０の回路構成
表示パネル１０においては、複数の単位画素１００ｅが行列状に配されて表示領域を構成している。各単位画素１００ｅは、３個の有機ＥＬ素子、つまり、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色に発光する３個の副画素１００ｓｅから構成される。各副画素１００ｓｅの回路構成について、図２を用い説明する。

図２は、表示装置１に用いる表示パネル１０の各副画素１００ｓｅに対応する有機ＥＬ素子１００における回路構成を示す回路図である。

図２に示すように、本実施の形態に係る表示パネル１０では、各副画素１００ｓｅが２つのトランジスタＴｒ₁、Ｔｒ₂と一つのキャパシタＣ、及び発光部としての有機ＥＬ素子部ＥＬとを有し構成されている。トランジスタＴｒ₁は、駆動トランジスタであり、トランジスタＴｒ₂は、スイッチングトランジスタである。

スイッチングトランジスタＴｒ₂のゲートＧ₂は、走査ラインＶｓｃｎに接続され、ソースＳ₂ は、データラインＶｄａｔに接続されている。スイッチングトランジスタＴｒ₂ のドレインＤ₂は、駆動トランジスタＴｒ₁のゲートＧ₁に接続されている。

駆動トランジスタＴｒ₁のドレインＤ₁は、電源ラインＶａに接続されており、ソースＳ₁ は、有機ＥＬ素子部ＥＬの画素電極（アノード）に接続されている。有機ＥＬ素子部ＥＬにおける共通電極（対向電極：カソード）は、接地ラインＶｃａｔに接続されている。

なお、キャパシタＣの第１端は、スイッチングトランジスタＴｒ₂のドレインＤ₂及び駆動トランジスタＴｒ₁のゲートＧ₁と接続され、キャパシタＣの第２端は、電源ラインＶａと接続されている。

表示パネル１０においては、隣接する複数の副画素１００ｓｅ（例えば、赤色（Ｒ）と緑色（Ｇ）と青色（Ｂ）の発光色の３つの副画素１００ｓｅ）を組み合せて１つの単位画素１００ｅを構成し、各単位画素１００ｅが分布するように配されて画素領域を構成している。そして、各副画素１００ｓｅのゲートＧ₂からゲートラインが各々引き出され、表示パネル１０の外部から接続される走査ラインＶｓｃｎに接続されている。同様に、各副画素１００ｓｅのソースＳ₂からソースラインが各々引き出され表示パネル１０の外部から接続されるデータラインＶｄａｔに接続されている。

また、各副画素１００ｓｅの電源ラインＶａ及び各副画素１００ｓｅの接地ラインＶｃａｔは集約されて、表示装置１の電源ライン及び接地ラインに接続されている。

なお、各有機ＥＬ素子の駆動回路は、上記のものに限られず、他の構成でも構わない。

（３）表示パネル１０の全体構成
（３−１）表示パネル１０の概要
本実施の形態に係る表示パネル１０について、図面を用いて説明する。なお、図面は模式図であって、その縮尺は実際とは異なる場合がある。

図３は、表示パネル１０の模式平面図である。表示パネル１０は、有機化合物の電界発光現象を利用した有機ＥＬ表示パネルであり、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成された基板１００ｘ（ＴＦＴ基板）に、各々が画素を構成する複数の有機ＥＬ素子１００が行列状に配され、上面より光を発するトップエミッション型の構成を有する。ここで、本明細書では、図３におけるＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向を、それぞれ表示パネル１０における、行方向、Ｙ方向、厚み方向とする。

図３に示すように、表示パネル１０は、基板１００ｘ上をマトリックス状に区画してＲＧＢ各色の発光単位を規制する列バンク５２２Ｙ（列隔壁）と行バンク１２２Ｘ（行絶縁層）とが配された区画領域１０ａ（Ｘ、Ｙ方向にそれぞれ１０Ｘａ、１０Ｙａ、区別を要しない場合は１０ａとする）と、区画領域１０ａの周囲に非区画領域１０ｂ（Ｘ、Ｙ方向にそれぞれ１０Ｘｂ、１０Ｙｂ、区別を要しない場合は１０ｂとする）とから構成されている。区画領域１０ａの列方向の外周縁は列バンク５２２Ｙの列方向の端部に相当する。非区画領域１０ｂには、区画領域１０ａを取り囲む矩形状の封止部材（不図示）が形成されている。

（３−２）有機ＥＬ素子１００の概要
図４は、図３におけるＡ０部の拡大平面図である。

表示パネル１０の区画領域１０ａには、複数の有機ＥＬ素子１００から構成される単位画素１００ｅが行列状に配されている。各単位画素１００ｅには、有機化合物により光を発する領域である、赤色に発光する１００ａＲ、緑色に発光する１００ａＧ、青色に発光する１００ａＢ（以後、１００ａＲ、１００ａＧ、１００ａＢを区別しない場合は、「１００ａ」と略称する）の３種類の自己発光領域１００ａが形成されている。すなわち、行方向に並んだ自己発光領域１００ａＲ、１００ａＧ、１００ａＢのそれぞれに対応する３つの副画素１００ｓｅが１組となりカラー表示における単位画素１００ｅを構成している。

表示パネル１０には、複数の画素電極１１９が基板１００ｘ上に行及び列方向にそれぞれ所定の距離だけ離れた状態で行列状に配されている。複数の画素電極１１９は、平面視において例えば、概矩形形状であり、画素電極１１９は光反射材料からなる。行方向に順に３つ並んだ画素電極１１９は、行方向に順に並んだ３つの自己発光領域１００ａＲ、１００ａＧ、１００ａＢに対応する。

画素電極１１９とこれに隣接する画素電極１１９とは、互いに絶縁されている。隣接する画素電極１１９間には、絶縁層形式のライン状に延伸する絶縁層が設けられている。

１つの画素電極１１９と、これに行方向に隣接する画素電極１１９との間（１つの画素電極１１９の行方向の外縁１１９ａ３と、この画素電極１１９に行方向に隣接する画素電極１１９の行方向の外縁１１９ａ４との間）に位置する基板１００ｘ上の領域上方には、各条が列方向（図３のＹ方向）に延伸する列バンク５２２Ｙが複数列並設されている。そのため、自己発光領域１００ａの行方向外縁は、列バンク５２２Ｙの行方向外縁により規定される。

一方、１つの画素電極１１９と、これに列方向に隣接する画素電極１１９との間（１つの画素電極１１９の列方向の外縁１１９ａ２と、この画素電極１１９に列方向に隣接する画素電極１１９の列方向の外縁１１９ａ１との間）に位置する基板１００ｘ上の領域上方には、各条が行方向（図３のＸ方向）に延伸する行バンク１２２Ｘが複数行並設されている。行バンク１２２Ｘが形成される領域は、画素電極１１９上方の発光層１２３において有機電界発光が生じないために非自己発光領域１００ｂとなる。そのため、自己発光領域１００ａの列方向における外縁は、行バンク１２２Ｘの列方向外縁により規定される。

隣り合う列バンク５２２Ｙ間を間隙と定義したとき、間隙５２２ｚには、自己発光領域１００ａＲに対応する赤色間隙５２２ｚＲ、自己発光領域１００ａＧに対応する緑色間隙５２２ｚＧ、自己発光領域１００ａＢに対応する青色間隙５２２ｚＢ（以後、間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢを区別しない場合は、「間隙５２２ｚ」と称する）が存在し、表示パネル１０は、列バンク５２２Ｙと間隙５２２ｚとが交互に多数並んだ構成を採る。

表示パネル１０では、複数の自己発光領域１００ａと非自己発光領域１００ｂとが、間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢに沿って列方向に交互に並んで配されている。非自己発光領域１００ｂには、画素電極１１９とＴＦＴのソースＳ₁ とを接続する接続凹部（コンタクトホール、不図示）があり、画素電極１１９に対して電気接続するための画素電極１１９上のコンタクト領域が設けられている。

１つの副画素１００ｓｅにおいて、列方向に設けられた列バンク５２２Ｙと行方向に設けられた行バンク１２２Ｘとは直交し、自己発光領域１００ａは、列方向において行バンク１２２Ｘと、この行バンク１２２Ｘに隣接する行バンク１２２Ｘの間に位置している。

図５は、列バンク５２２Ｙと行バンク１２２Ｘの形成状態を説明するため、上記表示パネル１０の一部の斜視図である。同図に示すように、行バンク１２２Ｘの高さが列バンク５２２Ｙの高さよりも十分低い構造となっている（ラインバンク方式）。塗布装置のノズルから間隙５２２ｚＧ、５２２ｚＢに吐出されたインクの液面が、行バンク１２２Ｘよりも高くなり、インクが列方向（Ｙ方向）に流動して、インクの液面がレベリングされ、膜厚の列方向における変動が少なくなるようになっている。

２．塗布装置２００
（１）塗布装置２００の構成
図６（ａ）は、有機発光材料を含むインクを間隙５２２ｚに塗布するための塗布装置２００の構成を示す側面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）をＸ方向から見た正面図である。

図６（ａ）に示すように、塗布装置２００は、インクヘッド２１１を有するインク塗布部２１０と、貯留したインクをインクヘッド２１１に供給するインクタンク２２０と、列バンク５２２Ｙと行バンク１２２Ｘが形成され、発光層形成の前段階の基板（有機ＥＬ表示パネル１０の中間製品。以下、「バンク形成後基板」と称する。）１１０をＨ方向に移動させる基板移動部２３０と、インクヘッド２１１におけるインク吐出動作や基板移動部２３０によるバンク形成後基板１１０の移動のタイミングおよび移動距離を制御する制御部２５０とからなる。

インク塗布部２１０は、水平に載置された台座２３１のＹ方向両端部に立設された一対の脚部２１２の上部にインクヘッド２１１を水平に横架してなる。インクヘッド２１１には、列方向（Ｙ方向）に、インク滴を吐出するための複数のノズル２１１１が配され、それぞれピエゾ素子を駆動させて目標量のインク滴を吐出するように構成されている。

基板移動部２３０は、バンク形成後基板１１０を載置するテーブル２３４を備え、テーブル２３４は、台座２３１の上面に形成された２本のガイドレール２３２に案内されてＸ軸方向に移動可能なように台座２３１上に載置される。

台座２３１内部には、駆動源として、例えば、サーボモーター２３３が設けられており、ネジ送り機構やワイヤ駆動機構などの公知の駆動機構を介して、テーブル２３４が、ガイドレール２３２に沿ってＸ軸方向に移動するように構成される。

制御部２５０により、インク塗布部２１０によるインクのノズル２１１１からの吐出動作を制御すると共に、サーボモーター２３３を駆動制御して、バンク形成後基板１１０を所定量ずつ移動してインクを塗布する。

なお、本実施の形態では、インクヘッド２１１を固定し、バンク形成後基板１１０をＸ方向に移動させるようにしたが、バンク形成後基板１１０を移動させずに、インクヘッド２１１をＸ方向に移動させるように構成しても構わない。要するに、インクヘッド２１１がバンク形成後基板１１０に対してＸ方向に相対的に移動できるように構成されていればよい。

（２）塗布動作
図７は、基板１００ｘ上の行方向（Ｘ方向）に隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙５２２ｚに、塗布装置２００のインクヘッド２１１に配された全部のノズル２１１１を使用して発光材料を含むインクを吐出して塗布する様子を示す模式図である。

基板１００ｘに対して赤色発光層、緑色発光層、青色発光層の何れか１つの色の発光層を形成するためのインクの塗布が終わると、次に、その基板に２色目の色のインクを塗布し、次にその基板に３色目のインクを塗布する工程が繰り返し行われ、ＲＧＢの３色の発光色用のインクをその色に対応する間隙５２２ｚＲ、５２２ｚＧ、５２２ｚＢに順次塗布する（なお、以下、特に、発光色を区別しないときは、単に「間隙５２２ｚ」という。）。

これにより、基板１００ｘ上には、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層が、図の紙面横方向（Ｘ方向）に繰り返して並んで形成される。

基板１００ｘは、列バンク５２２ＹがＹ方向に沿った状態で、塗布装置２００のテーブル２３４上に載置され、Ｙ方向に沿って複数のノズル２１１１がライン状に配置されたインクヘッド２１１をＸ方向に基板１００ｘに対し相対的に移動しながら、各ノズル２１１１から列バンク５２２Ｙ同士の間隙５２２ｚ内に設定された着弾目標を狙ってインクを着弾させることによって行う。

基本的に、図７のようにインクヘッド２１１のノズル２１１１を全て使用して、各間隙５２２ｚへのインクの塗布が行われていたが、しかし、前述のように、最近では、表示パネル１０のさらなる高精細化が求められており、そのため各間隙の幅が狭くなって、一つの間隙に供給するインク量が少なくなってきている。さらに光共振器構造をとると、特に波長の短い青色を発光する画素について機能層ないしは発光層の膜厚を薄くする必要があるため、ますます間隙５２２ｚに供給するインク量が少なくなる傾向にある。

その一方で各ノズル２１１１から滴下するインク量を少なくすることにも限界があるため、複数のノズル２１１１のうち吐出に使用するノズルの数を選択して、間隙５２２ｚに供給するインク量を調整する必要が生じる。

そこで、一つの間隙５２２ｚＧについて、インクを吐出するノズルの組み合わせ（列方向ノズルパターン）を決定し、同じ列方向ノズルパターンを、各間隙で繰り返して、インクを供給することが考えられる。 しかし、上述したように、ラインバンク方式の構成を採用していても、インクを吐出しないノズルがあれば、他の要因と相俟って、間隙５２２ｚＧ内の列方向に膜厚の変動が生じ、これが行方向に連続することにより筋状の輝度ムラの原因となる。

各色において、間隙５２２ｚにおいて使用するノズルの数を一定にしながら吐出ノズルと非吐出ノズルが行方向に所定回数以上連続して現出しないように、あらかじめ、有機ＥＬ表示パネルのパネルの表示領域全体についての吐出ノズルの組み合わせを設計して、後述する塗布装置のパターンメモリに記憶させ、当該記憶内容にしたがって、ノズルを駆動して塗布処理を実行するよにしてもよいが、当該パターンメモリの設計の負担が大きい上、容量の大きなメモリが必要となり、制御系に対する負荷も大きい。

そこで、本実施形態では、次のような方法でノズルパターンを決定しつつ、間隙５２２ｚごとに吐出するノズルパターンを周期的に変化させて、同一発光色の間隙５２２ｚで、吐出（もしくは非吐出）するノズルが行方向に所定回数（本実施の形態では７回）以上重ならないように制御している。

同じノズルの行方向における連続吐出または連続不吐出は、最大でも６連続以内であることが望ましい。それを超えると行方向における筋ムラとして、ユーザーに視認されるおそれが生じるからである。

（３）パターン形成処理
図８（ａ）は、本開示の一態様に係る列方向における吐出ノズルの組み合わせ（列方向ノズルパターン）を決定するための最小単位のノズルパターン（以下、「単位パターン」という。）Ｐ１の例を示す。本例では、単位パターンＰ１は、５個のノズルからなり、「●」は吐出ノズル、「○」は非吐出ノズルを示している。ノズルは、列方向にピッチｂ（例えば、２０μｍ）で形成されており、上下両端部にｂ／２だけ幅をとるようにしているので、単位パターンＰ１の列方向長さａは５×ｂ（＝１００μｍ）となる。

このような単位パターンＰ１は、パネルの画像領域の列方向の長さや幅、形成すべき発光層の膜厚、インク濃度などにより、間隙５２２ｚに供給すべきインク量を求めて決定される。詳しくは後述する。

図８（ｂ）は、上記単位パターンＰ１に基づいて同一発光色、例えば、赤色（Ｒ）の発光層のインクをＲの発光層用の間隙５２２ｚＲ（図７参照。なお、平面視において、この各間隙５２２ｚは、列方向に伸びる細長い開口ともみなすことができるので、以下では、「列開口」と呼ぶ場合もある。）に塗布する場合におけるパネル全体の塗布パターンのイメージを示す模式図である。ここでは、Ｒの発光層のみの塗布パターンのみを示しているため、他の緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の発光層が形成される列開口は図示を省略している（後述の図２０（ｂ）においても同様）。

まず、単位パターンＰ１を左端の開口部の最上部からノズル方向（列方向）に複数回繰り返して基準となる列方向のノズルパターン（以下、「列方向基準パターン」（第１のパターン）という。）を形成し、スキャン方向（図８（ｂ）では右方向）における次のＲの列開口では、上記列方向基準パターンをノズル方向にノズルの１ピッチｂだけノズル方向（列方向）下方にずらして、２番目の列方向ノズルパターンとする。以下、スキャン方向に隣接するＲの列開口に移動するたびに前列のＲの列開口における列方向ノズルパターンをノズル方向下方に１ピッチｂずらして当該列開口における列方向ノズルパターンを形成する。

このような列方向ノズルパターンのずらし処理を５列分（すなわち、単位パターンＰ１に含まれるノズル個数分）実行した後、次のＲの列開口における列方向ノズルパターンは、１列目の列方向基準パターンに復帰し、以降、Ｒの列開口の５列分ごとに上記パターンずらし処理を繰り返す（このような５列ごとにの列方向基準パターンに復帰させて、また１ピッチずつ列方向にずらす処理を、以下「パターンずらし周期が５」であるという。）。

したがって、単位パターンＰ１のノズル個数を、一般的にＮ個（Ｎは２以上の整数）とすれば、上記パターンずらし周期は「Ｎ」となる。

このように列方向基準パターンをノズル１ピッチずつずらして、各列の列方向ノズルパターンを形成し、かつ、パターンずらし周期を単位パターンＰ１のノズル個数と一致させているので、行方向にも単位パターンと同じ吐出ノズルの組み合わせが繰り返して現出する（例えば、図８（ｂ）の例では、左から１列目、２列目、・・・・の列方向ノズルパターンと、５行目、６行目、・・・の行方向ノズルパターンが同じになる）。そのため、吐出ノズルと非吐出ノズルの現出する頻度が、列方向と行方向と同じ程度になる。もともと、単位パターンは、求められたＮ個のノズルの中でできるだけ吐出ノズルと非吐出ノズルの現出頻度が均等になるように決定されているので、これにより、膜厚の変動のパターンが行方向に重なる度合いが低くなり、同一発光色の行方向における筋状の輝度ムラの発生を抑えることができる。

なお、図８（ｂ）では、列方向ノズルパターンがスキャン方向に移動するに連れて１ピッチずつずれるのを分かりやすくするため、上端から４行目まで、「●」および「○」を記していない部分があるが（図８（ｂ）の３角の破線Ｓで囲んだ部分）、この部分のノズルパターンは、全て「●」もしくは「○」でも、あるいは、単位パターンを列方向に繰り返した場合に破線Ｓ内に現われるべき単位パターンの一部分であっても構わない。もともと、パネルの端部分から数行は、ダミー電極となっており、画像表示領域ではなく、発光に寄与しないので筋状の輝度ムラの発生が問題とはならないからである。

ただし、ダミー電極の形成される領域において、塗布されたインク量に対する列バンクの保持マージン（隣接する一対の列バンクで塗布されたインクを保持できる量）が小さい場合には、列方向単位長さあたりの塗布インク量は、少なくとも上記単位パターンの一部に基づき供給されるインク量以下となるように吐出ノズルが設定されるのが望ましい。

この場合に、図８（ｂ）の破線Ｓで囲んだ領域を全て「○」（非吐出）ノズルとすれば、インクが隣接する間隙に流れ込んで混色が生じるおそれもなく、かつ、インクの消費量の節約にも資する。

なお、１列毎の列方向ノズルパターンのずらし量は、１ピッチではなく、（ｋ×Ｎ＋１）ピッチであっても（ｋは１以上の整数）、列方向と同じノズルパターンを行方向にも繰り返して現出させることが可能であるが、その場合には図８（ｂ）で言えば、領域Ｓの列方向の長さが大きくなり、ダミー電極を形成する領域を広げる必要がある。

しかし、最近では、できるだけパネルの画像表示領域の周囲の領域（いわゆる額縁領域）を狭くする傾向にあり、そのためにもダミー電極の形成幅も狭くする必要があるので、列毎のずらし量は１ピッチであるのが望ましい。

なお、１列毎に２以上Ｎ以下のピッチのずらし量では、単位パターンの内容によっては、行方向に多数連続して「●」もしくは「○」が現出するおそれがあるので望ましくない（簡易な例で言えば、Ｎが２個であって「○●」の単位パターンであるとき、ずらし量が２ピッチの場合には、行方向に「○」および「●」が連続して出現し、筋状の輝度ムラが発生する。）。

したがって、列方向ノズルパターンのずらし量を「１ピッチ」にすることにより、ダミー電極を設ける領域も小さくできるし、行方向に連続して「○」または「●」が連続して出現する回数を単位パターンで連続して現出する回数を超えることがないようにでき、行方向における筋状の輝度ムラの発生を効率的に抑制することができると言える。

また、上記パターン決定方法によれば、塗布装置の制御部では、単位パターンのデータさえ記憶しておけば、パネル全体のノズルパターンを決定できるので、制御系の負荷、特にノズルパターンのデータの保存に必要なメモリ容量を大幅に低減できるという利点もある。

（３）制御部２５０の構成
図９は、上記塗布装置２００における制御部２５０の構成を示すブロック図である。

同図に示すように制御部２５０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）２５１、ＲＡＭ(Random Access Memory)２５２、ＲＯＭ(Read Only Memory)２５３、パターンメモリ２５４などからなる。

ＣＰＵ２５１は、操作パネル２４０から操作者の指示を受付けると、パターンメモリ２５４から単位パターンＰ１のデータ（例えば、吐出を「１」、不吐出「０」とし、Ｎ個のノズルについて、一番上のノズルからの順番を示す情報に、吐出（１）、不吐出（０）の情報を関連付けたデータ）を読み出すと共に、ＲＯＭ２５３から塗布制御のプログラムを読み出して、ＲＡＭ２５２を作業用記憶領域として当該プログラムを実行し、インク塗布部２１０における吐出に用いるノズルの選択や基板移動部２３０によるバンク形成後基板１１０の移動の制御などを行う。なお、パターンメモリ２５４は不揮発性メモリであることが望ましい。

＜単位パターンＰ１の決定＞
まず、単位パターンＰ１の決定方法について説明する。

図１０（ａ）は、塗布対象となる表示パネルのサイズを示す平面図である。なお、本例では、表示パネルの大きさは、その画素形成領域（ダミー画素を含む）の大きさと等価であるとする。

図１０（ａ）に示すように、表示パネルは、その列方向（Ｙ方向）の長さがＷｙであり、行方向（Ｘ方向）の長さがＷｘである。Ｗｙ、Ｗｘなどの単位は、特に付記しない限り［ｍｍ］とし、単位の表記は省略する。

図１０（ｂ）は、制御部２５０において係るサイズの表示パネルについて、単位パターンＰ１を決定する手順を説明するためのフローチャートである。

当該フローチャートにおいて、まず、塗布対象となる表示パネル（画素形成領域）の大きさ（Ｗｙ、Ｗｘ）を取得する（ステップＳ１１）。これは、例えば、予め作業者等が、Ｗｙ、Ｗｘの値を操作パネル２４０から入力して、パターンメモリに格納しておき、当該パターンメモリから読み出すことにより取得することができる。

次に、表示パネルの列方向長さＷｙが割り切れる単位パターン長さａを取得する（ステップＳ１２）。上述のように単位パターンを列方向に繰り返して列方向基準パターンを得るので、Ｗｙがａの整数倍であるのが望ましいからである。ここで、単位パターン長さａは、単位パターンに含まれるノズル数をＮ個（Ｎは２以上の整数とする。）、ノズルの列方向のピッチをｂとすれば（図８（ａ））、ａ＝Ｎ×ｂと示されるので、上記のような列方向長さＷｘが割り切れる単位パターン長さａを取得することにより、そのような条件を満たす単位パターンにおけるノズル個数Ｎを取得するができる。

そして、目標の発光層の膜厚を得るため、上記Ｎのうち何個のノズルを駆動してインク滴を吐出すればよいかを計算し、駆動するノズルの数Ｍを求める（Ｍは１以上Ｎ以下の整数）（ステップＳ１３）。

なお、ステップＳ１２で「表示パネルの列方向長さＷｙが割り切れる単位パターン長さａ」として複数の解が得られる可能性が十分あるが、この場合には、一番小さな値から採用し、ステップＳ１３において適切なＭの値が見いだせない場合には、次に大きな単位パターン長さａに対して、ステップＳ１３の処理を行う。以下、適切なＭが見つかるまで、この処理を繰り返す。

また、反対に、「表示パネルの列方向長さＷｙが割り切れる単位パターン長さａ」の解が得られなかった場合には、Ｗｙをａで除した値ができるだけ整数値に近いものを単位パターンの候補として挙げて、それぞれについてステップＳ１３の処理を実行して適切なＭが発見できたａのうち一番小さなものを、単位パターン長さとして特定すればよい。

そして、Ｎ個のノズルのうち、駆動するＭ個のノズルを特定して単位パターンを作成し（ステップＳ１４）、この情報をパターンメモリ内に格納する。ここでは、Ｎ個のノズルのうちＭ個の駆動ノズルができるだけ均一に分散するようにして決定される。

例えば、（Ｎ−Ｍ）の値が、Ｎ／２未満であれば（すなわち、「●」の数が「○」の数よりも多ければ）、取り敢えず、「●」と「○」を一つずつ交互に配置し、残った「●」を、上から順に上記「●」と「○」の間に１個ずつ挿入して、「●」の数がＭ個になった時点でのパターンを単位パターンとするなど、既存の均等配置のプログラムを利用して決定すればよい。あるいは、ＲＯＭ２５３やパターンメモリに、予め想定されるＮとＭの組み合わせ毎に駆動ノズルが可及的に均等配置された単位パターンのサンプルを登録しておき、そこから読み出すようにすることも可能である。

なお、単位パターンのデータは必ずしも制御部２５０で決定しなくても、作業員などが、予め図１０（ｂ）の手順により決定して、操作パネル２４０を介して、パターンメモリに格納するようにしても構わない。

＜塗布処理のフローチャート＞
図１１は、制御部２５０で実行される緑色（Ｇ）の発光層の塗布処理の制御手順を示すフローチャートである。

まず、ステップＳ１０１で、この変数ｎを「１」に設定し、パターンメモリ２５４から単位パターンＰ１のデータを読み出して、これを列方向に所定回数（具体的には、Ｗｙ／ａ回）繰り返して、列方向基準パターンＰ２のデータを作成し、パターンメモリ２５４に保存する（ステップＳ１０２）。

次に、変数ｍを「０」に設定する（ステップＳ１０３）。ここで、変数ｎは、図１０（ａ）の表示パネルの左端からカウントした、Ｇの発光層用インクを供給すべき列開口の列番号を示し、変数ｍは、列方向基準パターンを図１０（ａ）の下方にずらすノズルのピッチ数を意味する。

そして、列方向基準パターンＰ２を列方向にｍピッチ分だけ移動させて、吐出ノズル「●」に該当するノズルを駆動し、Ｇのｎ番目の列開口にインクを塗布する（ステップＳ１０４）。この段階では、まだ、ｎ＝１、ｍ＝０なので、列方向基準パターンＰ２をずらさずに、Ｇの１番目の列開口にインクを塗布することになる。

次に、全てのＧの列開口にインクを塗布したか否かを判断し（ステップＳ１０５）、そうでなければ（ステップＳ１０５：ＮＯ）、基板移動部２３０によりバンク形成後基板１１０を副走査方向（図６（ａ）のＨ方向）に間隙３列分だけ移動して（ステップＳ１０６）、インクヘッドが次のＧの列開口の真上にくるようにし、インクヘッドをｎの値を１だけインクリメントする（ステップＳ１０７）。

次に、インクリメントされたｎの値が、単位パターンＰ１のノズル数Ｎのｋ倍（ｋは１以上の整数）であるか否かを判定し（ステップＳ１０８）、そうでなければ（ステップＳ１０８：ＮＯ）、ステップＳ１０９で、ｍの値を１だけインクリメントしてステップＳ１０４に戻り、列方向基準パターンＰ２を列方向にｍピッチ分だけ移動させて、吐出ノズル「●」に該当するノズルを駆動し、Ｇのｎ番目の列開口にインクを塗布する。

もし、ステップＳ１０８で、「ｎ＝ｋＮ」であれば（ステップＳ１０８：ＹＥＳ）、次に、ステップＳ１０３に戻ってｍを「０」にリセットする。これにより列方向基準パターンＰ２を基準位置に戻り、その次の列開口から１ピッチずつ列方向基準パターンＰ２をずらしながら、インクをＧの列開口に順次塗布していき、ｎがＮの倍数になるとｍを「０」にリセットする。これにより前述のパターンずらし周期をＮとすることができる。

このような塗布処理を繰り返して、Ｇのインクを塗布すべき列開口に順次塗布していき、ステップＳ１０５で全てのＧの列開口にインクを塗布したと判断された場合には（ステップＳ１０５：ＹＥＳ）、Ｇの発光層塗布処理を終了する。

そして、残りの色について上記発光層塗布処理を繰り返し実行する。この場合、インクタンク２２０に他の色の発光材料を含むインクを充填した他の塗布装置２００を使用してもよいし、緑の発光層塗布処理に使用した塗布装置２００のインクタンクを、他の色のインクを充填したインクタンクに交換して使用するようにしても構わない。

なお、作製する表示パネルの有機ＥＬ素子が光共振器構造を採用する場合には、通常各色の発光層の膜厚を異ならせる場合が多いので、各色毎に単位パターンが異なる。

図１２は、上記塗布方法により各色の発光層を形成して、発光させたときの表示パネル１０の表示画像を示す写真である（Ｘ、Ｙ方向とも、図２２（ａ）と同様、基板１００ｘ上の１５０副画素の領域）。このように、本実施の形態によれば、図２２（ａ）の従来例に比して、ノズル走査方向に平行な筋状の輝度ムラがほとんど目立たなくなっているのが分かる。

なお、上記の工程が実行される順序は、本発明を具体的に説明するために例示するためのものであり、上記以外の順序であってもよい。また、上記工程の一部が、他の工程と同時（並列）に実行されてもよい。
３．表示パネル１０の構成
図１３は、図４における表示パネル１０をＡ２−Ａ２で切断した模式的な部分断面図である。

本実施の形態に係る表示パネル１０は、Ｚ軸方向下方に薄膜トランジスタが形成された基板（ＴＦＴ基板）上に、複数の有機ＥＬ素子が配されてなる。

（１）基板１００ｘ
基板１００ｘは表示パネル１０の支持部材であり、基材（不図示）と、基材上に形成された薄膜トランジスタ層（ＴＦＴ層：不図示）とを有する。

基材は、表示パネル１０の支持部材であり、平板状である。基材の材料としては、電気絶縁性を有する材料、例えば、ガラス材料、樹脂材料、半導体材料、絶縁層をコーティングした金属材料などを用いることができる。

ＴＦＴ層は、基材上面に形成された複数のＴＦＴ及び配線（ＴＦＴのソースＳ１と、対応する画素電極１１９を接続する）を含む複数の配線からなる。ＴＦＴは、表示パネル１０の外部回路からの駆動信号に応じ、対応する画素電極１１９と外部電源とを電気的に接続するものであり、電極、半導体層、絶縁層などの多層構造からなる。

（２）平坦化層１１８
基板１００ｘの上面には平坦化層１１８が設けられている。基板１００ｘの上面に位置する平坦化層１１８は、ＴＦＴ層によって凹凸が存在する基板１００ｘの上面を平坦化するものである。また、平坦化層１１８は、配線及びＴＦＴの間を埋め、配線及びＴＦＴの間を電気的に絶縁している。

平坦化層１１８には、画素電極１１９と対応する画素のソースＳ１に接続される配線とを接続するために、当該配線の上方の一部にコンタクトホール（不図示）が開設されている。

（３）画素電極１１９
基板１００ｘの上面に位置する平坦化層１１８上には、副画素１００ｓｅ単位で画素電極１１９が設けられている（図４参照）。

画素電極１１９は、発光層１２３へキャリアを供給するためのものであり、例えば陽極として機能した場合は、発光層１２３へホールを供給する。また、表示パネル１０がトップエミッション型であるため、画素電極１１９は光反射性を有する。画素電極１１９の形状は、例えば、概矩形形状をした平板状である。平坦化層１１８のコンタクトホール（不図示）上には、画素電極１１９の一部を基板１００ｘ方向に凹入された画素電極１１９の接続凹部（コンタクトホール；不図示）が形成されており、接続凹部の底で画素電極１１９と対応する画素のソースＳ１に接続される配線とが接続される。

（４）ホール注入層１２０
画素電極１１９上には、図１３に示すように、ホール注入層１２０が積層されている。ホール注入層１２０は、画素電極１１９から注入されたホールをホール輸送層１２１へ輸送する機能を有する。

ホール注入層１２０は、基板１００ｘ側から順に、画素電極１１９上に形成された金属酸化物からなるホール注入層１２０Ａと、後述する間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢ内のホール注入層１２０Ａ上それぞれに積層された有機物からなるホール注入層１２０Ｂとを含む。

本実施の形態では、後述する間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢ内では、ホール注入層１２０Ｂは列方向に延伸するように線状に設けられている構成を採る。しかしながら、ホール注入層１２０Ｂは、画素電極１１９上に形成されたホール注入層１２０Ａ上にのみ形成され、間隙５２２ｚ内では列方向に断続して設けられている構成としてもよい。

（５）バンク１２２
図１３に示すように、画素電極１１９、ホール注入層１２０のＸＹ方向端縁を被覆するように絶縁物からなるバンクが形成されている。バンクには、列方向に延伸して行方向に複数並設されている列バンク５２２Ｙと、行方向に延伸して列方向に複数並設されている行バンク１２２Ｘとがある。図４に示すように、列バンク５２２Ｙは、行バンク１２２Ｘと直交する行方向に沿った状態で設けられており、列バンク５２２Ｙと行バンク１２２Ｘとで格子状をなしている（以後、行バンク１２２Ｘ、列バンク５２２Ｙを区別しない場合は「バンク１２２」と称する）。

行バンク１２２Ｘの形状は、行方向に延伸する線状であり、列方向に平行に切った断面は、上方を先細りとする順テーパー台形状である。行バンク１２２Ｘは、各列バンク５２２Ｙを貫通するようにして、列方向と直交する行方向に沿った状態で設けられており、各々が列バンク５２２Ｙの上面５２２Ｙｂよりも低い位置に上面を有する。

行バンク１２２Ｘは、画素電極１１９の列方向（Ｙ方向）における外縁の上方に存在することにより、共通電極１２５との間の電気的リークを防止する。行バンク１２２Ｘは、その列方向の基部により列方向における各副画素１００ｓｅの自己発光領域１００ａの外縁を規定する。

列バンク５２２Ｙの形状は、列方向に延伸する線状であり、行方向に平行に切った断面は、上方を先細りとする順テーパー台形状である。列バンク５２２Ｙは、発光層１２３の材料となる有機化合物を含んだインクの行方向への流動を堰き止めて発光層１２３の行方向外縁を規定するものである。

列バンク５２２Ｙは、画素電極１１９の行方向における外縁上方に存在することにより、共通電極１２５との間の電気的リークを防止する。列バンク５２２Ｙは、その行方向の基部において、行方向における各副画素１００ｓｅの自己発光領域１００ａの外縁を規定する。

列バンク５２２Ｙは、インクに対する撥液性が所定の値以上であることが必要である。

（６）ホール輸送層１２１
図１３に示すように、間隙５２２ｚＲ、５２２ｚＧ、５２２ｚＢ内におけるホール注入層１２０上には、ホール輸送層１２１が積層される。また、行バンク１２２Ｘにおけるホール注入層１２０上にも、ホール輸送層１２１が積層される（不図示）。ホール輸送層１２１は、ホール注入層１２０Ｂに接触している。ホール輸送層１２１は、ホール注入層１２０から注入されたホールを発光層１２３へ輸送する機能を有する。

本実施の形態では、後述する間隙５２２ｚ内では、ホール輸送層１２１は、ホール注入層１２０Ｂと同様、列方向に延伸するように線状に設けられている構成を採る。

（７）発光層１２３
図１３に示すように、ホール輸送層１２１上には、発光層１２３が積層されている。発光層１２３は、有機化合物からなる層であり、内部でホールと電子が再結合することで光を発する機能を有する。列バンク５２２Ｙにより規定された間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢ内では、発光層１２３は、列方向に延伸するように線状に設けられている。

赤色副画素１００ｓｅＲ内の自己発光領域１００ａＲに対応する赤色間隙５２２ｚＲ（図４参照）、緑色副画素１００ｓｅＧ内の自己発光領域１００ａＧに対応する緑色間隙５２２ｚＧ、青色副画素１００ｓｅＢ内の自己発光領域１００ａＢに対応する青色間隙５２２ｚＢには、それぞれ各色に発光する発光層１２３Ｒ、１２３Ｇ、１２３Ｂが形成されている。

発光層１２３は、画素電極１１９からキャリアが供給される部分のみが発光するので、層間に絶縁物である行バンク１２２Ｘが存在する範囲では、有機化合物の電界発光現象が生じない。そのため、発光層１２３は、行バンク１２２Ｘがない部分のみが発光して、この部分が自己発光領域１００ａとなり、自己発光領域１００ａの列方向における外縁は、行バンク１２２Ｘの列方向外縁により規定される。

（８）電子輸送層１２４
図４、図１３に示すように、列バンク５２２Ｙ及び列バンク５２２Ｙにより規定された間隙５２２ｚを被覆するように電子輸送層１２４が積層して形成されている。電子輸送層１２４については、表示パネル１０の少なくとも表示領域全体に連続した状態で形成されている。

電子輸送層１２４は、基板１００ｘ側から順に金属酸化物又はフッ化物等からなる電子輸送層１２４Ａと、電子輸送層１２４Ａ上に積層された有機物を主成分とする電子輸送層１２４Ｂとを含む（以後において、電子輸送層１２４Ａ、１２４Ｂを総称する場合は「電子輸送層１２４」と表記する）。

電子輸送層１２４は、図１３に示すように、発光層１２３上に形成されている。電子輸送層１２４は、共通電極１２５からの電子を発光層１２３へ輸送するとともに、発光層１２３への電子の注入を制限する機能を有する。

（９）共通電極１２５（対向電極）
図１３に示すように、電子輸送層１２４上に、共通電極１２５が形成されている。共通電極１２５は、各発光層１２３に共通の電極となっている。共通電極１２５は、基板１００ｘ側から順に金属酸化物からなる共通電極１２５Ａと、共通電極１２５Ａ上に積層された金属を主成分とする共通電極１２５Ｂとを含む（以後において、共通電極１２５Ａ、１２５Ｂを総称する場合は「共通電極１２５」と表記する）。

共通電極１２５は、図１３に示すように、電子輸送層１２４上の画素電極１１９上方の領域にも形成される。共通電極１２５は、画素電極１１９と対になって発光層１２３を挟むことで通電経路を作り、発光層１２３へキャリアを供給するものであり、例えば陰極として機能した場合は、発光層１２３へ電子を供給する。

（１０）封止層１２６
共通電極１２５を被覆するように、封止層１２６が積層形成されている。封止層１２６は、発光層１２３が水分や空気などに触れて劣化することを抑制するためのものである。封止層１２６は、共通電極１２５の上面を覆うように設けられている。

（１１）接合層１２７
封止層１２６のＺ軸方向上方には、上部基板１３０のＺ軸方向下側の主面にカラーフィルタ層１２８が形成されたカラーフィルタ基板１３１が配されており、接合層１２７により接合されている。接合層１２７は、基板１００ｘから封止層１２６までの各層からなる背面パネルとカラーフィルタ基板１３１とを貼り合わせるとともに、各層が水分や空気に晒されることを防止する機能を有する。

（１２）カラーフィルタ（ＣＦ）基板１３１
接合層１２７の上に、上部基板１３０にカラーフィルタ層１２８が形成されたカラーフィルタ基板１３１が設置・接合されている。上部基板１３０には、表示パネル１０がトップエミッション型であるため、例えば、カバーガラス、透明樹脂フィルムなどの光透過性材料が用いられる。また、上部基板１３０により、表示パネル１０の剛性向上、水分や空気などの侵入防止などを図ることができる。

上部基板１３０には、画素の各色自己発光領域１００ａに対応する位置にカラーフィルタ層１２８が形成されている。カラーフィルタ層１２８は、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する波長の可視光を透過させるために設けられる透明層であり、各色画素から出射された光を透過させて、その色度を矯正する機能を有する。例えば、本例では、赤色間隙５２２ｚＲ内の自己発光領域１００ａＲ、緑色間隙５２２ｚＧ内の自己発光領域１００ａＧ、青色間隙５２２ｚＢ内の自己発光領域１００ａＢの上方に、赤色、緑色、青色のフィルタ層１２８Ｒ、１２８Ｇ、１２８Ｂが各々形成されている。

上部基板１３０には、各画素の自己発光領域１００ａ間の境界に対応する位置に遮光層１２９が形成されている。遮光層１２９は、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する波長の可視光を透過させないために設けられる黒色樹脂層であって、例えば光吸収性及び遮光性に優れる黒色顔料を含む樹脂材料からなる。

４．表示パネル１０の製造方法
表示パネル１０の製造方法について、図１４の製造工程を示すフローチャート、および図１５〜図１９の表示パネル１０の各製造工程における状態を示す模式断面図に基づき説明する。

（１）基板準備工程（図１４：ステップＳ１）
複数のＴＦＴや配線が形成された基板１００ｘを準備する。基板１００ｘは、公知のＴＦＴの製造方法により製造することができる（図１５（ａ））。

（２）平坦化層形成工程（図１４：ステップＳ２）
基板１００ｘを被覆するように、上述の平坦化層１１８の構成材料（感光性の樹脂材料）をフォトレジストとして塗布し、表面を平坦化することにより平坦化層１１８を形成する（図１５（ｂ））。

（３）画素電極・ホール注入層形成工程（図１４：ステップＳ３）
スパッタリング法、真空蒸着法などの気相成長法を用い金属膜を積層して形成した後、フォトリソグラフィー法及びエッチング法を用いパターニングすることでなされる。

具体的には、先ず、平坦化層１１８の表面にドライエッチング処理を行い製膜前洗浄を行う。次に、画素電極１１９を形成するための第２金属層１１９ｘを気相成長法により平坦化層１１８の表面に製膜する（図１５（ｃ））。本例では、アルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金からなる膜をスパッタリング法により製膜する。

さらに、第２金属層１１９ｘの表面に製膜前洗浄を行った後、ホール注入層１２０Ａを形成するための第３金属層１２０Ａｘを気相成長法により第２金属層１１９ｘの表面に製膜する（図１５（ｃ））。本例では、タングステンをスパッタリング法により製膜する。

その後、感光性樹脂等からなるフォトレジスト層ＦＲを塗布したのち、所定の開口部が施されたフォトマスクＰＭを載置し、その上から紫外線照射を行いフォトレジストを露光し、そのフォトレジストにフォトマスクＰＭが有するパターンを転写する（図１５（ｄ））。次に、フォトレジスト層ＦＲを現像によってパターニングする。

その後、パターニングされたフォトレジスト層ＦＲを介して、第３金属層１２０Ａｘ、第２金属層１１９Ｘにエッチング処理を施してパターニングを行い、ホール注入層１２０Ａ、画素電極１１９を形成する。

最後に、フォトレジスト層ＦＲを剥離して、同一形状にパターニングされた画素電極１１９及びホール注入層１２０Ａの積層体を形成する（図１６（ａ））。

（４）バンク形成工程（図１４：ステップＳ４）
ホール注入層１２０のホール注入層１２０Ａを形成した後、ホール注入層１２０Ａの縁を覆うようにバンクを形成する。バンクの形成では、先ず行バンク１２２Ｘを形成し、その後、間隙５２２ｚを形成するように列バンク５２２Ｙを形成する（図１６（ｂ））。

行バンク１２２ｘの形成は、先ず、ホール注入層１２０Ａ上に、スピンコート法などを用い、バンク１２２Ｘの構成材料（例えば、感光性樹脂材料）からなる膜を積層形成する。そして、樹脂膜をパターニングして行バンク１２２Ｘを形成する。

行バンク１２２ｘのパターニングは、樹脂膜の上方にフォトマスクを利用し露光を行い、現像工程、焼成工程（約２３０℃、約６０分）をすることによりなされる。

次に、列バンク５２２Ｙの形成工程では、ホール注入層１２０Ａ上及び行バンク１２２Ｘ上に、スピンコート法などを用い、列バンク５２２Ｙの構成材料（例えば、感光性樹脂材料）からなる膜を積層形成する。そして、間隙５２２ｚの形成は、樹脂膜の上方にマスクを配して露光し、その後で現像することにより、樹脂膜をパターニングして間隙５２２ｚを開設して列バンク５２２Ｙを形成する。

具体的には、列バンク５２２Ｙの形成工程では、先ず、有機系の感光性樹脂材料、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等からなる感光性樹脂膜を形成した後、乾燥し、溶媒をある程度揮発させてから、所定の開口部が施されたフォトマスクを重ね、その上から紫外線照射を行い感光性樹脂等からなるフォトレジストを露光し、そのフォトレジストにフォトマスクが有するパターンを転写する。

次に、感光性樹脂を現像によって列バンク５２２Ｙをパターニングした絶縁層を、焼成（約２３０℃、約６０分）することにより形成する。一般にはポジ型と呼ばれるフォトレジストが使用される。ポジ型は露光された部分が現像によって除去される。露光されないマスクパターンの部分は、現像されずに残存する。

ここで、ホール注入層１２０Ａは、上述のとおり、スパッタリング法あるいは真空蒸着法などの気相成長法を用い金属（例えば、タングステン）からなる膜を形成した後、フォトリソグラフィー法及びエッチング法を用い各画素単位にパターニングされるが、行バンク１２２Ｘ、列バンク５２２Ｙに対する焼成工程において、金属が酸化されホール注入層１２０Ａとして完成する。

列バンク５２２Ｙは、列方向に延設され、行方向に間隙５２２ｚを介して並設される。

（５）有機機能層形成工程（図１４：ステップＳ５）
列バンク５２２Ｙにより規定される間隙５２２ｚ内に形成されたホール注入層１２０のホール注入層１２０Ａ上に対して、ホール注入層１２０のホール注入層１２０Ｂ、ホール輸送層１２１、発光層１２３などの有機機能層を順に積層形成する。

ホール注入層１２０Ｂは、インクジェット法を用い、インクヘッド２１１のノズル２１１１からＰＥＤＯＴ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）などの導電性ポリマー材料を含むインクを列バンク５２２Ｙにより規定される間隙５２２ｚ内に塗布した後、溶媒を揮発除去させる、あるいは、焼成することにより形成される（図１６（ｃ））。その後、フォトリソグラフィー法およびエッチング法を用い各画素単位にパターニングしてもよい。

ホール輸送層１２１は、インクジェット法やグラビア印刷法によるウェットプロセスを用い、構成材料を含むインクを列バンク５２２Ｙにより規定される間隙５２２ｚ内に塗布した後、溶媒を揮発除去させる、あるいは、焼成することによりなされる。ホール輸送層１２１のインクを間隙５２２ｚ内に塗布する方法は、上述したホール注入層１２０Ｂにおける方法と同じである。

発光層１２３の形成は、インクジェット法を用い、構成材料を含むインクを列バンク５２２Ｙにより規定される間隙５２２ｚ内に塗布した後、焼成することによりなされる（図１７（ａ））。具体的には、この工程では、副画素形成領域となる間隙５２２ｚに、インクジェット法によりＲ、Ｇ、Ｂいずれかの有機発光層の材料を含むインクをそれぞれ塗布し、塗布したインクを減圧下で乾燥させ、ベーク処理することによって、発光層１２３Ｒ、１２３Ｇ、１２３Ｂを形成する。

このとき、発光層１２３のインクの塗布では、塗布装置２００を用いて、上述の方法でインクを塗布することにより、筋状の輝度ムラが発生しにくい。

なお、発光層１２３以外の、ホール注入層１２０のホール注入層１２０Ｂ、ホール輸送層１２１などの有機機能層のいずれかについても、塗布装置２００を使用して発光層１２３の形成と同様な方法により形成するようにしてもよい。これにより、間隙５２２ｚ内で列方向にそれらの機能層の膜厚の変動が生じたとしても、それが行方向に連続しないようにできるので、行方向における筋状の輝度ムラをより一層生じにくくすることができる。

（６）電子輸送層形成工程（図１４：ステップＳ６）
発光層１２３を形成した後、表示パネル１０の発光エリア（表示領域）全面にわたって、真空蒸着法などにより電子輸送層１２４を形成する（図１７（ｂ））。

真空蒸着法を用いる理由は、有機膜である発光層１２３に損傷を与えないためと、高真空化で行う真空蒸着法は成膜対象の分子が基板に向かって垂直方向に直進的に成膜されるため、膜厚を均一に形成しやすいからである。

電子輸送層１２４は、電子輸送層１２４Ａと１２４Ｂの２層構造であり、電子輸送層１２４Ａは、発光層１２３の上に、金属酸化物又はフッ化物を真空蒸着法などにより、例えば、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の膜厚で成膜する。電子輸送層１２４Ａの上に、有機材料と金属材料との共蒸着法により、電子輸送層１２４Ｂを、例えば１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の膜厚で成膜する。

なお、電子輸送層１２４Ａ、１２４Ｂの膜厚は、一例であり、上記数値に限られるものではなく、光学的な光取り出しとして最も有利となる適切な膜厚とする。

（７）共通電極形成工程（図１４：ステップＳ７）
電子輸送層１２４を形成した後、電子輸送層１２４を被覆するように、共通電極１２５を形成する。共通電極１２５は、基板１００ｘ側から順に金属酸化物からなる共通電極１２５Ａと、共通電極１２５Ａ上に積層された金属を主成分とする共通電極１２５Ｂとを含む（図１７（ｃ））。

このうち、先ず、共通電極１２５Ａは、電子輸送層１２４を被覆するように、スパッタリング法などにより形成する。本例では、共通電極１２５Ａはスパッタリング法を用いてＩＴＯ又はＩＺＯなどの透明導電層を形成する構成としている。

次に、共通電極１２５Ｂは、共通電極１２５Ａ上に、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、スパッタリング法、又は真空蒸着法により形成する。本例では、共通電極１２５Ｂを真空蒸着法により銀を堆積することにより形成する構成としている。

（８）封止層形成工程（図１４：ステップＳ８）
共通電極１２５を形成した後、共通電極１２５を被覆するように、封止層１２６を形成する（図１７（ｄ））。封止層１２６は、ＣＶＤ法、スパッタリング法などを用い形成される。

（９）カラーフィルタ基板の貼着工程（図１４：ステップＳ９）
次に、カラーフィルタ基板１３１を形成して、封止層１２６上に貼着する。

透明な上部基板１３０を準備し、紫外線硬化樹脂（例えば紫外線硬化アクリル樹脂）材料を主成分とし、これに黒色顔料を添加してなる遮光層１２９の材料を透明な上部基板１３０の一方の面に塗布して遮光材料層１２９０を形成する（図１８（ａ））。

塗布した遮光材料層１２９０の上面に所定の開口部が施されたパターンマスクＰＭ１を重ね、その上から紫外線照射を行う（図１８（ｂ））。

その後、パターンマスクＰＭ１及び未硬化の遮光材料層１２９０を除去して現像し、キュアすると、例えば、概矩形状の断面形状の遮光層１２９が完成する（図１８（ｃ））。

次に、遮光層１２９を形成した上部基板１３０表面に、紫外線硬化樹脂成分を主成分とするカラーフィルタ層１２８（例えば、Ｇ）の材料を含むペースト１２８０Ｇを塗布し（図１８（ｄ））、所定のパターンマスクＰＭ２を載置し、紫外線照射を行う（図１８（ｅ））。

その後はキュアを行い、パターンマスクＰＭ２及び未硬化のペースト１２８０Ｇを除去して現像すると、カラーフィルタ層１２８Ｇが形成される（図１８（ｆ））。

この図１８（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）の工程を赤色と青色のカラーフィルタ材料について同様に繰り返すことで、カラーフィルタ層１２８Ｒ、１２８Ｂを形成する（図１８（ｇ））。

なお、各色のペーストを用いる代わりに市販されているカラーフィルタ製品を利用してもよい。以上でカラーフィルタ基板１３１が形成される。

次に、基板１００ｘから封止層１２６までの各層からなる背面パネルに、アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂などの紫外線硬化型樹脂を主成分とする接合層１２７の材料を塗布する（図１９（ａ））。

続いて、塗布した材料に紫外線照射を行い、背面パネルとカラーフィルタ基板１３１との相対的位置関係を合せた状態で両基板を貼り合わせる。このとき、両者の間にガスが入らないように注意する。その後、両基板を焼成して封止工程を完了すると、表示パネル１０が完成する（図１９（ｂ））。

５． 変形例
実施の形態に係る表示パネル１０を説明したが、本開示は、その本質的な特徴的構成要素を除き、以上の実施の形態に何ら限定を受けるものではない。例えば、実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。以下では、そのような形態の一例として、本開示の変形例を説明する。

（１）上記実施形態では、単位パターンＰ１のノズル個数がＮのとき、列方向基準パターンＰ２を順次ノズル１ピッチ分ずつずらして、行方向に隣接する同種のインクを供給すべき列開口にインクを塗布し、Ｎ列毎にずらし量をリセットする処理を繰り返して、表示パネル全体の塗布パターンを形成するようにしたが、Ｎの数が所定値より大きい場合には、上記ずれ量が大きくなり、図８（ｂ）の領域Ｓの列方向の巾が必要以上に大きくなって、ダミー電極領域の幅を超えて発光領域まで及び、その部分で輝度ムラが発生するおそれがある。

そこで、単位パターンＰ１のノズル個数Ｎが所定値以上、具体的には列方向基準パターンＰ２の列方向ずれ量の最大値がダミー電極が設けられている行数（この行数は、製品の仕様にもよるが、通常１０行程度）を超えないようにするのが望ましい。

図２０は、この場合の変形例を示すものである。

図２０（ａ）は、上記図１０（ｂ）の手順で求めたときにおける単位パターンのノズル個数Ｎが２７個の場合の例を示す図である。このような場合には、図２０（ｂ）に示すように列方向に連続して現出する吐出ノズルもしくは非吐出ノズルの個数の最大値のうち大きい方の数Ｌ（図２０（ａ）の例では、吐出ノズル「●」の連続個数「５」）に１を加えた値（Ｌ＋１）（本例では５＋１＝６となる）を列方向ノズルパターンずらし周期に設定して、パネル全体のノズルパターンを形成する。

このようにすれば、表示パネルの発光領域にパターン不存在領域Ｓが侵入することがないので、発光領域の端部に輝度ムラが生じにくく、かつ、各行方向において、列方向ノズルパターンずらし周期を６に設定しているので、「●」が５つ連続しても次には必ず「○」が来るようになり、「●」が行方向に６以上連続して現出することがなく、筋状の輝度ムラの発生を抑制することが可能である。

「●」ではなく、「○」の方が５個連続するような場合も同様である。

なお、本変形例を実施する発光層塗布処理のフローチャートは、図１１のステップＳ１０８において、「ｎ＝ｋＮ」の代わりに「ｎ＝ｋ（Ｌ＋１）」か否かを判定するようにすればよい。

（２）上記実施の形態では、特に発光層の形成の際に塗布装置２００を用いていたが、上述したように他の機能層であっても有機材料を用いて塗布法により形成可能なものにあっては、塗布装置２００を用いて形成するようにしてもかまわない。

機能層の膜厚の変動は、特に光共振器構造を採用する場合に輝度ムラに影響するからである。

（３）上記実施の形態における表示パネル１０では、発光層１２３は、行バンク上を列方向に連続して延伸している構成としている。しかしながら、列方向に並ぶ行バンクのうちいくつかを他の行バンクより高くして、列状の発光層１２３が、当該高い行バンクによって一定の複数の副画素ごとに仕切られている構成としてもよい。

少なくとも、高い行バンクで仕切られた複数の副画素の範囲については、レベリングが可能であるし、仕切られた複数の副画素の範囲内で塗布に使用するノズルのパターンを変化させることにより、筋状の輝度ムラの発生を抑制することが可能であるからである。

（４）実施の形態に係る表示パネル１０では、単位画素１００ｅには、赤色画素、緑色画素、青色画素の３種類があったが、本発明はこれに限られない。例えば、発光層が１種類であってもよいし、発光層が赤、緑、青、白色などに発光する４種類であってもよい。

なお、本発明は、同一種のインクを塗布すべき隣接間隙間でノズルパターンを変更することに特徴があるので、発光層の発光色が１色である場合や、機能層の形成の場合には、それぞれ全間隙について同一種のインクが塗布されることになると解され、この場合には、１列毎に隣接する間隙５２２ｚ間で塗布するためのノズルパターンを変更することが望ましい。

（５）上記実施の形態では、画素電極１１９と共通電極１２５の間に、ホール注入層１２０、ホール輸送層１２１、発光層１２３及び電子輸送層１２４が存在する構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、ホール注入層１２０、ホール輸送層１２１及び電子輸送層１２４を用いずに、画素電極１１９と共通電極１２５との間に発光層１２３のみが存在する構成としてもよい。また、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層などを備える構成や、これらの複数又は全部を同時に備える構成であってもよい。また、これらの層はすべてが有機化合物からなる必要はなく、有機発光層以外の一部の層において無機物などで構成されていてもよい。

（６）上記実施の形態では、発光層１２３の形成のため、塗布装置２００を用いたが、フレキシブルな有機ＥＬ表示パネルなどの封止膜として、無機材料の薄膜と樹脂材料の薄膜を交互に重ねて形成し、当該樹脂材料の薄膜をインクジェット方式の塗布装置で形成するような場合にも、本実施の形態に係る塗布装置を適用することができる。

この場合には、ノズルパターンは隣接する列開口ごとに変更するのではなく、たとえば、何本かの主走査方向（Ｙ方向：ノズルの列設方向）の塗布ごとに周期的もしくは非周期的に変更することになる。

（７）さらに、上記実施の形態では、トップエミッション型のＥＬ表示パネルを一例としたが、本発明はこれに限定を受けるものではない。例えば、ボトムエミッション型の表示パネルなどに適用することもできる。その場合には、各構成について、適宜の変更が可能である。

（８）なお、上記実施の形態では、発光層として有機ＥＬを使用した有機ＥＬ表示パネルの製造方法について説明したが、その他、発光層として無機ＥＬを使用した無機ＥＬ表示パネルや、発光層として量子ドット発光素子（ＱＬＥＤ：Quantum dot Light Emitting Diode）を使用した量子ドット表示パネル（例えば、特開２０１０−１９９０６７号公報参照）などの自発光表示パネルについても、発光層の構造や種類が異なるだけで、画素電極と対向電極との間に発光層やその他の機能層を介在させるという構成において有機ＥＬ表示パネルと同じであり、当該発光層やその他の機能層の形成に塗布方式を採用する場合には、本発明を適用することが可能である。

（９）上記実施の形態及びその変形例の機能のうち少なくとも一部を組み合わせてもよい。
≪補足≫
なお、特に本発明に含めるものではないが、上記実施形態のように列方向基準パターンを順にノズル１ピッチずつ列方向にずらしながら副走査方向にスキャンしてインクを供給するのではなく、当該ずらし量を列ごとに乱数表を用いて決定するようにしても構わない。このようにしても、行方向の筋状の輝度ムラを抑制できると解される。

本発明に係る自発光表示パネルの製造方法及び製造方法は、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの電子機器における表示パネルの製造に広く利用することができる。

１ 有機ＥＬ表示装置
１０ 有機ＥＬ表示パネル
１００ 有機ＥＬ素子
１００ｅ 単位画素
１００ｓｅ 副画素
１００ｘ 基板（ＴＦＴ基板）
１１８ 層間絶縁層
１１９ 画素電極
１２０、１２０Ａ、１２０Ｂ ホール注入層
１２１ ホール輸送層
１２２ バンク
１２２Ｘ 行バンク
５２２Ｙ 列バンク
５２２ｚ 間隙（列開口）
１２３ 発光層
１２４、１２４Ａ、１２４Ｂ 電子輸送層
１２５、１２５Ａ、１２５Ｂ 共通電極（対向電極）
１２６ 封止層
１２７ 接合層
１２８ カラーフィルタ層
２００ 塗布装置
２１０ インク塗布部
２１１ インクヘッド
２１１１ ノズル
２２０ インクタンク
２３０ 基板移動部
２５０ 制御部

Claims (6)

1. 複数の画素が行列状に配された自発光表示パネルの製造方法であって、
   基板を準備する工程と、
   前記基板上に、複数の画素電極を行列状に形成する工程と、
   前記基板上方であって、前記画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列バンクを並設する工程と、
   行方向に隣接する前記列バンク間の間隙に、複数のノズルが列設されたヘッドを、前記基板に対して行方向に相対的に移動させ、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルから機能性材料を含むインクを吐出した後、前記インクを乾燥させて機能層を形成する工程と、
   前記機能層上方に対向電極を形成する工程とを備え、
   前記機能層を形成する工程において、同一種のインクを供給すべき複数の前記間隙のうち、第１の間隙においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第１のパターンと、次に同種のインクが塗布される第２の間隔においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第２のパターンが異なっており、前記第２のパターンが、前記第１のパターンを前記列方向の沿った一方方向にノズル１ピッチ分だけずらしたパターンとなっている
   ことを特徴とする自発光表示パネルの製造方法。
2. 前記第１のパターンは、列方向に連続するＮ個のノズルについて（Ｎは２以上の整数）、その吐出・非吐出の組み合わせを示す単位パターンを、複数回列方向に繰り返してなるパターンである
   ことを特徴とする請求項１に記載の自発光表示パネルの製造方法。
3. 機能層を形成する工程は、前記Ｎが所定の値以下のとき、同一種のインクを供給すべき、前記行方向における第Ｍ番目（Ｍは、1以上の整数）の間隙から第（Ｍ＋Ｎ）番目の間隙まで、順に第1のパターンを前記一方方向にノズル１ピッチずつずらしていき、第（Ｍ＋Ｎ＋１）番目の間隙には、第1のパターンに復帰する処理を繰り返して、インクを塗布する
   ことを特徴とする請求項２に記載の自発光表示パネルの製造方法。
4. 前記Ｎが所定の値より大きく、列方向に連続する吐出ノズルもしくは非吐出ノズルの個数の最大値のうち大きい方の数をＬ（Ｌは２以上でＮより小さい整数）としたときに、
   同一種のインクを供給すべき、前記行方向における第Ｍ番目（Ｍは、1以上の整数）の間隙から第（Ｍ＋Ｌ＋１）番目の間隙まで、順に第1のパターンを前記一方方向にノズル１ピッチずつずらしていき、第（Ｍ＋Ｌ＋２）番目の間隙には、第1のパターンに復帰する処理を繰り返して、インクを塗布する
   ことを特徴とする請求項２に記載の自発光表示パネルの製造方法。
5. 自発光表示パネルの画素形成領域における列方向の長さをＷｙ、前記ノズルの列方向における1ピッチの長さをｂとしたとき、Ｗｙ＝（Ｎ×ｂ）×ｈ （ｈは、１以上の整数）の関係が成立する
   ことを特徴とする請求項２に記載の自発光表示パネルの製造方法。
6. 複数の画素が行列状に配されてなる自発光表示パネルにおける機能層を形成する機能層形成装置であって、
   前記基板上方であって、少なくとも複数の画素電極の行方向における間に列方向に延在する複数の列バンクのうち、行方向に隣接する列バンク間の間隙のそれぞれに、機能性材料を含むインクを塗布する塗布装置を備え、
   前記塗布装置は、
   複数のノズルが列設されたヘッドと、
   前記ヘッドを前記基板に対して前記行方向に相対的に移動させる移動部と、
   前記複数のノズルから一部のノズルを選択してインクを吐出させる吐出ノズル選択部と、
   を有し、
   前記吐出ノズル選択部は、
   同一種のインクを供給すべき複数の前記間隙のうち、第１の間隙においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第１のパターンと、次に同種のインクが塗布される第２の間隔においてインクを吐出するノズルの組み合わせを示す第２のパターンが異なっており、前記第２のパターンが、前記第１のパターンを前記列方向の沿った一方方向にノズル１ピッチ分だけずらしたパターンとなるようにインクを吐出させるノズルを選択する
   ことを特徴とする機能層形成装置。