JP2021026163A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021026163A5 JP2021026163A5 JP2019146114A JP2019146114A JP2021026163A5 JP 2021026163 A5 JP2021026163 A5 JP 2021026163A5 JP 2019146114 A JP2019146114 A JP 2019146114A JP 2019146114 A JP2019146114 A JP 2019146114A JP 2021026163 A5 JP2021026163 A5 JP 2021026163A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antireflection film
- refractive index
- optical member
- layer
- low refractive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 27
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
Description
本発明は、基材の表面に、反射防止膜が形成された反射防止膜付き光学部材であって、前記基材は、ガラスレンズであり、前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されており、前記低屈折率層の密度は、２．１ｇ／ｃｍ３以上２．２ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする。
本発明では、前記反射防止膜の最表面層は、ＭｇＦ２の単層、ＳｉＯ２の単層、又は、ＭｇＦ２及びＳｉＯ２の少なくとも一方を含む混合層であることが好ましい。本発明では、前記反射防止膜の最表面層は、ＭｇＦ
２
の単層であることが好ましい。
本発明では、４００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の波長域での分光反射率が、１％以下であることが好ましい。本発明では、前記低屈折率層と前記高屈折率層とを合わせた総数が、１１層～１５層であることが好ましい。
本発明は、基材の表面に、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層して反射防止膜を成膜する反射防止膜付き光学部材の製造方法であって、前記基材は、ガラスレンズであり、前記低屈折率層を、イオンアシスト蒸着法を用いずに蒸着により成膜し、前記高屈折率層を、イオンアシスト蒸着法により成膜することを特徴とする。
Claims (10)
- 基材の表面に、反射防止膜が形成された反射防止膜付き光学部材であって、
前記基材は、ガラスレンズであり、
前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されており、
前記低屈折率層の密度は、２．１ｇ／ｃｍ３以上２．２ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする反射防止膜付き光学部材。 - 前記低屈折率層の屈折率（波長５５０ｎｍ）は、１．４１～１．４７であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付き光学部材。
- 前記低屈折率層は、ＳｉＯ２の単層又はＳｉＯ２を含む混合層で形成されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の反射防止膜付き光学部材。
- 前記反射防止膜の最表面層は、ＭｇＦ２の単層、ＳｉＯ２の単層、又は、ＭｇＦ２及びＳｉＯ２の少なくとも一方を含む混合層であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の反射防止膜付き光学部材。
- 前記反射防止膜の最表面層は、ＭｇＦ ２ の単層であることを特徴とする請求項４に記載の反射防止膜付き光学部材。
- ４００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の波長域での分光反射率が、１％以下であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の反射防止膜付き光学部材。
- 前記低屈折率層と前記高屈折率層とを合わせた総数が、１１層～１５層であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の反射防止膜付き光学部材。
- 基材の表面に、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層して反射防止膜を成膜する反射防止膜付き光学部材の製造方法であって、
前記基材は、ガラスレンズであり、
前記低屈折率層を、イオンアシスト蒸着法を用いずに蒸着により成膜し、前記高屈折率層を、イオンアシスト蒸着法により成膜することを特徴とする反射防止膜付き光学部材の製造方法。 - 前記低屈折率層を成膜する際の成膜時圧力を、３×１０－３Ｐａ以上８×１０－２Ｐａ以下の範囲で調整することを特徴とする請求項８に記載の反射防止膜付き光学部材の製造方法。
- 前記低屈折率層の蒸発材料として、ＳｉＯ２の単体又はＳｉＯ２を含む混合材を用いることを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の反射防止膜付き光学部材の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019146114A JP7493918B2 (ja) | 2019-08-08 | 反射防止膜付き光学部材及びその製造方法 | |
| CN202080043467.8A CN113966409A (zh) | 2019-08-08 | 2020-07-27 | 带有防反射膜的光学构件及其制造方法 |
| PCT/JP2020/028713 WO2021024834A1 (ja) | 2019-08-08 | 2020-07-27 | 反射防止膜付き光学部材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019146114A JP7493918B2 (ja) | 2019-08-08 | 反射防止膜付き光学部材及びその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021026163A JP2021026163A (ja) | 2021-02-22 |
| JP2021026163A5 true JP2021026163A5 (ja) | 2022-05-18 |
| JP7493918B2 JP7493918B2 (ja) | 2024-06-03 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9310525B2 (en) | Antireflection film and optical device | |
| ES2714508T3 (es) | Lente oftálmica que comprende una base de material polimérico con un recubrimiento con una estructura multicapa interferencial antireflejante, antiiridiscente y con filtro IR | |
| JP7021156B2 (ja) | 層システムおよび層システムを備える光学素子 | |
| JP2022002903A5 (ja) | ||
| JP2018525684A5 (ja) | ||
| JP2007171735A (ja) | 広帯域反射防止膜 | |
| JP2019023722A5 (ja) | ||
| JP2016139138A (ja) | 反射低減層系の製造方法及び反射低減層系 | |
| JP2008216644A5 (ja) | ||
| JP2014122961A5 (ja) | ||
| CN104035146A (zh) | 二氧化碲基底上的一种中短波红外增透膜 | |
| JPWO2016031167A1 (ja) | 反射防止膜および反射防止膜を備えた光学部材 | |
| JP2013097159A5 (ja) | ||
| JP2021026163A5 (ja) | ||
| JP5888124B2 (ja) | 多層膜フィルタ、及び多層膜フィルタの製造方法 | |
| TW201610482A (zh) | 紫外光偏振元件的結構及其製程方法 | |
| CN203965648U (zh) | 一种以二氧化碲为基底的中短波红外增透膜 | |
| JPH07209516A (ja) | 光学多層膜フィルタ | |
| JPS6051081B2 (ja) | 非球面反射防止膜 | |
| JP2013152257A (ja) | 反射防止膜 | |
| US20220026613A1 (en) | Wire grid polarizer reflection control | |
| JP2017187729A5 (ja) | ||
| JP2008102183A (ja) | ハイブリッド偏光子 | |
| JP2009031406A (ja) | 非偏光ビームスプリッター及びそれを利用した光学計測機器 | |
| JP2019070687A5 (ja) |