JP2021019114A - Tape mounter - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、テープマウンタに関する。 The present invention relates to a tape mounter.
テープマウンタは、ウェーハの直径よりも大きい直径の開口を備えるリングフレームとリングフレームの開口に位置づけたウェーハとに円形のダイシングテープを貼着して一体化し、ウェーハをリングフレームを介してハンドリング可能な状態にする。 The tape mounter integrates a ring frame having an opening with a diameter larger than the diameter of the wafer and a wafer positioned at the opening of the ring frame by attaching a circular dicing tape to the ring frame, and the wafer can be handled via the ring frame. Put it in a state.
テープマウンタのリングフレーム保持手段は、リングフレームの下面を吸引保持する。そして、テープマウンタのウェーハ保持手段は、リングフレームの開口内で、ウェーハの下面を吸引保持する。そして、転動するローラ等の貼着手段が、リングフレームの上面とウェーハの上面とに円形のダイシングテープを貼着する。 The ring frame holding means of the tape mounter sucks and holds the lower surface of the ring frame. Then, the wafer holding means of the tape mounter sucks and holds the lower surface of the wafer within the opening of the ring frame. Then, a sticking means such as a rolling roller sticks a circular dicing tape to the upper surface of the ring frame and the upper surface of the wafer.
また、リングフレームには、平行に向かい合った2つの第1平坦面と、第1平坦面に対して直交する方向で平行に向かい合った2つの第2平坦面とが外周側面に形成されている。そして、特許文献1又は特許文献2に開示されているように、ウェーハの中心とリングフレームの開口の中心とを一致させるために、リングフレーム保持手段は、リングフレームの一対の第1平坦面、及び一対の第2平坦面をリングフレームの外周側から挟むことで、リングフレームを目標位置に位置決め(センタリング)している。
Further, the ring frame is formed on the outer peripheral side surface with two first flat surfaces facing each other in parallel and two second flat surfaces facing parallel to the first flat surface in a direction orthogonal to the first flat surface. Then, as disclosed in
上記の様に位置決めされたウェーハとリングフレームとに貼着されるダイシングテープの直径は、リングフレームの内径(開口の直径)より大きくリングフレームの外径以下である。そして、ダイシングテープは、ダイシングテープの中心とリングフレームの開口の中心とが合致するようにリングフレームに貼着され、さらに、ダイシングテープの中心は、リングフレームの開口内のウェーハの中心とも合致される(例えば、特許文献3参照)。 The diameter of the dicing tape attached to the wafer and the ring frame positioned as described above is larger than the inner diameter of the ring frame (diameter of the opening) and smaller than the outer diameter of the ring frame. Then, the dicing tape is attached to the ring frame so that the center of the dicing tape and the center of the opening of the ring frame are aligned, and the center of the dicing tape is also aligned with the center of the wafer in the opening of the ring frame. (See, for example, Patent Document 3).
ウェーハを切削ブレードでダイシングするダイシング装置は、ウェーハを保持するチャックテーブルの保持面よりリングフレームの上面が低くなるようにリングフレームを引き下げて保持し、切削ブレードがリングフレームに接触しないようにしている。ここで、ダイシングテープがリングフレームに互いの中心がずれて貼着されていると、リングフレームを引き下げて保持した際に、ダイシングテープがリングフレームから剥がれるという問題がある。
したがって、テープマウンタにおいては、リングフレームにダイシングテープを貼着した後、ダイシングテープの中心がリングフレームの中心と一致して貼着されているか否かを確認できるようにするという課題がある。
A dicing device for dicing a wafer with a cutting blade pulls down and holds the ring frame so that the upper surface of the ring frame is lower than the holding surface of the chuck table that holds the wafer so that the cutting blade does not come into contact with the ring frame. .. Here, if the dicing tapes are attached to the ring frame with their centers offset from each other, there is a problem that the dicing tape is peeled off from the ring frame when the ring frame is pulled down and held.
Therefore, the tape mounter has a problem that after the dicing tape is attached to the ring frame, it can be confirmed whether or not the center of the dicing tape is aligned with the center of the ring frame.
上記課題を解決するための本発明は、リングフレームを保持するリングフレーム保持テーブルと、該リングフレームの開口内でウェーハを保持するウェーハ保持テーブルと、該リングフレーム保持テーブルに保持された該リングフレームの上面と該ウェーハ保持テーブルに保持されたウェーハの上面とに円形のテープを貼着する貼着手段と、を備えるテープマウンタであって、該リングフレームの上面で該テープが貼着されているべき領域の測定点に測定光を投光する投光部と、該測定点で反射した反射光を受光する受光部と、からなるセンサと、該受光部が受光する受光量についての基準値を設定する設定部と、該受光部が受光した受光量が該基準値より小さい場合は、該測定点に該テープが貼着されていると判断し、該受光部が受光した受光量が該基準値以上の場合は、該測定点にテープが貼着されていないと判断する判断部と、を備えるテープマウンタである。 The present invention for solving the above problems includes a ring frame holding table that holds a ring frame, a wafer holding table that holds a wafer within an opening of the ring frame, and the ring frame held by the ring frame holding table. A tape mounter comprising a sticking means for sticking a circular tape to the upper surface of the wafer and the upper surface of the wafer held on the wafer holding table, and the tape is stuck on the upper surface of the ring frame. A sensor consisting of a light projecting unit that projects the measurement light to the measurement point in the area to be measured, a light receiving unit that receives the reflected light reflected at the measurement point, and a reference value for the amount of light received by the light receiving unit. If the set unit to be set and the amount of light received by the light receiving unit are smaller than the reference value, it is determined that the tape is attached to the measurement point, and the amount of light received by the light receiving unit is the reference. If it is equal to or more than the value, the tape mounter includes a determination unit for determining that the tape is not attached to the measurement point.
前記測定光を前記リングフレームの上面で反射させた反射光を前記受光部が受光した際の受光量を記憶する記憶部を備え、前記設定部は、該記憶部に記憶された値を前記基準値として設定すると好ましい。 The setting unit includes a storage unit that stores the amount of light received when the light receiving unit receives the reflected light reflected by the upper surface of the ring frame, and the setting unit uses the value stored in the storage unit as the reference. It is preferable to set it as a value.
前記センサは、前記リングフレームの上面に対し斜め上方向から前記測定点に向かって前記測定光を投光する前記投光部と、該測定点に対し該投光部と対称位置に配置され該測定点で反射した該測定光を回帰反射させる回帰反射板と、該回帰反射板で反射した反射光が該測定点でさらに反射した反射光を該投光部の近傍で受光する前記受光部と、からなると好ましい。 The sensor is arranged at a position symmetrical to the light projecting unit that projects the measurement light from an obliquely upward direction with respect to the upper surface of the ring frame toward the measurement point and the light projecting unit with respect to the measurement point. A regression reflector that retroreflects the measurement light reflected at the measurement point, and the light receiving portion that receives the reflected light that is further reflected at the measurement point by the reflected light reflected by the regression reflector in the vicinity of the projection unit. , Is preferable.
前記センサは、前記リングフレームの上面に対し斜め上方向から前記測定点に向かって前記測定光を投光する前記投光部と、該測定点に対し該投光部と対称位置に配置され該測定点で反射した反射光を受光する前記受光部と、からなると好ましい。 The sensor is arranged at a position symmetrical to the light projecting unit that projects the measurement light from an obliquely upward direction with respect to the upper surface of the ring frame toward the measurement point and the light projecting unit with respect to the measurement point. It is preferable that the light receiving portion comprises the light receiving portion that receives the reflected light reflected at the measurement point.
本発明に係るテープマウンタは、リングフレームの上面でテープが貼着されているべき領域の測定点に測定光を投光する投光部と、測定点で反射した反射光を受光する受光部と、からなるセンサと、受光部が受光する受光量についての基準値を設定する設定部と、判断部と、を備え、判断部が、受光部が受光した受光量が基準値より小さい場合は、測定点にテープ(例えば、ダイシングテープ)が貼着されていると判断し、受光部が受光した受光量が基準値以上の場合は、測定点にテープが貼着されていないと判断することができ、テープの中心がリングフレームの中心と一致して貼着されているか否かを確認できる。即ち、従来は、透過型センサで、リングフレームのテープが貼られていない箇所を確認することができていたが、テープの中心がリングフレームの中心と一致して貼着されているか否か、換言すれば、リングフレームの開口の周囲においてテープの貼り付け面積が部分的に狭くなっているところが有るか否かは確認することができなかった。しかし、本発明に係るテープマウンタは、例えば、センサが測定する測定点を、リングフレームの開口より少し外側の領域(テープが貼り付けられているべき領域)内に設定し、リングフレームに対するテープの貼り付け面積が狭くなっている箇所(測定点にテープが貼り付られていない箇所)があれば、受光部が受光するリングフレームからの反射光の受光量が基準値以上となり、判断部が、テープの貼り付け面積が部分的に狭くなっているところが有り、テープがリングフレームから剥がれやすくなっている箇所があると判断できる。 The tape mounter according to the present invention includes a light projecting unit that projects measurement light at a measurement point in an area on the upper surface of the ring frame to which the tape should be attached, and a light receiving unit that receives reflected light reflected at the measurement point. A sensor consisting of, a setting unit for setting a reference value for the amount of light received by the light receiving unit, and a judgment unit are provided, and when the judgment unit determines that the amount of light received by the light receiving unit is smaller than the reference value, It can be determined that a tape (for example, dicing tape) is attached to the measurement point, and if the amount of light received by the light receiving unit is equal to or greater than the reference value, it can be determined that the tape is not attached to the measurement point. It can be confirmed whether or not the center of the tape is aligned with the center of the ring frame. That is, in the past, it was possible to check the part where the tape of the ring frame was not attached with the transmissive sensor, but whether or not the center of the tape is attached so as to coincide with the center of the ring frame. In other words, it was not possible to confirm whether or not there was a part where the tape application area was narrowed around the opening of the ring frame. However, in the tape mounter according to the present invention, for example, the measurement point measured by the sensor is set in a region slightly outside the opening of the ring frame (the region where the tape should be attached), and the tape with respect to the ring frame If there is a place where the sticking area is narrow (the tape is not stuck at the measurement point), the amount of reflected light received from the ring frame received by the light receiving part will be equal to or more than the reference value, and the judgment part will It can be determined that there are places where the tape sticking area is partially narrowed, and there are places where the tape is easily peeled off from the ring frame.
本発明に係るテープマウンタは、測定光をリングフレームの上面で反射させた反射光を受光部が受光した際の受光量を記憶する記憶部を備え、設定部は、記憶部に記憶された値を基準値として設定することで、判断部がダイシングテープの中心がリングフレームの中心と一致して貼着されているか否かを判断するための基準値を、適切にテープマウンタに設定できる。 The tape mounter according to the present invention includes a storage unit that stores the amount of light received when the light receiving unit receives the reflected light reflected by the upper surface of the ring frame, and the setting unit is a value stored in the storage unit. By setting as a reference value, a reference value for the determination unit to determine whether or not the center of the dicing tape is attached so as to coincide with the center of the ring frame can be appropriately set in the tape mounter.
本発明に係るテープマウンタにおいて、センサは、リングフレームの上面に対し斜め上方向から測定点に向かって測定光を投光する投光部と、測定点に対し投光部と対称位置に配置され測定点で反射した測定光を回帰反射させる回帰反射板と、回帰反射板で反射した反射光が測定点でさらに反射した反射光を投光部の近傍で受光する受光部と、からなることで、ダイシングテープが透明なテープであっても、又は不透明なテープであっても、判断部が、受光部が受光した受光量が基準値より小さい場合は、測定点にテープが貼着されていると判断し、受光部が受光した受光量が基準値以上の場合は、測定点にテープが貼着されていないと判断することができ、ダイシングテープの中心がリングフレームの中心と一致して貼着されているか否かを判断できる。 In the tape mounter according to the present invention, the sensor is arranged at a position symmetrical with the light projecting unit that projects the measurement light from the diagonally upward direction with respect to the upper surface of the ring frame toward the measurement point and the light projecting unit with respect to the measurement point. It consists of a return reflector that retroreflects the measurement light reflected at the measurement point, and a light receiving section that receives the reflected light reflected by the retrospective reflector in the vicinity of the light projecting section. , Even if the dicing tape is a transparent tape or an opaque tape, if the light receiving amount received by the light receiving part is smaller than the reference value, the tape is attached to the measurement point. If the amount of light received by the light receiving part is equal to or greater than the reference value, it can be judged that the tape is not attached to the measurement point, and the center of the dicing tape is attached so as to coincide with the center of the ring frame. You can judge whether it is worn or not.
本発明に係るテープにおいて、センサは、リングフレームの上面に対し斜め上方向から測定点に向かって測定光を投光する投光部と、測定点に対し投光部と対称位置に配置され測定点で反射した反射光を受光する受光部と、からなることで、ダイシングテープが不透明なテープであっても、判断部が、受光部が受光した受光量が基準値より小さい場合は、測定点にテープが貼着されていると判断し、受光部が受光した受光量が基準値以上の場合は、測定点にテープが貼着されていないと判断することができ、ダイシングテープの中心がリングフレームの中心と一致して貼着されているか否かを判断できる。 In the tape according to the present invention, the sensor is arranged at a position symmetrical to the light projecting unit that projects the measurement light from the diagonally upward direction with respect to the upper surface of the ring frame toward the measurement point and the light projecting unit for measurement. Since it consists of a light receiving part that receives the reflected light reflected at the point, even if the dicing tape is an opaque tape, if the judgment part determines that the amount of light received by the light receiving part is smaller than the reference value, the measurement point If it is determined that the tape is attached to the measuring point and the amount of light received by the light receiving part is equal to or greater than the reference value, it can be determined that the tape is not attached to the measurement point, and the center of the dicing tape is the ring. It can be determined whether or not it is attached so as to coincide with the center of the frame.
図1に示す本発明に係るテープマウンタ1は、後述する各発明構成要素が配設され長手方向がX軸方向である基台10を備えており、基台10の上面は水平面となっている。基台10の後方側(+X方向側)の上方には、テープロールTRが配設されている。
The
テープロールTRは、帯状の粘着テープと、帯状のシートT1とが貼り合わせられた構造となっている。粘着テープは、例えばポリオレフィン系樹脂等からなる基材と基材の粘着剤層とからなり、粘着剤層側にシートT1が貼着されている。粘着テープは、予め貼着対象となるリングフレームFの径に応じて円形状に複数プリカットされており、シートT1に粘着テープがプリカットされて形成されたテープT2(ダイシングテープT2)が複数、シートT1の長手方向に等間隔を空けて貼着された状態になっている。なお、テープT2及びシートT1は、特に材質などが限定されない。例えば、本実施形態において、テープT2は、可視光に対して透明なテープであるが、着色がされており可視光に対して不透明なテープであってもよい。
テープロールTRは、図1に示すように巻筒19にテープT2を内側にしてロール状に巻回された状態となっている。テープT2は、リングフレームFの円形の開口Fc(図2参照)の内径よりも大径で、かつリングフレームFの外径よりも小径となっている。
The tape roll TR has a structure in which a strip-shaped adhesive tape and a strip-shaped sheet T1 are bonded together. The adhesive tape is composed of a base material made of, for example, a polyolefin resin and a pressure-sensitive adhesive layer of the base material, and a sheet T1 is attached to the pressure-sensitive adhesive layer side. The adhesive tape is pre-cut in a circular shape according to the diameter of the ring frame F to be attached in advance, and a plurality of tapes T2 (dicing tape T2) formed by pre-cutting the adhesive tape on the sheet T1 are formed. It is in a state of being attached at equal intervals in the longitudinal direction of T1. The materials of the tape T2 and the sheet T1 are not particularly limited. For example, in the present embodiment, the tape T2 is a tape that is transparent to visible light, but may be a colored tape that is opaque to visible light.
As shown in FIG. 1, the tape roll TR is wound around a winding
図2に示すように、リングフレームFは、所定の金属(例えば、SUS等)で構成されており環状平板状となっており、ウェーハWの外径よりも大きい内径の円形の開口Fcを備えている。また、リングフレームFは、例えば、その外周の一部をフラットに切欠くことで、平行に向かい合った2つの第1平坦面Fdと、第1平坦面Fdに対して直交する方向で平行に向かい合った2つの第2平坦面Feとが形成されている。第1平坦面Fd及び第2平坦面Feは、リングフレームFの位置決めに使用される。 As shown in FIG. 2, the ring frame F is made of a predetermined metal (for example, SUS or the like) and has an annular flat plate shape, and includes a circular opening Fc having an inner diameter larger than the outer diameter of the wafer W. ing. Further, the ring frame F faces, for example, two first flat surfaces Fd facing in parallel and parallel to each other in a direction orthogonal to the first flat surface Fd by notching a part of the outer periphery thereof flatly. Two second flat surfaces Fe are formed. The first flat surface Fd and the second flat surface Fe are used for positioning the ring frame F.
ウェーハWは、例えば、シリコン母材等からなる円形の半導体ウェーハであり、図1において下方を向いているウェーハWの表面Wa(下面Wa)は、格子状に区画された領域に複数のデバイスが形成されており、図示しない保護テープが貼着されて保護されている。ウェーハWの裏面Wb(上面Wb)は、テープT2が貼着される面となる。なお、ウェーハWはシリコン以外にガリウムヒ素、サファイア、窒化ガリウム、セラミックス、樹脂、又はシリコンカーバイド等で構成されていてもよいし、矩形のパッケージ基板等であってもよい。 The wafer W is, for example, a circular semiconductor wafer made of a silicon base material or the like, and the surface Wa (lower surface Wa) of the wafer W facing downward in FIG. 1 has a plurality of devices in a region partitioned in a grid pattern. It is formed and is protected by a protective tape (not shown). The back surface Wb (upper surface Wb) of the wafer W is the surface on which the tape T2 is attached. The wafer W may be made of gallium arsenide, sapphire, gallium nitride, ceramics, resin, silicon carbide or the like in addition to silicon, or may be a rectangular package substrate or the like.
図1に示すテープロールTRの斜め下方となる位置には、引き出されたシートT1を屈曲させシートT1からテープT2を剥離させるピールプレート15が配設されている。ピールプレート15は、例えば、Y軸方向から見た場合に側面視三角形状となる斜板であり、シートT1の幅(Y軸方向長さ)以上の長さでY軸方向に延在している。図3〜図4に示すように、ピールプレート15が、その先端側でシートT1を押圧して鋭角に屈曲させることにより、シートT1からテープT2を剥離することができる。
A
図1、3に示すように、ピールプレート15によってテープT2が剥離されたシートT1は、ピールプレート15の後方(+X方向)に送られる。そして、モータ等の回転駆動源によりY軸方向の回転軸を軸に回転するシート巻き取りローラ16によって、シートT1はロール状に巻き取られる。シート巻き取りローラ16の該回転駆動源は、例えば、トルク制御でテープロールTRからのシートT1の引き出し速度を制御する。
As shown in FIGS. 1 and 3, the sheet T1 from which the tape T2 has been peeled off by the
シート巻き取りローラ16とピールプレート15との間には、シート支持ローラ160が配設されており、シート支持ローラ160によって、テープT2が剥離されたシートT1が弛まないようにされている。
A
テープマウンタ1は、リングフレームFを保持するリングフレーム保持テーブル20と、リングフレームFの開口Fc内でウェーハWを保持するウェーハ保持テーブル21と、リングフレーム保持テーブル20に保持されたリングフレームFの上面Faとウェーハ保持テーブル21に保持されたウェーハWの上面Wbとに円形のテープT2を貼着する貼着手段22と、を備える。
The
図2に示すリングフレーム保持テーブル20は、例えば、平面視正方形状に形成されており、その中央に形成された凹部200内にウェーハ保持テーブル21を収容している。リングフレーム保持テーブル20の上面20aは、平坦面であるリングフレーム保持面となる。リングフレーム保持テーブル20の上面20aには、開口を有し凹状の例えば4つの吸盤収容部201が設けられている。これら4つの吸盤収容部201には、それぞれリングフレームFを吸着可能な吸盤25が配設されている。吸盤25は、例えば、変形可能なゴム等の弾性材を平面視円形状に形成したものである。各吸盤25は、真空発生装置等の図示しない吸引源に連通している。
なお、リングフレーム保持テーブル20の外形や構造等は、本実施形態に限定されるものではない。
The ring frame holding table 20 shown in FIG. 2 is formed, for example, in a square shape in a plan view, and the wafer holding table 21 is housed in a
The outer shape and structure of the ring frame holding table 20 are not limited to this embodiment.
リングフレーム保持テーブル20の上面20aには、リングフレームFを上面20a上で位置決め(センタリング)するための、第1の固定位置決め部23、および、第1の固定位置決め部23に向かい合う第1の可動位置決め部24が配置されている。さらに、上面20aには、第2の固定位置決め部26、および、第2の固定位置決め部26に向かい合う第2の可動位置決め部27が配置されている。
例えば、第1の固定位置決め部23と第1の可動位置決め部24とが向かい合う方向と、第2の固定位置決め部26と第2の可動位置決め部27とが向かい合う方向とは、互いに略直交している。
On the
For example, the direction in which the first fixed
第1の固定位置決め部23は、例えば、2本の円柱状の第1固定ピン23a、23bとからなり、第1固定ピン23a、第1固定ピン23bは、平面視で、リングフレーム保持テーブル20のX軸方向に平行な中心線を対称軸として互いに対称に配置されている。
The first fixed
第1の可動位置決め部24は、例えば、円柱状の第1可動ピン24aと、第1可動ピン24aを支持する第1可動ブロック24bと、第1可動ブロック24bをX軸方向に移動させる図示しないシリンダーとを備えている。
The first
第2の固定位置決め部26は、例えば、2本の円柱状の第2固定ピン26a、26bとからなり、第2固定ピン26a、第2固定ピン26bは、平面視で、リングフレーム保持テーブル20のY軸方向に平行な中心線を対称軸として互いに対称に配置されている。
第2の可動位置決め部27は、例えば、円柱状の第2可動ピン27aと、第2可動ピン27aを支持する第2可動ブロック27bと、第2可動ブロック27bをY軸方向に移動させる図示しないシリンダーとを備えている。
The second
The second
本実施形態においては、第1の固定位置決め部23および第1の可動位置決め部24と、第2の固定位置決め部26および第2の可動位置決め部27との少なくともいずれか一方が、リングフレームFにおける2つの第1平坦面Fdおよび2つの第2平坦面Feの少なくともいずれか一方を挟んで、リングフレームFを、リングフレーム保持テーブル20の上面20a上で目標位置に位置決め(センタリング)する。リングフレーム保持テーブル20上でセンタリングされたリングフレームFの開口Fcの中心とウェーハ保持テーブル21の保持面210aの中心とは略合致する。その後、各吸盤25でリングフレームFが吸引保持される。
In the present embodiment, at least one of the first fixed
ウェーハ保持テーブル21は、例えば、その外形が円形状であり、ポーラス部材等からなりウェーハWを吸着する吸着部210と、縦断面が凹形状となっており吸着部210を支持する枠体211とを備える。枠体211の凹部にはめ込まれた状態の吸着部210は、図示しない吸引源に連通している。吸着部210の上面であり平坦面である保持面210aに吸引源が生み出す吸引力が伝達されることで、ウェーハ保持テーブル21は保持面210a上でウェーハWを吸引保持する。
The wafer holding table 21 has, for example, a
例えば、リングフレーム保持テーブル20の上面20aの高さは、ウェーハWをウェーハ保持テーブル21の保持面210aで保持し、リングフレーム保持テーブル20の上面20aでリングフレームFを保持した場合に、リングフレームFの上面FaとウェーハWの上面Wbとが略同一の高さになるように設定されている。
For example, the height of the
図1に示すように、基台10上には、ウェーハ保持テーブル21及びリングフレーム保持テーブル20をX軸方向に往復移動させるテーブル移動手段13が配設されている。テーブル移動手段13は、X軸方向の軸心を有するボールネジ130と、ボールネジ130と平行に配設されたガイドレール131と、ボールネジ130に連結しボールネジ130を回動させるモータ132と、を備え、リングフレーム保持テーブル20は、その下面側に備える図示しないナットがボールネジ130に螺合している。そして、モータ132がボールネジ130を回動させると、これに伴いウェーハ保持テーブル21及びリングフレーム保持テーブル20がガイドレール131にガイドされてX軸方向に往復移動する。
As shown in FIG. 1, a table moving means 13 for reciprocating the wafer holding table 21 and the ring frame holding table 20 in the X-axis direction is arranged on the
リングフレーム保持テーブル20移動経路の上方の位置で、かつ、ピールプレート15の先端近傍となる位置には、貼着手段22が配設されている。貼着手段22は、例えば、リングフレーム保持テーブル20のY軸方向の幅以上の長さを備えた回転可能な貼着ローラである。貼着手段22は、例えば、リングフレーム保持テーブル20をY軸方向に横断するように配設されており、図示しない移動手段によって、上下方向に移動可能となっている。なお、貼着手段22は、上下方向に移動可能となっていなくてもよい。
The sticking means 22 is arranged at a position above the movement path of the ring frame holding table 20 and near the tip of the
リングフレーム保持テーブル20上にリングフレームFがセンタリングされた状態で吸引保持され、かつ、ウェーハ保持テーブル21上でウェーハWがその中心が保持面210aの中心に略合致した状態で吸引保持される。そして、図4、5に示すように、テーブル移動手段13によってリングフレーム保持テーブル20を−X方向に移動させて貼着手段22の下方を通過させる。その結果、ピールプレート15によってシートT1から剥離されたテープT2が、貼着手段22によって、基材面側である上側からリングフレーム保持テーブル20に保持されているリングフレームFの上面Fa、及びウェーハ保持テーブル21に保持されているウェーハWの上面Wbに押圧されていくことで、テープT2は、リングフレームF及びリングフレームFの開口Fc内に位置づけられたウェーハWに貼着される。そして、ウェーハWをリングフレームFを介してハンドリング可能な、ウェーハW、テープT2、及びリングフレームFからなる図5に示すウェーハセットが作製される。
The ring frame F is suction-held on the ring frame holding table 20 in a centered state, and the wafer W is suction-held on the wafer holding table 21 in a state where the center thereof substantially coincides with the center of the holding
上記のようにウェーハセットが形成された後に、テープT2の中心がリングフレームFの中心(開口Fcの中心)と一致して貼着されているか否かを確認するために、図1、図5、及び図6に示すように、テープマウンタ1は、リングフレームFの上面FaでテープT2が貼着されているべき領域の測定点に測定光を投光する投光部60(図6のみ図示)と、測定点で反射した反射光を受光する受光部61(図6のみ図示)と、からなるセンサ6と、受光部61が受光する受光量についての基準値を設定する設定部90と、テープT2の中心がリングフレームFの中心(開口Fcの中心)と一致して貼着されているか否かを判断する判断部92とを備えている。
センサ6を以下に、実施形態1のセンサ6とする。
After the wafer set is formed as described above, in order to confirm whether or not the center of the tape T2 is attached so as to coincide with the center of the ring frame F (the center of the opening Fc), FIGS. And, as shown in FIG. 6, the
The
図6は、テープT2の中心がリングフレームFの中心(開口Fcの中心)と一致して貼着されている場合を示している。そして、図7は、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていない場合、即ち、図示の例においては、テープT2の中心がリングフレームFの中心に対して+X方向側にずれてしまっている場合を示している。 FIG. 6 shows a case where the center of the tape T2 is attached so as to coincide with the center of the ring frame F (the center of the opening Fc). Then, FIG. 7 shows a case where the center of the tape T2 coincides with the center of the ring frame F and is not attached, that is, in the illustrated example, the center of the tape T2 is in the + X direction with respect to the center of the ring frame F. It shows the case where it is shifted to the side.
図6に示すように、リングフレームFの上面Faに設定され、センサ6が測定光を投光する測定点は、例えば、開口Fcの周囲のテープT2が貼着されているべき領域内に設定される第1測定点P1及び第2測定点P2である。テープT2が貼着されているべき領域は、実験的、経験的、又は理論的に定められており、テープT2の中心がリングフレームFの中心(開口Fcの中心)と一致して貼着されている場合における、テープT2のリングフレームFに貼着されている環状の領域となる。例えば、第1測定点P1及び第2測定点P2は、テープT2のリングフレームFに貼着されている環状の領域の幅の中点となる位置に設定されていると好ましい。
As shown in FIG. 6, the measurement point set on the upper surface Fa of the ring frame F and the
測定点は、少なくとも、図1に示すシートT1の送り方向であるX軸方向においてリングフレームFの開口Fcの中心を中心として対称に設定された第1測定点P1及び第2測定点P2の2つである。
なお、測定点は、上記第1測定点P1及び第2測定点P2に加えて、図6に示すシートT1の送り方向であるX軸方向に水平面内で直交するY軸方向において開口Fcの中心を中心として対称に、図6に示す第3測定点P3及び第4測定点P4がさらに設定されていてもよい。なお、シートT1の送り方向に直交するY軸方向においては、テープT2のリングフレームFに対する貼着ずれはあまり生じないため、第3測定点P3及び第4測定点P4が設定されなくてもよい。
The measurement points are at least 2 of the first measurement point P1 and the second measurement point P2 set symmetrically about the center of the opening Fc of the ring frame F in the X-axis direction which is the feed direction of the sheet T1 shown in FIG. It is one.
The measurement point is the center of the opening Fc in the Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction, which is the feed direction of the sheet T1 shown in FIG. 6, in the horizontal plane, in addition to the first measurement point P1 and the second measurement point P2. The third measurement point P3 and the fourth measurement point P4 shown in FIG. 6 may be further set symmetrically with respect to the center. In the Y-axis direction orthogonal to the feeding direction of the sheet T1, the attachment deviation of the tape T2 to the ring frame F does not occur so much, so that the third measurement point P3 and the fourth measurement point P4 do not have to be set. ..
図1、5、6に示すセンサ6は、例えば、貼着手段22を通過した位置まで−X方向に移動した状態のリングフレーム保持テーブル20の上方において、リングフレーム保持テーブル20の上面20aとZ軸方向において対向するように配設されている。
実施形態1のセンサ6は、例えば、回帰反射形の光電センサであり、リングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から測定点に向かって測定光を投光する投光部60と、測定点に対し投光部60と例えば対称位置に配置され測定点で反射した測定光を回帰反射させる回帰反射板62と、回帰反射板62で反射した反射光が測定点でさらに反射した反射光を投光部60の近傍で受光する受光部61と、からなる。
なお、測定光は、スポットタイプのレーザー光線を用いると細線状の測定光を測定点に照射することとなり、測定点にテープT2が貼着されているか否かの判断が容易になる。
The
The
If a spot-type laser beam is used as the measurement light, the measurement point is irradiated with the fine line-shaped measurement light, and it becomes easy to determine whether or not the tape T2 is attached to the measurement point.
図6、8に示すように、センサ6は、例えば、外部光を遮光可能であると共に下部側に測定光を通過可能とする開口630が設けられた筐体63を備えており、筐体63は、例えば、テーブル移動手段13によるリングフレーム保持テーブル20の移動方向であるX軸方向に直交するY軸方向に延在している。
As shown in FIGS. 6 and 8, the
投光部60及び受光部61は、例えば、図6、8において筐体63の+Y方向側の部位に、並べて配設されている。投光部60は、例えば、低出力の細線状のレーザー光を斜め下方に向かって一直線に照射できる。投光部60が照射したレーザ光は所定の入射角でセンサ6の下方に位置したリングフレームFに入射する。なお、例えば、レーザ光の入射角度及びレーザ光の集光点の高さ位置は、図示しない調整手段によって調整可能となっていてもよい。受光部61は、例えば、CCD等の受光素子で構成されている。
The
例えば、リングフレーム保持テーブル20の上面20a上でセンタリングされた状態のリングフレームFに設定されている第1測定点P1及び第2測定点P2は、リングフレーム保持テーブル20のX軸方向に平行な中心線上に位置付けられている。そして、鏡面ミラー等の回帰反射板62は、例えば、リングフレーム保持テーブル20のX軸方向に平行な中心線を対称軸として、筐体63の−Y方向側の部位に配設されており、図1に示すテーブル移動手段13によってリングフレーム保持テーブル20が−X方向に移動されて、第1測定点P1が投光部60の光軸上に位置すると、第1測定点P1に対し投光部60とY軸方向において対称位置に配置された状態になる。
For example, the first measurement point P1 and the second measurement point P2 set in the ring frame F in the centered state on the
例えば、図1に示すように、テープマウンタ1は、装置全体の制御、即ち、上記に説明したテーブル移動手段13、第1の可動位置決め部24、及び第2の可動位置決め部27、シート巻き取りローラ16、及びセンサ6等の各構成要素の動作を制御するCPU等からなる制御手段9を備えている。そして、本実施形態においては、受光部61が受光する受光量についての基準値を設定する設定部90、及び測定点にテープが貼着されているか否かを判断する判断部92が、制御手段9に含まれている。
For example, as shown in FIG. 1, the
本実施形態におけるテープマウンタ1は、測定光をリングフレームFの上面Faで反射させた反射光、即ち、例えばテープT2が貼着されていない状態のリングフレームFの上面Faで反射させた反射光を受光部61が受光した際の受光量を記憶する記憶部95を備えている。記憶部95は、例えば、制御手段9に含まれ、制御プログラムや予め設定される加工情報等を格納するROM、及びセンサ6の測定結果等を格納するRAM等から構成されている。
The
以下に、テープマウンタ1において、ウェーハW、リングフレームF、及びテープT2からなるウェーハセットのテープT2の中心がリングフレームFの中心(開口Fcの中心)と一致して貼着されているか否かの判断が行われる場合について説明する。
Below, in the
図1に示す制御手段9は、テーブル移動手段13を制御することで、テープマウンタ1上におけるリングフレーム保持テーブル20のX軸座標位置を常に把握している。そして、図1に示すテーブル移動手段13によって−X方向に送られるリングフレーム保持テーブル20が貼着手段22を通過し、図5に示すように、テープT2がリングフレームFに貼着されてから、さらにリングフレーム保持テーブル20がX軸方向における所定の座標位置まで−X方向に移動する。
The control means 9 shown in FIG. 1 constantly grasps the X-axis coordinate position of the ring frame holding table 20 on the
リングフレームFは、リングフレーム保持テーブル20上でセンタリングされているため、リングフレーム保持テーブル20がX軸方向における所定の座標位置まで移動することで、制御手段9は、第1測定点P1が、X軸方向における予め把握された座標位置、即ち、図6、8に示すように、センサ6の投光部60の光軸上に位置づけられたと判断する。そして、制御手段9に電気的に接続されているセンサ6に対して、制御手段9から動作信号が送られ、センサ6の投光部60がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第1測定点P1に向かって細線状の測定光を投光する。
Since the ring frame F is centered on the ring frame holding table 20, the ring frame holding table 20 moves to a predetermined coordinate position in the X-axis direction, so that the control means 9 sets the first measurement point P1. It is determined that the coordinate position is grasped in advance in the X-axis direction, that is, it is positioned on the optical axis of the
図6に示すように、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されている場合には、図8に示すように、測定光がテープT2を透過して、リングフレームFの上面Faの第1測定点P1で反射する。リングフレームFの上面Faの第1測定点P1で反射した測定光は、第1測定点P1に対しY軸方向において投光部60と対称位置に配置された回帰反射板62で回帰反射され、第1測定点P1で再び反射して、投光部60の近傍で受光部61に受光される。第1測定点P1に対する投光によって受光部61が受光した図9に示す受光量V2は、図8に示す制御手段9の記憶部95の例えばRAMに記憶される。
As shown in FIG. 6, when the center of the tape T2 is attached so as to coincide with the center of the ring frame F, the measurement light passes through the tape T2 and is attached to the ring frame F as shown in FIG. Reflects at the first measurement point P1 on the upper surface Fa of the above. The measurement light reflected at the first measurement point P1 on the upper surface Fa of the ring frame F is retroreflected by the
図6、8に示すリングフレーム保持テーブル20がさらに−X方向に移動されることで、制御手段9は、第2測定点P2がX軸方向における予め把握された座標位置、即ち、センサ6の投光部60の光軸上に位置づけられたと判断する。そして、センサ6の投光部60がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第2測定点P2に向かって細線状の測定光を投光する。
By further moving the ring frame holding table 20 shown in FIGS. 6 and 8 in the −X direction, the control means 9 has the coordinate position where the second measurement point P2 is grasped in advance in the X-axis direction, that is, the
図6に示すように、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されている場合には、測定光がテープT2を透過して、リングフレームFの上面Faの第2測定点P2で反射する。リングフレームFの上面Faで反射した測定光は、第2測定点P2に対しY軸方向において投光部60と対称位置に配置された回帰反射板62で回帰反射され、第2測定点P2で再び反射して、投光部60の近傍で受光部61に受光される。第2測定点P2に対する投光によって受光部61が受光した受光量は、図9に示す受光量V2である。
As shown in FIG. 6, when the center of the tape T2 is attached so as to coincide with the center of the ring frame F, the measurement light passes through the tape T2 and the second measurement of the upper surface Fa of the ring frame F is performed. Reflects at point P2. The measurement light reflected by the upper surface Fa of the ring frame F is retroreflected by the
過去の実験等によって得られ記憶部95のROMに記憶されているリングフレームFの上面Faで反射させた反射光を受光部61が受光した際の受光量、即ち、本実施形態においては、投光部60からリングフレームFの上面Faに投光され、リングフレームFの上面Faで反射した測定光が回帰反射板62で反射し、回帰反射板62で回帰反射した反射光を受光部61が受光した際の受光量は、例えば、図9に示す受光量V1となっている。
そして、本実施形態における図8に示す設定部90は、記憶部95に記憶されている受光量V1を、判断部92がテープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されているか否かの判断を行うために用いる、受光部61が受光する受光量についての基準値V1として判断部92に設定する。
The amount of received light when the
Then, in the
判断部92は、先ほど得られ記憶部95のRAMに記憶された第1測定点P1に対する投光によって受光部61が受光した受光量V2、及び第2測定点P2に対する投光によって受光部61が受光した受光量V2を、それぞれ、記憶部95に記憶されている受光量V1(基準値V1)と比較する。ここで、受光量V2は、投光部60が照射した測定光のテープT2の透過による減衰を経て受光部61で受光された反射光の量であるため、受光量V1よりも小さい値である。
したがって、判断部92は、図6に示す第1測定点P1に対する投光によって受光部61が受光した受光量V2、及び第2測定点P2に対する投光によって受光部61が受光した受光量V2が、基準値である受光量V1よりそれぞれ小さいと判断して、リングフレームFの上面Faの第1測定点P1及び第2測定点P2にテープT2が貼着されていると判断し、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていると判断する。
なお、本実施形態においては、第1測定点P1及び第2測定点P2に対する測定光の照射によって上記判断が行われているが、さらに、センサ6による第3測定点P3及び第4測定点P4に対する測定光の照射により得られたデータも加味して、判断部92は上記判断を行ってもよい。
In the
Therefore, in the
In the present embodiment, the above determination is made by irradiating the first measurement point P1 and the second measurement point P2 with the measurement light, but further, the third measurement point P3 and the fourth measurement point P4 by the
本実施形態においては、テープT2は、透明なテープであるが、テープT2が不透明なテープ(着色されたテープ)である場合には、図6に示す第1測定点P1に対する投光によって受光部61が受光した受光量は、図9に示す受光量V3となる。また、第2測定点P2に対する投光によって受光部61が受光した受光量は、図9に示す受光量V3となる。受光量V3は、投光部60が照射した測定光が不透明なテープによる吸収や散乱を経て受光部61で受光された反射光の量であるため、受光量V1や受光量V2よりも小さい値である。したがって、判断部92は、第1測定点P1に対する投光によって受光部61が受光した受光量V3、及び第2測定点P2に対する投光によって受光部61が受光した受光量V3が基準値である受光量V1よりそれぞれ小さいと判断して、第1測定点P1及び第2測定点P2にテープT2が貼着されていると判断し、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていると判断することができる。
In the present embodiment, the tape T2 is a transparent tape, but when the tape T2 is an opaque tape (colored tape), the light receiving portion is projected onto the first measurement point P1 shown in FIG. The light receiving amount received by the 61 is the light receiving amount V3 shown in FIG. Further, the light receiving amount received by the
例えば、図8に示す判断部92による上記判断が実施された後に、ウェーハセットは、図示しない搬送手段によってウェーハカセットに収容される。ウェーハカセットは、複数の棚を備えており、該棚に一枚ずつウェーハセットが収容される。
For example, after the determination by the
例えば、図7に示すように、ウェーハセットのテープT2の中心がリングフレームFの中心(開口Fcの中心)と一致して貼着されていない場合における、判断部92の判断について説明する。
図7に示すように、リングフレーム保持テーブル20がX軸方向における所定の座標位置まで移動することで、制御手段9は、第1測定点P1が、X軸方向における予め把握された座標位置に位置づけられた、即ち、図7、図10に示すように、センサ6の投光部60の光軸上に位置づけられたと判断する。そして、センサ6に対して、動作信号が制御手段9から送られ、投光部60がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第1測定点P1に向かって細線状の測定光を投光する。
For example, as shown in FIG. 7, the determination of the
As shown in FIG. 7, when the ring frame holding table 20 moves to a predetermined coordinate position in the X-axis direction, the control means 9 moves the first measurement point P1 to the coordinate position previously grasped in the X-axis direction. It is determined that it is positioned, that is, it is positioned on the optical axis of the
図10に示すように、投光部60がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第1測定点P1に向かって細線状の測定光を投光すると、第1測定点P1上にテープT2が存在しないため、測定光は直にリングフレームFの上面Faの第1測定点P1で反射する。リングフレームFの上面Faで反射した測定光は、回帰反射板62で回帰反射され、第1測定点P1で再び反射して、投光部60の近傍で受光部61に受光される。受光部61が受光した受光量は、例えば、図9に示す受光量V1となる。これは、測定光のテープT2の透過に伴う減衰が起きないためである。受光量V1は、制御手段9の記憶部95のRAMに記憶される。
As shown in FIG. 10, when the
図7に示すリングフレーム保持テーブル20がさらに−X方向に移動され、X軸方向における所定の座標位置まで移動することで、制御手段9は、図11に示すように、センサ6の投光部60の光軸上に第2測定点P2が位置づけられたと判断する。そして、センサ6の投光部60がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第2測定点P2に向かって細線状の測定光を投光する。
The ring frame holding table 20 shown in FIG. 7 is further moved in the −X direction and moved to a predetermined coordinate position in the X-axis direction, so that the control means 9 moves the light projecting unit of the
図7に示すように、テープT2の中心がリングフレームFの中心に対して+X方向側にずれてしまっているため、図11に示すように、測定光がテープT2を透過して、リングフレームFの上面Faの第2測定点P2で反射する。リングフレームFの上面Faで反射した測定光は、回帰反射板62で回帰反射され、第2測定点P2で再び反射して、投光部60の近傍で受光部61に受光される。第2測定点P2に対する投光によって受光部61が受光した受光量は、投光部60が照射した測定光のテープT2の透過による減衰を経て受光部61で受光された反射光の量であるため、図9に示す受光量V2である。
As shown in FIG. 7, since the center of the tape T2 is displaced in the + X direction with respect to the center of the ring frame F, as shown in FIG. 11, the measurement light passes through the tape T2 and the ring frame. It is reflected at the second measurement point P2 on the upper surface Fa of F. The measurement light reflected by the upper surface Fa of the ring frame F is retroreflected by the
判断部92は、記憶部95のRAMに記憶された第1測定点P1に対する投光によって受光部61が受光した受光量V1、及び第2測定点P2に対する投光によって受光部61が受光した受光量V2を、それぞれ、記憶部95のROMに記憶されている基準値である受光量V1と比較する。そして、判断部92は、第1測定点P1に対する投光によって受光部61が受光した受光量V1が基準値である受光量V1以上(即ち、同じ)であると判断して、第1測定点P1にテープT2が貼られていないと判断し、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていないと判断する。
なお、本実施形態においては、第1測定点P1及び第2測定点P2に対する測定光の照射によって上記判断が行われているが、さらに、第3測定点P3及び第4測定点P4に対する測定光の照射により得られたデータも加味して、判断部92は上記判断を行ってもよい。
The
In the present embodiment, the above determination is made by irradiating the first measurement point P1 and the second measurement point P2 with the measurement light, but further, the measurement light for the third measurement point P3 and the fourth measurement point P4. The
判断部92は、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていないと判断した場合には、警報音を鳴らす又はエラーを表示する等して、作業者に該判断を通知する。判断部92による上記判断が実施された後に、該判断された不良なウェーハセットは、図示しない搬送手段によってウェーハカセットに収容されるが、作業者は該不良なウェーハセットが収容されているウェーハカセットの棚の位置を把握できるため、その後、該不良なウェーハセットをウェーハカセットから取り除くことができる。
例えば、制御手段9によって、不良なウェーハセットが収容されたウェーハカセットの棚の段数が記憶されてもよい。
また、不良なウェーハセットを載置する抜き取りテーブルを備え、図示しない搬送手段によって、該抜き取りテーブルに不良なウェーハセットを搬送させてもよい。
When the
For example, the control means 9 may store the number of shelves in the wafer cassette containing the defective wafer set.
Further, a sampling table on which a defective wafer set is placed may be provided, and the defective wafer set may be transported to the sampling table by a transport means (not shown).
上記のように本発明に係るテープマウンタ1は、リングフレームFの上面FaでテープT2が貼着されているべき領域の測定点に測定光を投光する投光部60と、測定点で反射した反射光を受光する受光部61と、からなるセンサ6と、受光部61が受光する受光量についての基準値を設定する設定部90と、判断部92と、を備え、判断部92が、受光部61が受光した受光量が基準値より小さい場合は、測定点にテープT2が貼着されていると判断し、受光部61が受光した受光量が基準値以上の場合は、測定点にテープT2が貼着されていないと判断することができ、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されているか否かを確認できる。即ち、従来は、透過型センサで、リングフレームFのテープT2が貼られていない箇所を確認することができていたが、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されているか否か、換言すれば、リングフレームFの開口Fcの周囲においてテープT2の貼り付け面積が部分的に狭くなっているところが有るか否かは確認することができなかった。しかし、本発明に係るテープマウンタ1は、例えば、センサ6が測定する測定点を、リングフレームFの開口Fcより少し外側の領域(テープT2が貼り付けられているべき領域)内に設定し、リングフレームFに対するテープT2の貼り付け面積が狭くなっている箇所(測定点上にテープT2が貼着されていない箇所)があれば、受光部61が受光するリングフレームFからの反射光の受光量が基準値以上となり、判断部92が、テープT2の貼り付け面積が部分的に狭くなっているところが有り、テープT2がリングフレームFから剥がれやすくなっている箇所があると判断できる。
As described above, the
本発明に係るテープマウンタ1は、測定光をリングフレームFの上面Faで反射させた反射光を受光部61が受光した際の受光量を記憶する記憶部95を備え、設定部90は、記憶部95に記憶された値を基準値として設定することで、判断部92がテープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されているか否かを判断するための基準値を、適切に設定できる。
The
本発明に係るテープマウンタ1において、実施形態1のセンサ6のように、センサ6は、リングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から測定点に向かって測定光を投光する投光部60と、測定点に対し投光部60と対称位置に配置され測定点で反射した測定光を回帰反射させる回帰反射板62と、回帰反射板62で反射した反射光が測定点でさらに反射した反射光を投光部60の近傍で受光する受光部61と、からなることで、テープT2が透明なテープであっても、又は不透明なテープであっても、判断部92が、受光部61が受光した受光量が基準値より小さい場合は、測定点にテープT2が貼着されていると判断し、受光部61が受光した受光量が基準値以上の場合は、測定点にテープT2が貼着されていないと判断することができ、テープT2の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されているか否かを判断できる。
In the
図1に示すテープマウンタ1は、例えば、リングフレームFに貼着したテープが、透明なテープT2ではなく、可視光に対して透明でない着色されたテープT3(図12参照)である場合には、実施形態1のセンサ6の代わりに、以下に説明する図12、13に示す実施形態2のセンサ6Aを備えていてもよい。
The
実施形態2のセンサ6Aは、例えば、限定反射形の光電センサであり、リングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から測定点に向かって測定光を投光する投光部66と、測定点に対し投光部66と対称位置に配置され測定点で反射した反射光を受光する受光部67と、からなる。
The
センサ6Aは、例えば、図1に示す貼着手段22を通過した位置まで−X方向に移動した状態のリングフレーム保持テーブル20の上方において、リングフレーム保持テーブル20の上面20aとZ軸方向において対向するように配設されている。投光部66は、例えば、図12に示すように筐体63の+Y方向側の部位に配設されている。例えば、投光部66は、内蔵する光源から出射された光を矩形のスリットを通し、このスリットの透過光をコリメータレンズを通して平行光(測定光)に変換し、測定光を所定の幅を保ちつつ、斜め下方に向かって照射できる。なお、例えば、所定幅の測定光の入射角度等は、図示しない調整手段によって調整可能となっていてもよい。また、測定光が所定の幅を直径とする円柱状を形成していてもよい。
For example, the
例えば、リングフレーム保持テーブル20の上面20a上でセンタリングされた状態のリングフレームFに設定されている第1測定点P1及び第2測定点P2は、リングフレーム保持テーブル20のX軸方向に平行な中心線上に位置付けられている。そして、受光部67は、例えば、リングフレーム保持テーブル20のX軸方向に平行な中心線を対称軸として、筐体63の−Y方向側の部位に配設されており、図1に示すテーブル移動手段13によってリングフレーム保持テーブル20が−X方向に移動されて、第1測定点P1が投光部66の光軸上に位置すると、第1測定点P1に対し投光部66とY軸方向において対称位置に配置された状態になる。
For example, the first measurement point P1 and the second measurement point P2 set in the ring frame F in the centered state on the
以下に、実施形態2のセンサ6Aを備えるテープマウンタ1において、図12に示すテープT3の中心がリングフレームFの中心(開口Fcの中心)と一致して貼着されているか否かの判断が、判断部92によって行われる場合について説明する。
Below, in the
図1に示す制御手段9による制御の下で、テーブル移動手段13によって−X方向に送られるリングフレーム保持テーブル20が貼着手段22を通過し、図12に示すテープT3がリングフレームFに貼着されてから、さらにリングフレーム保持テーブル20がX軸方向における所定の座標位置まで−X方向に移動する。
Under the control of the control means 9 shown in FIG. 1, the ring frame holding table 20 sent in the −X direction by the table moving means 13 passes through the attaching
リングフレームFは、リングフレーム保持テーブル20上でセンタリングされているため、リングフレーム保持テーブル20がX軸方向における所定の座標位置まで移動することで、制御手段9は、第1測定点P1が、X軸方向における予め把握された座標位置、即ち、図12、図13に示すように、センサ6Aの投光部66の光軸上に位置づけられたと判断する。そして、制御手段9に電気的に接続されているセンサ6Aに対して、制御手段9から動作信号が送られ、投光部66がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第1測定点P1に向かって所定幅の測定光を投光する。
Since the ring frame F is centered on the ring frame holding table 20, the ring frame holding table 20 moves to a predetermined coordinate position in the X-axis direction, so that the control means 9 sets the first measurement point P1. It is determined that the coordinate position is grasped in advance in the X-axis direction, that is, as shown in FIGS. 12 and 13, the position is on the optical axis of the
限定反射形のセンサ6Aは、投光部66と受光部67とが同じ傾き角をもって交差しており、それぞれの光軸が交差する限られた領域、即ち、ある限定された距離の正反射光のみを受光部67は受光する。そして、投光部66と受光部67とは、例えば、予め、リングフレームFの上面Faで直に反射した反射光を受光部67が受光するように、その高さ位置等が設定されている。
したがって、図12に示すように、テープT3の中心がリングフレームFの中心(開口Fcの中心)と一致して貼着されている場合には、図13に示すように、測定光が第1測定点P1におけるリングフレームFの上面Faに貼着されたテープT3の上面で反射するため、受光部67は測定光の反射光を殆ど受光しない。よって、第1測定点P1に対する投光によって受光部67が受光した受光量は、例えば、図14に示す少ない受光量V4となる。測定された受光量V4は、制御手段9の記憶部95のRAMに記憶される。
In the limited
Therefore, as shown in FIG. 12, when the center of the tape T3 is attached so as to coincide with the center of the ring frame F (the center of the opening Fc), the measurement light is the first as shown in FIG. Since the light is reflected by the upper surface of the tape T3 attached to the upper surface Fa of the ring frame F at the measurement point P1, the
図12に示すリングフレーム保持テーブル20がさらに−X方向に移動され、X軸方向における所定の座標位置まで移動することで、制御手段9は、第2測定点P2がセンサ6Aの投光部66の光軸上に位置づけられたと判断する。そして、センサ6Aの投光部66がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第2測定点P2に向かって所定幅の測定光を投光する。
The ring frame holding table 20 shown in FIG. 12 is further moved in the −X direction and moved to a predetermined coordinate position in the X-axis direction, so that the control means 9 has the second measurement point P2 as the
図12に示すように、テープT3の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されている場合には、測定光が第2測定点P2におけるリングフレームFの上面Faに貼着されたテープT3の上面で反射するため、受光部67は測定光の反射光を殆ど受光しない。よって、第2測定点P2に対する投光によって受光部67が受光した受光量は、例えば、図14に示す受光量V4となる。
As shown in FIG. 12, when the center of the tape T3 is attached so as to coincide with the center of the ring frame F, the measurement light is attached to the upper surface Fa of the ring frame F at the second measurement point P2. Since the light is reflected on the upper surface of the tape T3, the
過去の実験等によって得られ記憶部95のROMに記憶されている、投光部66が投光しリングフレームFの上面Faで反射させた反射光を受光部67が受光した際の受光量は、例えば、図14に示す受光量V5となっている。
そして、本実施形態における図13に示す設定部90は、記憶部95に記憶されている受光量V5を、判断部92がテープT3の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されているか否かの判断を行うために用いる、受光部67が受光する受光量についての基準値V5として判断部92に設定する。
The amount of received light when the
Then, in the
判断部92は、先ほど得られ記憶部95のRAMに記憶された第1測定点P1に対する投光によって受光部67が受光した受光量V4、及び第2測定点P2に対する投光によって受光部67が受光した受光量V4を、それぞれ、記憶部95に記憶されている受光量V5(基準値V5)と比較する。そして、判断部92は、図12、13に示す第1測定点P1に対する投光によって受光部67が受光した受光量V4、及び第2測定点P2に対する投光によって受光部67が受光した受光量V4が、基準値である受光量V5よりそれぞれ小さいと判断して、リングフレームFの上面Faの第1測定点P1及び第2測定点P2にテープT3が貼着されていると判断し、テープT3の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていると判断する。
なお、本実施形態においては、第1測定点P1及び第2測定点P2に対する測定光の照射によって上記判断が行われているが、さらに、センサ6Aによる第3測定点P3及び第4測定点P4に対する測定光の照射により得られたデータも加味して、判断部92は上記判断を行ってもよい。
In the
In the present embodiment, the above determination is made by irradiating the first measurement point P1 and the second measurement point P2 with the measurement light, but further, the third measurement point P3 and the fourth measurement point P4 by the
例えば、図13に示す判断部92による上記判断が実施された後に、ウェーハセットは、図示しない搬送手段によってウェーハカセットに収容される。ウェーハカセットは、複数の棚を備えており、該棚に一枚ずつウェーハセットが収容される。
For example, after the determination by the
例えば、図15に示すように、ウェーハセットのテープT3の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていない場合について説明する。
図15、16に示すように、リングフレーム保持テーブル20がX軸方向における所定の座標位置まで移動することで、制御手段9は、第1測定点P1が、センサ6Aの投光部66の光軸上に位置づけられたと判断する。そして、図16に示すように、センサ6Aに対して、動作信号が制御手段9から送られ、センサ6Aの投光部66がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第1測定点P1に向かって所定幅の測定光を投光する。
For example, as shown in FIG. 15, a case where the center of the tape T3 of the wafer set coincides with the center of the ring frame F and is not attached will be described.
As shown in FIGS. 15 and 16, when the ring frame holding table 20 moves to a predetermined coordinate position in the X-axis direction, the control means 9 has the first measurement point P1 as the light of the
図16に示すように、投光部66がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第1測定点P1に向かって所定幅の測定光を投光すると、第1測定点P1上にテープT3が存在しないため、測定光はリングフレームFの上面Faの第1測定点P1で反射する。リングフレームFの上面Faで反射した測定光は、受光部67に受光される。受光部61が受光した受光量は、例えば、図14に示す受光量V5となる。受光量V5は、制御手段9の記憶部95のRAMに記憶される。
As shown in FIG. 16, when the
図15に示すリングフレーム保持テーブル20がさらに−X方向に移動され、X軸方向における所定の座標位置まで移動することで、制御手段9は、図17に示すように、センサ6Aの投光部66の光軸上に第2測定点P2が位置づけられたと判断する。そして、センサ6Aの投光部66がリングフレームFの上面Faに対し斜め上方向から第2測定点P2に向かって所定幅の測定光を投光する。
The ring frame holding table 20 shown in FIG. 15 is further moved in the −X direction and moved to a predetermined coordinate position in the X-axis direction, so that the control means 9 moves the light projecting unit of the
図17に示すように、測定光が第2測定点P2におけるリングフレームFの上面Faに貼着されたテープT3の上面で反射するため、受光部67は測定光の反射光を殆ど受光しない。よって、第2測定点P2に対する投光によって受光部67が受光した受光量は、例えば、図14に示す少ない受光量V4となる。
As shown in FIG. 17, since the measurement light is reflected by the upper surface of the tape T3 attached to the upper surface Fa of the ring frame F at the second measurement point P2, the
図15に示す判断部92は、記憶部95のRAMに記憶された第1測定点P1に対する投光によって受光部67が受光した受光量V5、及び第2測定点P2に対する投光によって受光部67が受光した受光量V4を、それぞれ、記憶部95のROMに記憶されている基準値である受光量V5と比較する。そして、判断部92は、第1測定点P1に対する投光によって受光部67が受光した受光量V5が基準値である受光量V5以上(即ち、同じ)であると判断して、第1測定点P1にテープT3が貼られていないと判断し、テープT3の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていないと判断する。
なお、本実施形態においては、第1測定点P1及び第2測定点P2に対する測定光の照射によって上記判断が行われているが、さらに、第3測定点P3及び第4測定点P4に対する測定光の照射により得られたデータも加味して、判断部92は上記判断を行ってもよい。
The
In the present embodiment, the above determination is made by irradiating the first measurement point P1 and the second measurement point P2 with the measurement light, but further, the measurement light for the third measurement point P3 and the fourth measurement point P4. The
判断部92は、テープT3の中心がリングフレームFの中心と一致して貼着されていないと判断した場合には、警報音を鳴らす又はエラーを表示する等して、作業者に該判断を通知する。判断部92による上記判断が実施された後に、該判断された不良なウェーハセットは、図示しない搬送手段によってウェーハカセットに収容されるが、作業者は該不良なウェーハセットが収容されているウェーハカセットの棚の位置を把握できるため、その後、該不良なウェーハセットをウェーハカセットから取り除くことができる。
例えば、制御手段9によって、不良なウェーハセットが収容されたウェーハカセットの棚の段数が記憶されてもよい。
また、不良なウェーハセットを載置する抜き取りテーブルを備え、図示しない搬送手段によって、該抜き取りテーブルに不良なウェーハセットを搬送させてもよい。
When the
For example, the control means 9 may store the number of shelves in the wafer cassette containing the defective wafer set.
Further, a sampling table on which a defective wafer set is placed may be provided, and the defective wafer set may be transported to the sampling table by a transport means (not shown).
なお、本発明に係るテープマウンタ1は上記実施形態に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている各構成等についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
The
1:テープマウンタ 10:基台
TR:テープロール T1:シート T2:テープ 19:巻筒
F:リングフレーム Fc:リングフレームの開口 Fd:第1平坦面 Fe:第2平坦面
W:ウェーハ Wa:ウェーハの下面 Wb:ウェーハの上面
15:ピールプレート 16:巻き取りローラ 160:シート支持ローラ
20:リングフレーム保持テーブル 20a:上面
200:凹部 201:吸盤収容部 25:吸盤
21:ウェーハ保持テーブル 210:吸着部 210a:保持面 211:枠体
22:貼着手段
23:第1の固定位置決め部 24:第1の可動位置決め部
26:第2の固定位置決め部 27:第2の可動位置決め部
13:テーブル移動手段 130:ボールネジ 131:ガイドレール 132:モータ
6:実施形態1のセンサ 60:投光部 61:受光部 62:回帰反射板
9:制御手段 90:設定部 92:判断部 95:記憶部
6A:実施形態2のセンサ 66:投光部 67:受光部
1: Tape mounter 10: Base TR: Tape roll T1: Sheet T2: Tape 19: Winding cylinder F: Ring frame Fc: Ring frame opening Fd: First flat surface Fe: Second flat surface W: Wafer Wa: Wafer Lower surface Wb: Upper surface of wafer 15: Peel plate 16: Winding roller 160: Sheet support roller 20: Ring frame holding table 20a: Upper surface 200: Recessed 201: Sucker accommodating part 25: Sucker
21: Wafer holding table 210:
Claims (4)
該リングフレームの上面で該テープが貼着されているべき領域の測定点に測定光を投光する投光部と、該測定点で反射した反射光を受光する受光部と、からなるセンサと、
該受光部が受光する受光量についての基準値を設定する設定部と、
該受光部が受光した受光量が該基準値より小さい場合は、該測定点に該テープが貼着されていると判断し、該受光部が受光した受光量が該基準値以上の場合は、該測定点にテープが貼着されていないと判断する判断部と、を備えるテープマウンタ。 A ring frame holding table that holds the ring frame, a wafer holding table that holds the wafer within the opening of the ring frame, an upper surface of the ring frame held by the ring frame holding table, and a wafer holding table held by the wafer holding table. A tape mounter comprising a sticking means for sticking a circular tape to the upper surface of a wafer.
A sensor including a light projecting unit that projects measurement light onto a measurement point in an area on the upper surface of the ring frame to which the tape should be attached, and a light receiving unit that receives reflected light reflected at the measurement point. ,
A setting unit that sets a reference value for the amount of light received by the light receiving unit, and
If the amount of light received by the light receiving unit is smaller than the reference value, it is determined that the tape is attached to the measurement point, and if the amount of light received by the light receiving unit is greater than or equal to the reference value, it is determined that the tape is attached. A tape mounter including a determination unit for determining that no tape is attached to the measurement point.
前記設定部は、該記憶部に記憶された値を前記基準値として設定する請求項1記載のテープマウンタ。 A storage unit for storing the amount of light received when the light receiving unit receives the reflected light obtained by reflecting the measurement light on the upper surface of the ring frame is provided.
The tape mounter according to claim 1, wherein the setting unit sets a value stored in the storage unit as the reference value.
前記リングフレームの上面に対し斜め上方向から前記測定点に向かって前記測定光を投光する前記投光部と、
該測定点に対し該投光部と対称位置に配置され該測定点で反射した該測定光を回帰反射させる回帰反射板と、
該回帰反射板で反射した反射光が該測定点でさらに反射した反射光を該投光部の近傍で受光する前記受光部と、からなる請求項1、又は2記載のテープマウンタ。 The sensor is
The light projecting unit that projects the measurement light from an obliquely upward direction with respect to the upper surface of the ring frame toward the measurement point.
A retroreflector arranged at a position symmetrical to the light projecting portion with respect to the measurement point and retroreflecting the measurement light reflected at the measurement point.
The tape mounter according to claim 1 or 2, comprising the light receiving portion in which the reflected light reflected by the retrospective reflector receives the reflected light further reflected at the measurement point in the vicinity of the light projecting portion.
前記リングフレームの上面に対し斜め上方向から前記測定点に向かって前記測定光を投光する前記投光部と、
該測定点に対し該投光部と対称位置に配置され該測定点で反射した反射光を受光する前記受光部と、からなる請求項1、又は2記載のテープマウンタ。 The sensor is
The light projecting unit that projects the measurement light from an obliquely upward direction with respect to the upper surface of the ring frame toward the measurement point.
The tape mounter according to claim 1 or 2, wherein the light receiving portion is arranged at a position symmetrical to the light emitting portion with respect to the measuring point and receives the reflected light reflected at the measuring point.
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117297623B (en) * | 2023-11-24 | 2024-02-06 | 四川大学华西医院 | Cardiac patch sensing device |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07311312A (en) * | 1994-03-25 | 1995-11-28 | Omron Corp | Optical sensor device |
JPH10221905A (en) * | 1997-02-06 | 1998-08-21 | Canon Inc | Transfer material discriminating device and image forming device provided with the same |
JP2011054715A (en) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | Laser beam machining apparatus |
JP2015220365A (en) * | 2014-05-19 | 2015-12-07 | 株式会社ディスコ | Tape adhering device |
JP2016008104A (en) * | 2014-06-24 | 2016-01-18 | 株式会社ディスコ | Tape sticking device |
JP2017204615A (en) * | 2016-05-13 | 2017-11-16 | 株式会社ディスコ | Tape sticking device |
JP2018049913A (en) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | 株式会社ディスコ | Wafer processing method |
JP3220069U (en) * | 2018-10-23 | 2019-02-14 | リンテック株式会社 | Sheet pasting device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011036968A (en) | 2009-08-17 | 2011-02-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | Positioning mechanism and grinding device |
JP5866658B2 (en) | 2011-10-12 | 2016-02-17 | 株式会社ディスコ | Positioning mechanism |
-
2019
- 2019-07-22 JP JP2019134431A patent/JP7368131B2/en active Active
-
2020
- 2020-06-17 KR KR1020200073315A patent/KR20210011324A/en active Search and Examination
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- 2020-07-20 CN CN202010696644.4A patent/CN112289730A/en active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07311312A (en) * | 1994-03-25 | 1995-11-28 | Omron Corp | Optical sensor device |
JPH10221905A (en) * | 1997-02-06 | 1998-08-21 | Canon Inc | Transfer material discriminating device and image forming device provided with the same |
JP2011054715A (en) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | Laser beam machining apparatus |
JP2015220365A (en) * | 2014-05-19 | 2015-12-07 | 株式会社ディスコ | Tape adhering device |
JP2016008104A (en) * | 2014-06-24 | 2016-01-18 | 株式会社ディスコ | Tape sticking device |
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