JP2021013955A - Tig溶接方法 - Google Patents
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〔1〕 被溶接物と非消耗電極との間でアークを発生させると共に、前記アークによって生じた被溶接物の溶融池に向かってシールドガスを放出しながら溶接を行うTIG溶接方法であって、
前記アークの圧力により前記溶融池を凹ませた状態で、前記溶融池にキーホールを形成しながら裏波溶接を行うことを特徴とするTIG溶接方法。
〔2〕 前記被溶接物と前記非消耗電極との間でアークを発生させた後に、前記非消耗電極の先端を前記溶融池に接近する側に移動させるステップと、
前記被溶接物から前記非消耗電極の先端までの距離を保ちながら、前記被溶接物に対して前記非消耗電極を溶接線方向に相対的に走査しながら裏波溶接を行うステップと、
前記非消耗電極の先端を前記溶融池に離間する側に移動させるステップとを、この順で含むことを特徴とする前記〔1〕に記載のTIG溶接方法。
〔3〕 前記被溶接物の表面又は開先の底を基準高さとしたときに、この基準高さから前記非消耗電極の先端までの距離を上方に0〜3mmの範囲としながら裏波溶接を行うことを特徴とする前記〔1〕又は〔2〕に記載のTIG溶接方法。
〔4〕 前記被溶接物の表面又は開先の底を基準高さとしたときに、この基準高さから前記非消耗電極の先端までの距離を下方に0〜3mmの範囲としながら裏波溶接を行うことを特徴とする前記〔1〕又は〔2〕に記載のTIG溶接方法。
〔5〕 前記被溶接物を陽極とし、前記非消耗電極を陰極として、少なくとも300A以上の直流電流を流しながら裏波溶接を行うことを特徴とする前記〔1〕〜〔4〕の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
〔6〕 前記非消耗電極の先端を尖形とすることを特徴とする前記〔1〕〜〔5〕の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
〔7〕 前記溶融池に溶加材を供給しながら裏波溶接を行うことを特徴とする前記〔1〕〜〔6〕の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
〔8〕 前記被溶接物の裏面側から前記溶融池に向かってシールドガスを放出しながら裏波溶接を行うことを特徴とする前記〔1〕〜〔7〕の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
〔9〕 前記シールドガスとして、アルゴンに水素又は窒素を添加した混合ガスを用いることを特徴とする前記〔1〕〜〔8〕の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
なお、以下の説明で用いる図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがあり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らないものとする。
先ず、本発明の一本実施形態に係るTIG溶接方法について、図1〜図7を参照しながら説明する。
なお、図1は、本実施形態のTIG溶接方法により裏波溶接を行った状態を示す断面図である。図2は、本実施形態のTIG溶接方法において、溶接ワイヤーWを供給しながら裏波溶接を行った状態を示す断面図である。図3は、本実施形態のTIG溶接方法において、被溶接物Sに対するTIG溶接用トーチ10の走査方法を説明するための模式図である。図4は、本実施形態のTIG溶接方法において、被溶接物Sに対するTIG溶接用トーチ10の別の走査方法を説明するための模式図である。図5は、本実施形態のTIG溶接方法において、被溶接物Sに対するTIG溶接用トーチ10の別の走査方法を説明するための模式図である。図6は、本実施形態のTIG溶接方法において、被溶接物Sに対するTIG溶接用トーチ10の別の走査方法を説明するための模式図である。図7(A)は、被溶接物Sの表面Fから非消耗電極1の先端までの距離hを示す模式図である。図7(B)は、被溶接物Sの開先Bの底から非消耗電極1の先端までの距離hを示す模式図である。
次に、上記TIG溶接方法において好適に用いられるTIG溶接用トーチ50について、図8及び図9を参照しながら説明する。
なお、図8は、TIG溶接用トーチ50の構成を示す断面斜視図である。図9は、図8に示すTIG溶接用トーチ50の要部を拡大した断面斜視図である。
先ず、第1の実施例では、実際に本実施形態のTIG溶接方法を用いて、以下の溶接条件により非消耗電極の先端が被溶接物の表面よりも上方に位置した状態で裏波溶接を行った。また、本実施形態のTIG溶接方法を用いて、非消耗電極の先端が被溶接物の表面よりも上方に位置した状態で裏波溶接を行ったときの写真を図10に示す。
・溶接機:WP−T500P(ダイヘン株式会社製)
・センターガス:アルゴンと水素の混合ガス(組成:水素7%、残部アルゴン、流量:2.5L/min)
・アウターガス:アルゴンガス(組成:アルゴン100%、流量15L/min)
・非消耗電極径:φ4mm、テーパー角θ:45°
・インサートチップ径:φ8mm
・インサートチップからの非消耗電極の突き出し長さ:8mm
・溶接電流:400A
・溶接速度:50cm/min
・被溶接物:材質:SUS304、厚み5mm(ビードオン)
・被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離h:+3mm
次に、第2の実施例では、実際に本実施形態のTIG溶接方法を用いて、以下の溶接条件により溶接ワイヤーを供給しながら裏波溶接を行った。また、本実施形態のTIG溶接方法を用いて、溶接ワイヤーを供給しながら裏波溶接を行ったときの写真を図11に示す。
・溶接機:WP−T500P(ダイヘン株式会社製)
・センターガス:アルゴンと水素の混合ガス(組成:水素7%、残部アルゴン、流量:2.5L/min)
・アウターガス:アルゴンガス(組成:アルゴン100%、流量15L/min)
・非消耗電極径:φ4mm、テーパー角θ:45°
・インサートチップ径:φ8mm
・インサートチップからの非消耗電極の突き出し長さ:8mm
・溶接電流:400A
・溶接速度:50cm/min
・被溶接物:材質:SUS304、厚み5mm(ビードオン)
・被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離h:+3mm
・溶接ワイヤー:材質(商品名)WEL MIG 308 LSi、外径0.9mm
・送給速度:1.7m/min
次に、第3の実施例では、実際に本実施形態のTIG溶接方法を用いて、以下の溶接条件により非消耗電極の先端が被溶接物の表面よりも下方に位置した状態で裏波溶接を行った。また、本実施形態のTIG溶接方法を用いて、非消耗電極の先端が被溶接物の表面よりも下方に位置した状態で裏波溶接を行ったときの写真を図12に示す。
・溶接機:WP−T500P(ダイヘン株式会社製)
・センターガス:アルゴンと水素の混合ガス(組成:水素7%、残部アルゴン、流量:2.5L/min)
・アウターガス:アルゴンガス(組成:アルゴン100%、流量15L/min)
・非消耗電極径:φ4mm、テーパー角θ:45°
・インサートチップ径:φ8mm
・インサートチップからの非消耗電極の突き出し長さ:8mm
・溶接電流:400A
・溶接速度:50cm/min
・被溶接物:材質:SUS304、厚み5mm(ビードオン)
・被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離h:−1mm
次に、第4の実施例では、本実施形態のTIG溶接方法を用いて、以下の溶接条件により、被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離hを変更しながら、下記実施例1〜6の裏波溶接を行った。
・溶接機:WP−T500P(ダイヘン株式会社製)
・センターガス:アルゴンと水素の混合ガス(組成:水素7%、残部アルゴン、流量:2.5L/min)
・アウターガス:アルゴンガス(組成:アルゴン100%、流量15L/min)
・非消耗電極径:φ4mm、テーパー角θ:45°
・インサートチップ径:φ8mm
・インサートチップからの非消耗電極の突き出し長さ:8mm
・溶接電流:400A
・溶接速度:50cm/min
・被溶接物:材質:SUS304、厚み5mm(ビードオン)
実施例1は、被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離hを+3mmとした場合である。この実施例1において裏波溶接を行った後の溶接部の外観のうち、被溶接物の表側に形成された溶接ビードの写真を図13(A)に示し、被溶接物の裏側に形成された溶接ビードの写真図13(B)に示す。
実施例2は、被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離hを+2mmとした場合である。この実施例2において裏波溶接を行った後の溶接部の外観のうち、被溶接物の表側に形成された溶接ビードの写真を図14(A)に示し、被溶接物の裏側に形成された溶接ビードの写真図14(B)に示す。
実施例1は、被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離hを+1mmとした場合である。この実施例3において裏波溶接を行った後の溶接部の外観のうち、被溶接物の表側に形成された溶接ビードの写真を図15(A)に示し、被溶接物の裏側に形成された溶接ビードの写真図15(B)に示す。
実施例4は、被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離hを0mmとした場合である。この実施例4において裏波溶接を行った後の溶接部の外観のうち、被溶接物の表側に形成された溶接ビードの写真を図16(A)に示し、被溶接物の裏側に形成された溶接ビードの写真図16(B)に示す。
実施例5は、被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離hを−0.5mmとした場合である。この実施例5において裏波溶接を行った後の溶接部の外観のうち、被溶接物の表側に形成された溶接ビードの写真を図17(A)に示し、被溶接物の裏側に形成された溶接ビードの写真図17(B)に示す。
実施例6は、被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離hを−1mmとした場合である。この実施例6において裏波溶接を行った後の溶接部の外観のうち、被溶接物の表側に形成された溶接ビードの写真を図18(A)に示し、被溶接物の裏側に形成された溶接ビードの写真図18(B)に示す。
次に、第5の実施例では、本実施形態のTIG溶接方法を用いて、溶接電流を300A、400A、500Aとし、それぞれ被溶接物の表面から非消耗電極の先端までの距離hを+3.5〜−1.5の範囲で0.5mm刻みで変更しながら、裏波溶接を行った。
・溶接機:WP−T500P(ダイヘン株式会社製)
・センターガス:アルゴンと水素の混合ガス(組成:水素7%、残部アルゴン、流量:2.5L/min)
・アウターガス:アルゴンガス(組成:アルゴン100%、流量15L/min)
・非消耗電極径:φ4mm、テーパー角θ:45°
・インサートチップ径:φ8mm
・インサートチップからの非消耗電極の突き出し長さ:8mm
・被溶接物:材質:SUS304
50…TIG溶接用トーチ 51…非消耗電極 52…コレット 53…ウォータージャケット(流路) 54…コレットボディ 55…トーチボディ 56…トーチノズル 57…冷却チップ 58…トーチキャップ 59…外筒部材 60…絶縁部材 61…ウォータージャケット 62,63…Oリング G1…第1のシールドガス G2…第2のシールドガス L…冷却液(水)
Claims (9)
- 被溶接物と非消耗電極との間でアークを発生させると共に、前記アークによって生じた被溶接物の溶融池に向かってシールドガスを放出しながら溶接を行うTIG溶接方法であって、
前記アークの圧力により前記溶融池を凹ませた状態で、前記溶融池にキーホールを形成しながら裏波溶接を行うことを特徴とするTIG溶接方法。 - 前記被溶接物と前記非消耗電極との間でアークを発生させた後に、前記非消耗電極の先端を前記溶融池に接近する側に移動させるステップと、
前記被溶接物から前記非消耗電極の先端までの距離を保ちながら、前記被溶接物に対して前記非消耗電極を溶接線方向に相対的に走査しながら裏波溶接を行うステップと、
前記非消耗電極の先端を前記溶融池に離間する側に移動させるステップとを、この順で含むことを特徴とする請求項1に記載のTIG溶接方法。 - 前記被溶接物の表面又は開先の底を基準高さとしたときに、この基準高さから前記非消耗電極の先端までの距離を上方に0〜3mmの範囲としながら裏波溶接を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載のTIG溶接方法。
- 前記被溶接物の表面又は開先の底を基準高さとしたときに、この基準高さから前記非消耗電極の先端までの距離を下方に0〜3mmの範囲としながら裏波溶接を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載のTIG溶接方法。
- 前記被溶接物を陽極とし、前記非消耗電極を陰極として、少なくとも300A以上の直流電流を流しながら裏波溶接を行うことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
- 前記非消耗電極の先端を尖形とすることを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
- 前記溶融池に溶加材を供給しながら裏波溶接を行うことを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
- 前記被溶接物の裏面側から前記溶融池に向かってシールドガスを放出しながら裏波溶接を行うことを特徴とする請求項1〜7の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
- 前記シールドガスとして、アルゴンに水素又は窒素を添加した混合ガスを用いることを特徴とする請求項1〜8の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
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