JP2021010923A - レーザ加工装置 - Google Patents

Abstract

【課題】作業者の安全を確保しつつ、サイクルタイムを短縮できるレーザ加工装置を提供する。【解決手段】レーザ加工装置１００は、第１ワーク１１に向かってレーザを照射するレーザ照射装置２０と、レーザ照射装置２０と、レーザ照射装置２０に対向して第１ワーク１１が置かれる第１載置面３３１と、第１載置面３３１の端部に接続されている端面３１２、３４１、３４２と、によって区画形成される加工室３３を有し、第１ワーク１１を移動させるワーク駆動部３０と、を備え、ワーク駆動部３０は、第１載置面３３１からレーザ照射装置２０に向かう方向に、第１載置面３３１とは反対側の端面の端部と接続されている基面から突出する反射凸部５１−５５を複数有し、反射凸部５１−５５同士の間には、第１ワーク１１の表面で反射したレーザが通過する反射凹部６１−６６が形成されており、反射凸部５１−５５は、反射凹部６１−６６を通過したレーザを反射する。【選択図】図９

Description

本発明は、レーザ加工装置に関する。

従来、特許文献１に記載されるように、ターンテーブル装置と、ターンテーブル装置の上面を２つの載置台に仕切る板とを備えたレーザ加工装置が知られている。このレーザ加工装置では、それぞれの載置台にワークが置かれる。また、ターンテーブル装置が回転することによって、一方の載置台に配置されるワークが加工室内から加工室外に搬出されつつ、他方の載置台に配置されるワークが加工室外から加工室内に搬入される。

特開２０１９−１０６５１号公報

特許文献１の構成では、ターンテーブル装置が回転し、ワークが加工室外から加工室内に搬入されたときに、仕切り板がワーク搬出入口を塞ぐ。発明者の検討によれば、加工室からレーザの反射光が漏れないように、この仕切り板により加工室が密閉される。このとき、加工室の密閉を確実にするために、仕切り板をワーク搬出入口付近の壁に移動させる動作および仕切り板を変形させて仕切り板とワーク搬出入口付近の壁とを密着させる動作が必要である。これにより、ワークの加工室への移動が開始されてからワークのレーザの加工が開始されるまでの時間がかかるため、ワークの加工室への移動が開始されてから次に処理されるワークの加工室への移動が開始されるまでの時間であるサイクルタイムが長くなる。

本発明は、上記点に鑑みて、作業者の安全を確保しつつ、サイクルタイムを短縮できるレーザ加工装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、請求項１に記載される発明は、レーザ加工装置であって、ワーク（１１）に向かってレーザを照射するレーザ照射装置（２０）と、レーザ照射装置と、レーザ照射装置に対向してワークが置かれる載置面（３３１）と、載置面の端部に接続されている端面（３１２、３４１、３４２）と、によって区画形成される加工室（３３）を有し、ワークを移動させるワーク駆動部（３０）と、を備え、ワーク駆動部は、載置面からレーザ照射装置に向かう方向に、載置面とは反対側の端面の端部と接続されている基面（３５１、３５２、３５３、３５４、３５５、３５６）から突出する反射凸部（５１、５２、５３、５４、５５）を複数有し、反射凸部同士の間には、ワークの表面で反射したレーザが通過する反射凹部（６１、６２、６３、６４、６５、６６）が形成されており、反射凸部は、反射凹部を通過したレーザを反射するレーザ加工装置である。

反射凸部により、ワークの表面で反射したレーザを減衰させることができるため、レーザの有害レベルを低下させることができる。これにより、加工室を密閉させることなく、作業者の安全を確保することができる。このため、加工室を密閉させる必要がなくなるので、加工室を密閉するためのワーク駆動部をレーザ加工装置に向かって移動させる動作やワーク駆動部を変形させることによりワーク駆動部とレーザ加工装置とを密着させる動作をする必要なくなる。これにより、加工室へのワークの移動が開始されてからワークのレーザの加工が開始されるまでの時間が短縮される。このため、レーザ加工装置は、ワークの加工室への移動が開始されてから次に処理されるワークの加工室への移動が開始されるまでの時間であるサイクルタイムを短縮することができる。

なお、各構成要素等に付される括弧付きの参照符号は、その構成要素等と後述する実施形態に記載の具体的な構成要素等との対応関係の一例を示すものである。

実施形態のレーザ加工装置の断面図。 図１のＩＩ線の断面図。 図１のＩＩＩ線の断面図。 図１のＩＶの線の回転部の断面図。 レーザ加工装置のカバーの断面図。 レーザ加工装置の作動のフローチャート。 レーザ加工装置がレーザを第１ワークに照射したときの断面図。 図７のＶＩＩＩ線の断面図。 レーザ加工装置がレーザを第１ワークに照射したときの回転部の断面図。 レーザ加工装置がレーザを第１ワークに照射したときの回転部およびカバーの断面図。 レーザ加工装置の回転部が回転したときの断面図。 他の実施形態のレーザ加工装置の回転部の断面図。 他の実施形態のレーザ加工装置の回転部の断面図。

以下、実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付し、その説明を省略する。

本実施形態のレーザ加工装置１００は、第１ワーク１１および第２ワーク１２の表面にレーザを照射することによって、第１ワーク１１および第２ワーク１２の表面改質を行う。例えば、第１ワーク１１および第２ワーク１２は、基板等に半田付けされる端子である。この端子の母材上にはニッケルメッキが形成されており、このニッケルメッキ上には金メッキが形成されている。そして、レーザ加工装置１００は、端子の半田付けを行う前の処理として、この端子の表面にレーザを照射する。これにより、金メッキが除去されて、半田との濡れ性が悪いニッケルメッキが端子の外部に露出する。この状態で端子の半田付けが行われるとき、ニッケルメッキが半田との濡れ性が悪いために、端子に対して毛細管現象によって生じる半田の吸い上がりが抑制される。このように、レーザ加工装置１００は、第１ワーク１１および第２ワーク１２の表面改質を行う。

具体的には、図１−図４に示すように、レーザ加工装置１００は、第１ワーク１１、第２ワーク１２、レーザ支持台１５、レーザ支柱１６、レーザ照射装置２０、モータケース２４、モータ２５およびシャフト２６を備える。また、レーザ加工装置１００は、回転部３０、第１カバー支柱７１、第２カバー支柱７２、カバー８０、ブロワ配管９１、ブロワ９２、排気管９３およびポンプ９４を備える。なお、図１において、ブロワ９２は、Ｂと記載されている。また、ポンプ９４は、Ｐと記載されている。

図１に示すように、第１ワーク１１は、後述の回転部３０に配置されている第１ワーク台４１に載置されている。第２ワーク１２は、後述の回転部３０に配置されている第２ワーク台４２に載置されている。図において、第１ワーク１１と第２ワーク１２との差異を明確にするため、第２ワーク１２は、ドット柄で記載されている。レーザ支持台１５は、地面に置かれている。また、レーザ支持台１５は、レーザ支柱１６に接続されており、レーザ支柱１６を支持する。レーザ支柱１６は、後述のレーザ照射装置２０のレーザ台２１に接続されており、レーザ照射装置２０を支持する。

レーザ照射装置２０は、第１ワーク１１に向かってレーザの照射を行う。具体的には、レーザ照射装置２０は、レーザ台２１およびレーザ照射部２２を有する。レーザ台２１は、第１ワーク１１と対向する位置に配置されている。また、レーザ台２１は、レーザ支柱１６に支持されつつ、レーザ照射部２２を支持する。さらに、レーザ台２１は、後述のレーザ照射部２２からのレーザが通過するレーザ通過穴２３を有する。レーザ照射部２２は、後述の回転部３０に置かれた第１ワーク１１と対向する位置に配置されており、図示しない発振器および光ファイバを含む。この発振器は、レーザを発振する。発振されたレーザは、光ファイバを経由し、第１ワーク１１に向かって照射される。このレーザ照射部２２からのレーザは、レーザ通過穴２３および後述の回転部３０の加工室３３を通過して、第１ワーク１１に照射される。

モータケース２４は、地面に置かれており、モータ２５を収容している。モータ２５は、通電されることにより回転する。また、モータ２５がシャフト２６に接続されており、シャフト２６は、モータ２５の回転によって回転する。また、シャフト２６は、後述の回転部３０の回転穴３０２に挿入されている。

回転部３０は、ワーク駆動部に対応しており、例えば、ステンレス鋼等の金属で形成されている。また、回転部３０は、回転穴３０２を有し、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円環状になっている。この回転穴３０２には、シャフト２６が挿入されている。これにより、モータ２５によりシャフト２６が回転すると、回転部３０は、回転部３０の中心軸Ｏを中心に回転する。このため、回転部３０に載置されたワークは、レーザ照射部２２と対向する位置に移動可能となっている。また、中心軸Ｏ方向において、レーザ台２１と、後述の回転部３０の第１反射凸部５１、第２反射凸部５２、第３反射凸部５３、第４反射凸部５４および第５反射凸部５５との間には、第１隙間３０１が形成されている。これにより、回転部３０が中心軸Ｏを中心に回転しやすくなっている。この第１隙間３０１の大きさは、例えば、回転部３０が回転するときの中心軸Ｏ方向のブレ量に基づいて設定される。

さらに、回転部３０は、第１載置面３３１、第１仕切部３１、第１側面３４１、第２側面３４２、加工室３３および第１ワーク台４１を有する。また、回転部３０は、第２載置面３３２、第２仕切部３２、第３側面３４３、第４側面３４４、搬入出室３４および第２ワーク台４２を有する。さらに、回転部３０は、第１基面３５１、第２基面３５２、第３基面３５３、第４基面３５４、第１反射凸部５１、第１反射凹部６１、第２反射凸部５２および第２反射凹部６２を有する。また、回転部３０は、第５基面３５５、第６基面３５６、第３反射凸部５３、第３反射凹部６３、第４反射凸部５４、第４反射凹部６４、第５反射凸部５５、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６を有する。

第１載置面３３１は、レーザ照射装置２０に対向しており、中心軸Ｏに直行している。この第１載置面３３１には、後述の第１ワーク台４１が配置されている。

第１仕切部３１は、第１ワーク台４１よりも中心軸Ｏ側に位置している。また、第１仕切部３１は、第１載置面３３１からレーザ照射装置２０に向かう方向に延びている。回転穴３０２と後述の加工室３３とは、第１仕切部３１によって仕切られている。さらに、第１仕切部３１は、第１ブロワ穴３１１および第１仕切面３１２を有する。第１ブロワ穴３１１は、加工室３３とブロワ配管９１内の流路とに連通している。第１仕切面３１２は、第１端面に対応しており、回転部３０の中心軸Ｏ側における第１載置面３３１の端部に接続されており、第１載置面３３１と垂直になっている。

図２に示すように、第１側面３４１は、第１端面に対応しており、第１載置面３３１の端部と第１仕切面３１２の端部とに接続されている。また、第１側面３４１は、第１載置面３３１に垂直であり、第１仕切面３１２と平行になっている。

第２側面３４２は、第１端面に対応しており、第１側面３４１に対向し、第１側面３４１とは反対側の第１載置面３３１の端部と第１仕切面３１２の端部とに接続されている。また、第２側面３４２は、第１載置面３３１に垂直であり、第１仕切面３１２および第１側面３４１と平行になっている。

加工室３３は、レーザ照射装置２０と、第１載置面３３１と、第１仕切面３１２と、第１側面３４１と、第２側面３４２とによって区画形成されている。加工室３３では、レーザによるワークの表面改質が行われる。

第１ワーク台４１は、レーザ照射装置２０に対向して、第１載置面３３１に配置されている。このため、第１ワーク台４１に置かれた第１ワーク１１は、レーザ照射装置２０に対向する。また、第１ワーク台４１は、第１ワーク１１を支持する。

図１に示すように、第２載置面３３２は、中心軸Ｏに対して第１載置面３３１と線対称になる位置に形成されており、中心軸Ｏに直行し、第１載置面３３１と平行している。この第２載置面３３２には、後述の第２ワーク台４２が配置されている。

第２仕切部３２は、第２ワーク台４２よりも中心軸Ｏ側に位置している。また、第２仕切部３２は、第１載置面３３１からレーザ照射装置２０に向かう方向に延びており、回転穴３０２と後述の搬入出室３４とは、第２仕切部３２によって仕切られている。さらに、第２仕切部３２は、回転部３０の周方向に第１仕切部３１と接続されており、第１仕切部３１とで回転穴３０２を区画形成している。また、第２仕切部３２は、第２ブロワ穴３２１および第２仕切面３２２を有する。第２ブロワ穴３２１は、回転穴３０２に連通している。さらに、第２ブロワ穴３２１は、中心軸Ｏに対して第１ブロワ穴３１１と線対称となる位置に配置されており、回転部３０が回転したときにブロワ配管９１内の流路と連通するように形成されている。第２仕切面３２２は、第２端面に対応しており、回転部３０の中心軸Ｏ側における第２載置面３３２の端部に接続されており、第２載置面３３２と垂直になっている。

図３に示すように、第３側面３４３は、第２端面に対応しており、第２載置面３３２の端部と第２仕切面３２２の端部とに接続されている。また、第３側面３４３は、第２載置面３３２に垂直であり、第２仕切面３２２と平行になっている。

第４側面３４４は、第２端面に対応しており、第３側面３４３に対向し、第３側面３４３とは反対側の第２載置面３３２の端部と第２仕切面３２２の端部とに接続されている。また、第４側面３４４は、第２載置面３３２に垂直であり、第２仕切面３２２および第３側面３４３と平行になっている。

搬入出室３４は、第２載置面３３２と、第２仕切面３２２と、第３側面３４３と、第４側面３４４とによって区画形成されている。また、搬入出室３４は、後述の第２ワーク台４２に第２ワーク１２を配置できるように、レーザ加工装置１００の外部とつながっている。

第２ワーク台４２は、第２載置面３３２に配置されている。また、第２ワーク台４２は、第２ワーク１２を支持する。これにより、第１ワーク１１の次にレーザが照射されるワークである第２ワーク１２の準備が行われる。

図２に示すように、第１基面３５１は、第１載置面３３１とは反対側の第１側面３４１の端部に接続されている。また、第１基面３５１は、第１載置面３３１に平行しており、第１側面３４１に垂直である。

第２基面３５２は、第１載置面３３１とは反対側の第２側面３４２の端部に接続されている。また、第２基面３５２は、第１載置面３３１に平行しており、第２側面３４２に垂直である。

図３に示すように、第３基面３５３は、第２載置面３３２とは反対側の第３側面３４３の端部に接続されている。また、第３基面３５３は、第２載置面３３２に平行しており、第３側面３４３に垂直である。また、ここでは、図４に示すように、第３基面３５３は、第１基面３５１と同一面になっている。

図３に示すように、第４基面３５４は、第２載置面３３２とは反対側の第４側面３４４の端部に接続されている。また、第４基面３５４は、第２載置面３３２に平行しており、第４側面３４４に垂直である。また、ここでは、図４に示すように、第４基面３５４は、第２基面３５２と同一面になっている。

図２および図３に示すように、第１反射凸部５１は、第１載置面３３１からレーザ照射装置２０に向かう方向に、第１基面３５１および第３基面３５３から突出している。また、図４に示すように、第１反射凸部５１は、回転部３０の回転方向に沿って延びており、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。さらに、第１反射凸部５１は、回転部３０の径方向に並列するように複数形成されている。このため、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において、回転部３０の径方向内側の第１反射凸部５１の半径は、回転部３０の径方向外側の第１反射凸部５１の半径よりも小さくなっている。

第１反射凹部６１は、２つの第１反射凸部５１の間に形成されている。第１反射凸部５１が回転部３０の回転方向に沿って延びているため、第１反射凹部６１は、回転部３０の回転方向に沿って延びている。このため、第１反射凹部６１は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。

図２および図３に示すように、第２反射凸部５２は、第１載置面３３１からレーザ照射装置２０に向かう方向に、第２基面３５２および第４基面３５４から突出している。また、図４に示すように、第２反射凸部５２は、回転部３０の回転方向に沿って延びており、第２反射凸部５２は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。さらに、第２反射凸部５２は、回転部３０の径方向に並列するように複数形成されている。このため、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において、回転部３０の径方向内側の第２反射凸部５２の半径は、回転部３０の径方向外側の第２反射凸部５２の半径よりも小さくなっている。

第２反射凹部６２は、２つの第２反射凸部５２の間に形成されている。第２反射凸部５２が回転部３０の回転方向に沿って延びているため、第２反射凹部６２は、回転部３０の回転方向に沿って延びている。このため、第２反射凹部６２は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。

図２に示すように、第５基面３５５は、第１仕切部３１に形成されており、第１載置面３３１とは反対側の第１仕切面３１２の端部に接続されている。また、第５基面３５５は、第１載置面３３１に平行しており、第１仕切面３１２に垂直である。

図３に示すように、第６基面３５６は、第２仕切部３２に形成されており、第２載置面３３２とは反対側の第２仕切面３２２の端部と接続されている。また、第６基面３５６は、第２載置面３３２に平行しており、第２仕切面３２２に垂直である。さらに、ここでは、図４に示すように、第６基面３５６は、第５基面３５５と同一面になっている。

図２および図３に示すように、第３反射凸部５３は、第１載置面３３１からレーザ照射装置２０に向かう方向に、第１基面３５１、第３基面３５３、第５基面３５５および第６基面３５６から突出している。また、図４に示すように、第３反射凸部５３は、１つ形成され、第１仕切面３１２と第１側面３４１とでなす角部から回転部３０の回転方向に沿って延びており、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。さらに、第３反射凸部５３は、第１反射凸部５１よりも回転部３０の径方向内側に位置している。このため、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において、第３反射凸部５３の半径は、第１反射凸部５１の半径よりも小さくなっている。

第３反射凹部６３は、複数の第１反射凸部５１のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第１反射凸部５１と第３反射凸部５３との間に形成されている。第１反射凸部５１および第３反射凸部５３が回転部３０の回転方向に沿って延びているため、第３反射凹部６３は、回転部３０の回転方向に沿って延びている。このため、第３反射凹部６３は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。

図２および図３に示すように、第４反射凸部５４は、第１載置面３３１からレーザ照射装置２０に向かう方向に、第２基面３５２、第４基面３５４、第５基面３５５および第６基面３５６から突出している。また、図４に示すように、第４反射凸部５４は、１つ形成され、第１仕切面３１２と第２側面３４２とでなす角部から回転部３０の回転方向に沿って延びており、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。さらに、第４反射凸部５４は、第２反射凸部５２よりも回転部３０の径方向内側に位置している。このため、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において、第４反射凸部５４の半径は、第２反射凸部５２の半径よりも小さくなっている。

第４反射凹部６４は、複数の第２反射凸部５２のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第２反射凸部５２と第４反射凸部５４との間に形成されている。第２反射凸部５２および第４反射凸部５４が回転部３０の回転方向に沿って延びているため、第４反射凹部６４は、回転部３０の回転方向に沿って延びている。このため、第４反射凹部６４は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。

図２および図３に示すように、第５反射凸部５５は、第１載置面３３１からレーザ照射装置２０に向かう方向に、第５基面３５５から突出している。また、第５反射凸部５５は、第１仕切部３１および第２仕切部３２の延長部になっている。また、図４に示すように、第５反射凸部５５は、回転部３０の回転方向に沿って延びている。このため、第５反射凸部５５は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。さらに、第５反射凸部５５は、第３反射凸部５３よりも回転部３０の径方向内側に位置している。このため、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において、第５反射凸部５５の半径は、第３反射凸部５３の半径よりも小さくなっている。

第５反射凹部６５は、第３反射凸部５３と第５反射凸部５５との間に形成されている。第３反射凸部５３および第５反射凸部５５が回転部３０の回転方向に沿って延びているため、第５反射凹部６５は、回転部３０の回転方向に沿って延びている。このため、第５反射凹部６５は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。

第６反射凹部６６は、第４反射凸部５４と第５反射凸部５５との間に形成されている。第４反射凸部５４および第５反射凸部５５が回転部３０の回転方向に沿って延びているため、第６反射凹部６６は、回転部３０の回転方向に沿って延びている。このため、第６反射凹部６６は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円弧形状になっている。

また、図１−図３に示すように、第１反射凹部６１、第２反射凹部６２、第３反射凹部６３、第４反射凹部６４、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６は、第１ワーク台４１および第１ワーク１１よりもレーザ照射装置２０側に位置している。さらに、ここでは、第１反射凹部６１、第２反射凹部６２、第３反射凹部６３、第４反射凹部６４、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６は、加工室３３および搬入出室３４に連通している。

図３に示すように、第１カバー支柱７１の一端は、地面に接続されている。第１カバー支柱７１の他端は、カバー８０の一端に接続されている。そして、第１カバー支柱７１は、カバー８０を支持する。第２カバー支柱７２の一端は、地面に接続されている。第２カバー支柱７２の他端は、カバー８０の他端に接続されている。そして、第２カバー支柱７２は、第１カバー支柱７１とともにカバー８０を支持する。

図１および図３に示すように、カバー８０は、中心軸Ｏ方向において回転部３０と対向するように配置されている。また、カバー８０は、第１仕切部３１および第２仕切部３２を覆っている。さらに、カバー８０は、第１反射凸部５１、第２反射凸部５２、第３反射凸部５３、第４反射凸部５４および第５反射凸部５５の一部を覆っている。また、回転部３０が回転しやすくなるように、中心軸Ｏの方向において、カバー８０と回転部３０との間には、第２隙間８３が形成されている。この第２隙間８３の大きさは、例えば、回転部３０が回転するときの中心軸Ｏ方向におけるブレ量に基づいて設定される。

また、図５に示すように、カバー８０は、第１カバー凸部８１１、第２カバー凸部８１２、第３カバー凸部８１３、第４カバー凸部８１４、第５カバー凸部８１５および第６カバー凸部８１６を有する。また、カバー８０は、第１カバー凹部８２１、第２カバー凹部８２２、第３カバー凹部８２３、第４カバー凹部８２４および第５カバー凹部８２５を有する。

第１カバー凸部８１１は、第１反射凹部６１に対応する形状、位置および数となるように形成されている。第２カバー凸部８１２は、第２反射凹部６２に対応する形状、位置および数となるように形成されている。第３カバー凸部８１３は、第３反射凹部６３に対応する形状、位置および数となるように形成されている。第４カバー凸部８１４は、第４反射凹部６４に対応する形状、位置および数となるように形成されている。第５カバー凸部８１５は、第５反射凹部６５に対応する形状、位置および数となるように形成されている。第６カバー凸部８１６は、第６反射凹部６６に対応する形状、位置および数となるように形成されている。また、第１−第６カバー凸部８１１−８１６の大きさは、それぞれに対応する第１−第６反射凹部６１−６６の大きさよりも小さくなっている。これにより、回転部３０が回転するとき、第１−第６カバー凸部８１１−８１６は、第１−第６反射凹部６１−６６をそれぞれ通過しやすくなっている。

第１カバー凹部８２１は、第１カバー凸部８１１同士の間および第１カバー凸部８１１と第３カバー凸部８１３との間に形成されている。また、第１カバー凹部８２１は、第１反射凸部５１に対応する形状、位置および数となるように形成されている。第２カバー凹部８２２は、第２カバー凸部８１２同士の間および第２カバー凸部８１２と第４カバー凸部８１４との間に形成されている。また、第２カバー凹部８２２は、第２反射凸部５２に対応する形状、位置および数となるように形成されている。第３カバー凹部８２３は、第３カバー凸部８１３と第５カバー凸部８１５との間に形成されている。また、第３カバー凹部８２３は、第３反射凸部５３に対応する形状、位置および数となるように形成されている。第４カバー凹部８２４は、第４カバー凸部８１４と第６カバー凸部８１６との間に形成されている。また、第４カバー凹部８２４は、第４反射凸部５４に対応する形状、位置および数となるように形成されている。さらに、第１−第４カバー凹部８２１−８２４の大きさは、それぞれに対応する第１−第４反射凸部５１−５４の大きさよりも大きくなっている。これにより、回転部３０が回転するとき、第１−第４反射凸部５１−５４は、第１−第４カバー凹部８２１−８２４をそれぞれ通過しやすくなっている。

第５カバー凹部８２５は、第５カバー凸部８１５、第６カバー凸部８１６および後述のブロワ配管９１によって区画形成されている。第５カバー凹部８２５では、回転部３０が回転するとき、第５反射凸部５５が通過する。

図１に示すように、ブロワ配管９１は、第１仕切部３１の第１ブロワ穴３１１に連通している。また、ブロワ配管９１とブロワ９２とが接続可能となるように、第１ブロワ穴３１１とは反対側のブロワ配管９１の端部は、カバー８０から突出しており、カバー８０の外部に露出している。ブロワ９２は、外部に露出したブロワ配管９１の端部に接続されており、加工室３３に向かって空気を送風する。排気管９３は、加工室３３に連通しており、ポンプ９４に接続されている。ポンプ９４は、排気管９３に流れる空気を吸引することにより、加工室３３に流れる送風空気とともに、レーザがワークに照射されたときに発生する粉塵を吸引する。

以上のように、レーザ加工装置１００は、構成されている。このように構成されるレーザ加工装置１００は、後述するように、サイクルタイムを短縮できる。具体的に、図６のフローチャートおよび図７−図１１を参照して、レーザ加工装置１００の作動について説明する。なお、この説明では、第１ワーク台４１には第１ワーク１１が置かれており、第２ワーク台４２には第２ワーク１２が置かれていないものとする。

ステップＳ１０１において、図７および図８に示すように、レーザ照射部２２は、第１ワーク１１に向かってレーザを照射する。レーザ照射部２２から第１ワーク１１に向かって照射されたレーザは、レーザ通過穴２３および加工室３３を通過して、第１ワーク１１に照射される。これにより、第１ワーク１１は、レーザによる表面改質が行われる。なお、図７−図１０において、レーザは、二点鎖線で記載されている。

また、レーザが第１ワーク１１に照射されたとき、レーザがワークに照射されたことによる粉塵が発生する。このとき、ブロワ９２は、加工室３３に向かって送風する。ブロワ９２からの送風空気は、ブロワ配管９１内の流路および第１ブロワ穴３１１を経由して、加工室３３に流れる。加工室３３に流れた送風空気は、粉塵とともに、排気管９３に向かって流れる。そして、ポンプ９４が排気管９３の空気を吸引することによって、加工室３３に流れた送風空気とともに、粉塵が排気管９３を経由してポンプ９４に吸引される。また、加工室３３および搬入出室３４に連通する第１反射凹部６１、第２反射凹部６２、第３反射凹部６３、第４反射凹部６４、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６が形成されているため、加工室３３に流れる空気の流路面積が大きくなる。これにより、ポンプ９４が吸引する空気の流量が大きくなる。したがって、このとき、レーザ加工装置１００では、粉塵が回収されやすくなっている。

さらに、第１ワーク１１に照射されたレーザは、第１ワーク１１の表面で反射して、拡散する。そして、図９に示すように、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、第１反射凹部６１、第２反射凹部６２、第３反射凹部６３、第４反射凹部６４、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６のそれぞれを通過する。

第１反射凹部６１を通過したレーザは、第１反射凸部５１で反射する。また、第１反射凸部５１で反射したレーザは、第１反射凹部６１が延びている方向に沿って進みつつ、レーザを反射した第１反射凸部５１に対向する第１反射凸部５１に向かって進む。そして、第１反射凸部５１で反射したレーザは、この第１反射凸部５１に対向する第１反射凸部５１で反射する。したがって、第１反射凸部５１でのレーザの反射が繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。また、第１反射凸部５１で反射したレーザは、レーザ台２１および第１基面３５１で反射する。このレーザの反射が繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。

第２反射凹部６２を通過したレーザは、第２反射凸部５２で反射する。そして、第２反射凸部５２でのレーザの反射が繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。また、第２反射凸部５２で反射レーザは、レーザ台２１および第２基面３５２で反射する。このレーザの反射が繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。

第３反射凹部６３を通過したレーザは、複数の第１反射凸部５１のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第１反射凸部５１で反射する。そして、この第１反射凸部５１および第３反射凸部５３でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。また、この第１反射凸部５１および第３反射凸部５３で反射したレーザは、レーザ台２１および第１基面３５１で反射する。このレーザの反射が繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。

第４反射凹部６４を通過したレーザは、複数の第２反射凸部５２のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第２反射凸部５２で反射する。そして、この第２反射凸部５２および第４反射凸部５４でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。また、この第２反射凸部５２および第４反射凸部５４で反射したレーザは、レーザ台２１および第２基面３５２で反射する。このレーザの反射が繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。

第５反射凹部６５を通過したレーザは、第５反射凸部５５で反射する。そして、第３反射凸部５３および第５反射凸部５５でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。

第６反射凹部６６を通過したレーザは、第５反射凸部５５で反射する。そして、第４反射凸部５４および第５反射凸部５５でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。

また、図１０に示すように、第１反射凸部５１での反射が繰り返されたレーザの一部は、第１反射凹部６１が延びている方向に沿って進み、第１カバー凸部８１１で反射する。第１カバー凸部８１１で反射したレーザは、第１反射凹部６１を通過して、第１反射凸部５１で反射して、減衰する。さらに、第２反射凸部５２での反射が繰り返されたレーザは、第２反射凹部６２が延びている方向に沿って進み、第２カバー凸部８１２で反射する。第２カバー凸部８１２で反射したレーザは、第２反射凹部６２を通過して、第２反射凸部５２で反射して、減衰する。

また、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部は、第３反射凹部６３を通過して第３カバー凸部８１３で反射する。第３カバー凸部８１３で反射したレーザは、複数の第１反射凸部５１のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第１反射凸部５１および第３反射凸部５３のいずれかで反射する。これにより、第３カバー凸部８１３で反射したレーザは、減衰する。さらに、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部は、第４反射凹部６４を通過して、第４カバー凸部８１４で反射する。第４カバー凸部８１４で反射したレーザは、複数の第２反射凸部５２のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第２反射凸部５２および第４反射凸部５４のいずれかで反射する。これにより、第４カバー凸部８１４で反射したレーザは、減衰する。

また、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部は、第５カバー凸部８１５で反射する。第５カバー凸部８１５で反射したレーザは、加工室３３を通過し、第１ワーク１１に対向しているレーザ台２１で反射する。これにより、第５カバー凸部８１５で反射したレーザは、減衰する。さらに、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部は、第６カバー凸部８１６で反射する。第６カバー凸部８１６で反射したレーザは、第５カバー凸部８１５で反射したレーザと同様に、加工室３３を通過して、レーザ台２１で反射する。これにより、第６カバー凸部８１６で反射したレーザは、減衰する。

また、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部が第１−第６カバー凸部８１１−８１６で反射することにより、第１−第６反射凹部６１−６６のそれぞれを通過するレーザの一部の進行が第１−第６カバー凸部８１１−８１６により妨げられる。これにより、第１−第６反射凹部６１−６６のそれぞれを通過するレーザは、搬入出室３４に進行しにくくなっている。

また、レーザが第１ワーク１１に照射されている間に、第１ワーク１１の次にレーザによる表面改質が行われる第２ワーク１２が第２ワーク台４２に置かれる。これにより、第２ワーク１２が準備される。

続いて、ステップＳ１０２において、レーザによる第１ワーク１１の表面改質が終了した後、シャフト２６に接続されているモータ２５およびシャフト２６が回転することにより、回転部３０が中心軸Ｏを中心に回転する。

このとき、第１カバー凸部８１１は、第１反射凹部６１を通過する。第２カバー凸部８１２は、第２反射凹部６２を通過する。第３カバー凸部８１３は、第３反射凹部６３を通過する。第４カバー凸部８１４は、第４反射凹部６４を通過する。第５カバー凸部８１５は、第５反射凹部６５を通過する。第６カバー凸部８１６は、第６反射凹部６６を通過する。また、第１反射凸部５１は、第１カバー凹部８２１を通過する。第２反射凸部５２は、第２カバー凹部８２２を通過する。第３反射凸部５３は、第３カバー凹部８２３を通過する。第４反射凸部５４は、第４カバー凹部８２４を通過する。第５反射凸部５５は、第５カバー凹部８２５を通過する。

そして、回転部３０が中心軸Ｏを中心に回転することにより、図１１に示すように、第２ワーク台４２および第２ワーク１２が、レーザ照射装置２０に対向する位置に移動する。このとき、レーザ照射装置２０と、第２載置面３３２と、第２仕切面３２２と、第３側面３４３と、第４側面３４４とによって、加工室３３が区画形成される。また、このとき、第１載置面３３１と、第１仕切部３１と、第１側面３４１と、第２側面３４２とによって、搬入出室３４が区画形成される。さらに、このとき、第１ブロワ穴３１１が回転穴３０２に連通し、第２ブロワ穴３２１がブロワ配管９１内の流路に連通する。

続いて、ステップＳ１０３において、レーザ照射装置２０は、第２ワーク１２に向かってレーザを照射する。レーザ照射装置２０から第２ワーク１２に向かって照射されたレーザは、レーザ通過穴２３および加工室３３を通過して、第２ワーク１２に照射される。これにより、第２ワーク１２は、レーザによる表面改質が行われる。

また、レーザが第２ワーク１２に照射されたとき、レーザがワークに照射されたことによる粉塵が発生する。このとき、ステップＳ１０１と同様に、ブロワ９２が加工室３３に向かって送風する。そして、ポンプ９４が排気管９３の空気を吸引することによって、加工室３３に流れたブロワ９２からの送風空気とともに、粉塵が排気管９３を経由してポンプ９４に吸引される。これにより、粉塵が回収される。

さらに、第２ワーク１２に照射されたレーザは、第２ワーク１２の表面で反射する。また、第２ワーク１２の表面で反射したレーザは、拡散して、上記と同様に、第１反射凹部６１、第２反射凹部６２、第３反射凹部６３、第４反射凹部６４、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６を通過する。

そして、ステップＳ１０１と同様に、第２ワーク１２の表面で反射したレーザは、第１反射凸部５１でのレーザの反射が繰り返されることにより、減衰する。また、第２ワーク１２の表面で反射したレーザは、第２反射凸部５２でのレーザの反射が繰り返されることにより、減衰する。さらに、第２ワーク１２の表面で反射したレーザは、複数の第１反射凸部５１のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第１反射凸部５１および第３反射凸部５３でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、減衰する。また、第２ワーク１２の表面で反射したレーザは、複数の第２反射凸部５２のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第２反射凸部５２および第４反射凸部５４でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、減衰する。さらに、第２ワーク１２の表面で反射したレーザは、第３反射凸部５３および第５反射凸部５５でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、減衰する。そして、第２ワーク１２の表面で反射したレーザは、第４反射凸部５４および第５反射凸部５５でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、減衰する。

また、ステップＳ１０１と同様に、第１反射凸部５１での反射が繰り返されたレーザの一部は、第１カバー凸部８１１で反射する。さらに、第２反射凸部５２での反射が繰り返されたレーザの一部は、第２カバー凸部８１２で反射する。また、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部は、第３反射凹部６３を通過して第３カバー凸部８１３で反射する。さらに、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部は、第４反射凹部６４を通過して、第４カバー凸部８１４で反射する。また、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部は、第５カバー凸部８１５で反射する。そして、第１ワーク１１の表面で反射したレーザの一部は、第６カバー凸部８１６で反射する。

また、レーザが第２ワーク１２に照射されている間に、レーザによる表面改質が行われた第１ワーク１１が第１ワーク台４１から外されて、レーザによる表面改質が行われていない第１ワーク１１が第１ワーク台４１に置かれる。これにより、第２ワーク１２の次にレーザによる表面改質が行われるワークが準備される。

続いて、ステップＳ１０４において、レーザによる第２ワーク１２の表面改質が終了した後、シャフト２６に接続されているモータ２５が回転することにより、シャフト２６とともに、回転部３０が中心軸Ｏを中心に回転する。

このとき、ステップＳ１０２と同様に、第１カバー凸部８１１は、第１反射凹部６１を通過する。第２カバー凸部８１２は、第２反射凹部６２を通過する。第３カバー凸部８１３は、第３反射凹部６３を通過する。第４カバー凸部８１４は、第４反射凹部６４を通過する。第５カバー凸部８１５は、第５反射凹部６５を通過する。第６カバー凸部８１６は、第６反射凹部６６を通過する。また、第１反射凸部５１は、第１カバー凹部８２１を通過する。第２反射凸部５２は、第２カバー凹部８２２を通過する。第３反射凸部５３は、第３カバー凹部８２３を通過する。第４反射凸部５４は、第４カバー凹部８２４を通過する。

そして、回転部３０が中心軸Ｏを中心に回転することにより、第１ワーク台４１および第１ワーク１１が対向する位置に移動する。このとき、レーザ照射装置２０と、第１載置面３３１と、第１仕切部３１と、第１側面３４１と、第２側面３４２とによって、加工室３３が区画形成される。また、このとき、第２載置面３３２と、第２仕切部３２と、第３側面３４３と、第４側面３４４とによって、搬入出室３４が区画形成される。さらに、このとき、第１ブロワ穴３１１がブロワ配管９１内の流路に連通する。その後、処理は、ステップＳ１０１に戻り、ステップＳ１０１からステップＳ１０４の処理が繰り返される。

このようにして、レーザ加工装置１００により、第１ワーク１１および第２ワーク１２の表面改質が行われる。

次に、本実施形態のレーザ加工装置１００によって、サイクルタイムが短縮されることについて説明する。なお、以下の説明では、サイクルタイムとは、第１ワーク１１の加工室３３への移動が開始されてから、次に処理される第２ワーク１２の加工室３３への移動が開始されるまでの時間である。

本実施形態のレーザ加工装置１００では、第１ワーク１１に照射されたレーザは、第１ワーク１１の表面で反射する。第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、第１反射凸部５１、レーザ台２１および第１基面３５１でのレーザの反射が繰り返されることにより、減衰する。また、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、第２反射凸部５２、レーザ台２１および第２基面３５２でのレーザの反射が繰り返されることにより、減衰する。さらに、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、複数の第１反射凸部５１のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第１反射凸部５１、第３反射凸部５３、レーザ台２１および第１基面３５１でのレーザの反射が交互に繰り返される。これにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。また、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、複数の第２反射凸部５２のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第２反射凸部５２、第４反射凸部５４、レーザ台２１および第２基面３５２でのレーザの反射が交互に繰り返される。これにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、減衰する。さらに、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、第３反射凸部５３および第５反射凸部５５でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、減衰する。そして、第１ワーク１１の表面で反射したレーザは、第４反射凸部５４および第５反射凸部５５でのレーザの反射が交互に繰り返されることにより、減衰する。

ここで、レーザ照射部２２から照射されるレーザの有害レベルを示す値を強度関数Ｍとする。また、回転部３０を形成する材料と、レーザ照射部２２から照射されるレーザの波長域とによって得られる値を減衰有効値Ｇとする。そして、作業者等の安全を確保するために、第１ワーク１１の表面で反射したレーザを反射させる必要回数を必要反射回数Ｎとする。

強度関数Ｍは、レーザ照射装置２０から照射されるレーザ出力Ｅｏと、そのレーザの拡がり角φとにより得られる値である。例えば、強度関数Ｍは、レーザ出力Ｅｏが大きくなるにつれて、レーザの有害レベルが高いので大きくなる。また、強度関数Ｍは、拡がり角φが大きくなるにつれて、レーザが拡散されてレーザの有害レベルが低くなるため、小さくなる。また、レーザ出力Ｅｏは、０Ｗから１００００Ｗまでの範囲であり、拡がり角φは、０．３度から３０度までの範囲である。この場合、強度関数Ｍは、０から８までの範囲の値になる。減衰有効値Ｇは、回転部３０を形成する材料により大きく異なり、０．５から３．５までの値である。また、レーザ加工を行う作業者の安全を確保するためには、例えば、以下関係式（１）が満たされる必要がある。

Ｎ＞Ｍ／Ｇ ・・・（１）

レーザ加工装置１００では、上記したように第１−第５反射凸部５１−５５での反射により反射回数が比較的多くなるので、レーザ加工装置１００は、上記関係式（１）を満たすように、第１ワーク１１の表面で反射したレーザを減衰させることができる。このため、レーザの有害レベルを低下させることができる。これにより、加工室３３を密閉させることなく、作業者の安全を確保することができる。このため、加工室３３を密閉させる必要がなくなるので、加工室３３を密閉させるための回転部３０をレーザ台２１に向かって移動させる動作や回転部３０を変形させることにより回転部３０とレーザ台２１とを密着させる動作をする必要がなくなる。これにより、加工室３３への第１ワーク１１の移動が開始されてから第１ワーク１１のレーザの加工が開始されるまでの時間が短縮される。このため、レーザ加工装置１００は、第１ワーク１１の加工室３３への移動が開始されてから、次に処理される第２ワーク１２の加工室３３への移動が開始されるまでの時間であるサイクルタイムを短縮することができる。

また、レーザ加工装置１００では、以下［１］−［４］に説明するような効果も奏する。

［１］第１反射凹部６１、第２反射凹部６２、第３反射凹部６３、第４反射凹部６４、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６は、第１ワーク１１よりもレーザ照射部２２側に位置している。これにより、第１ワーク１１の表面で反射したレーザが第１反射凹部６１、第２反射凹部６２、第３反射凹部６３、第４反射凹部６４、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６を通過しやすくなる。

［２］中心軸Ｏの方向において、レーザ照射装置２０および回転部３０の間に第１隙間３０１が形成されている。これにより、回転部３０が回転するときにレーザ照射装置２０と干渉することが抑制されるので、回転部３０が回転しやすくなる。

［３］第１カバー凸部８１１は、第１反射凹部６１を通過するレーザを反射し、第１反射凹部６１を通過するレーザの進行を妨げる。第２カバー凸部８１２は、第２反射凹部６２を通過するレーザを反射し、第２反射凹部６２を通過するレーザの進行を妨げる。第３カバー凸部８１３は、第３反射凹部６３を通過するレーザを反射し、第３反射凹部６３を通過するレーザの進行を妨げる。第４カバー凸部８１４は、第４反射凹部６４を通過するレーザを反射し、第４反射凹部６４を通過するレーザの進行を妨げる。第５カバー凸部８１５は、第５反射凹部６５を通過するレーザを反射し、第５反射凹部６５を通過するレーザの進行を妨げる。第６カバー凸部８１６は、第６反射凹部６６を通過するレーザを反射し、第６反射凹部６６を通過するレーザの進行を妨げる。これらにより、第１−第６反射凹部６１−６６のそれぞれを通過するレーザが搬入出室３４に漏れることが抑制される。このため、搬入出室３４側がより安全になる。

［４］ブロワ９２は、加工室３３に向かって空気を送風する。そして、ポンプ９４は、加工室３３の空気とともに、レーザ照射部２２からのレーザがワークに照射されたことにより発生する粉塵を吸引する。また、加工室３３および搬入出室３４に連通する第１反射凹部６１、第２反射凹部６２、第３反射凹部６３、第４反射凹部６４、第５反射凹部６５および第６反射凹部６６が形成されているため、加工室３３に流れる空気の流路面積が大きくなる。これにより、ポンプ９４が吸引する空気の流量が大きくなるため、粉塵が回収されやすくなる。したがって、作業者がこの粉塵を吸うことが抑制される。

（他の実施形態）
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、上記実施形態に対して、適宜変更が可能である。また、上記各実施形態において、実施形態を構成する要素は、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。

（１）上記実施形態では、回転部３０は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円環状になっている。これに対して、回転部３０は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円環状になっていることに限定されない。回転部３０は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において楕円環状になっていてもよい。また、回転部３０は、中心軸Ｏに対して垂直な断面において多角環状になっていてもよい。

（２）上記実施形態では、カバー８０は、カバー凸部８１およびカバー凹部８２を有する。これに対して、カバー８０には、カバー凸部８１およびカバー凹部８２が形成されなくてもよい。この場合、レーザ加工装置１００は、上記［３］の効果を奏しない。

（３）上記実施形態では、第１−第６反射凹部６１−６６は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において回転部３０の回転方向に沿って延びている。これに対して、第１−第６反射凹部６１−６６は、回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において回転部３０の回転方向に沿って延びていることに限定されない。

例えば、図１２に示すように、第１−第６反射凹部６１−６６が回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において楕円弧状となるように、第１−第５反射凸部５１−５５が形成されてもよい。このように、第１−第６反射凹部６１−６６が回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において湾曲するように、第１−第５反射凸部５１−５５が形成されてもよい。

また、図１３に示すように、第１−第６反射凹部６１−６６が回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において多角形形状となるように、第１−第５反射凸部５１−５５が形成されてもよい。なお、第１−第６反射凹部６１−６６が回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円形状でない場合、カバー８０には、第１−第６カバー凸部８１１−８１６および第１−第５カバー凹部８２１−８２５が形成されない。この場合において、第１−第６カバー凸部８１１−８１６がカバー８０に形成されていると、回転部３０が回転するときに、第１−第６カバー凸部８１１−８１６が、それぞれに対応する第１−第５反射凸部５１−５５と干渉する。このため、回転部３０が回転できなくなる。したがって、第１−第６反射凹部６１−６６が回転部３０の中心軸Ｏに直行する断面において円形状でない場合、カバー８０には、第１−第６カバー凸部８１１−８１６および第１−第５カバー凹部８２１−８２５が形成されない。

（４）上記実施形態では、第３反射凹部６３を通過したレーザの１回目の反射は、複数の第１反射凸部５１のうちの回転部３０の径方向において最も内側に位置する第１反射凸部５１での反射であった。これに対して、第３反射凹部６３を通過したレーザの１回目の反射は、第１ワーク１１の位置、レーザ照射部２２からのレーザの照射角度等により、第３反射凸部５３での反射となる場合もある。同様に、第４反射凹部６４を通過したレーザの１回目の反射は、第４反射凸部５４での反射となる場合もある。第５反射凹部６５を通過したレーザの１回目の反射は、第３反射凸部５３での反射となる場合もある。第６反射凹部６６を通過したレーザの１回目の反射は、第４反射凸部５４での反射となる場合もある。

（５）上記実施形態では、第１仕切面３１２、第１側面３４１および第２側面３４２は、第１載置面３３１の端部にそれぞれ接続されており、互いに異なる面である。これに対して、第１仕切面３１２、第１側面３４１および第２側面３４２が互いに異なる面であることに限定されないで、第１仕切面３１２、第１側面３４１および第２側面３４２は、一体に形成されており、第１載置面３３１の端部に接続されてもよい。例えば、第１仕切面３１２、第１側面３４１および第２側面３４２は、曲面に形成されることにより一体に形成される。また、第２仕切面３２２、第３側面３４３および第４側面３４４は、第１載置面３３１の端部にそれぞれ接続されており、互いに異なる面である。これに対して、第２仕切面３２２、第３側面３４３および第４側面３４４が互いに異なる面であることに限定されないで、第２仕切面３２２、第３側面３４３および第４側面３４４は、一体に形成されており、第１載置面３３１の端部に接続されてもよい。例えば、第２仕切面３２２、第３側面３４３および第４側面３４４は、曲面に形成されることにより一体に形成される。

（６）上記実施形態では、ワーク駆動部は、回転することにより第１ワーク１１および第２ワーク１２を移動させる。これに対して、ワーク駆動部は、回転することにより第１ワーク１１および第２ワーク１２を移動させることに限定されない。ワーク駆動部は、並行移動することにより第１ワーク１１および第２ワーク１２を移動させてもよい。例えば、ワーク駆動部は、直動案内機構を有することにより並行移動する。これにより、ワーク駆動部とともに、第１ワーク１１および第２ワーク１２が移動する。なお、この直動案内機構は、例えば、直動用モータ、直動用ボールねじおよび直動用レール等を含む。

１１ ワーク
２０ レーザ照射装置
３０ 回転部
３３ 加工室
３１２、３２２ 仕切面
３３１、３３２ 載置面
３４１、３４２、３４３、３４４ 側面
３５１、３５２、３５３、３５４ 基面
５１、５２ 反射凸部
６１、６２ 反射凹部

Claims (10)

1. レーザ加工装置であって、
   ワーク（１１）に向かってレーザを照射するレーザ照射装置（２０）と、
   前記レーザ照射装置と、前記レーザ照射装置に対向して前記ワークが置かれる載置面（３３１）と、前記載置面の端部に接続されている端面（３１２、３４１、３４２）と、によって区画形成される加工室（３３）を有し、前記ワークを移動させるワーク駆動部（３０）と、
   を備え、
   前記ワーク駆動部は、前記載置面から前記レーザ照射装置に向かう方向に、前記載置面とは反対側の前記端面の端部と接続されている基面（３５１、３５２、３５３、３５４、３５５、３５６）から突出する反射凸部（５１、５２、５３、５４、５５）を複数有し、
   前記反射凸部同士の間には、前記ワークの表面で反射したレーザが通過する反射凹部（６１、６２、６３、６４、６５、６６）が形成されており、
   前記反射凸部は、前記反射凹部を通過したレーザを反射するレーザ加工装置。
2. 前記反射凹部は、前記ワークよりも前記レーザ照射装置側に位置している請求項１に記載のレーザ加工装置。
3. 前記レーザ照射装置および前記反射凸部の間に隙間（３０１）が形成されている請求項１に記載のレーザ加工装置。
4. 前記ワーク駆動部は、回転することにより前記ワークを移動させる請求項１ないし３のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。
5. 前記反射凸部は、前記ワーク駆動部の中心軸（Ｏ）に直行する断面において前記ワーク駆動部の回転方向に沿う方向に延びている請求項４に記載のレーザ加工装置。
6. 前記ワーク駆動部の軸方向において前記ワーク駆動部に対向して配置されているカバー（８０）をさらに備え、
   前記カバーは、前記反射凹部の形状に対応するカバー凸部（８１１、８１２、８１３、８１４、８１５、８１６）と、前記反射凸部の形状に対応するカバー凹部（８２１、８２２、８２３、８２４、８２５）と、を有し、
   前記反射凸部は、前記ワーク駆動部が回転するとき、前記カバー凹部を通り、
   前記カバー凸部は、前記ワーク駆動部が回転するとき、前記反射凹部を通る請求項５に記載のレーザ加工装置。
7. 前記カバー凸部は、前記反射凹部を通過するレーザを反射する請求項６に記載のレーザ加工装置。
8. 前記カバー凸部は、前記反射凹部を通過するレーザの進行を妨げる請求項６または７に記載のレーザ加工装置。
9. 前記加工室に向かって空気を送風するブロワ（９２）と、
   前記加工室内の空気とともに、前記レーザ照射装置のレーザが前記ワークに照射されたことにより発生する粉塵を吸引するポンプ（９４）と、
   をさらに備える請求項１ないし８のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。
10. 前記ワークは、第１ワーク（１１）であり、
    前記載置面は、第１載置面（３３１）であり、
    前記端面は、第１端面（３１２、３４１、３４２）であり、
    前記ワーク駆動部は、第２ワーク（１２）が置かれる第２載置面（３３２）と、前記第２載置面の端部に接続されている第２端面（３２２、３４３、３４４）と、によって区画形成される搬入出室（３４）を有し、
    前記加工室は、前記レーザ照射装置と、前記第１載置面と、前記第１端面とによって区画形成されている状態から前記ワーク駆動部が回転したとき、前記レーザ照射装置と、前記第２載置面と、前記第２端面とによって区画形成され、
    前記搬入出室は、前記第２載置面と、前記第２端面とによって区画形成されている状態から前記ワーク駆動部が回転したとき、前記第１載置面と、前記第１端面とによって区画形成される請求項１ないし９のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。

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