JP2021005682A - Print circuit board - Google Patents

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Abstract

To provide a print circuit board in which deterioration of a signal quality is suppressed even when the signal is transmitted to a lamination direction of a multilayer substrate.SOLUTION: A print circuit board 100 comprises: a multi layer substrate 1 formed by laminating built-up layers 51A and 51B on both sides of a core layer 50; a signal wiring 4 formed inside of at least any one of two layers of a wiring layer of a principal face on both sides of the multi layer substrate 1 and the wiring layer in an inner part and the inner part of the multi layer substrate 1; and a ground wiring 5 that is formed in at least any one of two layers of the wiring layer of the principal face of both sides of the multi layer substrate 1 and the wiring layer of the inner part and the inner part of the multi layer substrate 1, and is electrically insulated with and is grounded to the signal wiring 4. The signal wiring 4 includes a signal via 11 penetrating at least one layer of the built-up layers 51A and 51B in a lamination direction. The ground wiring 5 circumferences the signal via 11 in an annular shape without a gap, and includes annular ground vias 7A and 7B provided in the built-up layers 51A and 51B without the hap in the lamination direction.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、プリント配線板に関する。 The present invention relates to a printed wiring board.

特許第4067313号および特許第3384995号には、表面に沿って延在する同軸線路を備えたプリント配線板が開示されている。 Japanese Patent No. 4067313 and Japanese Patent No. 3384995 disclose a printed wiring board including a coaxial line extending along a surface.

一方で、特許第4067313号および特許第3384995号には、同軸線路がプリント配線板の表面と交差する積層方向、すなわち厚み方向に延在した構成は開示されていない。 On the other hand, Japanese Patent No. 4067313 and Japanese Patent No. 3384995 do not disclose a configuration in which the coaxial line extends in the stacking direction at which the surface of the printed wiring board intersects, that is, in the thickness direction.

特開2011−187812では、プリント配線板において積層方向に信号を伝える場合に、信号配線および接地配線の各一部は、積層方向において基板を貫通する貫通孔内に信号配線ビアおよび接地配線ビアとして形成される。このような信号配線ビアおよび接地配線ビアは、一般的にドリル加工により形成された貫通孔内に形成されている。そのため、従来のプリント配線板では、接地配線ビアは信号配線ビアの周囲を離散的に囲むように形成されている。 In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-187812, when a signal is transmitted in the laminated direction in a printed wiring board, each part of the signal wiring and the ground wiring is used as a signal wiring via and a ground wiring via in a through hole penetrating the substrate in the stacking direction. It is formed. Such signal wiring vias and ground wiring vias are generally formed in through holes formed by drilling. Therefore, in the conventional printed wiring board, the ground wiring via is formed so as to discretely surround the signal wiring via.

特許第4067313号Patent No. 4067313 特許第3384995号Patent No. 3384995 特開2011−187812JP 2011-187812

このようなプリント配線板では、信号配線を伝わる信号が複数の接地配線間に配置された絶縁層を介して外部に漏れて、信号品質の劣化または漏れ出た信号と他の信号との干渉が引き起こされるおそれがある。 In such a printed wiring board, the signal transmitted through the signal wiring leaks to the outside through an insulating layer arranged between a plurality of ground wires, resulting in deterioration of signal quality or interference between the leaked signal and other signals. May be triggered.

本発明の主たる目的は、信号が多層基板の積層方向に伝えられる場合にも、信号品質の劣化が抑制されたプリント配線板を提供することにある。 A main object of the present invention is to provide a printed wiring board in which deterioration of signal quality is suppressed even when a signal is transmitted in a stacking direction of a multilayer substrate.

本発明に係るプリント配線板は、コア層の両側にビルドアップ層を積層した多層基板と、多層基板の両側の主表面の配線層および内部の配線層の何れか少なくとも2層と多層基板の内部に形成された信号配線と、多層基板の両側の主表面の配線層および内部の配線層の何れか少なくとも2層と多層基板の内部に形成されており、かつ信号配線と電気的に絶縁されて接地されている接地配線とを備える。信号配線は、積層方向に少なくとも1層のビルドアップ層を貫通する信号ビアを有する。接地配線は、信号ビアを環状に切れ目なく囲み、かつ積層方向にビルドアップ層に切れ目なく設けられた環状接地ビアを有する。 The printed wiring board according to the present invention includes a multilayer board in which build-up layers are laminated on both sides of a core layer, at least two layers of wiring layers on the main surface on both sides of the multilayer board and internal wiring layers, and the inside of the multilayer board. It is formed inside the multilayer board and at least two layers of the wiring layer on the main surface on both sides of the multilayer board and the internal wiring layer, and is electrically insulated from the signal wiring. It has a grounded wiring that is grounded. The signal wiring has a signal via that penetrates at least one build-up layer in the stacking direction. The grounding wiring has an annular grounding via that surrounds the signal via in an annular manner and is seamlessly provided in the build-up layer in the stacking direction.

本発明によれば、信号が多層基板の積層方向に伝えられる場合にも、信号品質の劣化が抑制されたプリント配線板を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a printed wiring board in which deterioration of signal quality is suppressed even when a signal is transmitted in the stacking direction of the multilayer substrate.

本実施の形態に係るプリント配線板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the printed wiring board which concerns on this embodiment. 図1中の矢印IIから視た平面図である。It is a top view seen from the arrow II in FIG. 図1中の矢印III−IIIから視た断面図である。It is sectional drawing seen from the arrow III-III in FIG. 図1中の矢印IV−IVから視た断面図である。It is sectional drawing seen from the arrow IV-IV in FIG. 図1中の矢印V−Vから視た断面図である。It is sectional drawing seen from the arrow VV in FIG. 図1中の矢印VI−VIから視た断面図である。It is sectional drawing seen from the arrow VI-VI in FIG. 図1中の矢印VII−VIIから視た断面図である。It is sectional drawing seen from the arrow VII-VII in FIG. 図1中の矢印VIII−VIIIから視た平面図である。It is a top view seen from the arrow VIII-VIII in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one process of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図9に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 9 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図10中の矢印XIから視た平面図である。It is a top view seen from the arrow XI in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図10に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 10 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図12に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 12 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図13に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 13 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図14中の矢印XVから視た平面図である。It is a top view seen from the arrow XV in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図14に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 14 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図16に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 16 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図17に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 17 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図18中の矢印XIXから視た平面図である。It is a top view seen from the arrow XIX in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図18に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 18 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図20に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 20 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図21に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 21 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図22に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 22 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図23に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 23 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図24中の矢印XXVから視た平面図である。It is a top view seen from the arrow XXV in FIG. 24. 図24中の矢印XXVIから視た平面図である。It is a top view seen from the arrow XXVI in FIG. 24. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図24に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 24 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図27に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 27 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG. 図1に示されるプリント配線板の製造方法の、図28に示される工程後の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one step after the process shown in FIG. 28 of the manufacturing method of the printed wiring board shown in FIG.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付しその説明は繰返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings below, the same or corresponding parts are given the same reference numbers and the explanations are not repeated.

図1は、本実施の形態に係るプリント配線板を示す断面図である。図2から図8は、図1中に示す矢印の方向から見た平面図または断面図である。図1に示されるように、本実施の形態に係るプリント配線板100は、多層基板1と、信号配線4と、接地配線5とを備える。多層基板1は、コア絶縁層2、複数の第1ビルドアップ絶縁層3A、および複数の第2ビルドアップ絶縁層3Bを備える。複数の第1ビルドアップ絶縁層3Aおよび複数の第2ビルドアップ絶縁層3Bは、コア絶縁層2を挟むように配置されている。プリント配線板100は、2層の第1ビルドアップ絶縁層3Aおよび2層の第2ビルドアップ絶縁層3Bを有する。第1ビルドアップ絶縁層3Aおよび第2ビルドアップ絶縁層3Bは、少なくとも一方が2層以上であればよい。第1ビルドアップ絶縁層3Aおよび第2ビルドアップ絶縁層3Bの層数が異なってもよい。以下において、複数の第1ビルドアップ絶縁層3A、コア絶縁層2、および複数の第2ビルドアップ絶縁層3Bが積層した方向を、積層方向Aとよぶ。プリント配線板100は、積層方向Aと交差する第1面1Aおよび第2面1Bを有している。言い換えると、第1面1Aおよび第2面1Bと交差する方向が、積層方向Aである。第2面1Bは、第1面1Aと反対側に位置している。第1面1Aおよび第2面1Bは、多層基板1の両側の主表面である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a printed wiring board according to the present embodiment. 2 to 8 are a plan view or a cross-sectional view seen from the direction of the arrow shown in FIG. As shown in FIG. 1, the printed wiring board 100 according to the present embodiment includes a multilayer board 1, a signal wiring 4, and a ground wiring 5. The multilayer substrate 1 includes a core insulating layer 2, a plurality of first build-up insulating layers 3A, and a plurality of second build-up insulating layers 3B. The plurality of first build-up insulating layers 3A and the plurality of second build-up insulating layers 3B are arranged so as to sandwich the core insulating layer 2. The printed wiring board 100 has two layers of the first build-up insulating layer 3A and two layers of the second build-up insulating layer 3B. At least one of the first build-up insulating layer 3A and the second build-up insulating layer 3B may be two or more layers. The number of layers of the first build-up insulating layer 3A and the second build-up insulating layer 3B may be different. In the following, the direction in which the plurality of first build-up insulating layers 3A, the core insulating layer 2, and the plurality of second build-up insulating layers 3B are laminated is referred to as the stacking direction A. The printed wiring board 100 has a first surface 1A and a second surface 1B that intersect the stacking direction A. In other words, the direction in which the first surface 1A and the second surface 1B intersect is the stacking direction A. The second surface 1B is located on the opposite side of the first surface 1A. The first surface 1A and the second surface 1B are the main surfaces on both sides of the multilayer substrate 1.

コア絶縁層2は、積層方向Aと交差する第3面2Aおよび第4面2Bを有している。第4面2Bは、第3面2Aとは反対側に位置している。第3面2Aは、第1面1Aと同じ側を向いている。第4面2Bは、第2面1Bと同じ側を向いている。コア絶縁層2を構成する材料は、例えばエポキシ樹脂を含む。 The core insulating layer 2 has a third surface 2A and a fourth surface 2B that intersect the stacking direction A. The fourth surface 2B is located on the opposite side of the third surface 2A. The third surface 2A faces the same side as the first surface 1A. The fourth surface 2B faces the same side as the second surface 1B. The material constituting the core insulating layer 2 includes, for example, an epoxy resin.

第1ビルドアップ絶縁層3Aは、コア絶縁層2の第3面2Aの上に積層されている。第1ビルドアップ絶縁層3Aのうち、コア絶縁層2から最も離れた第1ビルドアップ絶縁層3Aの表面が、プリント配線板100の第1面1Aになる。第1ビルドアップ絶縁層3Aおよび第2ビルドアップ絶縁層3Bは、例えばプリプレグを加熱して硬化させた樹脂で構成されている。 The first build-up insulating layer 3A is laminated on the third surface 2A of the core insulating layer 2. Of the first build-up insulating layer 3A, the surface of the first build-up insulating layer 3A farthest from the core insulating layer 2 becomes the first surface 1A of the printed wiring board 100. The first build-up insulating layer 3A and the second build-up insulating layer 3B are made of, for example, a resin obtained by heating and curing a prepreg.

第2ビルドアップ絶縁層3Bは、コア絶縁層2の第4面2Bの上に積層されている。第2ビルドアップ絶縁層3Bのうち、コア絶縁層2から最も離れた第2ビルドアップ絶縁層3Bの表面が、プリント配線板100の第2面1Bになる。多層基板1の内部で、コア絶縁層2と第1ビルドアップ絶縁層3Aまたは第2ビルドアップ絶縁層3Bとの間、第1ビルドアップ絶縁層3どうしの間、第2ビルドアップ絶縁層3Bどうしの間には、配線層が設けられる。 The second build-up insulating layer 3B is laminated on the fourth surface 2B of the core insulating layer 2. Of the second build-up insulating layer 3B, the surface of the second build-up insulating layer 3B farthest from the core insulating layer 2 becomes the second surface 1B of the printed wiring board 100. Inside the multilayer board 1, between the core insulating layer 2 and the first build-up insulating layer 3A or the second build-up insulating layer 3B, between the first build-up insulating layers 3, and between the second build-up insulating layers 3B. A wiring layer is provided between them.

図1および図5に示されるように、多層基板1には、コア絶縁層2を積層方向Aに貫通する第1貫通孔21および複数の第2貫通孔22が形成されている。コア絶縁層2を積層方向Aから視たときに、複数の第2貫通孔22は、第1貫通孔21の周囲に互いに間隔を有して配置されている。複数の第2貫通孔22の各中心は、第1貫通孔21の中心に対して同心円上に配置されている。複数の第2貫通孔22のうち隣り合う2つの第2貫通孔22の間隔は、互いに等しい。複数の第2貫通孔22のうち隣り合う2つの第2貫通孔22の間隔(ピッチ)は、例えば信号配線4に入力される信号の波長λの16分の1以下である。第2貫通孔22の数は、任意の数であればよいが、例えば8個である。隣り合う2つの第2貫通孔22の中心が第1貫通孔21の中心に対して成す角度は、例えば45度である。 As shown in FIGS. 1 and 5, the multilayer substrate 1 is formed with a first through hole 21 and a plurality of second through holes 22 that penetrate the core insulating layer 2 in the stacking direction A. When the core insulating layer 2 is viewed from the stacking direction A, the plurality of second through holes 22 are arranged around the first through holes 21 at intervals. Each center of the plurality of second through holes 22 is arranged concentrically with respect to the center of the first through hole 21. The distance between two adjacent second through holes 22 among the plurality of second through holes 22 is equal to each other. The distance (pitch) between two adjacent second through holes 22 among the plurality of second through holes 22 is, for example, 1/16 or less of the wavelength λ of the signal input to the signal wiring 4. The number of the second through holes 22 may be any number, but is, for example, eight. The angle formed by the centers of the two adjacent second through holes 22 with respect to the center of the first through holes 21 is, for example, 45 degrees.

図1に示されるように、第1貫通孔21および複数の第2貫通孔22の各内周面は、例えば第3面2Aおよび第4面2Bと直交している。第1貫通孔21および複数の第2貫通孔22は、例えばドリル加工により形成されている。 As shown in FIG. 1, each inner peripheral surface of the first through hole 21 and the plurality of second through holes 22 is orthogonal to, for example, the third surface 2A and the fourth surface 2B. The first through hole 21 and the plurality of second through holes 22 are formed by, for example, drilling.

図1および図3に示されるように、表層の第1ビルドアップ絶縁層3Aには積層方向Aに貫通する第3貫通孔31Aおよび第7有底孔32Cが形成されている。第1貫通孔21、第3貫通孔31Aおよび第5貫通孔31B(第2ビルドアップ絶縁層3Bに設ける)は、第1ビルドアップ絶縁層3Aおよび第2ビルドアップ絶縁層3Bを積層後に設ける。そのため、第1貫通孔21、第3貫通孔31Aおよび第5貫通孔31Bの中心を通る軸は一致する。第7有底孔32Cは、積層方向Aで表面信号配線4A(図2に示す)と重ならないように、第3貫通孔31Aを囲む円において表面信号配線4Aの図における下側に対応する部分以外に、アルファベットのCの字状に形成されている。 As shown in FIGS. 1 and 3, the first build-up insulating layer 3A of the surface layer is formed with a third through hole 31A and a seventh bottomed hole 32C penetrating in the stacking direction A. The first through hole 21, the third through hole 31A, and the fifth through hole 31B (provided in the second build-up insulating layer 3B) are provided after laminating the first build-up insulating layer 3A and the second build-up insulating layer 3B. Therefore, the axes passing through the centers of the first through hole 21, the third through hole 31A, and the fifth through hole 31B coincide with each other. The seventh bottomed hole 32C is a portion corresponding to the lower side in the figure of the surface signal wiring 4A in the circle surrounding the third through hole 31A so as not to overlap the surface signal wiring 4A (shown in FIG. 2) in the stacking direction A. Besides, it is formed in the shape of C in the alphabet.

図1および図7に示されるように、表層の第2ビルドアップ絶縁層3Bには積層方向Aに貫通する第5貫通孔31Bおよび第8有底孔32Dが形成されている。第8有底孔32Dは、積層方向Aで表面信号配線4B(図7に示す)と重ならないように、第3貫通孔31Aを囲む円において表面信号配線4Bの図における上側に対応する部分以外に、Cの字状に形成されている。 As shown in FIGS. 1 and 7, the second build-up insulating layer 3B of the surface layer is formed with a fifth through hole 31B and an eighth bottomed hole 32D penetrating in the stacking direction A. The eighth bottomed hole 32D is a portion of the circle surrounding the third through hole 31A other than the portion corresponding to the upper side in the figure of the surface signal wiring 4B so as not to overlap the surface signal wiring 4B (shown in FIG. 7) in the stacking direction A. It is formed in a C shape.

図1および図4に示されるように、表層ではない第1ビルドアップ絶縁層3Aには積層方向Aに貫通する第3貫通孔31Aおよび第4有底孔32Aが形成されている。第4有底孔32Aは、第3貫通孔31Aを切れ目なく囲むように環状(ドーナツ状)に形成されている。第4有底孔32Aは、例えば第3貫通孔31Aの中心に対し円環状に形成されている。 As shown in FIGS. 1 and 4, the first build-up insulating layer 3A, which is not the surface layer, is formed with a third through hole 31A and a fourth bottomed hole 32A penetrating in the stacking direction A. The fourth bottomed hole 32A is formed in an annular shape (doughnut shape) so as to seamlessly surround the third through hole 31A. The fourth bottomed hole 32A is formed in an annular shape with respect to the center of, for example, the third through hole 31A.

図4に示されるように、ドーナツ状に形成された第4有底孔32Aは、径方向に対向する内側面321Aおよび外側面322Aを有している。内側面321Aは径方向の外周側を向いており、外側面322Aは径方向の内周側を向いている。径方向において内側面321Aと外側面322Aとの中央を通る円は、複数の第2貫通孔22の中心を通る円と重なるように形成されている。 As shown in FIG. 4, the donut-shaped fourth bottomed hole 32A has an inner surface 321A and an outer surface 322A facing each other in the radial direction. The inner side surface 321A faces the outer peripheral side in the radial direction, and the outer side surface 322A faces the inner peripheral side in the radial direction. The circle passing through the center of the inner side surface 321A and the outer side surface 322A in the radial direction is formed so as to overlap the circle passing through the centers of the plurality of second through holes 22.

図1に示されるように、第3貫通孔31Aの内周面は、例えば第3面2Aおよび第4面2Bと直交している。第4有底孔32Aの内側面321Aおよび外側面322Aは、例えば第3面2Aおよび第4面2Bに対して傾斜している。内側面321Aは、積層方向Aにおいてコア絶縁層2側に向かうにつれて径方向の外周側に位置するように傾斜して形成されている。外側面322Aは、積層方向Aにおいてコア絶縁層2側に向かうにつれて径方向の内周側に位置するように傾斜して形成されている。第3貫通孔31Aは、例えばドリル加工により形成されている。第4有底孔32Aは、例えばレーザ加工により形成されている。 As shown in FIG. 1, the inner peripheral surface of the third through hole 31A is orthogonal to, for example, the third surface 2A and the fourth surface 2B. The inner surface 321A and the outer surface 322A of the fourth bottomed hole 32A are inclined with respect to, for example, the third surface 2A and the fourth surface 2B. The inner side surface 321A is formed so as to be inclined so as to be located on the outer peripheral side in the radial direction toward the core insulating layer 2 side in the stacking direction A. The outer side surface 322A is formed so as to be inclined so as to be located on the inner peripheral side in the radial direction toward the core insulating layer 2 side in the stacking direction A. The third through hole 31A is formed by, for example, drilling. The fourth bottomed hole 32A is formed by, for example, laser machining.

図1および図6に示されるように、多層基板1には、第2ビルドアップ絶縁層3Bを積層方向Aに貫通する第5貫通孔31Bおよび第6有底孔32Bが形成されている。第6有底孔32Bは、第5貫通孔31Bを切れ目なく囲むように環状に形成されている。 As shown in FIGS. 1 and 6, the multilayer substrate 1 is formed with a fifth through hole 31B and a sixth bottomed hole 32B that penetrate the second build-up insulating layer 3B in the stacking direction A. The sixth bottomed hole 32B is formed in an annular shape so as to seamlessly surround the fifth through hole 31B.

図6に示されるように、第6有底孔32Bは、例えば第5貫通孔31Bを切れ目なく囲むように円環状に形成されている。ドーナツ状に形成された第6有底孔32Bは、径方向に対向する内側面321Bおよび外側面322Bを有している。内側面321Bは径方向の外周側を向いており、外側面322Bは径方向の内周側を向いている。径方向において内側面321Bと外側面322Bとの中央を通る円は、複数の第2貫通孔22の中心を通る円と重なるように形成されている。 As shown in FIG. 6, the sixth bottomed hole 32B is formed in an annular shape so as to seamlessly surround the fifth through hole 31B, for example. The donut-shaped sixth bottomed hole 32B has an inner surface 321B and an outer surface 322B facing each other in the radial direction. The inner side surface 321B faces the outer peripheral side in the radial direction, and the outer side surface 322B faces the inner peripheral side in the radial direction. The circle passing through the center of the inner side surface 321B and the outer side surface 322B in the radial direction is formed so as to overlap the circle passing through the centers of the plurality of second through holes 22.

信号配線4は、多層基板1の第1面1A上に形成されている表面信号配線4Aと、多層基板1の第2面1B上に形成されている表面信号配線4Bと、多層基板1の内部に形成されておりかつ表面信号配線4Aと表面信号配線4Bとを接続する面間信号配線4Cとを含む。図2および図8に示されるように、表面信号配線4Aおよび表面信号配線4Bは、第1面1Aおよび第2面1Bに平行な平面方向Bに沿って線状に延びている。面間信号配線4Cは、積層方向Aに沿って延びている。信号配線4では、表面信号配線4A、面間信号配線4C、および表面信号配線4Bが順に直列に接続されている。第1面1A上、第2面1B上および多層基板1の内部の配線層には、信号配線4および接地配線5(後で説明する)以外の配線が設けられている。ここでは、信号配線4および接地配線5以外の配線は、図示および説明を省略する。 The signal wiring 4 includes a surface signal wiring 4A formed on the first surface 1A of the multilayer substrate 1, a surface signal wiring 4B formed on the second surface 1B of the multilayer substrate 1, and the inside of the multilayer substrate 1. The surface signal wiring 4A and the surface signal wiring 4B are connected to the surface signal wiring 4A. As shown in FIGS. 2 and 8, the surface signal wiring 4A and the surface signal wiring 4B extend linearly along the plane direction B parallel to the first surface 1A and the second surface 1B. The face-to-face signal wiring 4C extends along the stacking direction A. In the signal wiring 4, the surface signal wiring 4A, the interfaceted signal wiring 4C, and the surface signal wiring 4B are connected in series in this order. Wiring other than the signal wiring 4 and the ground wiring 5 (described later) is provided on the first surface 1A, the second surface 1B, and the wiring layer inside the multilayer board 1. Here, the wiring other than the signal wiring 4 and the ground wiring 5 will be omitted from the illustration and description.

面間信号配線4Cは、信号ビア11、第1信号配線12A、第2信号配線12B、第3信号配線13A、および第4信号配線13Bを含む。信号ビア11は、コア絶縁層2の第1貫通孔21、第1ビルドアップ絶縁層3Aの第3貫通孔31A、および第2ビルドアップ絶縁層3Bの第5貫通孔31Bの内部に形成されている。信号ビア11は、積層方向Aに沿って延在している。第1信号配線12Aは、コア絶縁層2と第1ビルドアップ絶縁層3Aとの間の配線層に円形に形成されている。第2信号配線12Bは、コア絶縁層2と第2ビルドアップ絶縁層3Bとの間の配線層に円形に形成されている。第1信号配線12Aおよび第2信号配線12Bは、その中心を通る信号ビア11と接続されている。第3信号配線13Aは、第1ビルドアップ絶縁層3A間の配線層に円形に形成されている。第3信号配線13Aは、その中心を通る信号ビア11と接続されている。第4信号配線13Bは、第2ビルドアップ絶縁層3B間の配線層に円形に形成されている。第4信号配線13Bは、その中心を通る信号ビア11と接続されている。 The face-to-face signal wiring 4C includes a signal via 11, a first signal wiring 12A, a second signal wiring 12B, a third signal wiring 13A, and a fourth signal wiring 13B. The signal via 11 is formed inside the first through hole 21 of the core insulating layer 2, the third through hole 31A of the first build-up insulating layer 3A, and the fifth through hole 31B of the second build-up insulating layer 3B. There is. The signal via 11 extends along the stacking direction A. The first signal wiring 12A is formed in a circular shape in the wiring layer between the core insulating layer 2 and the first build-up insulating layer 3A. The second signal wiring 12B is formed in a circular shape in the wiring layer between the core insulating layer 2 and the second build-up insulating layer 3B. The first signal wiring 12A and the second signal wiring 12B are connected to a signal via 11 passing through the center thereof. The third signal wiring 13A is formed in a circle in the wiring layer between the first build-up insulating layers 3A. The third signal wiring 13A is connected to the signal via 11 passing through the center thereof. The fourth signal wiring 13B is formed in a circle in the wiring layer between the second build-up insulating layers 3B. The fourth signal wiring 13B is connected to the signal via 11 passing through the center thereof.

接地配線5は、信号配線4と電気的に絶縁されている。接地配線5は、多層基板1の第1面1A上に形成されている表面接地配線5Aと、多層基板1の第2面1B上に形成されている表面接地配線5Bと、多層基板1の内部に形成されておりかつ表面接地配線5Aと表面接地配線5Bとを接続する面間接地配線5Cとを含む。図2および図8に示されるように、表面接地配線5Aは、表面信号配線4Aと間隔を隔てて配置されている。表面接地配線5Bは、表面信号配線4Bと間隔を隔てて配置されている。面間接地配線5Cは、積層方向Aに沿って延びている。接地配線5では、表面接地配線5A、面間接地配線5C、および表面接地配線5Bが順に直列に接続されている。 The ground wiring 5 is electrically isolated from the signal wiring 4. The grounding wiring 5 includes a surface grounding wiring 5A formed on the first surface 1A of the multilayer board 1, a surface grounding wiring 5B formed on the second surface 1B of the multilayer board 1, and the inside of the multilayer board 1. The surface grounding wiring 5A and the surface grounding wiring 5B are connected to the surface grounding wiring 5C. As shown in FIGS. 2 and 8, the surface grounding wiring 5A is arranged at a distance from the surface signal wiring 4A. The surface ground wiring 5B is arranged at a distance from the surface signal wiring 4B. The face-to-face ground wiring 5C extends along the stacking direction A. In the grounding wiring 5, the surface grounding wiring 5A, the surface grounding wiring 5C, and the surface grounding wiring 5B are connected in series in this order.

面間接地配線5Cは、第1接地ビア6、第2接地ビア7A、第3接地ビア7B、第4接地ビア7C、第5接地ビア7D、第1接地配線8A、第2接地配線8B、第3接地配線9A、および第4接地配線9Bを含む。第1接地ビア6は、コア絶縁層2の複数の第2貫通孔22の内部に形成されている。第1接地ビア6は、例えば各第2貫通孔22の内周面に環状に形成されている。積層方向Aから視て、第1接地ビア6の内側には、各第2貫通孔22の内部を埋める埋込部材10が配置されている。埋込部材10を構成する材料は、第2貫通孔22の内部を埋めることができる任意の材料であればよいが、例えば樹脂または金属を含む。埋込部材10は、例えば導電性ペーストにより形成されていてもよい。第2接地ビア7Aは、表層ではない第1ビルドアップ絶縁層3Aに設けた第4有底孔32Aの内部に形成されている。第3接地ビア7Bは、表層ではない第2ビルドアップ絶縁層3Bに設けた第6有底孔32Bの内部に形成されている。第4接地ビア7Cは、表層の第1ビルドアップ絶縁層3Aに設けた第7有底孔32Cの内部に形成されている。第5接地ビア7Dは、表層の第2ビルドアップ絶縁層3Bに設けた第8有底孔32Dの内部に形成されている。 The face-to-face grounding wiring 5C includes a first grounding via 6, a second grounding via 7A, a third grounding via 7B, a fourth grounding via 7C, a fifth grounding via 7D, a first grounding wiring 8A, a second grounding wiring 8B, and a first. 3 The ground wiring 9A and the 4th ground wiring 9B are included. The first grounding via 6 is formed inside a plurality of second through holes 22 of the core insulating layer 2. The first grounding via 6 is formed in an annular shape on the inner peripheral surface of each of the second through holes 22, for example. When viewed from the stacking direction A, an embedded member 10 that fills the inside of each of the second through holes 22 is arranged inside the first grounding via 6. The material constituting the embedding member 10 may be any material that can fill the inside of the second through hole 22, and includes, for example, resin or metal. The embedded member 10 may be formed of, for example, a conductive paste. The second grounding via 7A is formed inside the fourth bottomed hole 32A provided in the first build-up insulating layer 3A, which is not the surface layer. The third grounding via 7B is formed inside the sixth bottomed hole 32B provided in the second build-up insulating layer 3B, which is not the surface layer. The fourth grounding via 7C is formed inside the seventh bottomed hole 32C provided in the first build-up insulating layer 3A on the surface layer. The fifth grounding via 7D is formed inside the eighth bottomed hole 32D provided in the second build-up insulating layer 3B on the surface layer.

図2および図3に示されるように、第7有底孔32Cの内部に形成された第4接地ビア7Cは、積層方向Aから視て、表面信号配線4Aと重ならないように形成されている。図7および図8に示されるように、第8有底孔32Dの内部に形成された第5接地ビア7Dは、積層方向Aから視て、表面信号配線4Bと重ならないように形成されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the fourth grounding via 7C formed inside the seventh bottomed hole 32C is formed so as not to overlap the surface signal wiring 4A when viewed from the stacking direction A. .. As shown in FIGS. 7 and 8, the fifth grounding via 7D formed inside the eighth bottomed hole 32D is formed so as not to overlap the surface signal wiring 4B when viewed from the stacking direction A. ..

第1接地配線8Aは、第1接地ビア6と第2接地ビア7Aとの間を接続している。第1接地配線8Aは、第1信号配線12Aと間隔を有して信号ビア11および第1信号配線12Aの周囲を環状に切れ目なく囲むように形成されている。第2接地配線8Bは、第1接地ビア6と第3接地ビア7Bとの間を接続している。第2接地配線8Bは、第2信号配線12Bと間隔を有して信号ビア11および第2信号配線12Bの周囲を環状に切れ目なく囲むように形成されている。 The first grounded wiring 8A connects the first grounded via 6 and the second grounded via 7A. The first ground wiring 8A is formed so as to surround the signal via 11 and the first signal wiring 12A in a ring shape without a break at intervals from the first signal wiring 12A. The second grounded wiring 8B connects the first grounded via 6 and the third grounded via 7B. The second ground wiring 8B is formed so as to surround the signal via 11 and the second signal wiring 12B in a ring shape without a break at intervals from the second signal wiring 12B.

第3接地配線9Aは、積層方向Aにおいて隣り合う第2接地ビア7Aおよび第4接地ビア7Cの間を接続している。第3接地配線9Aは、第3信号配線13Aと間隔を有して信号ビア11および第3信号配線13Aの周囲を環状に切れ目なく囲むように形成されている。第4接地配線9Bは、積層方向Aにおいて隣り合う第3接地ビア7Bおよび第5接地ビア7Dの間を接続している。第4接地配線9Bは、第4信号配線13Bと間隔を有して信号ビア11および第4信号配線13Bの周囲を環状に切れ目なく囲むように形成されている。 The third grounding wiring 9A connects between the second grounding via 7A and the fourth grounding via 7C that are adjacent to each other in the stacking direction A. The third ground wiring 9A is formed so as to surround the signal via 11 and the third signal wiring 13A in a ring shape without a break at intervals from the third signal wiring 13A. The fourth grounded wiring 9B connects between the third grounded via 7B and the fifth grounded via 7D that are adjacent to each other in the stacking direction A. The fourth grounded wiring 9B is formed so as to surround the signal via 11 and the fourth signal wiring 13B in a ring shape without a break at intervals from the fourth signal wiring 13B.

面間接地配線5Cでは、表面接地配線5A側から、第4接地ビア7C、第3接地配線9A、第2接地ビア7A、第1接地配線8A、第1接地ビア6、第2接地配線8B、第3接地ビア7B、第4接地配線9B、および第5接地ビア7Dが、順に直列に接続されている。表層ではない第1ビルドアップ絶縁層3Aおよび第2ビルドアップ絶縁層3Bにおいて、面間信号配線4Cと面間接地配線5Cとは、いわゆる同軸線路として構成されている。面間信号配線4Cに対する面間接地配線5Cの距離は、多層基板1の内部の比誘電率およびインピーダンスに応じて設定される。 In the face-to-face grounding wiring 5C, from the surface grounding wiring 5A side, the fourth grounding via 7C, the third grounding wiring 9A, the second grounding via 7A, the first grounding wiring 8A, the first grounding via 6, the second grounding wiring 8B, The third grounded via 7B, the fourth grounded wire 9B, and the fifth grounded via 7D are connected in series in this order. In the first build-up insulating layer 3A and the second build-up insulating layer 3B, which are not surface layers, the face-to-face signal wiring 4C and the face-to-face grounding wiring 5C are configured as so-called coaxial lines. The distance of the face-to-face ground wiring 5C with respect to the face-to-face signal wiring 4C is set according to the relative permittivity and impedance inside the multilayer board 1.

異なる観点から言えば、プリント配線板100は、いわゆるビルドアップ基板であり、コア層50、少なくとも2層の第1ビルドアップ層51A、および少なくとも2層の第2ビルドアップ層51Bを備える。コア層50は、コア絶縁層2、信号ビア11の一部、第1信号配線12A、第2信号配線12B、第1接地ビア6、第1接地配線8A、および第2接地配線8Bを含む。第1ビルドアップ層51Aは、第1ビルドアップ絶縁層3A、信号ビア11の一部、第3信号配線13A、第2接地ビア7Aまたは第4接地ビア7C、および第3接地配線9Aを含む。第2ビルドアップ層51Bは、第2ビルドアップ絶縁層3B、信号ビア11の一部、第4信号配線13B、第3接地ビア7Bまたは第5接地ビア7D、および第4接地配線9Bを含む。
<プリント配線板の製造方法>
From a different point of view, the printed wiring board 100 is a so-called build-up board, which includes a core layer 50, at least two first build-up layers 51A, and at least two second build-up layers 51B. The core layer 50 includes a core insulating layer 2, a part of the signal via 11, a first signal wiring 12A, a second signal wiring 12B, a first ground via 6, a first ground wiring 8A, and a second ground wiring 8B. The first build-up layer 51A includes a first build-up insulating layer 3A, a part of the signal via 11, a third signal wiring 13A, a second ground via 7A or a fourth ground via 7C, and a third ground wiring 9A. The second build-up layer 51B includes a second build-up insulating layer 3B, a part of the signal via 11, a fourth signal wiring 13B, a third ground via 7B or a fifth ground via 7D, and a fourth ground wiring 9B.
<Manufacturing method of printed wiring board>

図9〜図29を参照して、本実施の形態に係るプリント配線板100の製造方法について説明する。プリント配線板100は、いわゆるビルドアップ工法により製造される。 A method of manufacturing the printed wiring board 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 9 to 29. The printed wiring board 100 is manufactured by a so-called build-up method.

まず、図9に示されるように、絶縁体23と、導体層24Aおよび導体層24Bとが積層した積層板20が準備される。絶縁体23は、第5面23Aと、第5面23Aとは反対側に位置する第6面23Bとを有している。導体層24Aは、第5面23A上に形成されている。導体層24Bは、第6面23B上に形成されている。絶縁体23を構成する材料は、電気的絶縁性を有する任意の材料であればよいが、例えばエポキシ樹脂を含む。なお、絶縁体23は、プリプレグを熱硬化させてもよい。導体層24Aおよび導体層24Bを構成する材料は、導電性を有する任意の材料であればよいが、例えば銅(Cu)を含む。 First, as shown in FIG. 9, a laminated plate 20 in which the insulator 23, the conductor layer 24A, and the conductor layer 24B are laminated is prepared. The insulator 23 has a fifth surface 23A and a sixth surface 23B located on the opposite side of the fifth surface 23A. The conductor layer 24A is formed on the fifth surface 23A. The conductor layer 24B is formed on the sixth surface 23B. The material constituting the insulator 23 may be any material having an electrical insulating property, and includes, for example, an epoxy resin. The insulator 23 may thermoset the prepreg. The material constituting the conductor layer 24A and the conductor layer 24B may be any material having conductivity, and includes, for example, copper (Cu).

次に、図10および図11に示されるように、積層板20に、複数の第2貫通孔22が形成される。複数の第2貫通孔22は、絶縁体23、導体層24Aおよび導体層24Bを貫通するように形成される。複数の第2貫通孔22は、図1に示される第1貫通孔21の中心が配置される点を中心とする円の周方向に並んで配置される。複数の第2貫通孔22は、例えばドリル加工により形成される。なお、図10などの断面図では、図を分かりやすくするため、切断する断面だけを表示する。 Next, as shown in FIGS. 10 and 11, a plurality of second through holes 22 are formed in the laminated plate 20. The plurality of second through holes 22 are formed so as to penetrate the insulator 23, the conductor layer 24A, and the conductor layer 24B. The plurality of second through holes 22 are arranged side by side in the circumferential direction of the circle centered on the point where the center of the first through hole 21 shown in FIG. 1 is arranged. The plurality of second through holes 22 are formed by, for example, drilling. In a cross-sectional view such as FIG. 10, only the cross section to be cut is displayed in order to make the figure easy to understand.

次に、図12に示されるように、複数の第2貫通孔22の各内周面、および導体層24Aおよび導体層24Bの各表面上に、導体層25が形成される。導体層25は、例えばメッキ法により形成される。導体層25を構成する材料は、導電性を有しかつメッキ法により成膜可能である任意の材料であればよいが、例えば銅(Cu)を含む。これにより、第5面23A上には導体層24Aと導体層25との積層体が形成され、第6面23B上には導体層24Bと導体層25との積層体が形成される。さらに、複数の第2貫通孔22の各内周面上には導体層25が形成される。 Next, as shown in FIG. 12, the conductor layer 25 is formed on each inner peripheral surface of the plurality of second through holes 22 and on each surface of the conductor layer 24A and the conductor layer 24B. The conductor layer 25 is formed by, for example, a plating method. The material constituting the conductor layer 25 may be any material having conductivity and capable of forming a film by a plating method, and includes, for example, copper (Cu). As a result, a laminate of the conductor layer 24A and the conductor layer 25 is formed on the fifth surface 23A, and a laminate of the conductor layer 24B and the conductor layer 25 is formed on the sixth surface 23B. Further, a conductor layer 25 is formed on each inner peripheral surface of the plurality of second through holes 22.

次に、図13に示されるように、複数の第2貫通孔22の内部に埋込部材10が形成される。第2貫通孔22の内部に樹脂を充填して、充填した樹脂を固化させると埋込部材10になる。埋込部材10の上に、導体層26が形成される。導体層26は、例えばメッキ法により形成される。導体層26を構成する材料は、導電性を有しかつメッキ法により成膜可能である任意の材料であればよいが、例えば銅(Cu)を含む。これにより、第5面23A上には導体層24A、導体層25、および導体層26の積層体が形成され、第6面23B上には導体層24B、導体層25、および導体層26の積層体が形成される。 Next, as shown in FIG. 13, the embedded member 10 is formed inside the plurality of second through holes 22. When the inside of the second through hole 22 is filled with resin and the filled resin is solidified, the embedded member 10 is formed. A conductor layer 26 is formed on the embedded member 10. The conductor layer 26 is formed by, for example, a plating method. The material constituting the conductor layer 26 may be any material having conductivity and capable of forming a film by a plating method, and includes, for example, copper (Cu). As a result, a laminate of the conductor layer 24A, the conductor layer 25, and the conductor layer 26 is formed on the fifth surface 23A, and the conductor layer 24B, the conductor layer 25, and the conductor layer 26 are laminated on the sixth surface 23B. The body is formed.

次に、図13に示される絶縁体23の第5面23A上および第6面23Bに形成された導体層の積層体がパターニングされる。パターニングは、導体層に回路パターンを形成することである。パターニングは、例えばフォトリソグラフィおよびドライエッチングプロセスにより行われる。これにより、図14に示されるコア基板27が形成される。コア基板27は、絶縁体23と、絶縁体23の内部に形成された複数の第1接地ビア6と、絶縁体23の第5面23A上に形成された第1信号配線12Aおよび第1接地配線8Aと、絶縁体23の第6面23B上に形成された第2信号配線12Bおよび第2接地配線8Bとを含む。第1接地ビア6は、第2貫通孔22の内周面に設けられた導体層25により構成されている。 Next, the laminated body of the conductor layers formed on the fifth surface 23A and the sixth surface 23B of the insulator 23 shown in FIG. 13 is patterned. Patterning is the formation of a circuit pattern in the conductor layer. Patterning is performed, for example, by photolithography and dry etching processes. As a result, the core substrate 27 shown in FIG. 14 is formed. The core substrate 27 includes an insulator 23, a plurality of first grounding vias 6 formed inside the insulator 23, and a first signal wiring 12A and a first grounding formed on the fifth surface 23A of the insulator 23. The wiring 8A includes a second signal wiring 12B and a second ground wiring 8B formed on the sixth surface 23B of the insulator 23. The first grounding via 6 is composed of a conductor layer 25 provided on the inner peripheral surface of the second through hole 22.

図15に示されるように、第1接地配線8Aは、第1信号配線12Aの周囲を環状に切れ目なく囲むように形成される。第2接地配線8Bは、第2信号配線12Bの周囲を環状に切れ目なく囲むように形成される。絶縁体23の内部には、複数の第1接地ビア6が形成される。図14に示されるコア基板27の絶縁体23、第5面23Aおよび第6面23Bは、図1に示されるプリント配線板100においてコア絶縁層2、第3面2Aおよび第4面2Bを構成する。次に、コア基板27の第5面23A、第1接地配線8A、第1信号配線12A、および第6面23B、第2接地配線8B、第2信号配線12Bに対して、樹脂との密着力を上げるための粗面化処理が施される。 As shown in FIG. 15, the first ground wiring 8A is formed so as to surround the first signal wiring 12A in an annular shape without a break. The second ground wiring 8B is formed so as to surround the second signal wiring 12B in an annular shape without a break. A plurality of first grounding vias 6 are formed inside the insulator 23. The insulator 23, the fifth surface 23A, and the sixth surface 23B of the core substrate 27 shown in FIG. 14 constitute the core insulating layer 2, the third surface 2A, and the fourth surface 2B in the printed wiring board 100 shown in FIG. To do. Next, the adhesion force with the resin to the fifth surface 23A, the first ground wiring 8A, the first signal wiring 12A, and the sixth surface 23B, the second ground wiring 8B, and the second signal wiring 12B of the core substrate 27. Roughening treatment is applied to raise the surface.

次に、図16に示されるように、コア基板27の第5面23A側に、プリプレグ33Aおよび導体層34Aが積層される。導体層34Aおよびコア基板27は、積層方向Aにおいてプリプレグ33Aを挟むように積層される。コア基板27の第6面23B側に、プリプレグ33Bおよび導体層34Bが積層される。導体層34Bおよびコア基板27は、積層方向Aにおいてプリプレグ33Bを挟むように積層される。積層した後に積層体を加圧および加熱することにより、図17に示される積層体が形成される。該積層体は、導体層34A、導体層34B、プリプレグ33Aが熱硬化して成る絶縁体35A、およびプリプレグ33Bが熱硬化して成る絶縁体35Bとを含む。 Next, as shown in FIG. 16, the prepreg 33A and the conductor layer 34A are laminated on the fifth surface 23A side of the core substrate 27. The conductor layer 34A and the core substrate 27 are laminated so as to sandwich the prepreg 33A in the lamination direction A. The prepreg 33B and the conductor layer 34B are laminated on the sixth surface 23B side of the core substrate 27. The conductor layer 34B and the core substrate 27 are laminated so as to sandwich the prepreg 33B in the stacking direction A. By pressurizing and heating the laminated body after laminating, the laminated body shown in FIG. 17 is formed. The laminate includes a conductor layer 34A, a conductor layer 34B, an insulator 35A formed by thermosetting the prepreg 33A, and an insulator 35B formed by thermosetting the prepreg 33B.

次に、図18に示されるように、導体層34Aおよび絶縁体35Aに第4有底孔32Aが形成される。第4有底孔32Aは、レーザ加工により形成される。第4有底孔32Aの底部には、第1接地配線8Aが露出する。図19に示されるように、第4有底孔32Aは、図1に示される第1貫通孔21の中心が配置される点を中心とする円の周方向に沿って切れ目なく環状に形成される。 Next, as shown in FIG. 18, a fourth bottomed hole 32A is formed in the conductor layer 34A and the insulator 35A. The fourth bottomed hole 32A is formed by laser processing. The first ground wiring 8A is exposed at the bottom of the fourth bottomed hole 32A. As shown in FIG. 19, the fourth bottomed hole 32A is formed in an annular shape without a break along the circumferential direction of the circle centered on the point where the center of the first through hole 21 shown in FIG. 1 is arranged. To.

同様に、導体層34Bおよび絶縁体33Bに第6有底孔32Bが形成される。第6有底孔32Bは、レーザ加工により形成される。第6有底孔32Bの底部には、第2接地配線8Bが露出する。第6有底孔32Bは、第1貫通孔21の中心が配置される点を中心とする円の周方向に沿って切れ目なく環状に形成される。 Similarly, the sixth bottomed hole 32B is formed in the conductor layer 34B and the insulator 33B. The sixth bottomed hole 32B is formed by laser machining. The second ground wiring 8B is exposed at the bottom of the sixth bottomed hole 32B. The sixth bottomed hole 32B is formed in an annular shape without a break along the circumferential direction of the circle centered on the point where the center of the first through hole 21 is arranged.

次に、図20に示されるように、第4有底孔32Aおよび第6有底孔32Bの内部、ならびに導体層34Aおよび導体層34B上に、導体層37が形成される。導体層37は、導体が第4有底孔32Aおよび第6有底孔32Bの内部に充填されることにより形成される。導体層37は、例えばメッキ法により形成される。導体層37を構成する材料は、導電性を有しかつメッキ法により成膜可能である任意の材料であればよいが、例えば銅(Cu)を含む。第4有底孔32Aの内部に形成された導体層37は、絶縁体35Aの内部に形成された第2接地ビア7Aになる。第6有底孔32Bの内部に形成された導体層37は、絶縁体35Bの内部に形成された第3接地ビア7Bになる。第2接地ビア7Aは、第1接地配線8Aを介して第1接地ビア6に接続する。第3接地ビア7Bは、第2接地配線8Bを介して第1接地ビア6に接続する。 Next, as shown in FIG. 20, the conductor layer 37 is formed inside the fourth bottom hole 32A and the sixth bottom hole 32B, and on the conductor layer 34A and the conductor layer 34B. The conductor layer 37 is formed by filling the inside of the fourth bottom hole 32A and the sixth bottom hole 32B with the conductor. The conductor layer 37 is formed by, for example, a plating method. The material constituting the conductor layer 37 may be any material having conductivity and capable of forming a film by a plating method, and includes, for example, copper (Cu). The conductor layer 37 formed inside the fourth bottomed hole 32A becomes the second grounding via 7A formed inside the insulator 35A. The conductor layer 37 formed inside the sixth bottomed hole 32B becomes the third grounding via 7B formed inside the insulator 35B. The second ground via 7A is connected to the first ground via 6 via the first ground wiring 8A. The third ground via 7B is connected to the first ground via 6 via the second ground wiring 8B.

次に、図21に示されるように、絶縁体35A上に形成された導体層37および導体層34Aがパターニングされる。同様に、絶縁体35B上に形成された導体層37および導体層34Bがパターニングされる。パターニングは、例えばフォトリソグラフィおよびドライエッチングプロセスにより行われる。これにより、導体層37および導体層34Aから、絶縁体35A上に形成された第3信号配線13Aおよび第3接地配線9Aが形成される。導体層37および導体層34Bから、絶縁体35B上に形成された第4信号配線13Bおよび第4接地配線9Bが形成される。第3信号配線13Aおよび第4信号配線13Bは、積層方向Aにおいて第1信号配線12Aおよび第2信号配線12Bと重なるように形成される。 Next, as shown in FIG. 21, the conductor layer 37 and the conductor layer 34A formed on the insulator 35A are patterned. Similarly, the conductor layer 37 and the conductor layer 34B formed on the insulator 35B are patterned. Patterning is performed, for example, by photolithography and dry etching processes. As a result, the third signal wiring 13A and the third ground wiring 9A formed on the insulator 35A are formed from the conductor layer 37 and the conductor layer 34A. From the conductor layer 37 and the conductor layer 34B, the fourth signal wiring 13B and the fourth ground wiring 9B formed on the insulator 35B are formed. The third signal wiring 13A and the fourth signal wiring 13B are formed so as to overlap the first signal wiring 12A and the second signal wiring 12B in the stacking direction A.

次に、図22に示されるように、図21に示される積層体の絶縁体35A側に、プリプレグ38Aおよび導体層39Aが積層される。導体層39Aおよび絶縁体35Aは、積層方向Aにおいてプリプレグ38Aを挟むように積層される。さらに、図21に示される積層体の絶縁体35B側に、プリプレグ38Bおよび導体層39Bが積層される。導体層39Bおよび絶縁体35Bは、積層方向Aにおいてプリプレグ38Bを挟むように積層される。積層した後に積層体を加圧および加熱することにより、図23に示される積層体が形成される。該積層体は、導体層39A、導体層39B、プリプレグ38Aが熱硬化して成る絶縁体40A、およびプリプレグ38Bが熱硬化して成る絶縁体40Bを含む。 Next, as shown in FIG. 22, the prepreg 38A and the conductor layer 39A are laminated on the insulator 35A side of the laminate shown in FIG. The conductor layer 39A and the insulator 35A are laminated so as to sandwich the prepreg 38A in the lamination direction A. Further, the prepreg 38B and the conductor layer 39B are laminated on the insulator 35B side of the laminate shown in FIG. The conductor layer 39B and the insulator 35B are laminated so as to sandwich the prepreg 38B in the lamination direction A. By pressurizing and heating the laminated body after laminating, the laminated body shown in FIG. 23 is formed. The laminate includes a conductor layer 39A, a conductor layer 39B, an insulator 40A formed by thermosetting the prepreg 38A, and an insulator 40B formed by thermosetting the prepreg 38B.

次に、図24に示されるように、導体層39Aおよび絶縁体40Aに有底孔が形成される。さらに、導体層39Bおよび絶縁体40Bに有底孔が形成される。本工程は、上述した導体層34Aおよび絶縁体35Aに有底孔を形成し、かつ導体層34Bおよび絶縁体33Bに有底孔を形成する工程と、同様に実施される。ただし、形成する有底孔の形状は異なる。これにより、導体層39Aおよび絶縁体40Aに、第7有底孔32Cが形成される。第7有底孔32Cの底部には、第3接地配線9Aが露出する。さらに、導体層39Bおよび絶縁体40Bに、第8有底孔32Dが形成される。第8有底孔32Dの底部には、第4接地配線9Bが露出する。図25に示されるように、第7有底孔32Cは、図1に示される第1貫通孔21の中心が配置される点を中心とする円の周方向に沿って、表面信号配線4Aと重なる部分を除いてCの字状に形成される。図26に示されるように、第8有底孔32Dは、第1貫通孔21の中心が配置される点を中心とする円の周方向に沿って表面信号配線4Bと重なる部分を除いてCの字状に形成される。 Next, as shown in FIG. 24, bottomed holes are formed in the conductor layer 39A and the insulator 40A. Further, bottomed holes are formed in the conductor layer 39B and the insulator 40B. This step is carried out in the same manner as the step of forming the bottomed holes in the conductor layer 34A and the insulator 35A and forming the bottomed holes in the conductor layer 34B and the insulator 33B described above. However, the shape of the bottomed hole to be formed is different. As a result, the seventh bottomed hole 32C is formed in the conductor layer 39A and the insulator 40A. The third ground wiring 9A is exposed at the bottom of the seventh bottom hole 32C. Further, an eighth bottomed hole 32D is formed in the conductor layer 39B and the insulator 40B. The fourth ground wiring 9B is exposed at the bottom of the eighth bottomed hole 32D. As shown in FIG. 25, the seventh bottomed hole 32C is connected to the surface signal wiring 4A along the circumferential direction of the circle centered on the point where the center of the first through hole 21 shown in FIG. 1 is arranged. It is formed in a C shape except for the overlapping portion. As shown in FIG. 26, the eighth bottomed hole 32D is C except for a portion overlapping the surface signal wiring 4B along the circumferential direction of the circle centered on the point where the center of the first through hole 21 is arranged. It is formed in the shape of.

次に、図27に示されるように、第4有底孔32Aおよび第6有底孔32Bの内部、ならびに導体層39Aおよび導体層39B上に、導体層42形成される。導体層42は、第4有底孔32Aおよび第6有底孔32Bの内部を埋め込むように、例えばメッキ法により形成される。導体層42を構成する材料は、導電性を有しかつメッキ法により成膜可能である任意の材料であればよいが、例えば銅(Cu)を含む。 Next, as shown in FIG. 27, the conductor layer 42 is formed inside the fourth bottom hole 32A and the sixth bottom hole 32B, and on the conductor layer 39A and the conductor layer 39B. The conductor layer 42 is formed by, for example, a plating method so as to embed the inside of the fourth bottomed hole 32A and the sixth bottomed hole 32B. The material constituting the conductor layer 42 may be any material having conductivity and capable of forming a film by a plating method, and includes, for example, copper (Cu).

次に、図28に示されるように、図27に示された積層体を積層方向Aに貫通する第9貫通孔43が形成される。第9貫通孔43のうち、絶縁体23を貫通する部分が第1貫通孔21を、絶縁体35Aおよび絶縁体40Aを貫通する部分が第3貫通孔31Aを、絶縁体35Bおよび絶縁体40Bを貫通する部分が第5貫通孔31Bを構成している。第9貫通孔43の中心を通る軸は、複数の第2貫通孔22の各中心を通る円の中心、および第4有底孔32A、第6有底孔32B、第7有底孔32Cおよび第8有底孔32Dの各中心を通る円の中心を通るように形成される。このような第9貫通孔43は、第1信号配線12A,第2信号配線12B,第3信号配線13Aおよび第4信号配線13Bを貫通する。第9貫通孔43は、例えばドリル加工により形成される。 Next, as shown in FIG. 28, a ninth through hole 43 is formed through the laminate shown in FIG. 27 in the stacking direction A. Of the ninth through hole 43, the portion penetrating the insulator 23 is the first through hole 21, the portion penetrating the insulator 35A and the insulator 40A is the third through hole 31A, and the insulator 35B and the insulator 40B. The penetrating portion constitutes the fifth through hole 31B. The axis passing through the center of the ninth through hole 43 is the center of the circle passing through each center of the plurality of second through holes 22, and the fourth bottom hole 32A, the sixth bottom hole 32B, the seventh bottom hole 32C, and the like. It is formed so as to pass through the center of a circle passing through each center of the eighth bottomed hole 32D. Such a ninth through hole 43 penetrates the first signal wiring 12A, the second signal wiring 12B, the third signal wiring 13A, and the fourth signal wiring 13B. The ninth through hole 43 is formed by, for example, drilling.

次に、図29に示されるように、図28に示される積層体の露出上に導体層44が形成される。導体層44は、第9貫通孔43の内周面を覆うように形成される。導体層44は、例えばメッキ法により形成される。導体層44を構成する材料は、導電性を有しかつメッキ法により成膜可能である任意の材料であればよいが、例えば銅(Cu)を含む。第9貫通孔43の内周面に形成された導体層44が、信号ビア11である。 Next, as shown in FIG. 29, the conductor layer 44 is formed on the exposed layer of the laminate shown in FIG. 28. The conductor layer 44 is formed so as to cover the inner peripheral surface of the ninth through hole 43. The conductor layer 44 is formed by, for example, a plating method. The material constituting the conductor layer 44 may be any material having conductivity and capable of forming a film by a plating method, and includes, for example, copper (Cu). The conductor layer 44 formed on the inner peripheral surface of the ninth through hole 43 is the signal via 11.

次に、絶縁体40A上に形成された導体層39A、導体層42および導体層44がパターニングされる。同様に、絶縁体40B上に形成された導体層39B、導体層42および導体層44がパターニングされる。パターニングは、例えばフォトリソグラフィおよびドライエッチングプロセスにより行われる。これにより、導体層39A、導体層42および導体層44から、表面信号配線4Aおよび表面接地配線5Aが形成される。導体層39B、導体層42および導体層44から、表面信号配線4Bおよび表面接地配線5Bが形成される。後工程として、ソルダーレジスト塗布、表面処理、外形加工を実施する。以上のようにして、図1に示されるプリント配線板100が製造される。 Next, the conductor layer 39A, the conductor layer 42, and the conductor layer 44 formed on the insulator 40A are patterned. Similarly, the conductor layer 39B, the conductor layer 42, and the conductor layer 44 formed on the insulator 40B are patterned. Patterning is performed, for example, by photolithography and dry etching processes. As a result, the surface signal wiring 4A and the surface grounding wiring 5A are formed from the conductor layer 39A, the conductor layer 42, and the conductor layer 44. The surface signal wiring 4B and the surface grounding wiring 5B are formed from the conductor layer 39B, the conductor layer 42, and the conductor layer 44. As a post-process, solder resist coating, surface treatment, and outer shape processing are performed. As described above, the printed wiring board 100 shown in FIG. 1 is manufactured.

なお、図1,16,17,19〜26では、コア絶縁層2、第1ビルドアップ絶縁層3A、および第2ビルドアップ絶縁層3Bの各々の接続界面、または各絶縁体の接続界面が、説明の便宜上実線で図示されている。実際のプリント配線板100においては、各接続界面は必ずしも観察されない。
<作用効果>
In FIGS. 1, 16, 17, 19 to 26, the connection interface of the core insulating layer 2, the first build-up insulating layer 3A, and the second build-up insulating layer 3B, or the connecting interface of each insulator, is It is illustrated by a solid line for convenience of explanation. In the actual printed wiring board 100, each connection interface is not always observed.
<Effect>

従来のプリント配線板では、多層基板の内部において複数の接地配線が信号配線の周囲を離散的に囲むように形成されている。この場合、信号配線を伝わる信号が複数の接地配線間に配置された絶縁層を介して外部に漏れて、信号品質の劣化または漏れ出た信号と他の信号との干渉が引き起こされるおそれがある。 In the conventional printed wiring board, a plurality of ground wires are formed inside the multilayer board so as to discretely surround the signal wiring. In this case, the signal transmitted through the signal wiring may leak to the outside through the insulating layer arranged between the plurality of ground wirings, which may cause deterioration of signal quality or interference between the leaked signal and other signals. ..

これに対し、本実施の形態に係るプリント配線板100は、多層基板1と、多層基板1の両面および内部に形成された信号配線4と、基板の両面および内部に形成されており、かつ信号配線と電気的に絶縁されている接地配線5とを備える。接地配線5は、基板の内部において、両面と交差する積層方向Aに延びる信号配線の周囲を環状に切れ目なく囲む環状部としての第2接地ビア7Aおよび第3接地ビア7Bを含む。 On the other hand, the printed wiring board 100 according to the present embodiment is formed on both sides and inside of the multilayer board 1, the signal wiring 4 formed on both sides and inside of the multilayer board 1, and the signal. The wiring is provided with a ground wiring 5 that is electrically isolated from the wiring. The ground wiring 5 includes a second ground via 7A and a third ground via 7B as an annular portion that seamlessly surrounds the signal wiring extending in the stacking direction A intersecting both surfaces inside the substrate.

具体的には、プリント配線板100では、多層基板1は、コア絶縁層2と、コア絶縁層2を挟むように積層された第1ビルドアップ絶縁層3Aおよび第2ビルドアップ絶縁層3Bとを含む。接地配線5は、コア絶縁層2の内部において積層方向Aに延びる信号配線4の周囲を離散的に囲む複数の第1接地ビア6と、第1ビルドアップ絶縁層3Aの内部において積層方向Aに延びる信号配線4の周囲を環状に切れ目なく囲む第2接地ビア7Aと、第2ビルドアップ絶縁層3Bの内部において積層方向Aに延びる信号配線4の周囲を環状に切れ目なく囲む第3接地ビア7Bとを含む。第2接地ビア7Aおよび第3接地ビア7Bが環状部の一部を構成している。 Specifically, in the printed wiring board 100, the multilayer board 1 has a core insulating layer 2 and a first build-up insulating layer 3A and a second build-up insulating layer 3B laminated so as to sandwich the core insulating layer 2. Including. The ground wiring 5 has a plurality of first ground vias 6 that discretely surround the signal wiring 4 extending in the stacking direction A inside the core insulating layer 2, and the grounding direction A inside the first build-up insulating layer 3A. A second grounding via 7A that seamlessly surrounds the periphery of the extending signal wiring 4 and a third grounding via 7B that seamlessly surrounds the signal wiring 4 extending in the stacking direction A inside the second build-up insulating layer 3B. And include. The second grounding via 7A and the third grounding via 7B form a part of the annular portion.

そのため、プリント配線板100では、第2接地ビア7Aおよび第3接地ビア7Bに囲まれた信号配線4からの信号の漏れが防止されている。そのため、プリント配線板100では、従来のプリント配線板と比べて、信号品質の劣化および漏れ出た信号の他の信号への干渉が抑制されている。 Therefore, in the printed wiring board 100, leakage of signals from the signal wiring 4 surrounded by the second ground via 7A and the third ground via 7B is prevented. Therefore, in the printed wiring board 100, deterioration of signal quality and interference of the leaked signal with other signals are suppressed as compared with the conventional printed wiring board.

プリント配線板100において、接地配線5は、第1接地ビア6と第2接地ビア7Aとの間を接続しかつ積層方向Aに延びる信号配線4の周囲を環状に切れ目なく囲む第1接地配線8Aと、第1接地ビア6と第3接地ビア7Bとの間を接続しかつ積層方向Aに延びる信号配線4の周囲を環状に切れ目なく囲む第2接地配線8Bとをさらに含む。第1接地配線8Aおよび第2接地配線8Bも、環状部の一部を構成している。 In the printed wiring board 100, the grounding wiring 5 connects between the first grounding via 6 and the second grounding via 7A and surrounds the signal wiring 4 extending in the stacking direction A without a break in the first grounding wiring 8A. Further includes a second grounded wiring 8B that connects between the first grounded via 6 and the third grounded via 7B and surrounds the signal wiring 4 extending in the stacking direction A without a break in an annular shape. The first ground wire 8A and the second ground wire 8B also form a part of the annular portion.

第1接地配線8Aと第2接地配線8Bは、複数の第1接地ビア6の両側で複数の第1接地配線8Aを互いに接続する。第1接地配線8Aと第2接地配線8Bは、複数の第1接地ビア6を接地電位にする。第1接地配線8Aは、第1接地ビア6と第2接地ビア7Aをより確かに接続する。第2接地配線8Bは、第1接地ビア6と第3接地ビア7Bをより確かに接続する。 The first ground wire 8A and the second ground wire 8B connect a plurality of first ground wires 8A to each other on both sides of the plurality of first ground vias 6. The first ground wiring 8A and the second ground wiring 8B set a plurality of first ground vias 6 to ground potentials. The first grounded wiring 8A more reliably connects the first grounded via 6 and the second grounded via 7A. The second grounded wiring 8B more reliably connects the first grounded via 6 and the third grounded via 7B.

プリント配線板100において、多層基板1は、積層方向Aに積層された第1ビルドアップ絶縁層3Aと、積層方向Aに積層された第2ビルドアップ絶縁層3Bとを含む。接地配線5は、積層方向Aにおいて隣り合う第1ビルドアップ絶縁層3Aの各々の第2接地ビア7A間を接続する第3接地配線9Aと、積層方向Aにおいて隣り合う第2ビルドアップ絶縁層3Bの各々の第3接地ビア7Bの間を接続する第4接地配線9Bとをさらに含む。第3接地配線9Aおよび第4接地配線9Bも、環状部の一部を構成している。 In the printed wiring board 100, the multilayer board 1 includes a first build-up insulating layer 3A laminated in the stacking direction A and a second build-up insulating layer 3B laminated in the stacking direction A. The ground wiring 5 includes a third ground wiring 9A that connects the second ground vias 7A of the first build-up insulating layers 3A adjacent to each other in the stacking direction A, and a second build-up insulating layer 3B adjacent to each other in the stacking direction A. Further includes a fourth grounded wire 9B connecting between each of the third grounded vias 7B. The third ground wiring 9A and the fourth ground wiring 9B also form a part of the annular portion.

プリント配線板100の多層基板1には、コア絶縁層2を積層方向Aに貫通する第1貫通孔21および複数の第2貫通孔22と、第1ビルドアップ絶縁層3Aを積層方向Aに貫通する第3貫通孔31A、第4有底孔32Aおよび第7有底孔32Cと、第2ビルドアップ絶縁層3Bを積層方向Aに貫通する第5貫通孔31B、第6有底孔32Bおよび第8有底孔32Dとが形成されている。複数の第2貫通孔22は、第1貫通孔21の周囲に互いに間隔を隔てて配置されている。第4有底孔32Aは、第3貫通孔31Aを囲むように切れ目なく環状に形成されている。第7有底孔32Cは、第3貫通孔31Aを囲むようにCの字状に形成されている。第6有底孔32Bは、第5貫通孔31Bを囲むように切れ目なく環状に形成されている。第8有底孔32Dは、第5貫通孔31Bを囲むようにCの字状に形成されている。第3貫通孔31Aおよび第5貫通孔31Bは第1貫通孔21と連なるように形成されている。第4有底孔32Aおよび第6有底孔32Bは複数の第2貫通孔22と連なるように形成されている。信号配線4は、第1貫通孔21、第3貫通孔31A、および第5貫通孔31Bの内部に形成された信号ビア11を含む。複数の第1接地ビア6の各々は、複数の第2貫通孔222の各々の内部に形成されている。第2接地ビア7Aは、第4有底孔32Aの内部に形成されている。第3接地ビア7Bは、第6有底孔32Bの内部に形成されている。第2接地ビア7Aおよび第3接地ビア7Bは、信号ビア11の周囲を環状に囲んでいる。第4接地ビア7Cは、第7有底孔32Cの内部に形成されている。第5接地ビア7Dは、第8有底孔32Dの内部に形成されている。第4接地ビア7Cおよび第5接地ビア7Dは、信号ビア11の周囲をCの字状に囲んでいる。 In the multilayer board 1 of the printed wiring board 100, the first through hole 21 and the plurality of second through holes 22 that penetrate the core insulating layer 2 in the stacking direction A, and the first build-up insulating layer 3A penetrate in the stacking direction A. The third through hole 31A, the fourth bottom hole 32A and the seventh bottom hole 32C, and the fifth through hole 31B, the sixth bottom hole 32B and the third through hole 32B that penetrate the second build-up insulating layer 3B in the stacking direction A. 8 bottomed holes 32D are formed. The plurality of second through holes 22 are arranged around the first through holes 21 at intervals from each other. The fourth bottomed hole 32A is formed in an annular shape without a break so as to surround the third through hole 31A. The seventh bottomed hole 32C is formed in a C shape so as to surround the third through hole 31A. The sixth bottomed hole 32B is formed in an annular shape without a break so as to surround the fifth through hole 31B. The eighth bottomed hole 32D is formed in a C shape so as to surround the fifth through hole 31B. The third through hole 31A and the fifth through hole 31B are formed so as to be connected to the first through hole 21. The fourth bottomed hole 32A and the sixth bottomed hole 32B are formed so as to be connected to the plurality of second through holes 22. The signal wiring 4 includes a signal via 11 formed inside the first through hole 21, the third through hole 31A, and the fifth through hole 31B. Each of the plurality of first grounding vias 6 is formed inside each of the plurality of second through holes 222. The second grounding via 7A is formed inside the fourth bottomed hole 32A. The third grounding via 7B is formed inside the sixth bottomed hole 32B. The second grounded via 7A and the third grounded via 7B surround the signal via 11 in an annular shape. The fourth grounding via 7C is formed inside the seventh bottomed hole 32C. The fifth grounding via 7D is formed inside the eighth bottomed hole 32D. The fourth grounded via 7C and the fifth grounded via 7D surround the signal via 11 in a C shape.

プリント配線板100では、多層基板1の両側の主表面を結ぶ信号配線4および接地配線5を有する。多層基板の両側の主表面の配線層および内部の配線層の何れか少なくとも2層と多層基板の内部に、信号配線および接地配線を形成してもよい。接地配線は信号配線と電気的に絶縁されており、かつ接地されている。信号配線は、積層方向に少なくとも1層のビルドアップ層を貫通する信号ビアを有すればよい。ビルドアップ層とは、第1ビルドアップ層または第2ビルドアップ層である。接地配線は、積層方向に切れ目なくビルドアップ層に設けられており、かつ信号ビアを環状に切れ目なく囲む環状接地ビアを有すればよい。環状接地ビアが積層方向に切れ目なくビルドアップ層に設けられるとは、ビルドアップ層の両側の面の間にすべてに存在するように環状接地ビアが設けられることを意味する。環状接地ビアは信号ビアを環状に切れ目なく囲むので、環状接地ビアは信号ビアが貫通するビルドアップ層に円筒状に設けられる。 The printed wiring board 100 has a signal wiring 4 and a ground wiring 5 that connect the main surfaces on both sides of the multilayer board 1. Signal wiring and ground wiring may be formed inside at least two layers of the wiring layer on the main surface on both sides of the multilayer board and the wiring layer inside, and inside the multilayer board. The grounded wiring is electrically isolated from the signal wiring and is grounded. The signal wiring may have a signal via that penetrates at least one build-up layer in the stacking direction. The build-up layer is a first build-up layer or a second build-up layer. The ground wiring may be provided in the build-up layer without a break in the stacking direction, and may have an annular ground via that surrounds the signal via without a break. The fact that the annular grounding vias are provided in the build-up layer seamlessly in the stacking direction means that the annular grounding vias are provided so as to exist between both surfaces of the build-up layer. Since the annular grounding vias surround the signal vias in an annular shape without a break, the annular grounding vias are cylindrically provided in the build-up layer through which the signal vias penetrate.

信号ビア11は、コア層50、第1ビルドアップ層51Aおよび第2ビルドアップ層51Bを貫通する貫通孔である第9貫通孔43の内周面に設けられた導体である。信号ビアは、少なくとも1層のビルドアップ層を貫通する貫通孔の内周面に設ければよい。 The signal via 11 is a conductor provided on the inner peripheral surface of the ninth through hole 43, which is a through hole penetrating the core layer 50, the first build-up layer 51A, and the second build-up layer 51B. The signal via may be provided on the inner peripheral surface of the through hole penetrating at least one build-up layer.

信号ビア11が貫通する第1ビルドアップ層51Aの積層方向の両側の面の配線層に、第1信号配線12Aおよび第3信号配線13Aが設けられている。信号ビア11が貫通する第2ビルドアップ層51Bの積層方向の両側の面の配線層に、第2信号配線12Bおよび第4信号配線13Bが設けられている。第1信号配線12A、第2信号配線12B、第3信号配線13Aおよび第4信号配線13Bは、信号ビアが貫通するビルドアップ層の積層方向の両側の面の配線層に設けられた、信号ビアと接続する信号導体である。 The first signal wiring 12A and the third signal wiring 13A are provided on the wiring layers on both sides of the first build-up layer 51A through which the signal via 11 penetrates in the stacking direction. The second signal wiring 12B and the fourth signal wiring 13B are provided on the wiring layers on both sides of the second build-up layer 51B through which the signal via 11 penetrates in the stacking direction. The first signal wiring 12A, the second signal wiring 12B, the third signal wiring 13A, and the fourth signal wiring 13B are signal vias provided on the wiring layers on both sides in the stacking direction of the build-up layer through which the signal via penetrates. It is a signal conductor connected to.

第2接地ビア7Aは、第1ビルドアップ層51Aのコア層50から遠い側の面に設けられた第3信号配線13Aを切れ目なく囲む第4有底孔32Aの内部に設けられる。第3接地ビア7Bは、第2ビルドアップ層51Bのコア層50から遠い側の面に設けられた第4信号配線13Bを切れ目なく囲む第6有底孔32Bの内部に設けられる。第4有底孔32Aおよび第6有底孔32Bは、ビルドアップ層のコア層から遠い側の面に設けられた信号導体を切れ目なく囲み、かつビルドアップ層のコア層側の配線層が露出するように設けられた環状孔である。 The second grounding via 7A is provided inside the fourth bottomed hole 32A that seamlessly surrounds the third signal wiring 13A provided on the surface of the first build-up layer 51A on the side far from the core layer 50. The third grounding via 7B is provided inside the sixth bottomed hole 32B that seamlessly surrounds the fourth signal wiring 13B provided on the surface of the second build-up layer 51B far from the core layer 50. The fourth bottomed hole 32A and the sixth bottomed hole 32B seamlessly surround the signal conductor provided on the surface far from the core layer of the build-up layer, and the wiring layer on the core layer side of the build-up layer is exposed. It is an annular hole provided so as to be used.

第2接地ビア7Aおよび第3接地ビア7Bは、環状孔の内部に設けられた積層方向に切れ目なくビルドアップ層に設けられた、信号ビアを環状に切れ目なく囲む環状接地ビアである。 The second grounding via 7A and the third grounding via 7B are annular grounding vias provided inside the annular hole and provided in the build-up layer seamlessly in the stacking direction to surround the signal via in an annular shape.

隣接する複数のビルドアップ層を信号ビアが貫通する場合には、信号ビアが貫通する隣接する複数のビルドアップ層のそれぞれに設けられた複数の環状接地ビアは、複数のビルドアップ層の接続面において環状に切れ目なく接続させる。 When a signal via penetrates a plurality of adjacent build-up layers, a plurality of annular ground vias provided in each of the plurality of adjacent build-up layers through which the signal via penetrates are connected surfaces of the plurality of build-up layers. In the ring, it is connected seamlessly.

プリント配線板100では、信号ビア11と間隔を有して信号ビア11を環状に囲むように配置されてコア層50に設けられた複数のコア層接地ビアは、第1接地ビア6である。コア層の両側の面にそれぞれ設けられた第1接地配線8Aおよび第2接地配線8Bは、コア層の両側のビルドアップ層のそれぞれとコア層の間の配線層に設けられた、第1信号配線12Aまたは第2信号配線12Bと間隔を有して、第1信号配線12Aまたは第3信号配線13Aを切れ目なく環状に囲む環状コア接地導体である。第1接地ビア6および第2接地ビア7Aは、第1信号配線12Aに接続する。第1接地ビア6および第3接地ビア7Bは、第2信号配線12Bに接続する。つまり、環状コア接地導体である第1接地配線8Aおよび第2接地配線8Bは、コア層接地ビアおよび環状接地ビアと接続する。 In the printed wiring board 100, a plurality of core layer grounding vias arranged on the core layer 50 so as to surround the signal via 11 in a ring shape at intervals from the signal via 11 are the first grounding vias 6. The first ground wiring 8A and the second ground wiring 8B provided on both side surfaces of the core layer are the first signals provided in the wiring layer between each of the build-up layers on both sides of the core layer and the core layer. An annular core grounding conductor that seamlessly surrounds the first signal wiring 12A or the third signal wiring 13A in an annular shape with a distance from the wiring 12A or the second signal wiring 12B. The first grounded via 6 and the second grounded via 7A are connected to the first signal wiring 12A. The first grounded via 6 and the third grounded via 7B are connected to the second signal wiring 12B. That is, the first ground wiring 8A and the second ground wiring 8B, which are the annular core ground conductors, are connected to the core layer ground via and the annular ground via.

第2接地ビア7Aおよび第3接地ビア7Bは、環状孔の内部に導体を充填して設けている。第2接地ビアおよび第3接地ビアは、環状孔の内面に決められた厚さで設けられた導体にしてもよい。第2接地ビアおよび第3接地ビアの内部に、環状に絶縁樹脂を充填してもよい。第2接地ビアまたは第3接地ビアが設けられるビルドアップ層のコア層から遠い側の面に、第2接地ビアまたは第3接地ビアと絶縁樹脂とを覆うように、かつ信号ビアを環状に切れ目なく囲む環状接地導体を設けてもよい。 The second grounding via 7A and the third grounding via 7B are provided by filling the inside of the annular hole with a conductor. The second grounding via and the third grounding via may be conductors provided on the inner surface of the annular hole with a predetermined thickness. The inside of the second grounding via and the third grounding via may be filled with an insulating resin in an annular shape. On the surface of the build-up layer on which the second ground via or the third ground via is provided, which is far from the core layer, the second ground via or the third ground via and the insulating resin are covered, and the signal via is cut in a ring shape. An annular grounding conductor may be provided to surround the ground.

環状接地導体を設ける場合で、信号ビアが貫通する隣接する複数のビルドアップ層のそれぞれに設けられた複数の環状接地ビアは、複数のビルドアップ層の接続面において環状接地導体を介して環状に切れ目なく接続する。その場合でも、隣接する複数のビルドアップ層のそれぞれに設けられた複数の環状接地ビアは、環状に切れ目なく接続する。 When the annular grounding conductor is provided, the plurality of annular grounding vias provided in each of the plurality of adjacent buildup layers through which the signal via penetrates are annularly formed via the annular grounding conductor at the connecting surface of the plurality of buildup layers. Connect seamlessly. Even in that case, the plurality of annular grounding vias provided in each of the plurality of adjacent build-up layers are connected in an annular shape without a break.

以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、上述の実施の形態を様々に変形することも可能である。また、本発明の範囲は上述の実施の形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むことが意図される。 Although the embodiment of the present invention has been described above, it is possible to modify the above-described embodiment in various ways. Moreover, the scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment. The scope of the present invention is indicated by the scope of claims and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.

1 多層基板、1A 第1面(主表面)、1B 第2面(主表面)、2 コア絶縁層、2A 第3面、2B 第4面、3A 第1ビルドアップ絶縁層、3B 第2ビルドアップ絶縁層、4 信号配線、4A,4B 表面信号配線、4C 面間信号配線、5 接地配線、5A,5B 表面接地配線、5C 面間接地配線、6 第1接地ビア(コア層接地ビア)、7A 第2接地ビア(環状接地ビア)、7B 第3接地ビア(環状接地ビア)、7C 第4接地ビア、7D 第5接地ビア、8A 第1接地配線(環状コア接地導体)、8B 第2接地配線(環状コア接地導体)、9A 第3接地配線、9B 第4接地配線、10 埋込部材、11 信号ビア、12A 第1信号配線(信号導体)、12B 第2信号配線(信号導体)、13A 第3信号配線(信号導体)、13B 第4信号配線(信号導体)、20 積層板、21 第1貫通孔、22 第2貫通孔、23,33B,35A,35B,40A,40B 絶縁体、23A 第5面、23B 第6面、24A,24B,25,26,34A,34B,37,39A,39B,42,44 導体層、27 コア基板、30 コア層、31A 第3貫通孔、31B 第5貫通孔、32A 第4有底孔(環状孔)、32B 第6有底孔(環状孔)、32C 第7有底孔、32D 第8有底孔、33A,33B,38A,38B プリプレグ、43 第9貫通孔(貫通孔)、51A 第1ビルドアップ層、51B 第2ビルドアップ層、100 プリント配線板。 1 Multi-layer substrate, 1A 1st surface (main surface), 1B 2nd surface (main surface), 2 core insulating layer, 2A 3rd surface, 2B 4th surface, 3A 1st build-up insulating layer, 3B 2nd build-up Insulation layer, 4 signal wiring, 4A, 4B surface signal wiring, 4C inter-plane signal wiring, 5 ground wiring, 5A, 5B surface ground wiring, 5C inter-plane ground wiring, 6th ground via (core layer ground via), 7A 2nd ground via (annular ground via), 7B 3rd ground via (annular ground via), 7C 4th ground via, 7D 5th ground via, 8A 1st ground wiring (annular core ground conductor), 8B 2nd ground wiring (Annual core grounding conductor), 9A 3rd grounding wiring, 9B 4th grounding wiring, 10 embedded members, 11 signal vias, 12A 1st signal wiring (signal conductor), 12B 2nd signal wiring (signal conductor), 13A 1st 3 Signal wiring (signal conductor), 13B 4th signal wiring (signal conductor), 20 Laminated plate, 21 1st through hole, 22 2nd through hole, 23, 33B, 35A, 35B, 40A, 40B insulator, 23A 5th surface, 23B 6th surface, 24A, 24B, 25, 26, 34A, 34B, 37, 39A, 39B, 42, 44 Conductor layer, 27 core substrate, 30 core layer, 31A 3rd through hole, 31B 5th through Hole, 32A 4th bottom hole (annular hole), 32B 6th bottom hole (annular hole), 32C 7th bottom hole, 32D 8th bottom hole, 33A, 33B, 38A, 38B prepreg, 43 9th Through hole (through hole), 51A 1st build-up layer, 51B 2nd build-up layer, 100 printed wiring board.

Claims (7)

コア層の両側にビルドアップ層を積層した多層基板と、
前記多層基板の両側の主表面の配線層および内部の配線層の何れか少なくとも2層と前記多層基板の内部に形成された信号配線と、
前記多層基板の両側の前記主表面の配線層および内部の前記配線層の何れか少なくとも2層と前記多層基板の内部に形成されており、かつ前記信号配線と電気的に絶縁されて接地されている接地配線とを備え、
前記信号配線は、積層方向に少なくとも1層の前記ビルドアップ層を貫通する信号ビアを有し、
前記接地配線は、前記信号ビアを環状に切れ目なく囲み、かつ前記積層方向に切れ目なく前記ビルドアップ層に設けられた環状接地ビアを有する、プリント配線板。
A multilayer board with build-up layers laminated on both sides of the core layer,
At least two layers of the wiring layer on the main surface on both sides of the multilayer board and the wiring layer inside, and the signal wiring formed inside the multilayer board.
It is formed inside the multilayer board with at least two layers of the wiring layer on the main surface on both sides of the multilayer board and the wiring layer inside, and is electrically insulated from the signal wiring and grounded. Equipped with grounding wiring
The signal wiring has at least one signal via that penetrates the build-up layer in the stacking direction.
The ground wiring is a printed wiring board having an annular ground via that surrounds the signal via in an annular shape and is provided in the build-up layer without a break in the stacking direction.
前記信号ビアは、前記ビルドアップ層を貫通する貫通孔の内周面に設けられた導体であり、
前記信号ビアが貫通する前記ビルドアップ層の前記積層方向の両側の面の前記配線層に、前記信号ビアと接続する信号導体が設けられており、
前記環状接地ビアは、前記ビルドアップ層の前記コア層から遠い側の面に設けられた前記信号導体を切れ目なく囲み、かつ前記ビルドアップ層の前記コア層側の前記配線層が露出するように設けられた環状孔の内部に設けられている、請求項1に記載のプリント配線板。
The signal via is a conductor provided on the inner peripheral surface of the through hole penetrating the build-up layer.
A signal conductor connecting to the signal via is provided on the wiring layer on both sides of the build-up layer through which the signal via penetrates in the stacking direction.
The annular ground via seamlessly surrounds the signal conductor provided on the surface of the build-up layer on the side far from the core layer, and exposes the wiring layer on the core layer side of the build-up layer. The printed wiring board according to claim 1, which is provided inside the provided annular hole.
前記環状孔はレーザ加工により形成される、請求項2に記載のプリント配線板。 The printed wiring board according to claim 2, wherein the annular hole is formed by laser processing. 隣接する複数の前記ビルドアップ層を前記信号ビアが貫通し、
前記信号ビアが貫通する隣接する複数の前記ビルドアップ層のそれぞれに設けられた複数の前記環状接地ビアは、複数の前記ビルドアップ層の接続面において環状に切れ目なく接続している、請求項1から請求項3の何れか1項に記載のプリント配線板。
The signal via penetrates a plurality of adjacent build-up layers,
1. The plurality of annular grounding vias provided in each of the plurality of adjacent build-up layers through which the signal via penetrates are seamlessly connected in an annular shape on the connection surface of the plurality of build-up layers. The printed wiring board according to any one of claims 3.
前記信号ビアは、前記コア層を積層方向に貫通するように設けられており、
前記コア層には、前記信号ビアと間隔を有して前記信号ビアを環状に囲むように配置された複数のコア層接地ビアが設けられており、
前記コア層の両側の前記ビルドアップ層のそれぞれと前記コア層の間の前記配線層には、前記信号導体と間隔を有して前記信号導体を切れ目なく環状に囲む環状コア接地導体が設けられており、
前記コア層接地ビアおよび前記環状接地ビアは前記環状コア接地導体と接続する、請求項1から請求項4の何れか1項に記載のプリント配線板。
The signal via is provided so as to penetrate the core layer in the stacking direction.
The core layer is provided with a plurality of core layer grounding vias arranged so as to surround the signal via in a ring shape at intervals from the signal via.
Each of the build-up layers on both sides of the core layer and the wiring layer between the core layers are provided with an annular core grounding conductor that seamlessly and annularly surrounds the signal conductor at intervals from the signal conductor. And
The printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the core layer grounding via and the annular grounding via are connected to the annular core grounding conductor.
前記環状接地ビアは、前記環状孔の内部に導体を充填して設けられる、請求項1から請求項5の何れか1項に記載のプリント配線板。 The printed wiring board according to any one of claims 1 to 5, wherein the annular grounding via is provided by filling the inside of the annular hole with a conductor. 前記環状接地ビアは、前記環状孔の内面に決められた厚さで設けられた導体であり、
前記環状接地ビアの内部には環状に絶縁樹脂が充填され、
前記環状接地ビアが設けられる前記ビルドアップ層の前記コア層から遠い側の面に、前記環状接地ビアおよび前記絶縁樹脂を覆い、かつ前記信号ビアを環状に切れ目なく囲む環状接地導体が設けられる、請求項1から請求項5の何れか1項に記載のプリント配線板。
The annular grounding via is a conductor provided on the inner surface of the annular hole with a predetermined thickness.
The inside of the annular grounding via is filled with an insulating resin in an annular shape.
An annular grounding conductor that covers the annular grounding via and the insulating resin and surrounds the signal via in an annular shape is provided on the surface of the build-up layer on the side far from the core layer in which the annular grounding via is provided. The printed wiring board according to any one of claims 1 to 5.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001308479A (en) * 2000-04-24 2001-11-02 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring board
JP2002232143A (en) * 2001-01-31 2002-08-16 Toppan Printing Co Ltd Coaxial via hole and its forming method, multilayer wiring board and its producing method
WO2004110120A1 (en) * 2003-06-09 2004-12-16 Fujitsu Limited Printed board and printed board unit
JP2007305756A (en) * 2006-05-11 2007-11-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd Circuit board
JP2013247307A (en) * 2012-05-29 2013-12-09 Kyocer Slc Technologies Corp Wiring board
JP2013251519A (en) * 2012-05-30 2013-12-12 Zhuhai Advanced Chip Carriers & Electronic Substrates Solutions Technologies Co Ltd Multilayer electronic structure with through-thickness coaxial structures
JP2017191874A (en) * 2016-04-14 2017-10-19 新光電気工業株式会社 Wiring board and method for manufacturing the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001308479A (en) * 2000-04-24 2001-11-02 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring board
JP2002232143A (en) * 2001-01-31 2002-08-16 Toppan Printing Co Ltd Coaxial via hole and its forming method, multilayer wiring board and its producing method
WO2004110120A1 (en) * 2003-06-09 2004-12-16 Fujitsu Limited Printed board and printed board unit
JP2007305756A (en) * 2006-05-11 2007-11-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd Circuit board
JP2013247307A (en) * 2012-05-29 2013-12-09 Kyocer Slc Technologies Corp Wiring board
JP2013251519A (en) * 2012-05-30 2013-12-12 Zhuhai Advanced Chip Carriers & Electronic Substrates Solutions Technologies Co Ltd Multilayer electronic structure with through-thickness coaxial structures
JP2017191874A (en) * 2016-04-14 2017-10-19 新光電気工業株式会社 Wiring board and method for manufacturing the same

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