JP2012033529A - Wiring board - Google Patents

Wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP2012033529A
JP2012033529A JP2010169145A JP2010169145A JP2012033529A JP 2012033529 A JP2012033529 A JP 2012033529A JP 2010169145 A JP2010169145 A JP 2010169145A JP 2010169145 A JP2010169145 A JP 2010169145A JP 2012033529 A JP2012033529 A JP 2012033529A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
conductor
layer
pair
external connection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010169145A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazunori Shioya
和紀 塩屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocer Slc Tech Corp
Kyocera SLC Technologies Corp
Original Assignee
Kyocer Slc Tech Corp
Kyocera SLC Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocer Slc Tech Corp, Kyocera SLC Technologies Corp filed Critical Kyocer Slc Tech Corp
Priority to JP2010169145A priority Critical patent/JP2012033529A/en
Publication of JP2012033529A publication Critical patent/JP2012033529A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board which has a small reflection loss and an insertion loss of a signal thereby transmitting the signal correctly.SOLUTION: The wiring board comprises: an insulating substrate 10 constituted by a laminate of a plurality of insulation layers 11 to 17; a pair of external connection pads 41 and 42 for a pair transmission channel formed on an undersurface of the insulating substrate 10; a plurality of conductor layers 22 to 27 provided between the insulation layers 11 to 17 in which openings 91a to 96a are formed at positions corresponding to the pair of external connection pad 41 and 42; penetration conductors 52 to 57 which are electrically connected to the pair of external connection pads 41 and 42 at corresponding positions in the openings 91a to 96a and penetrate the plurality of insulating layers 11 to 17. The conductor layers 22 to 27 have power supply patterns surrounding the openings 91a to 96a independently from its surrounding power supply layers 73 to 78, and upper and lower power supply patterns 91 to 96 are connected each other to the same power supply potential by the penetration conductor 52 to 57.

Description

本発明は、半導体集積回路素子等の半導体素子を搭載するための配線基板に関するものである。   The present invention relates to a wiring board for mounting a semiconductor element such as a semiconductor integrated circuit element.

半導体素子を搭載するための小型の配線基板は、複数の絶縁層が積層されて成る絶縁基板の内部および表面に配線導体用の複数の導体層が配置されているとともに絶縁層を貫通する貫通導体により上下の配線導体同士が接続された多層配線構造をしている。絶縁基板の上面中央部には半導体素子の電極が半田バンプ等を介して電気的に接続される複数の半導体素子接続パッドが形成されており、絶縁基板の下面には外部電気回路基板の配線導体に半田ボール等を介して電気的に接続される外部接続パッドが形成されている。これらの半導体素子接続パッドと外部接続パッドとは、所定のもの同士が絶縁基板の表面および内部に配置された配線導体および貫通導体により互いに電気的に接続されている。   A small-sized wiring board for mounting a semiconductor element has a plurality of conductor layers for wiring conductors disposed inside and on the surface of an insulating substrate formed by laminating a plurality of insulating layers, and a through conductor that penetrates the insulating layer Thus, a multilayer wiring structure in which the upper and lower wiring conductors are connected to each other is formed. A plurality of semiconductor element connection pads are formed in the central portion of the upper surface of the insulating substrate, to which the electrodes of the semiconductor element are electrically connected via solder bumps, etc. The wiring conductor of the external electric circuit substrate is formed on the lower surface of the insulating substrate. External connection pads are formed which are electrically connected to each other via solder balls or the like. These semiconductor element connection pads and external connection pads are electrically connected to each other by wiring conductors and through conductors disposed on the surface and inside of the insulating substrate.

ところで近時、半導体素子を搭載するための配線基板においては、高周波伝送における電気的ロスの少ない形態が要求されている。そこで、信号用の伝送路として互いに差動線路として機能するペア伝送路を備えた配線基板が使用されている。ペア伝送路は、絶縁基板の表面または内部に互いに所定間隔で平行に延びる2本の帯状配線導体をペアとして設けるとともに、このペアをなす2本の帯状配線導体の上下や左右に接地または電源用導体を所定の間隔で設けてインピーダンス整合させることにより形成されている。また、ペアをなす帯状配線導体と上下の導体層との接続に使用される貫通導体も所定の間隔でペアをなして隣接するようにして設けられている。   Recently, a wiring board for mounting a semiconductor element is required to have a form with less electrical loss in high-frequency transmission. Therefore, a wiring board having a pair transmission line that functions as a differential line is used as a transmission line for signals. The pair transmission line is provided with two strip-shaped wiring conductors extending in parallel with each other at a predetermined interval on the surface or inside of the insulating substrate as a pair, and for grounding or power supply above, below, left and right of the two strip-shaped wiring conductors forming the pair The conductors are formed by providing impedance matching at predetermined intervals. Further, the through conductors used for connecting the paired strip-shaped wiring conductors and the upper and lower conductor layers are also provided so as to be adjacent to each other in pairs at a predetermined interval.

上述のようなペア伝送路を有する配線基板における従来の例を図4に示す。従来の配線基板200は、図4に示すように、コア用の絶縁層114の上面にビルドアップ用の絶縁層113,112および111を積層するとともに絶縁層114の下面にビルドアップ用の絶縁層115,116および117を積層して成る絶縁基板110の上下面および各絶縁層111,112,113,114,115,116,117の間に配線導体用の導体層121,122,123,124,125,126,127,128が配置されて成る。   FIG. 4 shows a conventional example of a wiring board having a pair transmission line as described above. As shown in FIG. 4, the conventional wiring board 200 has build-up insulating layers 113, 112, and 111 stacked on the upper surface of the core insulating layer 114 and a build-up insulating layer on the lower surface of the insulating layer 114. Conductor layers 121, 122, 123, 124 for wiring conductors between the upper and lower surfaces of the insulating substrate 110 formed by laminating 115, 116 and 117 and between the insulating layers 111, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 125, 126, 127, 128 are arranged.

絶縁基板110の上面中央部には半導体素子Sの電極端子に半田バンプB1を介して電気的に接続される半導体素子接続パッド130が形成されており、絶縁基板110の下面には外部電気回路基板の配線導体に図示しない半田ボールを介して電気的に接続される外部接続パッド140が形成されている。これらの半導体素子接続パッド130と外部接続パッド140とは導体層121〜128内に形成された配線導体および各絶縁層111,112,113,114,115,116,117をそれぞれ貫通する貫通導体151,152,153,154,155,156,157を介して互いに電気的に接続されている。さらに、最上層の絶縁層111および導体層121の表面には半導体素子接続パッド130の中央部を露出させる開口部を有するソルダーレジスト層161が被着されており、最下層の絶縁層117および導体層128の表面には外部接続パッド140の中央部を露出させる開口部を有するソルダーレジスト層162が被着されている。   A semiconductor element connection pad 130 that is electrically connected to an electrode terminal of the semiconductor element S via a solder bump B1 is formed at the center of the upper surface of the insulating substrate 110. An external electric circuit board is formed on the lower surface of the insulating substrate 110. External connection pads 140 that are electrically connected to the wiring conductors via solder balls (not shown) are formed. The semiconductor element connection pads 130 and the external connection pads 140 are wiring conductors formed in the conductor layers 121 to 128 and through conductors 151 penetrating the insulating layers 111, 112, 113, 114, 115, 116, 117, respectively. , 152, 153, 154, 155, 156 and 157 are electrically connected to each other. Furthermore, a solder resist layer 161 having an opening exposing the central portion of the semiconductor element connection pad 130 is deposited on the surfaces of the uppermost insulating layer 111 and the conductor layer 121, and the lowermost insulating layer 117 and the conductor are exposed. A solder resist layer 162 having an opening exposing the central portion of the external connection pad 140 is deposited on the surface of the layer 128.

ここで従来の配線基板におけるペア伝送路の一例について説明する。図5(a)〜(d)および図6(e)〜(h)は、上述した配線基板200における導体層121,122,123,124,125,126,127,128の一部および貫通導体151,152,153,154,155,156,157の一部のみを抜き出して示した上面図である。   Here, an example of a pair transmission path in a conventional wiring board will be described. FIGS. 5A to 5D and FIGS. 6E to H are parts of the conductor layers 121, 122, 123, 124, 125, 126, 127, and 128 and the through conductors in the wiring board 200 described above. 5 is a top view showing only a part of 151, 152, 153, 154, 155, 156, and 157. FIG.

図5(a)は、導体層121を示している。導体層121は、ペア伝送路に接続される半導体素子接続パッド130のペア131,132と、第1の電源電位に接続される電源層171を含んでいる。半導体素子接続パッド131,132は直径が100〜200μm程度の円形であり、互いに110〜250μm程度のピッチで隣接している。また、電源層171は、絶縁基板110の中央部付近から外周縁近傍までベタ状に延在している。   FIG. 5A shows the conductor layer 121. The conductor layer 121 includes a pair 131 and 132 of semiconductor element connection pads 130 connected to the pair transmission line, and a power supply layer 171 connected to the first power supply potential. The semiconductor element connection pads 131 and 132 are circular having a diameter of about 100 to 200 μm, and are adjacent to each other at a pitch of about 110 to 250 μm. The power supply layer 171 extends in a solid shape from the vicinity of the central portion of the insulating substrate 110 to the vicinity of the outer peripheral edge.

図5(b)は、導体層122およびその上に接続された貫通導体151を示している。導体層122は、上述した半導体素子接続パッド131,132の下方から後述する外部接続パッド140のペア141,142の上方に向けて延びる帯状配線導体のペア181,182と、上述した電源層171と同様に第1の電源電位に接続される電源層172とを有している。帯状配線導体のペア181,182は、その端部を除いて所定の間隔で並行に延びており、その一端が貫通導体151により半導体素子接続パッド131,132にそれぞれ接続されているとともに、他端部は外部接続パッド141,142の中央部に対応する位置まで拡がっている。また、電源層172は、これらの帯状配線導体のペア181,182を所定の間隔で取り囲むようにベタ状に配置されるとともに後述する外部接続パッドのペア141,142に対応する位置に長円形状の開口部172aを有している。そして電源層172は、帯状配線導体181,182および開口部172aの近傍において貫通導体151により上層の電源層171に接続されている。   FIG. 5B shows the conductor layer 122 and the through conductor 151 connected thereon. The conductor layer 122 includes a pair of strip-like wiring conductors 181 and 182 extending from below the semiconductor element connection pads 131 and 132 to above the pair 141 and 142 of the external connection pad 140 described later, and the power supply layer 171 described above. Similarly, the power supply layer 172 connected to the first power supply potential is included. The pair of strip-like wiring conductors 181 and 182 extend in parallel at a predetermined interval except for the ends thereof, and one end thereof is connected to the semiconductor element connection pads 131 and 132 by the through conductor 151 and the other end. The portion extends to a position corresponding to the central portion of the external connection pads 141 and 142. The power supply layer 172 is arranged in a solid shape so as to surround the strip-like wiring conductor pairs 181 and 182 at a predetermined interval, and is formed in an oval shape at a position corresponding to the external connection pad pairs 141 and 142 described later. Having an opening 172a. The power supply layer 172 is connected to the upper power supply layer 171 by the through conductor 151 in the vicinity of the strip-shaped wiring conductors 181 and 182 and the opening 172a.

図5(c)は、導体層123およびその上に接続される貫通導体152を示している。導体層123は、前記第1の電源電位とは異なる第2の電源電位に接続される電源層173を有している。電源層173は、外部接続パッドのペア141,142に対応する位置に長円形状の開口部173aを有している。そして開口部173aの中において、貫通導体152が上述した帯状配線導体181,182の他端に接続されている。   FIG. 5C shows the conductor layer 123 and the through conductor 152 connected thereon. The conductor layer 123 has a power supply layer 173 connected to a second power supply potential different from the first power supply potential. The power supply layer 173 has an oval opening 173 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 141 and 142. And in the opening part 173a, the penetration conductor 152 is connected to the other end of the strip | belt-shaped wiring conductors 181 and 182 mentioned above.

図5(d)は、導体層124およびその上に接続される貫通導体153を示している。導体層124は、上述した電源層173と同じ第2の電源電位に接続される電源層174を有している。電源層174は、外部接続パッドのペア141,142に対応する位置に長円形状の開口部174aを有している。そして開口部174aの近傍において貫通導体153により上層の電源層173に接続されている。また開口部174a内において、貫通導体153が上層の貫通導体152に接続されている。   FIG. 5D shows the conductor layer 124 and the through conductor 153 connected thereto. The conductor layer 124 has a power supply layer 174 connected to the same second power supply potential as the power supply layer 173 described above. The power supply layer 174 has an oval opening 174 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 141 and 142. In the vicinity of the opening 174a, the through conductor 153 is connected to the upper power supply layer 173. Further, the through conductor 153 is connected to the upper through conductor 152 in the opening 174a.

図6(e)は、導体層125およびその上に接続される貫通導体154を示している。導体層125は、前記第1および第2の電源電位とは異なる第3の電源電位に接続される電源層175を有している。電源層175は、外部接続パッドのペア141,142に対応する位置に長円形状の開口部175aを有している。また開口部175a内において、貫通導体154が上層の貫通導体153に接続されている。   FIG. 6E shows the conductor layer 125 and the through conductor 154 connected thereon. The conductor layer 125 has a power supply layer 175 connected to a third power supply potential different from the first and second power supply potentials. The power supply layer 175 has an oval opening 175 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 141 and 142. Further, the through conductor 154 is connected to the upper through conductor 153 in the opening 175a.

図6(f)は、導体層126およびその上に接続される貫通導体155を示している。導体層126は、上述した電源層175と同じ第3の電源電位に接続される電源層176を有している。電源層176は、外部接続パッドのペア141,142に対応する位置に長円形状の開口部176aを有している。そして開口部176aの近傍において貫通導体155により上層の電源層175に接続されている。また開口部176a内には、上層のランド175bに接続された貫通導体155が配置されている。   FIG. 6F shows the conductor layer 126 and the through conductor 155 connected thereon. The conductor layer 126 has a power supply layer 176 connected to the same third power supply potential as the power supply layer 175 described above. The power supply layer 176 has an oval opening 176 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 141 and 142. In the vicinity of the opening 176a, the through conductor 155 is connected to the upper power supply layer 175. A through conductor 155 connected to the upper land 175b is disposed in the opening 176a.

図6(g)は、導体層127およびその上に接続される貫通導体156を示している。導体層127は、上述した電源層175,176と同じ第3の電源電位に接続される電源層177を有している。電源層177は、外部接続パッドのペア141,142に対応する位置に長円形状の開口部177aを有している。そして開口部177aの近傍において貫通導体156により上層の電源層176に接続されている。また開口部177a内には、上層の貫通導体155に接続された貫通導体156が配置されている。   FIG. 6G shows the conductor layer 127 and the through conductor 156 connected thereon. The conductor layer 127 has a power supply layer 177 connected to the same third power supply potential as the power supply layers 175 and 176 described above. The power supply layer 177 has an oval opening 177 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 141 and 142. In the vicinity of the opening 177a, the through conductor 156 is connected to the upper power supply layer 176. A through conductor 156 connected to the upper through conductor 155 is disposed in the opening 177a.

図6(h)は、導体層128およびその上に接続される貫通導体157を示している。導体層128は、上述した帯状配線導体のペア181,182に接続された外部接続パッド140のペア141,142を有しているとともに、上述した第2の電源電位に接続される電源層178を有している。外部接続パッド141,142は、直径が300〜500μm程度の円形であり、互いに500〜1000μm程度のピッチで隣接している。そして、貫通導体157により上層の貫通導体156に接続されている。電源層178は、外部接続パッドのペア141,142に対応する位置に長円形状の開口部178aを有している。   FIG. 6 (h) shows the conductor layer 128 and the through conductor 157 connected thereon. The conductor layer 128 includes the external connection pad 140 pair 141 and 142 connected to the above-described strip-like wiring conductor pair 181 and 182, and the above-described power supply layer 178 connected to the second power supply potential. Have. The external connection pads 141 and 142 are circular with a diameter of about 300 to 500 μm, and are adjacent to each other with a pitch of about 500 to 1000 μm. The through conductor 157 is connected to the upper through conductor 156. The power supply layer 178 has an oval opening 178 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 141 and 142.

以上のような構成により半導体素子接続パッドのペア131,132と外部接続パッドのペア141,142とが帯状配線導体のペア181,182および貫通導体151〜157を介して接続されたペア伝送路が形成されている。   With the configuration as described above, there is a pair transmission path in which the pair of semiconductor element connection pads 131 and 132 and the pair of external connection pads 141 and 142 are connected via the pair of strip-like wiring conductors 181 and 182 and the through conductors 151 to 157. Is formed.

しかしながら、この従来のペア伝送路によると、帯状配線導体のペア181,182と外部接続パッドのペア141,142を接続する貫通導体152〜157が互いに異なる電源電位に接続される電源層172〜177に設けられた開口部172a〜177a内を通る貫通導体152〜157を介して接続されるため、この開口部172a〜177a内を通る貫通導体152〜157における特性インピーダンスの整合がとりにくい。その結果、ペア伝送路を伝播する信号が例えば10GHzを超えるような高周波となると、信号の反射損や挿入損が大きくなり、信号を正常に伝播させることが困難となる。   However, according to this conventional pair transmission line, the power supply layers 172 to 177 in which the through conductors 152 to 157 connecting the pair of strip-like wiring conductors 181 and 182 and the pair of external connection pads 141 and 142 are connected to different power supply potentials. Since the connection is made through the through conductors 152 to 157 passing through the openings 172a to 177a, the characteristic impedances of the through conductors 152 to 157 passing through the openings 172a to 177a are difficult to match. As a result, when the signal propagating through the pair transmission line becomes a high frequency exceeding, for example, 10 GHz, the reflection loss and insertion loss of the signal become large, and it becomes difficult to propagate the signal normally.

特開2004−289094号公報JP 2004-289094 A

本発明の課題は、ペア伝送路を伝播する信号が例えば10GHzを超えるような高周波であったとしても、信号の反射損や挿入損が小さく、信号を正常に伝播させることが可能な配線基板を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a wiring board capable of normally transmitting a signal with a small signal reflection loss and insertion loss even if the signal propagating through the pair transmission line is a high frequency exceeding 10 GHz, for example. It is to provide.

本発明の配線基板は、複数の絶縁層が積層されて成る絶縁基板と、該絶縁基板の下面に形成されたペア伝送路用の外部接続パッドのペアと、前記絶縁層間に配設されており、前記外部接続パッドのペアに対応する位置に開口部が形成された複数の導体層と、前記開口部内に対応する位置において前記外部接続パッドのペアに電気的に接続されて前記複数の絶縁層を貫通する貫通導体とを備える配線基板であって、前記導体層は、前記開口部を取り囲む電源パターンをその周囲の導体層から独立して有するとともに上下の前記電源パターン同士が貫通導体により同じ電源電位に接続されていることを特徴とするものである。   The wiring board of the present invention is arranged between the insulating layer, an insulating board formed by laminating a plurality of insulating layers, a pair of external connection pads for a pair transmission path formed on the lower surface of the insulating board, and the insulating layer. A plurality of conductor layers having openings formed at positions corresponding to the pairs of external connection pads; and the plurality of insulating layers electrically connected to the pairs of external connection pads at positions corresponding to the openings. A wiring board comprising a through conductor penetrating through the conductor layer, wherein the conductor layer has a power source pattern surrounding the opening independently of the surrounding conductor layer, and the upper and lower power source patterns are the same power source by the through conductor. It is characterized by being connected to a potential.

本発明の配線基板によれば、ペア伝送路用の外部接続パッドのペアに対応する位置に開口部が形成された複数の電源層は、開口部を取り囲む第1の電源パターンをその周囲の電源層から独立して有するとともに上下の第1の電源パターン同士が貫通導体により接続されていることから、外部接続パッドのペアに接続された貫通導体は、同じ電位の第1の電源パターンで取り囲まれて開口部内を通ることとなり、そのため特性インピーダンスが整合されやすい。したがって、ペア伝送路を伝播する信号が例えば10GHzを超えるような高周波であったとしても、信号の反射損や挿入損が小さく、信号を正常に伝播させることが可能な配線基板を提供することができる。   According to the wiring board of the present invention, the plurality of power supply layers in which the openings are formed at positions corresponding to the pairs of the external connection pads for the pair transmission lines have the first power supply pattern surrounding the openings as the surrounding power supply. Since the upper and lower first power supply patterns are independent from each other and are connected by a through conductor, the through conductor connected to the pair of external connection pads is surrounded by the first power supply pattern having the same potential. Therefore, the characteristic impedance is easily matched. Accordingly, it is possible to provide a wiring board capable of normally transmitting a signal with a small signal reflection loss and insertion loss even if a signal propagating through a pair transmission line has a high frequency exceeding, for example, 10 GHz. it can.

図1は、本発明の配線基板の実施形態の一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an embodiment of a wiring board according to the present invention. 図2は、図1に示す配線基板の導体層の一部および貫通導体の一部のみを抜き出して示した平面図である。FIG. 2 is a plan view showing only a part of the conductor layer and part of the through conductor of the wiring board shown in FIG. 図3は、図1に示す配線基板の導体層の一部および貫通導体の一部のみを抜き出して示した平面図である。FIG. 3 is a plan view showing only a part of the conductor layer and a part of the through conductor of the wiring board shown in FIG. 図4は、従来の配線基板を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a conventional wiring board. 図5は、図4に示す配線基板の導体層の一部および貫通導体の一部のみを抜き出して示した平面図である。FIG. 5 is a plan view showing only a part of the conductor layer and part of the through conductor of the wiring board shown in FIG. 図6は、図4に示す配線基板の導体層の一部および貫通導体の一部のみを抜き出して示した平面図である。FIG. 6 is a plan view showing only a part of the conductor layer and part of the through conductor of the wiring board shown in FIG.

次に、本発明の配線基板における実施形態の一例を説明する。図1は、本例の配線基板100を示す概略断面図であり、図中、10は絶縁層11,12,13,14,15,16,17が積層されて成る絶縁基板、21,22,23,24,25,26,27,28は導体層、30は半導体素子接続パッド、40は外部接続パッド、51,52,53,54,55,56,57は貫通導体、61,62はソルダーレジスト層である。本例の配線基板100は、コア用の絶縁層14の上面にビルドアップ用の絶縁層13,12および11を積層するとともに絶縁層14の下面にビルドアップ用の絶縁層15,16および17を積層して成る絶縁基板10の上下面および絶縁層11,12,13,14,15,16,17の間に配線導体用の導体層21,22,23,24,25,26,27,28が配置されて成る。絶縁基板10の上面中央部には半導体素子Sの電極端子に半田バンプB1を介して電気的に接続される半導体素子接続パッド30が形成されており、絶縁基板10の下面には外部電気回路基板の配線導体に図示しない半田ボールを介して電気的に接続される外部接続パッド40が形成されている。これらの半導体素子接続パッド30と外部接続パッド40とは導体層21,22,23,24,25,26,27,28に形成された配線導体および各絶縁層11,12,13,14,15,16,17をそれぞれ貫通する貫通導体51,52,53,54,55,56,57を介して互いに電気的に接続されている。さらに、最上層の絶縁層11および導体層21の表面には半導体素子接続パッド30の中央部を露出させる開口部を有するソルダーレジスト層61が被着されており、最下層の絶縁層17および導体層28の表面には外部接続パッド40の中央部を露出させる開口部を有するソルダーレジスト層62が被着されている。   Next, an example of an embodiment of the wiring board of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a wiring board 100 of this example. In the figure, reference numeral 10 denotes an insulating substrate formed by laminating insulating layers 11, 12, 13, 14, 15, 16, and 17, 21, 22. 23, 24, 25, 26, 27 and 28 are conductor layers, 30 is a semiconductor element connection pad, 40 is an external connection pad, 51, 52, 53, 54, 55, 56 and 57 are through conductors, and 61 and 62 are solders. It is a resist layer. In the wiring substrate 100 of this example, build-up insulating layers 13, 12 and 11 are laminated on the upper surface of the core insulating layer 14, and build-up insulating layers 15, 16 and 17 are formed on the lower surface of the insulating layer 14. Conductive layers 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28 for wiring conductors between the upper and lower surfaces of the insulating substrate 10 and the insulating layers 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17. Is arranged. A semiconductor element connection pad 30 that is electrically connected to the electrode terminal of the semiconductor element S via the solder bump B1 is formed at the center of the upper surface of the insulating substrate 10, and an external electric circuit board is formed on the lower surface of the insulating substrate 10. External connection pads 40 that are electrically connected to the wiring conductors via solder balls (not shown) are formed. The semiconductor element connection pads 30 and the external connection pads 40 are formed of wiring conductors formed on the conductor layers 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, and 28 and the insulating layers 11, 12, 13, 14, 15 , 16 and 17 are electrically connected to each other through through conductors 51, 52, 53, 54, 55, 56 and 57, respectively. Further, a solder resist layer 61 having an opening exposing the central portion of the semiconductor element connection pad 30 is deposited on the surfaces of the uppermost insulating layer 11 and the conductor layer 21, and the lowermost insulating layer 17 and the conductor are exposed. A solder resist layer 62 having an opening exposing the central portion of the external connection pad 40 is deposited on the surface of the layer 28.

絶縁層14は、配線基板100のコア基板となる部材であり、例えばガラス繊維束を縦横に織り込んだガラス織物にエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸させて成り、厚みが0.3〜1.5mm程度であり、その上面から下面にかけて直径が0.1〜0.3mm程度の複数のスルーホール14aを有している。そして、その上下面には導体層24,25が被着されており、スルーホール14aの内面には貫通導体54が被着されている。なお、貫通導体54が被着されたスルーホール14a内は樹脂により充填されている。   The insulating layer 14 is a member that becomes a core substrate of the wiring substrate 100, and is formed by impregnating a glass fabric in which glass fiber bundles are woven vertically and horizontally with a thermosetting resin such as epoxy resin or bismaleimide triazine resin. It has a plurality of through holes 14a having a diameter of about 0.1 to 0.3 mm from the upper surface to the lower surface. The conductor layers 24 and 25 are attached to the upper and lower surfaces, and the through conductor 54 is attached to the inner surface of the through hole 14a. The through hole 14a to which the through conductor 54 is attached is filled with resin.

このような絶縁層14は、ガラス織物に未硬化の熱硬化性樹脂を含浸させた絶縁シートを熱硬化させた後、これに上面から下面にかけてスルーホール14aをドリル加工することにより製作される。なお、絶縁層14上下面の導体層24,25は、絶縁層14用の絶縁シートの上下全面に厚みが3〜50μm程度の銅箔を貼着しておくとともに、この銅箔をシートの硬化後にエッチング加工することにより所定のパターンに形成される。また、スルーホール14a内面の貫通導体54は、スルーホール14a内面に無電解めっき法および電解めっき法により厚みが3〜50μm程度の銅めっき膜を析出させることにより形成される。なお、スルーホール14a内を樹脂により充填するには、貫通導体54が形成されたスルーホール14a内に未硬化のペースト状の熱硬化性樹脂をスクリーン印刷法により充填し、その後、充填された樹脂を熱硬化させる方法が採用される。   Such an insulating layer 14 is manufactured by thermally curing an insulating sheet in which a glass fabric is impregnated with an uncured thermosetting resin, and then drilling through holes 14a from the upper surface to the lower surface. The conductor layers 24 and 25 on the upper and lower surfaces of the insulating layer 14 have a copper foil having a thickness of about 3 to 50 μm adhered to the entire upper and lower surfaces of the insulating sheet for the insulating layer 14, and the copper foil is cured on the sheet. A predetermined pattern is formed by etching later. The through conductor 54 on the inner surface of the through hole 14a is formed by depositing a copper plating film having a thickness of about 3 to 50 μm on the inner surface of the through hole 14a by an electroless plating method and an electrolytic plating method. In order to fill the inside of the through hole 14a with a resin, an uncured pasty thermosetting resin is filled into the through hole 14a in which the through conductors 54 are formed by a screen printing method, and then the filled resin is filled. A method of thermally curing is adopted.

絶縁層14の上下面に積層された各絶縁層11,12,13,15,16,17は、ビルドアップ絶縁層であり、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂に酸化珪素粉末等の無機絶縁物フィラーを30〜70質量%程度分散させた絶縁材料から成る。絶縁層11,12,13,15,16,17は、それぞれの厚みが20〜60μm程度であり、各層の上面から下面にかけて直径が30〜100μm程度の複数のビアホール11a,12a,13a,15a,16a,17aを有している。ビアホール11a,12a,13a,15a,16a,17a内には、貫通導体51,52,53,55,56,57がそれぞれ充填されており、これらの貫通導体51,52,53,55,56,57を介して導体層21,22,23,24,25,26,27,28の所定の配線パターン同士を電気的に接続することにより高密度配線が立体的に形成可能となっている。このような各絶縁層11,12,13,15,16,17は、厚みが20〜60μm程度の未硬化の熱硬化性樹脂から成る絶縁フィルムを絶縁層14の上下面に貼着し、これを熱硬化させるとともにレーザ加工によりビアホール13a,15aを穿孔し、さらにその上に同様にして次の絶縁層12,11および16,17を順次積み重ねることによって形成される。なお、各絶縁層11,12,13,15,16,17の表面に被着された導体層21,22,23,26,27,28およびビアホール11a,12a,13a,15a,16a,17a内に充填された貫通導体51,52,53,55,56,57は、各絶縁層11,12,13,15,16,17を形成する毎に各絶縁層11,12,13,15,16,17の表面およびビアホール11a,12a,13a,15a,16a,17a内に5〜50μm程度の厚みの銅めっき膜を公知のセミアディティブ法等のパターン形成法により所定のパターンに被着させることによって形成される。   Each of the insulating layers 11, 12, 13, 15, 16, and 17 laminated on the upper and lower surfaces of the insulating layer 14 is a build-up insulating layer, and an inorganic insulator such as a silicon oxide powder on a thermosetting resin such as an epoxy resin. It consists of an insulating material in which about 30 to 70% by mass of filler is dispersed. The insulating layers 11, 12, 13, 15, 16, and 17 each have a thickness of about 20 to 60 μm, and a plurality of via holes 11 a, 12 a, 13 a, 15 a, and a diameter of about 30 to 100 μm from the upper surface to the lower surface of each layer. 16a, 17a. The via holes 11a, 12a, 13a, 15a, 16a, and 17a are filled with through conductors 51, 52, 53, 55, 56, and 57, respectively, and these through conductors 51, 52, 53, 55, 56, and By electrically connecting predetermined wiring patterns of the conductor layers 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28 through 57, high-density wiring can be formed three-dimensionally. Each of such insulating layers 11, 12, 13, 15, 16, and 17 is formed by attaching an insulating film made of an uncured thermosetting resin having a thickness of about 20 to 60 μm to the upper and lower surfaces of the insulating layer 14. And the via holes 13a and 15a are drilled by laser processing, and the next insulating layers 12, 11 and 16, 17 are sequentially stacked thereon in the same manner. In addition, in the conductor layers 21, 22, 23, 26, 27, 28 and the via holes 11a, 12a, 13a, 15a, 16a, 17a deposited on the surfaces of the insulating layers 11, 12, 13, 15, 16, 17 The through conductors 51, 52, 53, 55, 56, and 57 filled in each of the insulating layers 11, 12, 13, 15, 16, and 17 are formed each time the insulating layers 11, 12, 13, 15, 16, and 17 are formed. , 17 and a copper plating film having a thickness of about 5 to 50 μm on the surface of via holes 11a, 12a, 13a, 15a, 16a, and 17a by applying a predetermined pattern by a pattern forming method such as a known semi-additive method. It is formed.

また、ソルダーレジスト層61,62は、例えばアクリル変性エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂にシリカやタルク等のフィラーを含有させて成り、上面側のソルダーレジスト層61であれば、半導体素子接続パッド30の中央部を露出させる開口部を有しているとともに、下面側のソルダーレジスト層62であれば、外部接続パッド40の中央部を露出させる開口部を有している。このようなソルダーレジスト層61,62は、その厚みが10〜50μm程度であり、感光性を有するソルダーレジスト層61,62用の未硬化樹脂ペーストをロールコーター法やスクリーン印刷法を採用して絶縁層11,17の上に塗布し、これを乾燥させた後、露光および現像処理を行なって半導体素子接続パッド30や外部接続パッド40の中央部を露出させる開口部を形成した後、これを熱硬化させることによって形成される。   In addition, the solder resist layers 61 and 62 are formed by adding a filler such as silica or talc to a thermosetting resin such as an acrylic-modified epoxy resin. If the solder resist layer 61 is on the upper surface side, the semiconductor element connection pad 30 is used. In addition, the solder resist layer 62 on the lower surface side has an opening for exposing the central portion of the external connection pad 40. The solder resist layers 61 and 62 have a thickness of about 10 to 50 μm, and the uncured resin paste for the solder resist layers 61 and 62 having photosensitivity is insulated by adopting a roll coater method or a screen printing method. After coating on the layers 11 and 17 and drying them, exposure and development processes are performed to form openings that expose the central portions of the semiconductor element connection pads 30 and the external connection pads 40, and then this is heated. It is formed by curing.

ここで本発明の配線基板におけるペア伝送路の一例について説明する。図2(a)〜(d)および図3(e)〜(h)は、上述した配線基板100における導体層21,22,23,24,25,26,27,28の一部および貫通導体51,52,53,54,55,56,57の一部のみを抜き出して示した上面図である。   Here, an example of a pair transmission line in the wiring board of the present invention will be described. 2 (a) to 2 (d) and FIGS. 3 (e) to 3 (h) show parts of the conductor layers 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, and 28 and the through conductors in the wiring board 100 described above. It is the top view which extracted and showed only a part of 51,52,53,54,55,56,57.

図2(a)は、導体層21を示している。導体層21は、ペア伝送路に接続される半導体素子接続パッド30のペア31,32と、第1の電源電位に接続される電源層71を含んでいる。半導体素子接続パッド31,32は直径が100〜200μm程度の円形であり、互いに110〜250μm程度のピッチで隣接している。また、第1の電源層71は、絶縁基板10の中央部付近から外周縁近傍までベタ状に延在している。   FIG. 2A shows the conductor layer 21. The conductor layer 21 includes a pair 31 and 32 of semiconductor element connection pads 30 connected to the pair transmission path, and a power supply layer 71 connected to the first power supply potential. The semiconductor element connection pads 31 and 32 are circular with a diameter of about 100 to 200 μm, and are adjacent to each other with a pitch of about 110 to 250 μm. The first power supply layer 71 extends in a solid shape from the vicinity of the central portion of the insulating substrate 10 to the vicinity of the outer peripheral edge.

図2(b)は、導体層22およびその上に接続された貫通導体51を示している。導体層22は、上述した半導体素子接続パッド31,32の下方から後述する外部接続パッド40のペア41,42の上方に向けて延びる帯状配線導体のペア81,82と、上述した電源層71と同様に第1の電源電位に接続される電源層72とを有している。帯状配線導体のペア81,82は、その端部を除いて所定の間隔で並行に延びており、その一端が貫通導体51により半導体素子接続パッド31,32にそれぞれ接続されているとともに、他端部は外部接続パッド41,42の中央部に対応する位置まで拡がっている。また、電源層72は、これらの帯状配線導体のペア81,82を所定の間隔で取り囲むようにベタ状に配置されるとともに後述する外部接続パッドのペア41,42に対応する位置に長円形状の開口部72aを有している。そして電源層72は、帯状配線導体81,82および開口部72aの近傍において貫通導体51により上層の電源層71に接続されている。   FIG. 2B shows the conductor layer 22 and the through conductor 51 connected thereon. The conductor layer 22 includes strip-shaped wiring conductor pairs 81 and 82 extending from below the semiconductor element connection pads 31 and 32 to above the pairs 41 and 42 of external connection pads 40 described later, and the power supply layer 71 and Similarly, a power supply layer 72 connected to the first power supply potential is included. A pair of strip-like wiring conductors 81 and 82 extend in parallel at a predetermined interval except for their end portions, one end of which is connected to the semiconductor element connection pads 31 and 32 by a through conductor 51 and the other end. The portion extends to a position corresponding to the central portion of the external connection pads 41 and 42. Further, the power supply layer 72 is arranged in a solid shape so as to surround these strip-like wiring conductor pairs 81 and 82 at a predetermined interval, and has an oval shape at a position corresponding to the external connection pad pairs 41 and 42 described later. The opening 72a is provided. The power supply layer 72 is connected to the upper power supply layer 71 by the through conductor 51 in the vicinity of the strip-shaped wiring conductors 81 and 82 and the opening 72a.

図2(c)は、導体層23およびその上に接続される貫通導体52を示している。導体層23は、前記第1の電源電位とは異なる第2の電源電位に接続される電源層73と前記第1の電源電位に接続される電源パターン91とを有している。電源層73は、絶縁基板10の中央部からベタ状に延在している。電源パターン91は、絶縁基板10の外周部に電源層73から独立して配置されており、外部接続パッドのペア41,42に対応する位置に長円形状の開口部91aを有している。電源パターン91は、開口部91aの近傍において貫通導体52により上層の電源層72に接続されている。また開口部91aの中においては、貫通導体52が上述した帯状配線導体81,82の他端に接続されている。   FIG. 2C shows the conductor layer 23 and the through conductor 52 connected thereon. The conductor layer 23 has a power supply layer 73 connected to a second power supply potential different from the first power supply potential and a power supply pattern 91 connected to the first power supply potential. The power supply layer 73 extends from the center of the insulating substrate 10 in a solid shape. The power supply pattern 91 is disposed on the outer peripheral portion of the insulating substrate 10 independently from the power supply layer 73, and has an oval opening 91 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 41 and 42. The power supply pattern 91 is connected to the upper power supply layer 72 by the through conductor 52 in the vicinity of the opening 91a. Further, in the opening 91a, the through conductor 52 is connected to the other ends of the above-described strip-like wiring conductors 81 and 82.

図2(d)は、導体層24およびその上に接続される貫通導体53を示している。導体層24は、上述した電源層73と同じ第2の電源電位に接続される電源層74と前記第1の電源電位に接続される電源パターン92とを有している。電源層74は、絶縁基板10の中央部からベタ状に延在している。電源パターン92は、絶縁基板10の外周部に電源層74から独立して配置されており、外部接続パッドのペア41,42に対応する位置に長円形状の開口部92aを有している。電源パターン92は、開口部92aの近傍において貫通導体53により上層の電源パターン91に接続されている。また開口部92aの中においては、貫通導体53が上層の貫通導体52に接続されている。   FIG. 2D shows the conductor layer 24 and the through conductor 53 connected thereon. The conductor layer 24 has a power supply layer 74 connected to the same second power supply potential as the power supply layer 73 described above and a power supply pattern 92 connected to the first power supply potential. The power supply layer 74 extends from the center of the insulating substrate 10 in a solid shape. The power supply pattern 92 is disposed on the outer peripheral portion of the insulating substrate 10 independently from the power supply layer 74, and has an oval opening 92 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 41 and 42. The power supply pattern 92 is connected to the upper power supply pattern 91 by the through conductor 53 in the vicinity of the opening 92a. Further, the through conductor 53 is connected to the upper through conductor 52 in the opening 92a.

図3(e)は、導体層25およびその上に接続される貫通導体54を示している。導体層25は、前記第1および第2の電源電位とは異なる第3の電源電位に接続される電源層75と前記第1の電源電位に接続される電源パターン93とを有している。電源層75は、絶縁基板10の中央部からベタ状に延在している。電源パターン93は、絶縁基板10の外周部に電源層75から独立して配置されており、外部接続パッドのペア41,42に対応する位置に長円形状の開口部93aを有している。電源パターン93は、開口部93aの近傍において貫通導体54により上層の電源パターン92に接続されている。また開口部93aの中においては、貫通導体54が上層の貫通導体53に接続されている。   FIG. 3E shows the conductor layer 25 and the through conductor 54 connected thereon. The conductor layer 25 has a power supply layer 75 connected to a third power supply potential different from the first and second power supply potentials, and a power supply pattern 93 connected to the first power supply potential. The power supply layer 75 extends in a solid shape from the central portion of the insulating substrate 10. The power supply pattern 93 is disposed on the outer peripheral portion of the insulating substrate 10 independently from the power supply layer 75, and has an oval opening 93 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 41 and 42. The power supply pattern 93 is connected to the upper power supply pattern 92 by the through conductor 54 in the vicinity of the opening 93a. Further, the through conductor 54 is connected to the upper through conductor 53 in the opening 93a.

図3(f)は、導体層26およびその上に接続される貫通導体55を示している。導体層26は、上述した電源層75と同じ第3の電源電位に接続される電源層76と前記第1の電源電位に接続される電源パターン94とを有している。電源層76は、絶縁基板10の中央部からベタ状に延在している。電源パターン94は、絶縁基板10の外周部に電源層76から独立して配置されており、外部接続パッドのペア41,42に対応する位置に長円形状の開口部94aを有している。電源パターン94は、開口部94aの近傍において貫通導体55により上層の電源パターン93に接続されている。また開口部94aの中においては、貫通導体55が上層の貫通導体54に接続されている。   FIG. 3F shows the conductor layer 26 and the through conductor 55 connected thereon. The conductor layer 26 has a power supply layer 76 connected to the same third power supply potential as the power supply layer 75 described above and a power supply pattern 94 connected to the first power supply potential. The power supply layer 76 extends from the central portion of the insulating substrate 10 in a solid shape. The power supply pattern 94 is arranged on the outer peripheral portion of the insulating substrate 10 independently from the power supply layer 76, and has an oval opening 94 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 41 and 42. The power supply pattern 94 is connected to the upper power supply pattern 93 by a through conductor 55 in the vicinity of the opening 94a. Further, the through conductor 55 is connected to the upper through conductor 54 in the opening 94a.

図3(g)は、導体層27およびその上に接続される貫通導体56を示している。導体層27は、上述した電源層75,76と同じ第3の電源電位に接続される電源層77と前記第1の電源電位に接続される電源パターン95とを有している。電源層77は、絶縁基板10の中央部からベタ状に延在している。電源パターン95は、絶縁基板10の外周部に電源層77から独立して配置されており、外部接続パッドのペア41,42に対応する位置に長円形状の開口部95aを有している。電源パターン95は、開口部95aの近傍において貫通導体56により上層の電源パターン94に接続されている。また開口部95aの中においては、貫通導体56が上層の貫通導体55に接続されている。   FIG. 3G shows the conductor layer 27 and the through conductor 56 connected thereon. The conductor layer 27 has a power supply layer 77 connected to the same third power supply potential as the power supply layers 75 and 76 described above, and a power supply pattern 95 connected to the first power supply potential. The power supply layer 77 extends from the central portion of the insulating substrate 10 in a solid shape. The power supply pattern 95 is disposed on the outer peripheral portion of the insulating substrate 10 independently from the power supply layer 77, and has an oval opening 95 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 41 and 42. The power supply pattern 95 is connected to the upper power supply pattern 94 by the through conductor 56 in the vicinity of the opening 95a. Further, the through conductor 56 is connected to the upper through conductor 55 in the opening 95a.

図3(h)は、導体層28およびその上に接続される貫通導体57を示している。導体層28は、上述した帯状配線導体のペア81,82に接続された外部接続パッド40のペア41,42を有しているとともに、上述した第2の電源電位に接続される電源層78と前記第1の電源電位に接続される電源パターン96とを有している。外部接続パッド41,42は、直径が300〜500μm程度の円形であり、互いに500〜1000μm程度のピッチで隣接している。電源層78は、絶縁基板10の中央部からベタ状に延在している。電源パターン96は、絶縁基板10の外周部に電源層78から独立して配置されており、外部接続パッドのペア41,42に対応する位置に長円形状の開口部96aを有している。半導体素子接続パッド41,42は、開口部96a内において貫通導体57により上層の貫通導体56に接続されている。また電源パターン96は、開口部96aの近傍において貫通導体57により上層の電源パターン95に接続されている。   FIG. 3 (h) shows the conductor layer 28 and the through conductor 57 connected thereon. The conductor layer 28 has the pair 41, 42 of the external connection pads 40 connected to the pair of strip-like wiring conductors 81, 82 described above, and the power supply layer 78 connected to the second power supply potential described above. A power supply pattern 96 connected to the first power supply potential. The external connection pads 41 and 42 are circular with a diameter of about 300 to 500 μm, and are adjacent to each other with a pitch of about 500 to 1000 μm. The power supply layer 78 extends from the center of the insulating substrate 10 in a solid shape. The power supply pattern 96 is disposed on the outer peripheral portion of the insulating substrate 10 independently from the power supply layer 78, and has an oval opening 96 a at a position corresponding to the pair of external connection pads 41 and 42. The semiconductor element connection pads 41 and 42 are connected to the upper through-conductor 56 by the through-conductor 57 in the opening 96a. The power supply pattern 96 is connected to the upper power supply pattern 95 by a through conductor 57 in the vicinity of the opening 96a.

以上のような構成により半導体素子接続パッドのペア31,32と外部接続パッドのペア41,42とが帯状配線導体のペア81,82および貫通導体51〜57を介して接続されたペア伝送路が形成されている。本発明においては上述したように、例えば導体層23〜28において、開口部91a〜96aを取り囲む電源パターン91〜96がその周囲の電源層73〜78から独立して設けられているとともに、上下の電源パターン91〜96が開口部91a〜96aの近傍において貫通導体52〜57により同じ第1の電源電位に接続されている。そして、これにより帯状配線導体のペア81,82と外部接続パッドのペア41,42とを接続する貫通導体52〜57が第1の電源電位に接続された電源パターン91〜96およびこれらを接続する貫通導体52〜57により囲まれるので、ペア伝送路の特性インピーダンスの整合が容易となり、その結果、ペア伝送路を伝播する信号が例えば10GHzを超えるような高周波であったとしても、信号の反射損や挿入損が小さく、信号を正常に伝播させることが可能な配線基板を提供することができる。   With the configuration described above, a pair transmission path in which the pair 31 and 32 of semiconductor element connection pads and the pair 41 and 42 of external connection pads are connected via the pair of strip-like wiring conductors 81 and 82 and the through conductors 51 to 57 is provided. Is formed. In the present invention, as described above, for example, in the conductor layers 23 to 28, the power supply patterns 91 to 96 surrounding the openings 91a to 96a are provided independently from the surrounding power supply layers 73 to 78, and The power supply patterns 91 to 96 are connected to the same first power supply potential by through conductors 52 to 57 in the vicinity of the openings 91a to 96a. Then, through conductors 52 to 57 connecting the strip-like wiring conductor pairs 81 and 82 and the external connection pad pairs 41 and 42 are connected to the power supply patterns 91 to 96 connected to the first power supply potential and these. Since it is surrounded by the through conductors 52 to 57, matching of the characteristic impedance of the pair transmission line is facilitated. As a result, even if the signal propagating through the pair transmission line has a high frequency exceeding 10 GHz, for example, the signal reflection loss In addition, it is possible to provide a wiring board that has a small insertion loss and can propagate signals normally.

10・・・絶縁基板
11,12,13,14,15,16,17・・・絶縁層
41,42・・・外部接続パッドのペア
51,52,53,54,55,56,57・・・貫通導体
71,72,73,74,75,76,77,78・・・電源層
91,92,93,94,95,96・・・電源パターン
91a,92a,93a,94a,95a,96a・・・開口部
100・・・配線基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Insulating substrate 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17 ... Insulating layer 41, 42 ... Pair of external connection pads 51, 52, 53, 54, 55, 56, 57 Penetration conductor 71,72,73,74,75,76,77,78 ... power supply layer 91, 92, 93, 94, 95, 96 ... power supply pattern 91a, 92a, 93a, 94a, 95a, 96a ... Opening part 100 ... Wiring board

Claims (1)

複数の絶縁層が積層されて成る絶縁基板と、該絶縁基板の下面に形成されたペア伝送路用の外部接続パッドのペアと、前記絶縁層間に配設されており、前記外部接続パッドのペアに対応する位置に開口部が形成された複数の導体層と、前記開口部内に対応する位置において前記外部接続パッドのペアに電気的に接続されて前記複数の絶縁層を貫通する貫通導体とを備える配線基板であって、前記導体層は、前記開口部を取り囲む電源パターンをその周囲の導体層から独立して有するとともに上下の前記電源パターン同士が貫通導体により同じ電源電位に接続されていることを特徴とする配線基板。   An insulating substrate formed by laminating a plurality of insulating layers, a pair of external connection pads for a pair transmission path formed on the lower surface of the insulating substrate, and the pair of external connection pads disposed between the insulating layers. A plurality of conductor layers having openings formed at positions corresponding to the through holes, and through-conductors that are electrically connected to the pair of external connection pads at positions corresponding to the openings and pass through the plurality of insulating layers. The conductor layer has a power pattern surrounding the opening independently of the surrounding conductor layer, and the upper and lower power patterns are connected to the same power supply potential by through conductors. A wiring board characterized by.
JP2010169145A 2010-07-28 2010-07-28 Wiring board Pending JP2012033529A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010169145A JP2012033529A (en) 2010-07-28 2010-07-28 Wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010169145A JP2012033529A (en) 2010-07-28 2010-07-28 Wiring board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012033529A true JP2012033529A (en) 2012-02-16

Family

ID=45846658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010169145A Pending JP2012033529A (en) 2010-07-28 2010-07-28 Wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012033529A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014038972A (en) * 2012-08-18 2014-02-27 Kyocer Slc Technologies Corp Wiring board
JP2015106599A (en) * 2013-11-29 2015-06-08 京セラサーキットソリューションズ株式会社 Wiring board
JP2015211147A (en) * 2014-04-28 2015-11-24 京セラサーキットソリューションズ株式会社 Wiring board
US9565750B2 (en) 2012-08-18 2017-02-07 Kyocera Corporation Wiring board for mounting a semiconductor element

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014038972A (en) * 2012-08-18 2014-02-27 Kyocer Slc Technologies Corp Wiring board
US9565750B2 (en) 2012-08-18 2017-02-07 Kyocera Corporation Wiring board for mounting a semiconductor element
JP2015106599A (en) * 2013-11-29 2015-06-08 京セラサーキットソリューションズ株式会社 Wiring board
JP2015211147A (en) * 2014-04-28 2015-11-24 京セラサーキットソリューションズ株式会社 Wiring board

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5272090B2 (en) Wiring board and manufacturing method thereof
TWI615065B (en) Flexible circuit board and method for manufacturing same
TWI643334B (en) High frequency signal transmission structure and manufacturing method thereof
WO2010007704A1 (en) Flex-rigid wiring board and electronic device
JP5311653B2 (en) Wiring board
JP2012243923A (en) Flexible printed circuit and manufacturing method thereof
TW201517710A (en) Circuit board and method for manufacturing same
TWI608770B (en) Flexible print circuit board and method for manufacturing same
JP5586441B2 (en) Wiring board
JP5473074B2 (en) Wiring board
JP5311669B2 (en) Wiring board
JP2012033529A (en) Wiring board
TW201607384A (en) Wiring substrate
JP5565958B2 (en) Wiring board
JP2015211147A (en) Wiring board
JP5791078B2 (en) Wiring board
JP2012033786A (en) Wiring board
JP5370883B2 (en) Wiring board
JP5835732B2 (en) Wiring board
JP2009290044A (en) Wiring substrate
JP2013131731A (en) Wiring board and method of manufacturing the same
JP5890978B2 (en) Wiring board manufacturing method
JP2011138846A (en) Wiring board
JP2015226035A (en) Wiring board
JP2005159133A (en) Wiring board and semiconductor device using it