JP2021004391A - 被覆部材、及び被覆部材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
基材と化成皮膜とを備え、
前記基材は、
Ni又はNi合金によって構成される表層と、
前記表層の外方に形成されるNi酸化被膜とを有し、
前記化成皮膜は、前記Ni酸化被膜の直上に設けられ、
前記Ni酸化被膜において、HAXPESにより測定されるNi(OH)2の原子濃度とNiOの原子濃度との比率であるNi(OH)2/NiOが0.25以上である。
Ni又はNi合金によって構成される表層、及び前記表層の外方に形成されるNi酸化被膜を有する基材を用意する工程と、
前記Ni酸化被膜に対して陽極電解脱脂を行う工程と、
前記陽極電解脱脂を経た前記Ni酸化被膜に対して化成処理を行う工程とを備え、
前記陽極電解脱脂は、0.5A/dm2以上8.0A/dm2以下の電流密度で実施する。
以下、本開示の実施態様を列記して説明する。
基材と化成皮膜とを備え、
前記基材は、
Ni又はNi合金によって構成される表層と、
前記表層の外方に形成されるNi酸化被膜とを有し、
前記化成皮膜は、前記Ni酸化被膜の直上に設けられ、
前記Ni酸化被膜において、HAXPESにより測定されるNi(OH)2の原子濃度とNiOの原子濃度との比率であるNi(OH)2/NiOが0.25以上である。
前記Ni酸化被膜の表面側において、XPSにより測定されるNiOの原子濃度とNiの原子濃度との比率であるNiO/Niが0.20以上である形態が挙げられる。
前記基材全体が、Ni又はNi合金である形態が挙げられる。
前記表層は、Ni又はNi合金のメッキである形態が挙げられる。
前記化成皮膜は、3価Cr又はZrを含む形態が挙げられる。
Ni又はNi合金によって構成される表層、及び前記表層の外方に形成されるNi酸化被膜を有する基材を用意する工程と、
前記Ni酸化被膜に対して陽極電解脱脂を行う工程と、
前記陽極電解脱脂を経た前記Ni酸化被膜に対して化成処理を行う工程とを備え、
前記陽極電解脱脂は、0.5A/dm2以上8.0A/dm2以下の電流密度で実施する。
化学反応式:Ni+2OH−→NiO+H2O+2e−
Ni+2OH−→Ni(OH)2+2e−
Ni(OH)2+OH−→NiOOH+H2O+e−
前記陽極電解脱脂の後に水洗する工程を備え、
酸洗を行うことなく前記化成処理を行う形態が挙げられる。
本開示の実施形態に係る被覆部材、及び被覆部材の製造方法の具体例を図面に基づいて説明する。図中の同一符号は同一又は相当部分を示す。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
≪被覆部材≫
図1は、実施形態に係る被覆部材1の断面を模式的に示している。図1に示されるように、実施形態に係る被覆部材1は、基材10とNi被覆(表層)11とNi酸化被膜12と化成皮膜13とを備える。図1は模式図であり、図1における各層の厚みの比率は、実際とは異なる。以下、被覆部材1の各構成を詳細に説明する。
基材10は金属製である。基材10の材質は特に限定されない。例えば、基材10の材質として、Al、Al合金、Mg(マグネシウム)、Mg合金、Cu、Cu合金などが挙げられる。基材10は、Ni又はNi合金であっても良い。基材10がNi又はNi合金である場合、Ni被覆11は存在しない。その場合、基材10の表面側の部分が表層である。
Ni被覆11は、Ni又はNi合金によって構成される。Ni被覆11は、例えばメッキによって形成される。図1に示される例では、基材10の一面にのみNi被覆11が形成されているが、基材10の全面にNi被覆11が形成されていても良い。
Ni酸化被膜12は、Ni被覆11の外方に形成される不働態である。Ni酸化被膜12は、Ni被覆11に含まれるNiが酸化することで形成される。
化成皮膜13は、化学的処理によって金属表面に形成される安定な化合物である。化成皮膜13としては、例えば3価クロムのクロム酸塩を含む化成皮膜13、又はジルコニウム塩を含む化成皮膜13などが挙げられる。その他、リン酸塩を含む化成皮膜13などが挙げられる。
図1に示される実施形態の被覆部材1は、以下の工程を備える製造方法によって得られる。
・準備工程…Ni酸化被膜12を有する基材10を準備する。
・脱脂工程…Ni酸化被膜12に対して陽極電解脱脂を行って、Ni酸化被膜12の成長を促す。
・水洗工程…基材10を純水で洗う。
・化成処理工程…Ni酸化被膜12に対して化成処理を行って、Ni酸化被膜12の直上に化成皮膜13を形成する。
基材10は、Ni又はNi合金によって構成される表層を有するものであれば特に限定されない。例えば、Ni又はNi合金によって構成される基材10が挙げられる。また、Ni又はNi合金によって構成されるNi被覆11を有する基材10が挙げられる。この場合、Ni被覆11を除く部分は、Ni又はNi合金以外の金属元素又は合金によって構成される。
陽極電解脱脂は、脱脂処理液に基材10を浸漬し、基材10を陽極として通電を行う電解脱脂である。この陽極電解脱脂によって、Ni酸化被膜12が厚く成長し、Ni酸化被膜12の表面が化成皮膜13の形成に適した状態になる。
基材10の表面から脱脂処理液を除去するために、基材10は水洗される。例えば、純水のシャワーによって基材10の表面から脱脂処理液を除去することが挙げられる。
化成処理は、例えば陽極電解脱脂を実施したNi酸化被膜12の表面に化成処理液を塗布することで行う。化成処理液は、市販品を用いることができる。環境に対する配慮から、化成処理液はノンクロメート系の化成処理液であることが好ましい。例えば、3価クロムの化成処理液、又はZr系の化成処理液が好適である。
実施形態1の被覆部材1は、図2に示されるように、電線5の導体50に電気的に接続される端子2に利用できる。
実施形態1の被覆部材1は、図3に示されるように、発熱体6に取り付けられる放熱部材3に利用できる。
実施形態1の被覆部材1は、図4に示されるように、リチウムイオン電池7に備わるタブリード4に利用できる。
試験例1では、基材上に化成処理を施した複数の被覆部材(試料1−1から試料1−36)を作製した。そして、各試料のNi酸化被膜におけるNi(OH)2/NiOを測定すると共に、種々の耐食試験を行った。
基材は、Ni板、Niメッキを有するMgSiC板、Niメッキを有するCu板、又はNiメッキを有するAl(JIS規格のA1050)板のいずれかであった。基材の寸法はいずれも、長さ60mm、幅30mm、厚さ1mmであった。
基材は、陽極電解脱脂、陰極電解脱脂、又は浸漬脱脂のいずれかによって脱脂処理された。各脱脂の条件は以下の通りである。
脱脂処理された基材は、水洗され、化成処理に供された。化成処理では、基材に化成処理液を塗布し、100℃×5分の乾燥を行った。化成処理液は、トップトライパッシブ(奥野製薬工業製)、又はサーフコートEC1000(日本ペイント製)であった。トップトライパッシブは、3価のクロム酸塩を有する化成皮膜を形成する化成処理液である。一方、サーフコートEC1000は、Zr塩を有する化成皮膜を形成する化成処理液である。
各試料について、Ni酸化被膜におけるNiの酸化状態をHAXPESによって評価した。HAXPESの条件は以下の通りである。
・Spring−8のBL16XUラインで測定
・X線のエネルギー…8keV
・エネルギー校正…Ni2pのNi金属
・光電子取出し角…50°
・BL条件…Si(111)二結晶分光器と、Si(111)チャンネルカット結晶分光器
・前置ミラーRh…3.5mrad
・後置ミラー…無し
・検出器…光電子分析器(Scienta Omicron製 R4000)
各試料に対して、塩水噴霧試験、高温高湿試験、及び電解液浸漬試験を行った。塩水噴霧試験は、35℃、5質量%NaCl水を96時間噴霧する試験である(JIS Z 2371:2015)。高温高湿試験は、湿度85%、85℃の雰囲気下で1000時間の載置を行う試験である(JIS C 60068−2−78:2015)。また、リチウムイオン電池(LiB)の電解液に対する耐食性を調べる電解液浸漬試験は、試料を60℃、1000質量ppmの水を含むリチウムイオン電池用電解液に2週間浸漬することで行った。これら耐食試験の結果を表1,2に示す。塩水噴霧試験では、孔食が無い試料を『Good』、孔食が有る試料を『Bad』とした。高温高湿試験では、変色が無い試料を『Good』、変色が有る試料を『Bad』とした。電解液浸積試験(表中では、LiB電解液耐性)では、孔食が無い試料を『Good』、孔食が有る試料を『Bad』とした。
各試料をその厚み方向に沿った方向に切断し、断面観察を行った。断面観察は走査型透過電子顕微鏡によって行った。その結果、試料No.1から試料No.18のNi酸化被膜の厚さは、試料No.19から試料No.38のNi酸化被膜の厚さよりも明らかに大きかった。試料No.19から試料No.38のNi酸化被膜の厚さは、自然酸化膜と同程度と考えられる。
以上の結果から、電流密度が0.5A/dm2以上8.0A/dm2以下の陽極電解脱脂によって、Ni酸化被膜の厚さが厚くなることが明らかになった。また、上記陽極電解脱脂によって、Ni酸化被膜に含まれるNi(OH)2の濃度が増加することが明らかになった。その結果、Ni酸化被膜の表面が、化成皮膜と密着し易い状態に改質されていると考えられる。
試験例2では、試験例1の試料No.1からNo.34のNi酸化被膜におけるNiの酸化状態をXPSによって測定した。
・1kVの加速電圧で加速したAr(アルゴン)ビーム
・スパッタ速度…5.59nm/min
・測定装置…Quantera SXM(アルバック・ファイ株式会社製)
・X線条件…ビームサイズ;100μm、AlKα
・入射角…90°
・光電子取出し角…45°
XPSの測定結果の解析は、アルバック・ファイ株式会社製の解析ソフト(商品名:multi pack)によって行った。解析ソフトによって、NiOの原子濃度(%)とNiの原子濃度(%)を求め、計算によってNiO/Niを求めた。
試験例2の結果に鑑み、耐食性に優れる被覆部材として、以下の構成が挙げられる。
≪付記1≫
基材と化成皮膜とを備え、
前記基材は、
Ni又はNi合金によって構成される表層と、
前記表層の外方に形成されるNi酸化被膜とを有し、
前記化成皮膜は、前記Ni酸化被膜の直上に設けられ、
前記Ni酸化被膜において、XPSにより測定されるNiOの原子濃度とNiの原子濃度との比率であるNiO/Niが0.20以上である被覆部材。
10 基材、11 Ni被覆、12 Ni酸化被膜、13 化成皮膜
2 端子
20 ワイヤバレル
3 放熱部材
30 本体部、31 フィン
4 タブリード
5 電線
50 導体
6 発熱体
7 リチウムイオン電池
70 封入体
Claims (7)
- 基材と化成皮膜とを備え、
前記基材は、
Ni又はNi合金によって構成される表層と、
前記表層の外方に形成されるNi酸化被膜とを有し、
前記化成皮膜は、前記Ni酸化被膜の直上に設けられ、
前記Ni酸化被膜において、HAXPESにより測定されるNi(OH)2の原子濃度とNiOの原子濃度との比率であるNi(OH)2/NiOが0.25以上である、
被覆部材。 - 前記Ni酸化被膜の表面側において、XPSにより測定されるNiOの原子濃度とNiの原子濃度との比率であるNiO/Niが0.20以上である請求項1に記載の被覆部材。
- 前記基材全体が、Ni又はNi合金である請求項1又は請求項2に記載の被覆部材。
- 前記表層は、Ni又はNi合金のメッキである請求項1又は請求項2に記載の被覆部材。
- 前記化成皮膜は、3価Cr又はZrを含む請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の被覆部材。
- Ni又はNi合金によって構成される表層、及び前記表層の外方に形成されるNi酸化被膜を有する基材を用意する工程と、
前記Ni酸化被膜に対して陽極電解脱脂を行う工程と、
前記陽極電解脱脂を経た前記Ni酸化被膜に対して化成処理を行う工程とを備え、
前記陽極電解脱脂は、0.5A/dm2以上8.0A/dm2以下の電流密度で実施する、
被覆部材の製造方法。 - 前記陽極電解脱脂の後に水洗する工程を備え、
酸洗を行うことなく前記化成処理を行う請求項6に記載の被覆部材の製造方法。
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