JP2021001824A - Surface property measuring device and surface property measurement method - Google Patents
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- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title abstract description 7
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 53
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 50
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 15
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は、表面性状測定装置および表面性状測定方法に関する。 The present invention relates to a surface texture measuring device and a surface texture measuring method.
従来、被測定物の表面をスタイラスで倣い走査することで被測定物の表面性状を測定する表面性状測定装置が知られている。このような表面性状測定装置は、回転軸に支持された測定アームと、測定アーム先端部に設けられたスタイラスとを備えており、被測定物の表面に接触したスタイラスは、測定方向(X軸方向又はY軸方向)に相対移動しながら被測定物の表面高さに応じて上下方向(Z軸方向)に変位する。被測定物の表面性状は、測定方向に沿ったスタイラスの変位量の変化に基づいて測定される。 Conventionally, a surface property measuring device for measuring the surface property of a device to be measured by scanning the surface of the object to be measured with a stylus is known. Such a surface texture measuring device includes a measuring arm supported by a rotating shaft and a stylus provided at the tip of the measuring arm, and the stylus in contact with the surface of the object to be measured is in the measuring direction (X-axis). It is displaced in the vertical direction (Z-axis direction) according to the surface height of the object to be measured while moving relative to the direction (Y-axis direction). The surface texture of the object to be measured is measured based on the change in the displacement of the stylus along the measurement direction.
また、被測定物の上下両側の表面性状を簡便に測定できるように、上向スタイラスおよび下向スタイラスという2つのスタイラスを備えるタイプの表面性状測定装置が知られている(例えば特許文献1参照)。特許文献1に記載の表面性状測定装置では、上向スタイラスと下向スタイラスとの間の相互位置関係を示す情報として、オフセット量Δx,Δy,Δzを算出している。そして、上向スタイラスによる測定データと下向スタイラスによる測定データとの関係を当該オフセット量により補正することで、被測定物の厚み等を測定している。 Further, a type of surface texture measuring device including two styluses, an upward stylus and a downward stylus, is known so that the surface textures on both the upper and lower sides of the object to be measured can be easily measured (see, for example, Patent Document 1). .. In the surface texture measuring apparatus described in Patent Document 1, offset amounts Δx, Δy, and Δz are calculated as information indicating the mutual positional relationship between the upward stylus and the downward stylus. Then, the thickness of the object to be measured and the like are measured by correcting the relationship between the measurement data by the upward stylus and the measurement data by the downward stylus by the offset amount.
しかし、特許文献1に記載の表面性状測定装置は、上向スタイラスと下向スタイラスとの間の実際のオフセット量を解消するものではない。このため、上向スタイラスと下向スタイラスとの間にオフセット量ΔxまたはΔyが存在する場合、被測定物に対する各スタイラスの接触位置にX軸方向またはY軸方向のずれが生じてしまう。特に、測定方向(例えばX軸方向)に直交する方向(例えばY軸方向)において各スタイラスの接触位置にずれ(Δy)が生じた場合、上向スタイラスおよび下向スタイラスは、上下方向から見て互いに異なる走査ラインを描くことになる。すなわち、上下方向から見たときに上向スタイラスおよび下向スタイラスの各走査ラインが重ならないため、被測定物のZ軸方向に沿った断面形状(例えば被測定物の厚みや孔径など)を正確に評価することができない。 However, the surface texture measuring device described in Patent Document 1 does not eliminate the actual offset amount between the upward stylus and the downward stylus. Therefore, when an offset amount Δx or Δy exists between the upward stylus and the downward stylus, the contact position of each stylus with respect to the object to be measured is displaced in the X-axis direction or the Y-axis direction. In particular, when the contact position of each stylus is displaced (Δy) in a direction (for example, the Y-axis direction) orthogonal to the measurement direction (for example, the X-axis direction), the upward stylus and the downward stylus are viewed from the vertical direction. They will draw different scanning lines. That is, since the scanning lines of the upward stylus and the downward stylus do not overlap when viewed from the vertical direction, the cross-sectional shape (for example, the thickness and hole diameter of the object to be measured) along the Z-axis direction of the object to be measured is accurate. Cannot be evaluated.
本発明は、上向スタイラスおよび下向スタイラスを用いて被測定物の上下方向に沿った断面形状を正確に評価できる表面性状測定装置および表面性状測定方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a surface texture measuring device and a surface texture measuring method capable of accurately evaluating a cross-sectional shape of an object to be measured along the vertical direction by using an upward stylus and a downward stylus.
本発明の表面性状測定装置は、被測定物が載置されるステージと、先端部が前記被測定物に接触して上下方向に変位可能である測定アームと、前記先端部から上側に突出するように設けられた上向スタイラスと、前記先端部から下側に突出するように設けられた下向スタイラスと、前記上下方向ならびに当該上下方向に直交かつ互いに直交する第1方向および第2方向の各方向に沿って、前記測定アームと前記ステージとを相対移動可能である相対移動機構と、前記上向スタイラスまたは前記下向スタイラスが前記被測定物を前記第1方向に沿って走査するように前記相対移動機構を制御する第1走査制御部と、を備え、前記第1走査制御部は、前記上向スタイラスおよび前記下向スタイラスのいずれか一方が前記被測定物を走査した後であって、他方が前記被測定物を走査する前に、前記上向スタイラスと前記下向スタイラスとの間の前記第2方向のオフセット量の分、前記測定アームを前記第2方向に相対移動させることを特徴とする。
なお、上向スタイラスと下向スタイラスとの間におけるオフセット量の情報は、特開2012−211891号公報などの従来技術を用いることで取得できる。
The surface property measuring device of the present invention has a stage on which an object to be measured is placed, a measuring arm whose tip is in contact with the object to be measured and can be displaced in the vertical direction, and a measuring arm protruding upward from the tip. The upward stylus provided as described above, the downward stylus provided so as to project downward from the tip portion, and the first direction and the second direction orthogonal to the vertical direction and the vertical direction and orthogonal to each other. A relative movement mechanism capable of relatively moving the measuring arm and the stage along each direction, and the upward stylus or the downward stylus scanning the object to be measured along the first direction. A first scanning control unit that controls the relative movement mechanism is provided, and the first scanning control unit is after either the upward stylus or the downward stylus scans the object to be measured. Before the other scans the object to be measured, the measuring arm is relatively moved in the second direction by the amount of the offset amount in the second direction between the upward stylus and the downward stylus. It is a feature.
Information on the amount of offset between the upward stylus and the downward stylus can be obtained by using a conventional technique such as Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-211891.
このような構成では、上向スタイラスと下向スタイラスとの間に第2方向のオフセット量が存在する場合であっても、被測定物を第1方向に沿って測定する際、上向スタイラスが被測定物に接触する位置と、下向スタイラスが被測定物に接触する位置とを、第2方向において互いに一致させることができる。よって、上下方向から見たときの被測定物に対する各スタイラスの走査ラインを重ねることができるため、被測定物の上下方向および第1方向に沿った断面形状を正確に評価することができる。 In such a configuration, even if there is an offset amount in the second direction between the upward stylus and the downward stylus, the upward stylus is used when measuring the object to be measured along the first direction. The position of contact with the object to be measured and the position of the downward stylus with contact with the object to be measured can be aligned with each other in the second direction. Therefore, since the scanning lines of each stylus can be overlapped with respect to the object to be measured when viewed from the vertical direction, the cross-sectional shape of the object to be measured along the vertical direction and the first direction can be accurately evaluated.
本発明の表面性状測定装置において、前記上向スタイラスまたは前記下向スタイラスが前記被測定物を前記第2方向に沿って走査するように前記相対移動機構を制御する第2走査制御部をさらに備え、前記第2走査制御部は、前記上向スタイラスおよび前記下向スタイラスのいずれか一方が前記被測定物を走査した後であって、他方が前記被測定物を走査する前に、前記上向スタイラスと前記下向スタイラスとの間の前記第1方向のオフセット量の分、前記測定アームを前記第1方向に相対移動させることが好ましい。
このような構成によれば、上述した説明の第1方向と第2方向とを入れ替えた効果を奏することができる。すなわち、上向スタイラスと下向スタイラスとの間に第1方向のオフセット量が存在する場合であっても、被測定物を第2方向に沿って測定する際、上下方向から見たときの被測定物に対する各スタイラスの走査ラインを重ねることができる。このため、被測定物の上下方向および第2方向に沿った断面形状を正確に評価することができる。
The surface texture measuring apparatus of the present invention further includes a second scanning control unit that controls the relative movement mechanism so that the upward stylus or the downward stylus scans the object to be measured along the second direction. In the second scanning control unit, one of the upward stylus and the downward stylus scans the object to be measured, and before the other scans the object to be measured, the upward stylus is upward. It is preferable to move the measuring arm relative to the first direction by the amount of the offset amount between the stylus and the downward stylus in the first direction.
According to such a configuration, it is possible to obtain the effect of exchanging the first direction and the second direction described above. That is, even when there is an offset amount in the first direction between the upward stylus and the downward stylus, when the object to be measured is measured along the second direction, the subject is viewed from the vertical direction. The scanning lines of each stylus on the object to be measured can be overlapped. Therefore, the cross-sectional shape of the object to be measured along the vertical direction and the second direction can be accurately evaluated.
本発明の表面性状測定方法は、被測定物が載置されるステージと、先端部が前記被測定物に接触して上下方向に変位可能である測定アームと、前記先端部から上側に突出するように設けられた上向スタイラスと、前記先端部から下側に突出するように設けられた下向スタイラスと、前記上下方向ならびに当該上下方向に直交かつ互いに直交する第1方向および第2方向の各方向に沿って、前記測定アームを前記ステージに対して相対移動可能である相対移動機構と、を備える表面性状測定装置において、前記上向スタイラスが前記被測定物を前記第1方向に沿って走査するように、前記測定アームを前記第1方向に相対移動させる上向走査ステップと、前記下向スタイラスが前記被測定物を前記第1方向に沿って走査するように、前記測定アームを前記第1方向に相対移動させる下向走査ステップと、前記上向走査ステップと前記下向走査ステップとの間において、前記上向スタイラスと前記下向スタイラスとの間の前記第2方向のオフセット量の分、前記測定アームを前記第2方向に相対移動させる位置補正ステップと、を実行することを特徴とする。
このような方法によれば、上述した表面性状測定装置の効果と同様の効果を奏することができる。
In the surface property measuring method of the present invention, a stage on which an object to be measured is placed, a measuring arm whose tip is in contact with the object to be measured and can be displaced in the vertical direction, and a measuring arm projecting upward from the tip. The upward stylus provided as described above, the downward stylus provided so as to project downward from the tip portion, and the first direction and the second direction orthogonal to the vertical direction and the vertical direction and orthogonal to each other. In a surface property measuring device including a relative moving mechanism capable of moving the measuring arm relative to the stage along each direction, the upward stylus moves the object to be measured along the first direction. An upward scanning step that moves the measuring arm relative to the first direction so as to scan, and the measuring arm so that the downward stylus scans the object to be measured along the first direction. The amount of offset in the second direction between the upward stylus and the downward stylus between the downward scanning step for relative movement in the first direction and the upward scanning step and the downward scanning step. It is characterized in that a position correction step of relatively moving the measuring arm in the second direction is executed.
According to such a method, the same effect as the effect of the surface texture measuring device described above can be obtained.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1において、本実施形態の表面性状測定装置1は、被測定物の表面を倣い走査することで被測定物の表面性状を測定するものであり、被測定物がセットされる装置本体10と、装置本体10を制御する制御部50とを備えている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
In FIG. 1, the surface texture measuring device 1 of the present embodiment measures the surface texture of the object to be measured by copying and scanning the surface of the object to be measured, and the device
〔装置本体〕
本実施形態の装置本体10は、従来と略同様の構成を有している。以下、図1および図2を参照して、装置本体10の構成について簡単に説明する。なお、本実施形態では、装置本体10の上下方向をZ軸方向とし、Z軸に直交する一方向をY軸方向とし、Z軸方向およびY軸方向にそれぞれ直交する方向をX軸方向とする。
[Device body]
The apparatus
図1に示すように、装置本体10は、ベース11と、ベース11上に設置されたステージ12と、測定アーム24を含む検出器20と、ステージ12と検出器20とを互いに相対移動させる相対移動機構40と、を備えている。
As shown in FIG. 1, the apparatus
相対移動機構40は、ベース11に対してステージ12をY軸方向に移動させるY軸駆動機構41と、ベース11の上面に立設されたコラム42と、コラム42に支持されたZスライダ43と、コラム42に対してZスライダ43をZ軸方向へ昇降させるZ軸駆動機構44と、Zスライダ43に対して検出器20をX軸方向に移動させるX軸駆動機構47と、を備える。
Y軸駆動機構41、Z軸駆動機構44およびX軸駆動機構47は、それぞれ、送りねじ機構などのアクチュエータと、各軸方向の駆動量を検出するためのセンサとを含んで構成される。
The
The Y-
図2に示すように、検出器20は、X軸駆動機構47により吊り下げ支持されたブラケット22と、ブラケット22に設けられた回転軸23により回動可能に支持された測定アーム24と、測定アーム24の先端部241に設けられた上向スタイラス26Aおよび下向スタイラス26Bとを備える。なお、上向スタイラス26Aおよび下向スタイラス26Bをまとめてスタイラス26A,26Bと称する場合がある。
As shown in FIG. 2, the
上向スタイラス26Aは、測定アーム24の先端部241から上側に突出しており、下向スタイラス26Bは、測定アーム24の先端部241から下側に突出している。測定アーム24の先端部241に設けられたスタイラス26A,26Bが上下方向に変位するとき、測定アーム24は回転軸23を支点として回動する。
The
また、検出器20は、スタイラス26A,26Bの上下方向の変位量を検出する変位量検出部27、および、測定アーム24の先端部241に付勢力を加えると共に当該付勢力を上方向または下方向に切り替える測定力付与手段(図示省略)などを、さらに備える。
Further, the
このような装置本体10では、上向スタイラス26Aまたは下向スタイラス26Bを被測定物の被測定面に接触させたまま、測定アーム24を含む検出器20を、ステージ12に対してY軸方向またはX軸方向に相対移動させる。なお、本実施形態では、「検出器20(または測定アーム24)をステージ12に対してY軸方向に相対移動させる」とは、Y軸駆動機構41がステージ12をY軸方向に移動させることを意味し、「検出器20(または測定アーム24)をステージ12に対してX軸方向に相対移動させる」とは、X軸駆動機構47が検出器20をX軸方向に移動させることを意味する。
検出器20がステージ12に対してY軸方向またはX軸方向に相対移動するとき、上向スタイラス26Aまたは下向スタイラス26Bは、被測定面のZ軸方向位置に従って変位しながら、当該被測定面をY軸方向またはX軸方向に走査する。この走査中、変位量検出部27がスタイラス26A,26Bの変位量を検出することにより、Y軸方向またはX軸方向に沿った被測定面のZ軸方向位置を示す測定データが得られる。
In such a device
When the
〔制御部〕
図3を参照して制御部50について説明する。制御部50は、パーソナルコンピュータ等のコンピュータにより構成されており、メモリ等により構成される記憶部51や、CPU(Central Processing Unit)等により構成された演算部52を備えている。そして、演算部52は、記憶部51に記憶された測定プログラムを読み込み実行することで、移動制御部521、オフセット量算出部522および形状解析部523として機能する。
[Control unit]
The
移動制御部521は、相対移動機構40を駆動制御することにより、ステージ12に対する検出器20の相対移動を制御する。また、移動制御部521は、Y軸走査制御部521A(本発明の第2走査制御部に相当)と、X軸走査制御部521B(本発明の第1走査制御部に相当)とを含んでいる。Y軸走査制御部521Aは、スタイラス26A,26Bが被測定物をY軸方向に走査するように相対移動機構40を駆動制御する。X軸走査制御部521Bは、スタイラス26A,26Bが被測定物をX軸方向に走査するように相対移動機構40を駆動制御する。
オフセット量算出部522は、後述するオフセット量Δx,Δy,Δzを算出する。
形状解析部523は、スタイラス26A,26Bによる各測定データに基づいて、被測定物の形状(被測定物の厚みや内径など)を解析する。
記憶部51には、測定プログラム、オフセット量Δx,Δy,Δz、および、測定データなどが記憶される。
The
The offset
The
The
また、制御部50は、操作部53および表示部54などを備えていてもよい。
操作部53は、例えば、キーボードやジョイスティックなどによって構成され、各種動作指令やデータの入力を指定できるようになっている。
表示部54には、形状解析部523により解析された被測定物の形状データなどが表示される。
Further, the
The
The
〔オフセット量算出方法〕
図4,図5は、測定アーム24の先端部241付近を拡大して示す図である。図4,図5に示すように、測定アーム24に対するスタイラス26A,26Bの取り付け誤差などが原因となって、スタイラス26A,26Bの各先端部26A1,26B1間には、X軸方向およびY軸方向の各方向におけるずれ(スタイラス26A,26B間のオフセット量Δx,Δy)が生じる場合がある。また、構造上、スタイラス26A,26Bの各先端部26A1,26B1間には、Z軸方向におけるずれ(スタイラス26A,26B間のオフセット量Δz)が存在する。
本実施形態において、上述のオフセット量Δx,Δy,Δzを算出する方法は、例えば特開2012−211891号公報に開示される方法と同様である。以下、簡単に説明する。
[Offset amount calculation method]
4 and 5 are enlarged views of the vicinity of the
In the present embodiment, the method for calculating the offset amounts Δx, Δy, Δz described above is the same as the method disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-211891. The following will be briefly described.
まず、図6に示すように、下向スタイラス26Bが、ステージ12上にセットされた基準球9の上側面をY軸方向へ走査する。そして、検出器20をX軸方向へ所定ピッチずつずらしながら、Y軸方向への上記走査を繰り返す。これにより、基準球9のY軸上側形状測定データが複数得られる。オフセット量算出部522は、複数のY軸上側形状測定データのうち最も高い位置を、基準球9の上側最大直径部として求める。
First, as shown in FIG. 6, the
同様に、上向スタイラス26Aが、ステージ12上にセットされた基準球9の下側面をY軸方向へ走査する。そして、検出器20をX軸方向へ所定ピッチずつずらしながら、Y軸方向への上記走査を繰り返す。これにより、基準球9のY軸下側形状測定データが複数得られる。オフセット量算出部522は、複数のY軸下側形状測定データのうち最も高い位置を、基準球9の上側最大直径部として求める。
Similarly, the
次に、図7に示すように、下向スタイラス26Bが、基準球9の上側最大直径部に接触し、基準球9の上側面をX軸方向へ走査する。これにより、基準球9のX軸上側形状測定データが得られる。
同様に、上向スタイラス26Aが、基準球9の下側最大直径部に接触し、基準球9の下側面をX軸方向へ走査する。これにより、基準球9のX軸下側形状測定データが得られる。
Next, as shown in FIG. 7, the
Similarly, the
次に、オフセット量算出部522は、図8に示すように、Y軸上側形状測定データから得られる第1中心座標O1と、Y軸下側形状測定データから得られる第2中心座標O2とを算出する。そして、上向スタイラス26Aと下向スタイラス26BのY軸方向のオフセット量Δyとして、第1中心座標O1と第2中心座標O2との間のY軸方向の差を算出する。
また、オフセット量算出部522は、図9に示すように、X軸上側形状測定データから得られる第3中心座標O3と、X軸下側形状測定データから得られる第4中心座標O4とを算出する。そして、上向スタイラス26Aと下向スタイラス26BのY軸方向のオフセット量ΔxおよびZ軸方向のオフセット量Δzとして、第3中心座標O3と第4中心座標O4との間のX軸方向の差およびZ軸方向の差をそれぞれ算出する。
以上のように算出されたオフセット量Δx,Δy,Δzは、記憶部51に記憶される。
Next, as shown in FIG. 8, the offset
Further, as shown in FIG. 9, the offset
The offset amounts Δx, Δy, and Δz calculated as described above are stored in the
〔測定方法〕
本実施形態の表面性状測定装置1は、被測定物をX軸方向に測定する際に、上述で算出されたオフセット量Δyを利用し、被測定物をY軸方向に測定する際に、上述で算出されたオフセット量Δxを利用する。
〔Measuring method〕
The surface texture measuring device 1 of the present embodiment uses the offset amount Δy calculated above when measuring the object to be measured in the X-axis direction, and is described above when measuring the object to be measured in the Y-axis direction. The offset amount Δx calculated in is used.
(X軸方向測定)
以下、オフセット量Δyを利用したX軸測定方法の一例について、図10に示すフローチャートを参照して説明する。
なお、以下では、図11,図12に示すように、被測定物の一例である筒体W1の内径を軸方向に沿って測定する場合について説明する。この場合、筒体W1の軸はX軸方向に平行に配置される。
(Measurement in X-axis direction)
Hereinafter, an example of the X-axis measurement method using the offset amount Δy will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
In the following, as shown in FIGS. 11 and 12, a case where the inner diameter of the tubular body W1 which is an example of the object to be measured is measured along the axial direction will be described. In this case, the axes of the tubular body W1 are arranged parallel to the X-axis direction.
まず、図13に示すように、相対移動機構40を動作させることにより、上向スタイラス26Aが筒体W1の基準位置P1に接触するよう検出器20を配置する(ステップS1)。基準位置P1は、Y軸方向において、筒体W1の内周面における最も上側の部位に対応する。
なお、ステップS1では、作業者が筒体W1を目視しながら操作部53を操作することで相対移動機構40を動作させてもよい。あるいは、X軸走査制御部521Bが、筒体W1の設計情報や事前のY軸方向測定データなどを解析することで、相対移動機構40を動作させてもよい。
First, as shown in FIG. 13, the
In step S1, the
次に、X軸走査制御部521BがX軸駆動機構47を動作させることにより、図11に示すように、上向スタイラス26AがX軸方向に筒体W1の内周面を走査する(ステップS2;上向走査ステップ)。ステップS2の間、変位量検出部27は、上向スタイラス26Aの変位量を検出する。
Next, the X-axis
次に、X軸走査制御部521Bが相対移動機構40を動作させることにより、下向スタイラス26Bが筒体W1の基準位置P2に接触するよう検出器20を配置する(ステップS3)。
本実施形態の基準位置P2は、Y軸方向において基準位置P1と同じ位置である。すなわち、基準位置P2は、Y軸方向において、筒体W1の内周面における最も下側の部位に対応する。
Next, the X-axis
The reference position P2 of the present embodiment is the same position as the reference position P1 in the Y-axis direction. That is, the reference position P2 corresponds to the lowermost portion of the inner peripheral surface of the tubular body W1 in the Y-axis direction.
このステップS3を具体的に説明すると、まず、X軸走査制御部521Bは、Z軸駆動機構44を動作させることにより、上向スタイラス26Aを筒体W1の内周面から離間させる。そして、X軸走査制御部521Bは、X軸駆動機構47を動作させて、検出器20をステップS1のX軸方向位置と同じ位置に配置すると共に、Y軸駆動機構41を動作させて検出器20をY軸方向にオフセット量Δyだけ移動させる(位置補正ステップ)。そして、下向スタイラス26Bが筒体W1の内周面に接触するまで、Z軸駆動機構44を動作させる。
なお、ステップS3において検出器20をオフセット量Δyだけ移動させる際、上向スタイラス26Aに対する下向スタイラス26Bのずれを解消する側へ移動させる。
これにより、下向スタイラス26Bが筒体W1の基準位置P2に接触する。
To specifically explain this step S3, first, the X-axis
When the
As a result, the
次に、X軸走査制御部521BがX軸駆動機構47を動作させることにより、図12に示すように、下向スタイラス26BがX軸方向に筒体W1の内周面を走査する(ステップS4;下向走査ステップ)。ステップS4の間、変位量検出部27は、下向スタイラス26Bの変位量を検出する。
Next, the X-axis
次に、形状解析部523は、ステップS2で得られた筒体W1の内周面の測定データ(上側測定データ)と、ステップS4で得られた筒体W1の内周面の測定データ(下側測定データ)とに基づいて、筒体W1の内径が軸方向(X軸方向)に沿って変化する様子を算出する(ステップS5)。
なお、ステップS5では、上側測定データおよび下側測定データに対して、特開2012−211891号公報などに開示される補正を施している。この補正では、スタイラス26A,26B間のオフセット量Δx,Δy,Δzを用いることにより、上側測定データと下側測定データとの間の相互関係を調整する処理を行う。
以上により、筒体W1のX軸方向測定が終了する。
Next, the
In step S5, the upper measurement data and the lower measurement data are corrected as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-211891. In this correction, by using the offset amounts Δx, Δy, and Δz between the
With the above, the measurement in the X-axis direction of the tubular body W1 is completed.
(Y軸方向測定)
上述したX軸方向測定の説明は、X軸方向およびY軸方向を入れ替ることで、Y軸方向測定に対して同様に適用できる。
以下、Y軸方向測定の一例について、図14に示すフローチャートを参照して説明する。なお、以下では、図15に示すように、被測定物の一例である球体W2の外周面を軸方向に直交する方向(Y軸方向)に沿って測定する場合について説明する。
(Measurement in Y-axis direction)
The above description of the X-axis direction measurement can be similarly applied to the Y-axis direction measurement by exchanging the X-axis direction and the Y-axis direction.
Hereinafter, an example of the Y-axis direction measurement will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In the following, as shown in FIG. 15, a case where the outer peripheral surface of the sphere W2, which is an example of the object to be measured, is measured along a direction orthogonal to the axial direction (Y-axis direction) will be described.
まず、相対移動機構40を動作させることにより、下向スタイラス26Bを球体W2の表面の基準位置P3に接触させる(ステップS6)。球体W2の基準位置P3は、球体W2の表面のうち最も上側の部位に対応する。
なお、ステップS6では、作業者が球体W2を目視しながら操作部53を操作することで相対移動機構40を動作させてもよい。あるいは、X軸走査制御部521Bが、球体W2の設計情報や事前のY軸方向測定データなどを解析することで、相対移動機構40を動作させてもよい。
First, by operating the
In step S6, the
次に、Y軸走査制御部521AがY軸駆動機構41を動作させることにより、下向スタイラス26BがY軸方向に球体W2の表面を走査する(ステップS7;下向走査ステップ)。ステップS7の間、変位量検出部27は、上向スタイラス26Aの変位量を検出する。
Next, the Y-axis
次に、Y軸走査制御部521Aが相対移動機構40を動作させることにより、上向スタイラス26Aを球体W2の基準位置P4に接触させる(ステップS8)。
ここで、本実施形態の基準位置P4は、X軸方向において基準位置P3と同じ位置である。すなわち、基準位置P4は、球体W2の表面のうち最も下側の部位を通るY軸方向の線上に位置する。
Next, the Y-axis
Here, the reference position P4 of the present embodiment is the same position as the reference position P3 in the X-axis direction. That is, the reference position P4 is located on the line in the Y-axis direction passing through the lowermost portion of the surface of the sphere W2.
このステップS8を具体的に説明すると、Y軸走査制御部521Aは、Z軸駆動機構44を動作させることにより、下向スタイラス26Bを球体W2の表面から離間させる。そして、Y軸走査制御部521Aは、Y軸駆動機構41を動作させて検出器20をステップS6とY軸方向に同じ位置に配置すると共に、X軸駆動機構47を動作させて検出器20をX軸方向にオフセット量Δxだけ移動させる(位置補正ステップ)。そして、上向スタイラス26Aが球体W2の表面に接触するまで、Z軸駆動機構44を動作させる。
なお、ステップS8において検出器20をオフセット量Δxだけ移動させる際、下向スタイラス26Bに対する上向スタイラス26Aのずれを解消する側へ移動させる。
これにより、上向スタイラス26Aが球体W2の基準位置P4に接触する。
More specifically, the Y-axis
When the
As a result, the
次に、Y軸走査制御部521AがY軸駆動機構41を動作させることにより、上向スタイラス26AがY軸方向に球体W2の表面を走査する(ステップS9;上向走査ステップ)。このステップS9の間、変位量検出部27は、上向スタイラス26Aの変位量を検出する。
Next, the Y-axis
次に、形状解析部523は、ステップS6で得られた球体W2の表面の測定データ(上側測定データ)と、ステップS8で得られた球体W2の表面の測定データ(下側測定データ)とに基づいて、球体W2の断面形状(球体W2のZ軸方向の寸法がY軸方向に沿って変化する様子)を評価する(ステップS10)。
なお、ステップS10では、上述のステップS5と同様、スタイラス26A,26B間のオフセット量Δx,Δy,Δzを用いた補正処理を行う。
以上により、球体W2のY軸方向測定が終了する。
Next, the
In step S10, as in step S5 described above, correction processing using the offset amounts Δx, Δy, and Δz between the
With the above, the measurement in the Y-axis direction of the sphere W2 is completed.
〔本実施形態の効果〕
本実施形態の表面性状測定装置1において、X軸走査制御部521Bは、被測定物をX軸方向に測定する際、スタイラス26A,26Bのいずれか一方が被測定物を走査した後であって、他方が被測定物を走査する前に、スタイラス26A,26B間のY軸方向のオフセット量Δy分、測定アーム24をY軸方向に相対移動させる。
また、表面性状測定装置1において、Y軸走査制御部521Aは、被測定物をY軸方向に測定する際、スタイラス26A,26Bのいずれか一方が被測定物を走査した後であって、他方が被測定物を走査する前に、スタイラス26A,26B間のX軸方向のオフセット量Δx分、測定アーム24をX軸方向に相対移動させる。
[Effect of this embodiment]
In the surface texture measuring device 1 of the present embodiment, when the X-axis
Further, in the surface texture measuring device 1, when the Y-axis
このような本実施形態では、スタイラス26A,26B間にY軸方向のオフセット量Δyが存在する場合であっても、被測定物をX軸方向に測定する際、上向スタイラス26Aが被測定物に接触する位置と、下向スタイラス26Bが被測定物に接触する位置とを、Y軸方向において互いに一致させることができる。よって、上下方向から見たときの被測定物に対するスタイラス26A,26Bの走査ラインを重ねることができるため、被測定物のX軸方向およびZ軸方向に沿った断面形状を正確に評価することができる。
In such an embodiment, even when an offset amount Δy in the Y-axis direction exists between the
また、スタイラス26A,26B間にX軸方向のオフセット量Δxが存在する場合であっても、被測定物をY軸方向に沿って測定する際、上向スタイラス26Aが被測定物に接触する位置と、下向スタイラス26Bが被測定物に接触する位置とを、X軸方向において互いに一致させることができる。よって、上下方向から見たときの被測定物に対するスタイラス26A,26Bの走査ラインを重ねることができるため、被測定物のY軸方向およびZ軸方向に沿った断面形状を正確に評価することができる。
Further, even when the offset amount Δx in the X-axis direction exists between the
特に、本実施形態では、被測定物が筒体W1であって、この筒体W1の内周面を走査する場合、上下方向から見たときの筒体W1の中心軸に対して、スタイラス26A,26Bの走査ラインを重ねることができる(図13参照)。これにより、筒体W1の内径を軸方向に沿って正確に評価することができる。
In particular, in the present embodiment, the object to be measured is the tubular body W1, and when scanning the inner peripheral surface of the tubular body W1, the
また、被測定物が球体W2であってこの球体W2の表面を走査する場合、上下方向から見たときの球体W2の中心に対して、スタイラス26A,26Bの走査ラインを重ねることができる(図15参照)。これにより、球体W2の中心を通る断面形状を正確に評価することができる。
なお、上述した例では、球体W2をY軸方向測定する場合を説明しているが、球体W2をX軸方向測定する場合にも同様の効果を得られる。
Further, when the object to be measured is a sphere W2 and the surface of the sphere W2 is scanned, the scanning lines of the
In the above-mentioned example, the case where the sphere W2 is measured in the Y-axis direction is described, but the same effect can be obtained when the sphere W2 is measured in the X-axis direction.
〔変形例〕
本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形などは本発明に含まれる。
例えば、前記実施形態におけるスタイラス26A,26Bの走査順序は任意に入れ替え可能である。
また、本発明の第1方向は、前記実施形態のX軸方向およびY軸方向のいずれに相当してもよい。同様に、本発明の第2方向は、前記実施形態のX軸方向およびY軸方向のいずれに相当してもよい。
また、前記実施形態では、被測定物として筒体W1および球体W2を例示しているが、本発明はこれに限られず、様々な形状の被測定物を測定できる。
[Modification example]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications within the range in which the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.
For example, the scanning order of the
Further, the first direction of the present invention may correspond to either the X-axis direction or the Y-axis direction of the embodiment. Similarly, the second direction of the present invention may correspond to either the X-axis direction or the Y-axis direction of the embodiment.
Further, in the above-described embodiment, the tubular body W1 and the spherical body W2 are exemplified as the objects to be measured, but the present invention is not limited to this, and various shapes of objects to be measured can be measured.
前記実施形態の相対移動機構40は、Y軸駆動機構41がステージ12をY軸方向に移動し、X軸駆動機構47が検出器20をX軸方向に移動するように構成されているが、本発明はこれに限られない。例えば、相対移動機構40は、ステージ12をY軸方向およびX軸方向の各軸方向に移動可能に構成されてもよいし、検出器20をY軸方向およびX軸方向の各軸方向に移動可能に構成されてもよい。
The
前記実施形態で説明したオフセット量Δx,Δy,Δzの算出方法は、一例であって、他の方法により求められてもよい。
例えば、基準球9をX軸方向へ所定ピッチずつずらしながらY軸方向に複数本走査することで得られる三次元データに基づいて、オフセット量Δx,Δy,Δzを一度に算出してもよい。
あるいは、基準球9をY軸方向へ所定ピッチずつずらしながらX軸方向に複数本走査することで得られる三次元データに基づいて、オフセット量Δx,Δy,Δzを一度に算出してもよい。
The method for calculating the offset amounts Δx, Δy, and Δz described in the above embodiment is an example, and may be obtained by another method.
For example, the offset amounts Δx, Δy, and Δz may be calculated at once based on the three-dimensional data obtained by scanning a plurality of
Alternatively, the offset amounts Δx, Δy, and Δz may be calculated at once based on the three-dimensional data obtained by scanning a plurality of
また、オフセット量Δx,Δy,Δzをより高度に算出する方法として、前記実施形態で説明した測定方法を適用した方法を行ってもよい。
例えば、まず、上述したいずれかの方法によってオフセット量Δyを算出する。その後、下向スタイラス26Bを基準球9の上側最大直径部に接触させて基準球9をX軸方向に走査させる下向走査ステップと、上向スタイラス26Aを基準球9の下側最大直径部に接触させて基準球9をX軸方向に走査させる上向走査ステップとをそれぞれ行う。ここで、いずれかの走査ステップを行った後、他方の走査ステップを行う前、オフセット量Δy分、検出器20をステージ12に対してY軸方向に相対移動させる位置補正ステップを行う。このような方法により得られるデータに基づけば、より正確なオフセット量Δx,Δzを算出することができる。
Further, as a method for calculating the offset amounts Δx, Δy, and Δz at a higher altitude, a method applying the measurement method described in the above embodiment may be performed.
For example, first, the offset amount Δy is calculated by any of the methods described above. After that, a downward scanning step in which the
前記実施形態のステップS3,S8等では、移動制御部521が相対移動機構40を自動制御することで、検出器20をオフセット量ΔxまたはΔyだけ移動させているが、本発明はこれに限られない。例えば、測定者がオフセット量ΔxまたはΔy分の移動指示を操作部53に入力することにより、相対移動機構40を手動制御してもよい。
In steps S3, S8 and the like of the above-described embodiment, the
前記実施形態のX軸方向測定では、ステップS3において、検出器20をY軸方向にオフセット量Δyだけ相対移動させているが、これと共に、検出器20をX軸方向にオフセット量Δxだけ相対移動させてもよい。
同様に、前記実施形態のY軸方向測定では、ステップS8において、検出器20をX軸方向にオフセット量Δxだけ相対移動させているが、これと共に、検出器20をY軸方向にオフセット量Δyだけ相対移動させてもよい。
なお、このような変形例では、検出器20を測定方向(X軸方向またはY軸方向)にオフセット量(ΔxまたはΔy)だけ移動させた分、上側測定データと下側測定データとの間にずれが生じる。このため、測定データを補正する際、当該ずれを解消する補正を行うことが望ましい。
このような変形例によれば、上述した効果に加えて、被測定物における上向走査および下向走査の各走査範囲を走査方向に一致させることができる。これにより、被測定物のZ軸方向の寸法を評価する際、従来技術では利用できなかった走査範囲の境界付近の測定データも利用できるようになり、よりも広い範囲での評価が可能になる。
また、被測定物が球体である場合、上向走査および下向走査の各走査範囲を走査方向に一致させることができると、上向走査と下向走査との間で球面に対するスタイラス26A,26Bの接触角度の範囲を一致させることができる。これにより、測定データの信頼性を向上させることができる。
In the X-axis direction measurement of the above embodiment, in step S3, the
Similarly, in the Y-axis direction measurement of the above embodiment, in step S8, the
In such a modification, the
According to such a modification, in addition to the above-mentioned effect, each scanning range of the upward scanning and the downward scanning of the object to be measured can be made to match the scanning direction. As a result, when evaluating the dimensions of the object to be measured in the Z-axis direction, measurement data near the boundary of the scanning range, which was not available in the prior art, can be used, and evaluation in a wider range becomes possible. ..
Further, when the object to be measured is a sphere, if each scanning range of the upward scanning and the downward scanning can be matched with the scanning direction, the
1…表面性状測定装置、10…装置本体、11…ベース、12…ステージ、20…検出器、22…ブラケット、23…回転軸、24…測定アーム、241…先端部、26A…上向スタイラス、26B…下向スタイラス、27…変位量検出部、40…相対移動機構、41…Y軸駆動機構、42…コラム、43…Zスライダ、44…Z軸駆動機構、47…X軸駆動機構、50…制御部、51…記憶部、52…演算部、521…移動制御部、521A…Y軸走査制御部、521B…X軸走査制御部、522…オフセット量算出部、523…形状解析部、53…操作部、54…表示部、9…基準球、O1…第1中心座標、O2…第2中心座標、O3…第3中心座標、O4…第4中心座標、P1〜P4…基準位置、W1…筒体、W2…球体、Δx,Δy,Δz…オフセット量。 1 ... Surface texture measuring device, 10 ... Device body, 11 ... Base, 12 ... Stage, 20 ... Detector, 22 ... Bracket, 23 ... Rotating shaft, 24 ... Measuring arm, 241 ... Tip, 26A ... Upward stylus, 26B ... downward stylus, 27 ... displacement amount detection unit, 40 ... relative movement mechanism, 41 ... Y-axis drive mechanism, 42 ... column, 43 ... Z slider, 44 ... Z-axis drive mechanism, 47 ... X-axis drive mechanism, 50 ... Control unit, 51 ... Storage unit, 52 ... Calculation unit, 521 ... Movement control unit, 521A ... Y-axis scanning control unit, 521B ... X-axis scanning control unit, 522 ... Displacement amount calculation unit, 523 ... Shape analysis unit, 53 ... Operation unit, 54 ... Display unit, 9 ... Reference sphere, O1 ... 1st center coordinate, O2 ... 2nd center coordinate, O3 ... 3rd center coordinate, O4 ... 4th center coordinate, P1 to P4 ... Reference position, W1 ... Cylinder, W2 ... Sphere, Δx, Δy, Δz ... Offset amount.
Claims (3)
先端部が前記被測定物に接触して上下方向に変位可能である測定アームと、
前記先端部から上側に突出するように設けられた上向スタイラスと、
前記先端部から下側に突出するように設けられた下向スタイラスと、
前記上下方向ならびに当該上下方向に直交かつ互いに直交する第1方向および第2方向の各方向に沿って、前記測定アームと前記ステージとを相対移動可能である相対移動機構と、
前記上向スタイラスまたは前記下向スタイラスが前記被測定物を前記第1方向に沿って走査するように前記相対移動機構を制御する第1走査制御部と、を備え、
前記第1走査制御部は、前記上向スタイラスおよび前記下向スタイラスのいずれか一方が前記被測定物を走査した後であって、他方が前記被測定物を走査する前に、前記上向スタイラスと前記下向スタイラスとの間の前記第2方向のオフセット量の分、前記測定アームを前記第2方向に相対移動させることを特徴とする表面性状測定装置。 The stage on which the object to be measured is placed and
A measuring arm whose tip is in contact with the object to be measured and can be displaced in the vertical direction.
An upward stylus provided so as to project upward from the tip portion,
A downward stylus provided so as to protrude downward from the tip portion, and
A relative movement mechanism capable of relatively moving the measuring arm and the stage along the vertical direction and the first direction and the second direction orthogonal to the vertical direction and orthogonal to each other.
A first scanning control unit that controls the relative movement mechanism so that the upward stylus or the downward stylus scans the object to be measured along the first direction is provided.
The first scanning control unit is the upward stylus after one of the upward stylus and the downward stylus has scanned the object to be measured and before the other has scanned the object to be measured. A surface property measuring device, characterized in that the measuring arm is relatively moved in the second direction by an amount of offset between the stylus and the downward stylus in the second direction.
前記上向スタイラスまたは前記下向スタイラスが前記被測定物を前記第2方向に沿って走査するように前記相対移動機構を制御する第2走査制御部をさらに備え、
前記第2走査制御部は、前記上向スタイラスおよび前記下向スタイラスのいずれか一方が前記被測定物を走査した後であって、他方が前記被測定物を走査する前に、前記上向スタイラスと前記下向スタイラスとの間の前記第1方向のオフセット量の分、前記測定アームを前記第1方向に相対移動させることを特徴とする表面性状測定装置。 The surface property measuring device according to claim 1.
Further comprising a second scanning control unit that controls the relative movement mechanism such that the upward stylus or the downward stylus scans the object under test along the second direction.
The second scanning control unit is the upward stylus after one of the upward stylus and the downward stylus has scanned the object to be measured and before the other has scanned the object to be measured. A surface property measuring device, characterized in that the measuring arm is relatively moved in the first direction by an amount of offset between the stylus and the downward stylus in the first direction.
先端部が前記被測定物に接触して上下方向に変位可能である測定アームと、
前記先端部から上側に突出するように設けられた上向スタイラスと、
前記先端部から下側に突出するように設けられた下向スタイラスと、
前記上下方向ならびに当該上下方向に直交かつ互いに直交する第1方向および第2方向の各方向に沿って、前記測定アームを前記ステージに対して相対移動可能である相対移動機構と、を備える表面性状測定装置において、
前記上向スタイラスが前記被測定物を前記第1方向に沿って走査するように、前記測定アームを前記第1方向に相対移動させる上向走査ステップと、
前記下向スタイラスが前記被測定物を前記第1方向に沿って走査するように、前記測定アームを前記第1方向に相対移動させる下向走査ステップと、
前記上向走査ステップと前記下向走査ステップとの間において、前記上向スタイラスと前記下向スタイラスとの間の前記第2方向のオフセット量の分、前記測定アームを前記第2方向に相対移動させる位置補正ステップと、を実行することを特徴とする表面性状測定方法。 The stage on which the object to be measured is placed and
A measuring arm whose tip is in contact with the object to be measured and can be displaced in the vertical direction.
An upward stylus provided so as to project upward from the tip portion,
A downward stylus provided so as to protrude downward from the tip portion, and
A surface property comprising a relative moving mechanism capable of moving the measuring arm relative to the stage along each of the vertical direction and the first direction and the second direction orthogonal to the vertical direction and orthogonal to each other. In the measuring device
An upward scanning step that moves the measuring arm relative to the first direction so that the upward stylus scans the object to be measured along the first direction.
A downward scanning step that moves the measuring arm relative to the first direction so that the downward stylus scans the object to be measured along the first direction.
Between the upward scanning step and the downward scanning step, the measuring arm is relatively moved in the second direction by the amount of the offset amount in the second direction between the upward stylus and the downward stylus. A surface texture measuring method characterized by performing a position correction step and performing.
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012211891A (en) * | 2011-03-18 | 2012-11-01 | Mitsutoyo Corp | Calibration method of surface quality measuring machine |
JP2017181506A (en) * | 2016-03-28 | 2017-10-05 | 株式会社東京精密 | Surface shape measuring machine and calibration device |
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-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012211891A (en) * | 2011-03-18 | 2012-11-01 | Mitsutoyo Corp | Calibration method of surface quality measuring machine |
JP2017181506A (en) * | 2016-03-28 | 2017-10-05 | 株式会社東京精密 | Surface shape measuring machine and calibration device |
JP2018173349A (en) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 株式会社東京精密 | Calibration device of surface shape measuring instrument |
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