JP2020537287A - 電子ビーム生成および測定 - Google Patents
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Abstract
Description
Pout=Pinexp[−a(λ)x]
上記の方程式において、Poutは吸収されることなく材料から出る光学出力であり、Pinは光電陰極への入力であり、a(λ)は波長に強く依存する光電陰極材料の吸収係数であり、xは光電陰極膜の厚さである。
Claims (20)
- システムであって、
レーザビームを生成するレーザ光源と、
前記レーザビームの経路における光電陰極であって、前記レーザビームによる照射時に電子ビームを生成する光電陰極と、
前記レーザ光源と前記光電陰極との間の前記レーザビームの前記経路に配設された光学アレイであって、フラットトッププロファイルを前記レーザビームに提供するように構成される光学アレイと
を備えることを特徴とするシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記レーザ光源が、投光照射を提供することを特徴とするシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記レーザビームが、前記光電陰極の表面にわたって均一分布を有することを特徴とするシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記光電陰極と流体連通した真空室と、
前記光電陰極の表面から非ゼロの距離に前記電子ビームの経路における前記真空室内に配設された蛍光面であって、蛍光体粉末を含む蛍光面と、
前記蛍光面を撮像するように構成されたカメラと
をさらに備えることを特徴とするシステム。 - 請求項4に記載のシステムであって、
前記カメラが、前記真空室の外側に配設されることを特徴とするシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記光電陰極がアルカリハライドを含むことを特徴とするシステム。 - ウェーハ検査システムであって、請求項1に記載のシステムを含むことを特徴とするウェーハ検査システム。
- システムであって、
レーザビームを生成するレーザ光源と、
前記レーザビームを複数のビームレットに分割するように構成される、前記レーザビームの経路における光学アレイであって、前記ビームレットのそれぞれが、フラットトッププロファイルを有するように構成される光学アレイと、
前記ビームレットの経路における光電陰極であって、前記ビームレットによる照射時に電子ビームを生成する光電陰極と
を備えることを特徴とするシステム。 - 請求項8に記載のシステムであって、
前記レーザ光源が投光照射を提供することを特徴とするシステム。 - 請求項8に記載のシステムであって、
前記ビームレットが、前記光電陰極の表面にわたって均一分布を有することを特徴とするシステム。 - 請求項8に記載のシステムであって、
前記光電陰極がアルカリハライドを含むことを特徴とするシステム。 - 請求項8に記載のシステムであって、
前記光電陰極と流体連通した真空室と、
前記光電陰極の表面から非ゼロの距離に前記電子ビームの経路における前記真空室内に配設された蛍光面であって、蛍光体粉末を含む蛍光面と、
前記蛍光面を撮像するように構成されたカメラと
をさらに備えることを特徴とするシステム。 - 請求項12に記載のシステムであって、
前記カメラが、前記真空室の外側に配設されることを特徴とするシステム。 - ウェーハ検査システムであって、請求項8に記載のシステムを含むことを特徴とするウェーハ検査システム。
- 方法であって、
レーザビームを光電陰極に向けるステップと、
前記レーザビームの経路に光学アレイを使用してフラットトッププロファイルを有するように前記レーザビームを変換するステップと、
前記フラットトッププロファイルを有する前記レーザビームが前記光電陰極を照射したとき電子ビームを生成するステップと
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
レーザ光源を用いて前記レーザビームを生成するステップをさらに含むことを特徴とする方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
前記光電陰極がアルカリハライドを含むことを特徴とする方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
前記光学アレイを使用して前記レーザビームを複数のレーザビームに分割するステップをさらに含み、前記レーザビームのそれぞれが、前記フラットトッププロファイルを有することを特徴とする方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
前記電子ビームを蛍光面に向けるステップと、
カメラを使用して前記蛍光面を撮像するステップと
をさらに含むことを特徴とする方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
前記電子ビームを半導体ウェーハに向けるステップと、
前記半導体ウェーハの表面から返された電子を検出するステップと
をさらに含むことを特徴とする方法。
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