JP2020534565A - ウェハ保持デバイス及び投影マイクロリソグラフィシステム(projection microlithography system) - Google Patents
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Abstract
Description
照明デバイスは、投影露光装置の動作中にマスクを照明するよう設計され、上記マスクは結像対象構造を含み且つ投影レンズの物体平面に配置され、
投影レンズは、この物体平面を像平面に結像するよう設計され、
投影露光装置は、上記特徴を有するウェハ保持デバイスを備える
マイクロリソグラフィ投影露光装置に関する。
照明デバイスは、投影露光装置の動作中にマスクを照明するよう設計され、上記マスクは結像対象構造を含み且つ投影レンズの物体平面に配置され、
投影レンズは、この物体平面を像平面に結像するよう設計され、
像平面で並進変位可能な少なくとも1つの回転ステージが設けられ、当該回転ステージによりビーム経路内の異なる回転位置にセンサ群を位置決め可能であり、
像平面で並進変位可能な少なくとも1つの回転ステージは、ウェハを保持するウェハ保持デバイス上に配置される
マイクロリソグラフィ投影露光装置に関する。
Claims (14)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の動作中にウェハ(205、416)を保持するウェハ保持デバイス(200、415)であって、異なる回転位置に位置決め可能な少なくとも1つのセンサを備えたウェハ保持デバイス。
- 請求項1に記載のウェハ保持デバイスにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、歪み測定用の少なくとも1つの直線格子(261、311)を含むことを特徴とするウェハ保持デバイス。
- 請求項1又は2に記載のウェハ保持デバイスにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、波面測定用の少なくとも1つの2次元シアリング格子(251)を含むことを特徴とするウェハ保持デバイス。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のウェハ保持デバイスにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、少なくとも1つのタイコグラフィマスク(271)を含むことを特徴とするウェハ保持デバイス。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のウェハ保持デバイスにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、少なくとも1つの面測定強度検出器を含むことを特徴とするウェハ保持デバイス。
- 照明デバイス及び投影レンズを備えたマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイスは、該投影露光装置の動作中にマスク(409)を照明するよう設計され、前記マスクは結像対象構造を含み且つ前記投影レンズの物体平面に配置され、
前記投影レンズは、前記物体平面を像平面に結像するよう設計され、
該投影露光装置は、請求項1〜5のいずれか1項に記載のウェハ保持デバイス(200、415)を備える
マイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 請求項6に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、前記像平面で並進変位可能な回転ステージ(210、220、230、420)が前記ウェハ保持デバイス(200、415)上に配置され、少なくとも1つのセンサが前記回転ステージによりビーム経路内の異なる回転位置に配置可能であることを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 請求項6又は7に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、さらに、前記物体平面で並進変位可能な別の回転ステージ(110、120、410)が設けられ、少なくとも1つの測定構造を含む測定マスク(111、121、251、261、271、311、411)が、前記別の回転ステージにより前記マスク(409)の代わりにビーム経路内の異なる回転位置に位置決め可能であることを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 請求項8に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、前記別の回転ステージ(410)は、前記マスク(409)を保持するよう設けられたマスク保持デバイス(408)上に配置されることを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 請求項8に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、前記別の回転ステージ(110、120)は、前記マスク(409)を保持するよう設けられたマスク保持デバイス(408)とは別個の並進変位可能な保持デバイス(100)上に配置されることを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 請求項8〜10のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、前記測定マスク(111、411)は、歪み測定用の少なくとも1つの直線格子を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 請求項8〜11のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、前記測定マスク(121、411)は、波面測定用の少なくとも1つの2次元シアリング格子を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 請求項8〜12のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、前記測定マスクは、少なくとも1つのタイコグラフィ用ピンホールを含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 請求項6〜13のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、前記投影レンズはアナモルフィック結像系であることを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
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