JP4387834B2 - 点回折干渉計、並びに、それを利用した露光装置及び方法 - Google Patents
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Description
1.05≦楕円率≦1.16
被検光学系がEUV露光装置に適用される投影光学系であると仮定すると、現時点で考えられる最高のNA=0.3に対して、数式4を満足する境界は、図7の実線で示すように、0.00185RMS(λ)となる。このことから、ピンホール142からの射出波面と理想球面波の誤差を十分低減することができることが理解される。換言すれば、本実施形態のPDI100は、0.1nmRMS程度の高い測定精度を有する。
このように、被検光学系を光軸を中心として90°回転するか入射光の偏光方向を90°回転させて2回以上の測定を行い、その測定の平均値を用いることによって測定精度を高めることができる。これらの場合においても,楕円形状ピンホールの短径方向を入射偏光方向と同じ方向に保つような機構を有することにより、偏光方向によるピンホール射出波面の変動はなくなり、高精度なPDIを実現することができる。
130 被検光学系(投影光学系)
140 マスク
142 ピンホール
160 検出部
162 制御部
164 メモリ
Claims (7)
- 被検光学系を通過した波面と、楕円形状のピンホールから発生する参照波面とを干渉させ、干渉縞の光強度分布より前記被検光学系の光学性能を測定する点回折干渉計であって、
入射偏光方向又は被検光学系を回転させる機構と、
前記ピンホールの径が短い方向と前記入射偏光方向とを同一方向に維持する機構とを有することを特徴とする点回折干渉計。 - 前記被検光学系を光軸を中心として90°回転させる前と該回転させた後で得られた干渉縞に基づいて、前記被検光学系の光学性能を算出することを特徴とする請求項1に記載の点回折干渉計。
- 前記ピンホールの径が短い方向と前記入射偏光方向とを同一方向にして、前記入射偏光方向を90°回転させる前と該回転させた後で得られた干渉縞に基づいて、前記被検光学系の光学性能を算出することを特徴とする請求項1に記載の点回折干渉計。
- 請求項1乃至3記載の点回折干渉計を利用して投影光学系の光学性能を算出するステップと、
前記算出された前記投影光学系の前記光学性能に基づいて前記投影光学系を調節するステップと、
前記調節された前記投影光学系を有する前記露光装置を使用して被露光体を露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 光源からの光を利用して被露光体にマスク上のパターンを転写するための投影光学系と、
当該投影光学系の光学性能を測定するための請求項1記載の点回折干渉計とを有することを特徴とする露光装置. - 前記光は、20nm以下の波長を有することを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 請求項5記載の露光装置を利用して被露光体を露光するステップと、
前記露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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