JP2020533621A - オーバーレイを推定するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2017年9月8日に出願された欧州特許出願第17190064.0号の優先権を主張する。これは援用により全体が本願に含まれる。
1.ステップモードでは、パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは、実質的に静止状態に維持される一方、放射ビームに付与されたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードでは、パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
DTOactual(波長)=a+b*DTOref(波長)
ここで、a及びbは最良フィットを決定するため使用される定数である。この方程式において、DTOactualは、第2のターゲットセットからの波長サブグループのDTOである。DTOref値は、その特定波長の、及び、関連する場合はその特定の偏光、及びx方向又はy方向の、記憶された基準値に基づく。
本発明に従った別の態様は、以下の条項において更に記載されている。
16.プログラムが、条項1から12のうちいずれか1項の方法を実行するための命令を含む、条項15のプログラム。
Claims (15)
- 基板上のオーバーレイを推定するための方法であって、
第1のターゲットセットに関連した初期オーバーレイ推定値を取得することと、
第2のターゲットセットに関するデータを取得することであって、ターゲットの前記データは、異なる波長から成るグループの各々についての前記ターゲットの強度測定値を含む、ことと、
前記初期オーバーレイ推定値を用いて、前記第2のターゲットセット内の前記ターゲットの少なくとも1つのために波長サブグループを選択することと、
前記第2のターゲットセット内の前記ターゲットの前記少なくとも1つのための前記波長サブグループに関連したデータを用いて、前記基板上のオーバーレイを推定することと、
を含む方法。 - 前記方法は、前記第1のターゲットセットについてのデータを取得することと、前記第1のターゲットセットについてのデータに線形モデルをフィットさせることと、を更に含み、ターゲットの前記データは異なる波長から成るグループの各々における前記ターゲットの強度測定値を含み、前記方法は更に、前記線形モデルによって記述される勾配から前記初期オーバーレイ推定値を決定することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のターゲットセット内のターゲットについて、前記波長グループからの各波長ごとに前記線形モデルのオフセット値を決定することを更に含み、前記オフセット値は前記ターゲットの物理的欠陥に起因した前記オーバーレイに対する前記寄与分を表す、請求項2に記載の方法。
- 前記第1のターゲットセット内の前記ターゲットについて各波長の前記平均オフセット値が決定されて基準情報として記憶され、更に、前記第2のターゲットセットの前記波長サブグループに関連したデータを前記基準情報と比較することによって前記基板上のオーバーレイが推定される、請求項3に記載の方法。
- 前記比較は、前記基準情報と比較される前記第2のターゲットセットの前記波長サブグループについて前記オフセット値に対する最良フィット分析を実行することにより行われて、前記フィットの残差が決定され、前記推定オーバーレイは算出された最小残差に対応する、請求項4に記載の方法。
- 前記第1のターゲットセットは前記基板の第1の領域に配置され、前記第2のターゲットセットは前記基板の第2の領域に配置されている、請求項1から5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の領域は実質的に前記基板の中心部に配置され、前記2の領域は実質的に前記基板のエッジ周辺に配置されている、請求項1から6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の領域は、前記基板の中心から約130mm以下の距離内の領域であり、前記第2の領域は、前記基板の中心から約130mmよりも大きい距離の領域である、請求項7に記載の方法。
- 前記第2のターゲットセットは前記基板上に配置され、前記第1のターゲットセットは少なくとも1つの他の基板上に配置されている、請求項1から5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1のターゲットセットについてのデータ及び/又は前記第2のターゲットセットについてのデータを取得することは、
基板上の前記ターゲットセットの各々からのターゲットを照射することであって、前記ターゲットは少なくとも、第1の意図的なオーバーレイバイアスを有する積層周期構造を含む第1のターゲット構造と、第2の意図的なオーバーレイバイアスを有する積層周期構造を含む第2のターゲット構造とを含む、ことと、
各ターゲット構造によって散乱された放射を検出して、各ターゲット構造ごとに、そのターゲットの前記データを提供する全体的な強度非対称性を表す非対称性測定値を取得することと、
を含む、請求項1から9のいずれか1項に記載の方法。 - 前記第2のターゲットセット内の前記ターゲットの少なくとも1つのために波長サブグループを選択することは、前記第2のターゲットセット内の各ターゲットについて前記波長グループに対する分析を実行することと、各波長についての別の線形モデルが前記初期オーバーレイ推定値に実質的に対応する勾配を有するか否かを判定することと、を含む、請求項1から10のいずれか1項に記載の方法。
- 前記波長サブグループが少なくとも2又は3の波長を含むように、前記勾配の前記値は前記初期オーバーレイ推定値の少なくとも約1%から10%内である、請求項11に記載の方法。
- 基板上のオーバーレイを推定するように構成されたプロセッサを備えるシステムであって、前記プロセッサは、
第1のターゲットセットに関連した初期オーバーレイ推定値を取得し、
第2のターゲットセットに関するデータを取得し、ターゲットの前記データは、異なる波長から成るグループの各々についての前記ターゲットの強度測定値を含み、
前記初期オーバーレイ推定値を用いて、前記第2のターゲットセット内の前記ターゲットの少なくとも1つのために波長サブグループを選択し、
前記第2のターゲットセット内の前記ターゲットの前記少なくとも1つのための前記波長サブグループに関連したデータを用いて、前記基板上のオーバーレイを推定する、
ように構成されている、システム。 - 前記プロセッサは請求項1から12のいずれか1項に記載の方法を実行するように構成されている、請求項13に記載のシステム。
- 基板上のオーバーレイを推定するためのプログラムであって、
第1のターゲットセットに関連した初期オーバーレイ推定値を取得するステップと、
第2のターゲットセットに関するデータを取得するステップであって、ターゲットの前記データは、異なる波長から成るグループの各々についての前記ターゲットの強度測定値を含む、ステップと、
前記初期オーバーレイ推定値を用いて、前記第2のターゲットセット内の前記ターゲットの少なくとも1つのために波長サブグループを選択するステップと、
前記第2のターゲットセット内の前記ターゲットの前記少なくとも1つのための前記波長サブグループに関連したデータを用いて、前記基板上のオーバーレイを推定するステップと、
を実行するための命令を含む、プログラム。
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