JP2020526868A - 電離放射線を生成するための小型放射源、複数の放射源を備えるアセンブリ、及び放射源を製造するためのプロセス - Google Patents
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Abstract
・真空チャンバ(12)と、
・真空チャンバ(12)に電子ビーム(18)を放射することができる陰極(14)と、
・電子ビーム(18)を受け取る陽極(16)であって、電子ビーム(18)から受け取ったエネルギーから電離放射線(22)を生成することができるターゲット(20)を備える陽極(16)と、
・陰極(14)の近傍に配置され、ウェーネルトを形成する電極(24)と、を含む。本発明によると、電極(24)は、誘電体の凹面(26)に付着する導電性表面から形成される。
Description
・真空チャンバと、
・真空チャンバに電子ビームを放射することができる陰極と、
・電子ビームを受け取る陽極であって、電子ビームから受け取ったエネルギーから電離放射線を生成することができるターゲットを備える陽極と、
・陰極の近傍に配置され、ウェーネルトを形成する電極と、を含み、
電極は、誘電体の凹面に付着する導電性表面から形成されることを特徴とする。
・複数の放射源であって、アンセブリ内で並置され固定されている複数の放射源と、
・各放射源を予め設定された順序で切り替えるように構成された駆動モジュールと、を含む。
Claims (21)
- 電離放射線を生成するための放射源であって、
真空チャンバ(12;153)と、
前記真空チャンバ(12;153)に電子ビーム(18)を放射することができる陰極(14)と、
前記電子ビーム(18)を受け取る陽極(16;76;154;174)であって、前記電子ビーム(18)から受け取ったエネルギーから電離放射線(22)を生成することができるターゲット(20;21)を備える陽極(16;76;154;174)と、
前記陰極(14)の近傍に配置され、ウェーネルトを形成する電極(24;166)と、を含む放射源において、
前記電極(24)は、誘電体の凹面(26;168)に付着する導電性表面から形成されることを特徴とする、放射源。 - 前記誘電体から作製され且つ前記凹面(26;168)を備える機械的部分(28;152;162)を備えることを特徴とする、請求項1に記載の放射源。
- 前記導電性表面は、前記凹面(26;168)上に配置された金属堆積物から形成されることを特徴とする、請求項2に記載の放射源。
- 前記機械的部分(28;152;162)は、1×109Ωスクウェア〜1×1013Ωスクウェアの間に含まれる表面抵抗率を有する内面(30)を備えることを特徴とする、請求項2又は3に記載の放射源。
- 前記誘電体は、窒化物ベースのセラミックから形成されることを特徴とする、請求項1〜4の何れか一項に記載の放射源。
- 前記内面(30)の前記表面抵抗率は、前記機械的部分(28;152;162)の前記誘電体上に半導体を堆積させることによって得られることを特徴とする、請求項4又は5に記載の放射源。
- 前記内面(30)の前記表面抵抗率は、前記窒化物ベースのセラミックの塊に、前記窒化物ベースのセラミックの固有抵抗率を低減することができる材料を加えることによって得られることを特徴とする、請求項4又は5に記載の放射源。
- 前記陰極(14)は電界効果を介して前記電子ビーム(18)を放射すること、及び前記電極(24;166)は前記陰極(14)と接触して配置されることを特徴とする、請求項1〜7の何れか一項に記載の放射源。
- 前記機械的部分(28;152;162)は、前記陰極(14)のホルダーを形成することを特徴とする、請求項2、又は請求項2に従属する場合の請求項3〜8の何れか一項に記載の放射源。
- 前記機械的部分(28;152;162)は、前記真空チャンバ(12)の一部を形成することを特徴とする、請求項2、又は請求項2に従属する場合の請求項3〜9の何れか一項に記載の放射源。
- 前記機械的部分(28;152;162)は、前記陽極(16;76;154)のホルダーを形成することを特徴とする、請求項2、又は請求項2に従属する場合の請求項3〜10の何れか一項に記載の放射源。
- 前記機械的部分(28;152;162)は内部円錐台形状をした外面(104)を備えること、前記放射源(10;76;154)はホルダー(100)を備え、前記ホルダー(100)の外部円錐台形状をした面(110)は、前記内部円錐台形状をした外面(104)及び前記陰極(14)に給電する少なくとも1つの高電圧接点(71)と相補形であること、並びに前記接点及び前記円錐台形状をした面(104、110)は前記放射源(10;76;154)の高電圧コネクタを形成すること、を特徴とする、請求項2、又は請求項2に従属する場合の請求項3〜11の何れか一項に記載の放射源。
- 前記放射源は、前記ホルダー(100)の前記円錐台形状をした面(110)と前記機械的部分(28;152)の前記円錐台形状をした面(104)との間に配置されるしなやかな接合部(114)を備えること、前記ホルダー(100)の前記円錐台形状をした面(110)は前記機械的部分(28;152)の前記円錐台形状をした面(104)よりも頂点の角度がより開いていること、及び、前記高電圧コネクタは、前記2つの円錐台形状をした面(104、110)の間にある空気が、前記高電圧コネクタの内部から、前記コネクタによって伝達される高電圧によって生成される電場の影響を受けない空洞(120)に逃げるように構成されていること、を特徴とする、請求項12に記載の放射源。
- 前記機械的部分(28;152;162)は外部円錐台形状をした外面(102)を備えること、及び前記ホルダー(100)は前記外部円錐台形状をした外面(102)と相補形の内部円錐台形状をした面(108)を備えること、を特徴とする、請求項12又は13に記載の放射源。
- 前記陽極(16;76;154;174)は、前記機械的部分(28;152;162)に密封可能に固定されることを特徴とする、請求項2、又は請求項2に従属する場合の請求項3〜14の何れか一項に記載の放射源。
- 前記誘電体は30MV/mよりも高い絶縁耐力を有することを特徴とする、請求項1〜15の何れか一項に記載の放射源。
- 電離放射線を生成するためのアセンブリにおいて、
請求項1〜16の何れか一項に記載の複数の放射源(10、75)であって、前記アセンブリ内で並置され固定されている複数の放射源(10、75)と、
前記放射源の各々を予め設定された順序で切り替えるように構成された駆動モジュールと、を含むことを特徴とするアセンブリ。 - 前記機械的部分(152;162)は全ての前記放射源(10、75)に共通であることを特徴とする、請求項2に記載の複数の放射源を含み、且つ請求項17に記載のアセンブリ。
- 前記放射源は前記陰極(14)の各々を通る軸上に整列されていること、及び前記電極(166)は前記様々な放射源に共通であることを特徴とする、請求項18に記載のアセンブリ。
- 全ての前記放射源(10、75)の前記陽極(154;174)は共通であることを特徴とする、請求項17〜19の何れか一項に記載のアセンブリ。
- 請求項4又は6に記載の放射源を製造するためのプロセスにおいて、前記電子ビーム(18)の軸(19)に沿って、一方で前記陽極(16;76;154;174)を、他方で前記陰極(14)を平行移動することにより前記機械的部分(28;152;162)と組み立てることから成り立ち、前記凹面(26)によって形成される空洞(34)は、ストッパー(32;170)によって閉じられることを特徴とする、プロセス。
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