JP2020522888A - ブラシとの無線通信方法および装置 - Google Patents
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- 238000004891 communication Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 49
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims abstract description 74
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 32
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 45
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 7
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000699666 Mus <mouse, genus> Species 0.000 description 1
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004166 TaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008599 TiW Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000010267 cellular communication Effects 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
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- H01L21/67294—Apparatus for monitoring, sorting or marking using identification means, e.g. labels on substrates or labels on containers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
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Abstract
Description
本国際出願は、2017年5月30日出願の米国特許出願第15/607,849号「Methods and Apparatuses for Wireless Communication with a Brush」の優先権を主張する。本明細書と一体をなすものとして、米国特許出願第15/607,849号の全体を引用する。
101 流体供給システム
103 流体排出システム
110 ブラシステーション
120 ユーザーインターフェース
130 ステータスライト
140 流体流入システム
150 流体流出システム
160 制御システム
170 I/Oインターフェース
180 モーターシステム
200 グラフ
310 コンディショニングプレート(コンディショニング面)
312 表面
314 脚
320 ブラシ
322 軸方向開口部
330 ブラシ支持体
402 マンドレル
410 無線デバイス
420 洗浄部材
432 処理モジュール
434 メモリモジュール
436 アンテナ
438 電力モジュール
510 ブラシモニタリングシステム
520 CMPシステム
522 ユーザーインターフェース(UI)
524 制御システム
526 出力インターフェース
602 アンテナ
700 フロー図
Claims (20)
- 半導体ウェハーの表面を洗浄するブラシにおいて、
中心コアと、
前記中心コアの周囲の洗浄部材と、
該ブラシに関連付けられた無線デバイスとを具備するブラシ。 - 前記無線デバイスはパッシブRFIDタグである請求項1に記載のブラシ。
- 前記無線デバイスは、前記ブラシに取り付けられているか或いは該ブラシに埋め込まれている請求項1に記載のブラシ。
- 前記無線デバイスはメモリを備え、該メモリの少なくとも一部は、書込みアクセス及び読出しアクセスを提供するように構成されている請求項1に記載のブラシ。
- 前記無線デバイスはメモリを備え、該メモリの少なくとも一部はライトワンスメモリである請求項1に記載のブラシ。
- 前記無線デバイスはメモリを備え、前記無線デバイスは、該メモリの少なくとも一部への書込みアクセスを不可にするコマンドを受け取るように構成されている請求項1に記載のブラシ。
- 前記無線デバイスはメモリを備え、該メモリは、ブラシ特性データを記憶するように構成されている請求項1に記載のブラシ。
- 前記ブラシ特性データは、ブラシ識別番号、バッチ番号、製品識別子、ブラシ寸法、調整履歴、汚染プロファイル、または前記ブラシを調整するのに使用すべき調整プロセスを示す情報の1つ以上を含む請求項7に記載のブラシ。
- オフライン式ブラシ調整システム、ブラシモニタリングシステムまたは化学機械平坦化システムの1つ以上とともに使用されるように構成されている請求項1に記載のブラシ。
- 半導体ウェハーの表面を洗浄するように構成されたブラシと通信する方法であって、
電子デバイスにより、前記ブラシに関連付けられている無線デバイスと通信して、該無線デバイスのメモリに第1のデータを書き込むことと、該無線デバイスの前記メモリから第2のデータを読み出すこととの一方または双方を実施することを含んで成る方法。 - 前記無線デバイスに記憶されるように前記ブラシに関連するブラシ特性データを前記電子デバイスによって送信することを更に含む請求項10に記載の方法。
- 第1のブラシを調整するように構成された第1のコンディショニングチャンバーと、
少なくとも1つのRFIDタグと通信するように構成されたRFIDモジュールであって、前記少なくとも1つのRFIDタグは、前記第1のブラシに対応する第1のRFIDタグを含む、RFIDモジュールと、
前記RFIDモジュールと前記第1のRFIDタグとの間の通信のために信号を送受信するように構成された第1のRFIDアンテナとを具備するオフライン式ブラシ調整システム。 - 前記第1のRFIDアンテナは、前記第1のコンディショニングチャンバーの外側に取り付けられている請求項12に記載のシステム。
- 前記第1のRFIDアンテナ及び前記第1のコンディショニングチャンバーは、前記第1のRFIDアンテナが、前記少なくとも1つのRFIDタグの間の前記第1のRFIDタグのみと通信するのを可能にするように構成されている請求項12に記載のシステム。
- 第2のRFIDアンテナを備える第2のコンディショニングチャンバーを更に備え、該第2のコンディショニングチャンバー内に対応する第2のRFIDタグを備えた第2のブラシがあるとき、前記第1のRFIDアンテナと前記第1のRFIDタグとの間の通信は、前記第2のRFIDアンテナと前記第2のRFIDタグとの間の通信を実質的に干渉せず、前記第2のRFIDアンテナと前記第2のRFIDタグとの間の通信は、前記第1のRFIDアンテナと前記第1のRFIDタグとの間の通信を実質的に干渉しない請求項12に記載のシステム。
- 前記第1のコンディショニングチャンバーは、前記第1のRFIDタグからの情報に基づいて前記第1のブラシを調整するように構成されている請求項12に記載のシステム。
- 前記第1のRFIDタグからの情報に基づいて前記第1のブラシを調整するように前記第1のコンディショニングチャンバーを制御するように構成された制御システムを更に備え、前記第1のRFIDタグからの前記情報は、前記RFIDモジュールを介して前記制御システムによって受け取られる請求項12に記載のシステム。
- 前記第1のRFIDタグからの情報と前記第1のブラシに関する情報との一方または双方を記憶するように構成された記憶デバイスを更に備え、前記第1のブラシに関する前記情報は、少なくとも該第1のブラシの調整中に収集される請求項12に記載のシステム。
- 前記RFIDモジュールは、前記第1のブラシの調整中に収集された少なくとも何らかの情報を前記第1のRFIDタグに通信するように構成されている請求項12に記載のシステム。
- 前記RFIDモジュールは、1つ以上のメモリ位置への書込みアクセスを防止するコマンドを前記第1のRFIDタグに送信するように構成されている請求項12に記載のシステム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022200540A JP2023027294A (ja) | 2017-05-30 | 2022-12-15 | ブラシとの無線通信方法および装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/607,849 US10149135B1 (en) | 2017-05-30 | 2017-05-30 | Methods and apparatuses for wireless communication with a brush |
US15/607,849 | 2017-05-30 | ||
PCT/US2018/034360 WO2018222492A1 (en) | 2017-05-30 | 2018-05-24 | Methods and apparatuses for wireless communication with a brush |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022200540A Division JP2023027294A (ja) | 2017-05-30 | 2022-12-15 | ブラシとの無線通信方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020522888A true JP2020522888A (ja) | 2020-07-30 |
JP7197512B2 JP7197512B2 (ja) | 2022-12-27 |
Family
ID=62751534
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019566108A Active JP7197512B2 (ja) | 2017-05-30 | 2018-05-24 | ブラシとの無線通信方法および装置 |
JP2022200540A Pending JP2023027294A (ja) | 2017-05-30 | 2022-12-15 | ブラシとの無線通信方法および装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022200540A Pending JP2023027294A (ja) | 2017-05-30 | 2022-12-15 | ブラシとの無線通信方法および装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10149135B1 (ja) |
EP (1) | EP3631845B1 (ja) |
JP (2) | JP7197512B2 (ja) |
KR (2) | KR102538815B1 (ja) |
CN (2) | CN110720136B (ja) |
TW (2) | TWI762643B (ja) |
WO (1) | WO2018222492A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019049758A1 (ja) * | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 東レ株式会社 | 無線通信デバイス、おむつおよび水分検知システム |
JP7101528B2 (ja) * | 2018-04-25 | 2022-07-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
CN110899180B (zh) * | 2019-11-08 | 2022-06-28 | 南京汉尔斯生物科技有限公司 | 一种手持式标签去除器 |
Citations (9)
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- 2018-05-24 CN CN201880035907.8A patent/CN110720136B/zh active Active
- 2018-05-24 KR KR1020197036643A patent/KR102538815B1/ko active IP Right Grant
- 2018-05-24 EP EP18734663.0A patent/EP3631845B1/en active Active
- 2018-05-24 WO PCT/US2018/034360 patent/WO2018222492A1/en active Application Filing
- 2018-05-24 KR KR1020237011818A patent/KR20230051626A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-05-24 CN CN202311322904.1A patent/CN117316822A/zh active Pending
- 2018-05-24 JP JP2019566108A patent/JP7197512B2/ja active Active
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KR102538815B1 (ko) | 2023-05-31 |
US20180352367A1 (en) | 2018-12-06 |
EP3631845B1 (en) | 2023-07-05 |
TW202231072A (zh) | 2022-08-01 |
TW201909649A (zh) | 2019-03-01 |
TWI762643B (zh) | 2022-05-01 |
JP7197512B2 (ja) | 2022-12-27 |
TWI812082B (zh) | 2023-08-11 |
US10149135B1 (en) | 2018-12-04 |
CN110720136B (zh) | 2023-11-10 |
CN117316822A (zh) | 2023-12-29 |
KR20200014323A (ko) | 2020-02-10 |
EP3631845A1 (en) | 2020-04-08 |
JP2023027294A (ja) | 2023-03-01 |
WO2018222492A1 (en) | 2018-12-06 |
US10405166B2 (en) | 2019-09-03 |
CN110720136A (zh) | 2020-01-21 |
KR20230051626A (ko) | 2023-04-18 |
US20190014460A1 (en) | 2019-01-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210305 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220428 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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