JP2020519435A - 酢酸エチルの水素化のためのジルコニア上に銅を含有する沈殿触媒 - Google Patents
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Abstract
【課題】酢酸エチルの水素化のためのジルコニア上に銅を含有する沈殿触媒を提供する。【解決手段】a) 水溶性の銅塩及びジルコニウム塩の水溶液を調製する工程、b) この溶液から、塩基性沈殿剤の添加により固体を沈殿させ、任意に固体をエージングさせる工程、c) 固体を分離し、洗浄する工程、d) 固体を乾燥させる工程、e) 固体を焼成する工程、を含む酢酸エチルを水素化するための銅/ジルコニア触媒の調製方法であって、工程b)における固体の沈殿を7〜7.5の範囲のpHで行い、塩基性沈殿剤がNa2CO3及びNaOHの混合物を含有することを特徴とする方法。
Description
本発明は、酢酸エチルをエタノールへ水素化するための銅/ジルコニア触媒の調製方法、それにより得られる触媒、及びその触媒の使用に関する。
ジルコニア担持触媒は、メタノール合成に対して活性であり且つ選択的であることが既知である。
R.A.Koeppel et.al.,Applied Catalysis A:General,84(1992)、第77頁〜第102頁は、二酸化炭素からメタノールを合成するための銅/ジルコニア触媒の調製を開示しており、これは硝酸銅及び硝酸ジルコニルの水溶液から、炭酸アンモニウムを用いてpH8.0及び368Kで共沈殿させることによる。沈殿物をエージングさせ、ろ過して、最終的に623Kで焼成する。別の実験では、酢酸銅及び硝酸ジルコニルをpH7及び368Kで水酸化ナトリウムを用いて共沈殿させ、ゼラチン状沈殿物を同じように処理した。この触媒は、二酸化炭素のメタノールへの水素化に使用された。
酸化銅及び酸化ジルコンを含む組成物は、材料の流れから一酸化炭素を除去するための吸収組成物としても知られている。
WO2007/147783は、吸収組成物の調製を開示しており、これは硝酸銅及び硝酸ジルコニウムの溶液から、20質量%のソーダ溶液を用いてpH6.5及び70℃で共沈殿させることによる。沈殿物を70℃でエージングさせ、水で洗浄し、乾燥させて、300℃で焼成する。錠剤化した組成物を、H2/N2で還元して、窒素中0.6体積%のO2で、部分的に再酸化する。この組成物は、COを含有するプロピレン流からCOを除去するために使用される。
Amol M.Hengne,Chandrashekhar V.Rode,Green Chem.14,(2012),1064は、Cu/ZrO2のナノ複合材料が、レブリン酸及びそのエステルをγ−バレロラクトンへ水素化するのに有利に使用できることを教示している。カルボニル水素化は、エステルから又はケトン又はアルデヒドからアルコールを製造するために産業で広く使用されている。これらプロセスの製品は、石油化学プロセス(例:無水マレイン酸及びその誘導体の水素化)、食品プロセス(例:油脂の水素化)又はファインケミカルプロセス(例:香料製造)で使用し得る。
US5,198,592は、酢酸メチル及び酢酸エチルを水素化するためのシリカ及びクロミアに担持された銅触媒を記載している。
Y.Zhu,X.Shi,Bull.Korean Chem.Soc.35(1),(2014),141、O.Kazu,A.Kiyotaka,I.Yasuhiro,J.Phys.Chem.101,(1997),9984、及びB.Zhang,L.Lin,J.Zhuang,Y.Liu,L.Peng,L.Jiang,Molecules15,(2010),5139は、シリカ上に担持された二金属銅亜鉛触媒上での酢酸エチルの水素化について記載している。触媒は、シリカ上の対応する金属水酸化物の共沈殿により調製された。
エステルのアルコールへの触媒的水素化の調査は、T.Turek,D.L.Trimm,N.W.Cant,Catal.Rev.36(4),(1994),645で公開された。エステル水素化は、異なる触媒活性金属触媒上で行うことができる。しかしながら、この論文では、銅ベースの触媒は、他の水素化触媒よりもアルコールに対してより選択的であると記載されている。
銅がエステル水素化に有利であるという発見に基づいて、多くの異なるエステル水素化プロセスが特許文献に記載されており、産業的に重要で商業的に関連するアルコールを生み出している。
US1,605,093は、エステル、特にギ酸メチルを、部分的に還元された酸化銅及び/又は水酸化銅の化合物を使用して、対応するアルコールへ水素化することについて記載している。しかしながら、銅のバルク化合物の使用は、活性銅種が表面積を失い、それにより触媒をゆっくりと着実に不活性化させるので、不利であることが判明した。
この問題の解決策の1つは、エステルのアルコールへの水素化にラネー銅触媒を使用するUS6,207,865によってもたらされた。ラネー銅触媒は、本質的に金属銅のみで構成されているので、可能なだけ高い銅含量を有する。しかしながら、安定化されていないラネー銅触媒は、非常に穏やかな反応条件であっても焼結する傾向が非常に高いので、非常に迅速に活性を失う。
ラネー銅触媒は、酸化亜鉛などの他の酸化物の存在により、焼結及びその結果の触媒活性損失に対して安定化することができる。J.R.Mellor,N.J.Coville,A.C.Sofianos,R.G.Copperthwaite,Appl.Catal.A:General 164,(1997),171及び185は、酸化亜鉛微結晶を含有する水性ガスシフト反応用の安定したラネー銅触媒(これによって、そのままのラネー銅よりも安定する)を記載している。
しかしながら、ラネー銅触媒を使用する場合、初期の活性とより長期的な安定性は不十分である。よって著者は、固体担体上、主に酸化物材料上に銅を含有する銅触媒について記載している。
US3,213,145は、芳香族モノカルボン酸のエステルをアリール置換メタノールに水素化する方法を教示している。この方法では、アルミナ上に担持された銅触媒を使用する。通常、アルミナベースの触媒には、微量の遊離カルボン酸の存在によって担体酸化物が化学的に分解されるという欠点を有する。
この問題の解決策は、H.Adkins,E.E.Burgoyne,H.J.Schneider,J.Am.Chem.Soc.72(6),(1950),2626によって記載されており、酸化クロムベースの銅触媒を使用する。US2,091,800は、様々なカルボン酸エステル化合物を水素化するための亜クロム酸銅触媒の製造方法を教示している。亜クロム酸銅は、カルボン酸エステルでの多くの異なる水素化反応に対して、非常に安定した触媒であることが証明されている。この種類の触媒の使用に関する最新情報は、R.Prasad,P.Singh,B.Chem.React.Eng.&Catal.6(2),(2011),63から得られた。
そのような触媒の支持体としての酸化クロムは、そのような水素化の反応混合物中に存在するカルボン酸による攻撃に対して、非常に耐性があることが示されている。
しかしながら、触媒に含有されるクロムの有害可能性のため、近年、亜クロム酸銅触媒はさらに精査されるようになっている。
また、亜クロム酸銅触媒の細孔構造はしばしば粗く、よって内部表面積が十分に高くならず、高い触媒活性のために活性銅相が十分に微細に分散することが不可能となろう。このことは、このような亜クロム酸銅触媒が到達可能な最大の活性を制限する。
課題は、エステル化合物の水素化のための、活性及び安定性が高い銅触媒を開発することであった。触媒は、環境に優しい酸化物支持材上に担持されるべきである。
酢酸エチルは通常、様々な産業プラント構成でエタノールに水素化される。US8,710,279は、酢酸の水素化において形成された酢酸エチルを、水素化分解によりエタノールに転化して、追加のエタノール生成物を生成する方法を教示している。著者は、その方法に、銅又はVIII族金属の触媒を使用すると主張している。
R.A.Koeppel et.al.,Applied Catalysis A:General,84(1992)、第77頁〜第102頁
Amol M.Hengne,Chandrashekhar V.Rode,Green Chem.14,(2012),1064
Y.Zhu,X.Shi,Bull.Korean Chem.Soc.35(1),(2014),141
O.Kazu,A.Kiyotaka,I.Yasuhiro,J.Phys.Chem.101,(1997),9984
B.Zhang,L.Lin,J.Zhuang,Y.Liu,L.Peng,L.Jiang,Molecules15,(2010),5139
T.Turek,D.L.Trimm,N.W.Cant,Catal.Rev.36(4),(1994),645
J.R.Mellor,N.J.Coville,A.C.Sofianos,R.G.Copperthwaite,Appl.Catal.A:General 164,(1997),171及び185
H.Adkins,E.E.Burgoyne,H.J.Schneider,J.Am.Chem.Soc.72(6),(1950),2626
R.Prasad,P.Singh,B.Chem.React.Eng.&Catal.6(2),(2011),63
本発明の目的は、酢酸エチルをエタノールへ水素化するための活性であり且つ選択的である触媒を提供することである。この方法でエタノールが生成され、これは例えばエチレンなどの貴重な石油化学原料に転化することができる。原料として、酢酸エチルは、K.Nordstroem,J.I.Brewing67(2),(2013),173に記載のように、生物工学的な発酵の経路からの製品流を含む様々な源から取得することができる。
この目的は、以下の工程、
a) 水溶性の銅塩及びジルコニウム塩の水溶液を調製する工程、
b) この溶液から、塩基性沈殿剤の添加によって固体を沈殿させ、任意に沈殿した固体をエージングさせる工程、
c) 固体を分離し、洗浄する工程、
d) 固体を乾燥させる工程、
e) 固体を焼成する工程、
を含む酢酸エチルを水素化するための銅/ジルコニア触媒の調製方法であって、工程b)における固体の沈殿を7〜7.5の範囲のpHで行い、沈殿剤がNa2CO3及びNaOHの混合物を含有することを特徴とする方法によって、解決される。
a) 水溶性の銅塩及びジルコニウム塩の水溶液を調製する工程、
b) この溶液から、塩基性沈殿剤の添加によって固体を沈殿させ、任意に沈殿した固体をエージングさせる工程、
c) 固体を分離し、洗浄する工程、
d) 固体を乾燥させる工程、
e) 固体を焼成する工程、
を含む酢酸エチルを水素化するための銅/ジルコニア触媒の調製方法であって、工程b)における固体の沈殿を7〜7.5の範囲のpHで行い、沈殿剤がNa2CO3及びNaOHの混合物を含有することを特徴とする方法によって、解決される。
この方法は、以下の追加の工程:
f) 工程e)で得られた固体を成形して、成形体を得る工程、又は
g) 工程c)、d)又はe)で得られた固体を変化させて、変化させた粒子の粉末を得る工程、及び
h) 任意に、工程g)で得られた粉末から成形体を形成する工程、
i) 任意に、工程f)、g)、又はh)で得られた成形体又は粉末をさらに焼成する工程、
を更に含み得、ここで成形工程f)は、乾燥工程d)と焼成工程e)との間で行うこともできる。
f) 工程e)で得られた固体を成形して、成形体を得る工程、又は
g) 工程c)、d)又はe)で得られた固体を変化させて、変化させた粒子の粉末を得る工程、及び
h) 任意に、工程g)で得られた粉末から成形体を形成する工程、
i) 任意に、工程f)、g)、又はh)で得られた成形体又は粉末をさらに焼成する工程、
を更に含み得、ここで成形工程f)は、乾燥工程d)と焼成工程e)との間で行うこともできる。
最初の方法工程において、銅塩及びジルコニウム塩の水溶液を調整する。好ましい銅塩は硝酸銅Cu(NO3)2であり、好ましいジルコニウム塩は硝酸ジルコニルZrO(NO3)2である。別の可能なジルコニウム塩は、塩化ジルコニルZrOCl2である。溶液中の塩の量比を計算し、所望の最終的な触媒組成に従って化学量論的に設定する。一般に、水溶液中のCu:Zrの原子比は3:1〜1:3の範囲であり、好ましくは1:3〜2:5の範囲であり、最も好ましくは1:3である。
この溶液から、工程b)において、触媒組成物の前駆体として固体を沈殿させる。これは、沈殿剤として塩基を加えることにより、溶液のpHを上昇させることで行う。本発明によれば、塩基性沈殿剤は、混合ソーダ/水酸化ナトリウム溶液である。固体は、7.0〜7.5、好ましくは7〜7.3、最も好ましくは7のpHで沈殿する。好ましくは、pHは沈殿の間、±0.1で一定に保つ。
一般に、沈殿剤の水溶液中のソーダ及び水酸化ナトリウムの全体的な含有量は、5〜30質量%の範囲である。Na2CO3:NaOHの比は、2:1〜10:1の範囲であり、好ましくは5:1〜10:1であり、例えば7:1である。好ましい実施形態では、7:1の比のNa2CO3:NaOHを25質量%含有する水溶液を、沈殿剤として使用する。
CuCO3として銅が埋め込まれたZrO2ゲルマトリックスが、沈殿物として得られる。
驚くべきことに、この特定の沈殿剤を使用してpH7〜7.5で共沈殿を行う場合、非常に活性であり且つ選択的である触媒を得ることができることが見出された。本発明の触媒は、異なる塩基性沈殿剤を用いて沈殿させた、又はより高いpHで沈殿させた触媒と比較して、エタノールの形成に対してはるかに活性であり且つ選択的である。
沈殿した固体は、通常は1分から2時間さらに攪拌することにより、沈殿の間に維持されるpHと同じpHでエージングさせることができる。
得られる固体沈殿物は、工程c)で乾燥させる前に、一般に、上澄み溶液から、例えば濾過又はデカントによって分離され、硝酸ナトリウムなどの可溶性成分がなくなるまで水で洗浄する。
次いで沈殿生成物は、通常、さらなる処理の前に、乾燥工程d)において、従来の乾燥方法を使用して乾燥させる。一般に、わずかに高くした温度、例えば約80℃、好ましくは少なくとも105℃、また一般に最大で160℃、好ましくは最大で140℃での、8〜36時間、好ましくは12〜24時間の期間にわたる処理が、この乾燥に十分である。
乾燥後に続いて、沈殿させて乾燥させた吸着組成物の中間生成物を、焼成工程e)に供する。この場合に用いられる焼成温度は、一般に少なくとも350℃、好ましくは少なくとも400℃であり、特に好ましい様式では少なくとも450℃、また一般に最大で650℃、好ましくは最大で600℃であり、特に好ましい様式では最大で550℃である。この焼成に非常に適した温度ウィンドウの一例は、470〜530℃の範囲、つまり500±30℃である。焼成時間は、一般に少なくとも20分、好ましくは少なくとも40分であり、特に好ましい様式では少なくとも60分であり、また一般に最大で12時間、好ましくは最大で6時間、特に好ましい様式では最大で4時間である。
乾燥工程d)又は焼成工程e)の後に、組成物又はその前駆体を、成形工程f)で、ロッド押出、錠剤化又はパレット化などの従来の成形プロセスを使用して処理し、押出ロッド又は押出物、錠剤、又はペレット(球状ペレットを含む)などの成形体を得る。
あるいは、組成物又はその前駆体は、スラリー相触媒反応プロセスで粉末として施与し得る。触媒粉末は、前述の調製工程a)からe)で得られたままで使用してよい。あるいは、工程e)からの生成物、又は工程c)又はd)のうち1つからの生成物は、追加の工程g)、例えば、粉末の再分散と噴霧乾燥などによって、変化した粒径及び形状の粉末に変化させてもよい。この追加の工程g)では、結合剤を粉末と任意に混合してよい。粉末はまた、結合剤を任意に添加し、粒子を例えば粉砕処理などによって凝集させることにより、変化させてもよい。そのような追加の工程によって得られた変化させた粉末は、触媒反応プロセスに適用し得る。あるいは、上記の成形工程f)により同様に巨視的な成形体に成形してもよい。工程f)、g)又はh)の1つから得られた粉末及び成形体は、焼成工程i)によってさらに処理してもよい。
成形工程f)又はh)又は変化工程g)の後、触媒組成物はさらなる焼成工程i)に供することができる。この場合に用いられる焼成温度は、一般に少なくとも300℃、好ましくは少なくとも350℃であり、特に好ましい様式では少なくとも400℃、特に少なくとも450℃、また一般に最大で700℃、好ましくは最大で650℃、特に好ましい様式では最大で600℃、特に最大で580℃である。この焼成工程に非常に適した温度ウィンドウの一例は、470〜550℃の範囲、特に500〜540℃の範囲である。焼成時間は、一般に少なくとも30分、好ましくは少なくとも60分であり、また一般に最大で24時間、好ましくは最大で12時間である。
成形工程f)を、乾燥工程d)の後だが焼成工程e)の前に実施する場合、焼成工程e)のみを実施する。
好ましくは、得られる触媒は、18〜30質量%のCuO及び70〜82質量%のZrO2を含有する。
焼成された触媒は、検出可能な結晶性のないX線非晶質である。X線非晶質触媒の比表面積は、一般に100〜160m2g−1の範囲であり、好ましくは110〜130m2g−1である。平均細孔直径は、一般に2.3〜3.6nmの範囲、好ましくは2.9〜3.3nmの範囲である。
本発明に従って調製した触媒組成物は、支持体上に堆積させることもできる。これは、従来の含浸プロセス又は堆積沈殿によって行う。既知の堆積沈殿は、支持体又は支持体前駆体の存在下における沈殿プロセスである。堆積沈殿を、好ましくは上記の沈殿プロセスにおいて行うために、支持体又は支持体前駆体を工程a)で生成された溶液に添加する。支持体が予備成形された完成成形体の形態で既に存在する場合、成形工程e)から純粋な含浸プロセスが省略され、そうでない場合支持体は、沈殿、乾燥、焼成及び成形によって吸着組成物の中間体を処理する間に形成される。
組成物の製造において、既知の助剤、例えば、焼成で分解する細孔形成剤又は打錠助剤を使用することができる。
本発明に従って調製した触媒は、任意の適した形態に作り上げることができる。活性組成物は、触媒成形体の形態で、モノリスとして、又は支持体(金属又はセラミック)に施与される触媒活性層として使用することができる。
本発明はまた、本発明の方法によって得ることができる、酢酸エチルを水素化するための銅/ジルコニア触媒の調製のための触媒に関する。
本発明はまた、触媒の還元後に酢酸エチルをエタノールへ水素化するための触媒の使用に関する。
通常、焼成は空気下で行われ、従って、銅は焼成後に得られる本発明の吸着組成物の前駆体中に、CuOの形態で存在する。次いで、還元の程度を、銅を還元することによって、所望の還元の程度に設定する。これは、焼成後に存在する前駆体を、還元剤で処理することにより行う。銅を還元することができる既知の還元剤を使用することができる。用いるべき正確な反応条件は、前駆体及びその組成、及び使用する還元剤に依存し、いくつかの日常的な実験で容易に決定することができる。好ましい方法は、前駆体を水素で、通常は水素を含むガス、好ましくは水素/窒素混合物に、高くした温度で通すことによって、処理することである。
吸着組成物の前駆体の完全な還元は、吸着組成物中に存在する銅の銅金属への還元を介して進行する。これは原則として、銅を酸化状態I又はIIから酸化状態0に還元することができる任意の還元剤を介して進行させることができる。これは、水素を使用して、水素を含むガスを前駆体に通すことによって進行させることができる。この場合に用いるべき温度は、一般に少なくとも100℃、好ましくは少なくとも110℃であり、特に好ましい様式では少なくとも120℃であり、また一般に最大で380℃、好ましくは最大で360℃、及び特に好ましい様式では最大で340℃に達する。適した温度は、例えば約130℃である。還元は発熱性である。再循環される還元剤の量は、選択された温度ウィンドウが残らないように設定しなければならない。活性化の過程は、吸着媒体の床で測定された温度に基づいて追跡することができる(「温度プログラム還元、TPR」)。
組成物の前駆体を還元するための好ましい方法は、窒素流下での乾燥の実施後に続いて、所望の還元温度を設定すること、及び少量の水素を窒素流に混合することである。適したガス混合物は、開始時に、例えば、窒素中少なくとも0.1体積%の水素、好ましくは少なくとも0.5体積%、特に好ましい様式では少なくとも1体積%、また最大で10体積%、好ましくは最大で8体積%、及び特に好ましい様式では最大で5体積%である。適した値は、例えば、2体積%である。この初期濃度は、所望の温度ウィンドウを達成及び維持するために保持するか、又は上昇させる。還元剤のレベルが一定又は増加しているに関わらず、組成物の床の温度が下がると、還元は完了する。通常の還元時間は、一般に少なくとも1時間、好ましくは少なくとも5時間、特に好ましい様式では少なくとも10時間、また一般に最大で50時間、好ましくは最大で30時間、特に好ましい様式では最大で20時間である。
還元状態では、銅ナノ粒子は非晶質ZrO2マトリックスに埋め込まれているため、焼結に対してよく安定している。
酢酸エチルのエタノールへの水素化は一般に、1〜200バールの水素圧及び200〜300℃の温度で行われる。EtOAcのH2に対する比は、1:10〜1:99の範囲、好ましくは少なくとも1:40〜1:80、特に好ましい様式では最大で1:70であるべきである。適した値は、例えば1:68である。
触媒の調製
実施例1及び比較例C1〜C3
沈殿剤及びpHを様々としたバッチプロセスで、銅充填量が同一の4つのCu/ZrO2触媒を共沈殿により合成した。最初に、ZrO(NO3)2x3H2O及びCu(NO3)2x3H2Oを水に溶解した。18.3質量%のCuO/ZrO2の場合、6.0317gのZrO(NO3)2・3H2O及び1.6677gのCu(NO3)2・3H2Oをあわせて共に45mLの水に溶解した。共沈殿の間に、金属硝酸塩を連続的に、200mLのHPLC水で満たした沈殿反応器にポンプで送った(ICPポンプ、ISMATEC社)。同時に、25質量%のNaOH(OH−10、OH−7)又は7:1のNa2CO3/NaOH(飽和溶液/25質量%)(CO3−10、CO3−7)を沈殿剤として、pHをpH10.5又はpH7で一定に保った。沈殿剤の添加は、沈殿反応器に配置されたpH電極(Schott社)に接続された自動滴定器(Titroline alpha、Schott社)によって制御した。共沈殿後、前駆体を含有する溶液を15分間エージングさせた。その後続いて、前駆体をろ過し、0.75Lの水で硝酸アニオンが除去されるまで洗浄し、378Kで18時間乾燥させた。最後に、乾燥した前駆体を、合成空気中763Kで3時間、2K分−1の加熱速度で焼成した。焼成後、触媒をXRD、N2物理吸着、TPR、及びN2O−RFCで特性評価し、酢酸エチルの気相水素化で還元した後に試験した。
実施例1及び比較例C1〜C3
沈殿剤及びpHを様々としたバッチプロセスで、銅充填量が同一の4つのCu/ZrO2触媒を共沈殿により合成した。最初に、ZrO(NO3)2x3H2O及びCu(NO3)2x3H2Oを水に溶解した。18.3質量%のCuO/ZrO2の場合、6.0317gのZrO(NO3)2・3H2O及び1.6677gのCu(NO3)2・3H2Oをあわせて共に45mLの水に溶解した。共沈殿の間に、金属硝酸塩を連続的に、200mLのHPLC水で満たした沈殿反応器にポンプで送った(ICPポンプ、ISMATEC社)。同時に、25質量%のNaOH(OH−10、OH−7)又は7:1のNa2CO3/NaOH(飽和溶液/25質量%)(CO3−10、CO3−7)を沈殿剤として、pHをpH10.5又はpH7で一定に保った。沈殿剤の添加は、沈殿反応器に配置されたpH電極(Schott社)に接続された自動滴定器(Titroline alpha、Schott社)によって制御した。共沈殿後、前駆体を含有する溶液を15分間エージングさせた。その後続いて、前駆体をろ過し、0.75Lの水で硝酸アニオンが除去されるまで洗浄し、378Kで18時間乾燥させた。最後に、乾燥した前駆体を、合成空気中763Kで3時間、2K分−1の加熱速度で焼成した。焼成後、触媒をXRD、N2物理吸着、TPR、及びN2O−RFCで特性評価し、酢酸エチルの気相水素化で還元した後に試験した。
特性評価:
N2の物理吸着測定は、BELSORP−max体積吸着装置(BELJapan、Inc.社)を使用して、200mgの焼成触媒を使用して77Kで行った。測定前に、表面水を除去するため、触媒を真空下で473Kまで2時間加熱した。酢酸エチルの水素化後の焼成触媒と触媒の相組成の特性評価のため、X線粉末回折測定を行った。銅管、0.25°発散スリット、0.5°散乱防止スリット、7.5mm高散乱防止スリット、0.04rad入射及び回折ビームソーラースリット及び位置検出PIXcel−1d検出器を備えたEmpyrean Theta−Theta回折計(Panalytical社、Almelo)を使用して、反射配置で回折パターンを記録した。定性的相分析のために、0.0131°の工程幅で5°〜80°の2θの範囲で触媒をスキャンした。その後、定性相分析はICDD粉末回折ファイル(PDF2)をHighScore Plusソフトウェア(Panalytical社、Almelo)を組み合わせて処理した。さらに、水素化後の触媒のCu粒子径を、β=0.053のシェラー方程式を使用して計算した。温度プログラム還元(TPR)及びN2O反応性フロンタルクロマトグラフィー(RFC)実験は、ガラスで裏打ちしたステンレス鋼U字管反応器に100mgの触媒を充填したフロー装置で行った。焼成した触媒を、513Kまで1K分−1で、5%のH2/Arの84mL分−1流量で加熱した。同時に、水素消費量を熱伝導率検出器で測定した。室温まで冷却した後、N2O−RFCを1%のN2O/Heの10mL分−1流量で行った。酢酸エチルの水素化は、以下に記載するフロー装置で行った。ガラスで裏打ちされたステンレス鋼製U字管反応器に100mgの触媒を充填した。触媒は、温度プラトー398Kで、2%のH2/Heの10mL分−1流量で還元された。還元の間の最高温度は573Kに設定した。酢酸エチルの水素化では、還元された触媒は、室温から513Kまで0.5K分−1で、1%の酢酸エチルと68%の水素を含有する50mL分−1のガス流で加熱した。最高温度を1時間維持した後、0.5mL分−1で温度を室温まで下げた。すべてのガスを較正された四重極質量分析計(QMS、GAM422、Balzers社)で分析した。
N2の物理吸着測定は、BELSORP−max体積吸着装置(BELJapan、Inc.社)を使用して、200mgの焼成触媒を使用して77Kで行った。測定前に、表面水を除去するため、触媒を真空下で473Kまで2時間加熱した。酢酸エチルの水素化後の焼成触媒と触媒の相組成の特性評価のため、X線粉末回折測定を行った。銅管、0.25°発散スリット、0.5°散乱防止スリット、7.5mm高散乱防止スリット、0.04rad入射及び回折ビームソーラースリット及び位置検出PIXcel−1d検出器を備えたEmpyrean Theta−Theta回折計(Panalytical社、Almelo)を使用して、反射配置で回折パターンを記録した。定性的相分析のために、0.0131°の工程幅で5°〜80°の2θの範囲で触媒をスキャンした。その後、定性相分析はICDD粉末回折ファイル(PDF2)をHighScore Plusソフトウェア(Panalytical社、Almelo)を組み合わせて処理した。さらに、水素化後の触媒のCu粒子径を、β=0.053のシェラー方程式を使用して計算した。温度プログラム還元(TPR)及びN2O反応性フロンタルクロマトグラフィー(RFC)実験は、ガラスで裏打ちしたステンレス鋼U字管反応器に100mgの触媒を充填したフロー装置で行った。焼成した触媒を、513Kまで1K分−1で、5%のH2/Arの84mL分−1流量で加熱した。同時に、水素消費量を熱伝導率検出器で測定した。室温まで冷却した後、N2O−RFCを1%のN2O/Heの10mL分−1流量で行った。酢酸エチルの水素化は、以下に記載するフロー装置で行った。ガラスで裏打ちされたステンレス鋼製U字管反応器に100mgの触媒を充填した。触媒は、温度プラトー398Kで、2%のH2/Heの10mL分−1流量で還元された。還元の間の最高温度は573Kに設定した。酢酸エチルの水素化では、還元された触媒は、室温から513Kまで0.5K分−1で、1%の酢酸エチルと68%の水素を含有する50mL分−1のガス流で加熱した。最高温度を1時間維持した後、0.5mL分−1で温度を室温まで下げた。すべてのガスを較正された四重極質量分析計(QMS、GAM422、Balzers社)で分析した。
焼成したCuO/ZrO2触媒前駆体のXRD回折パターンを、t−ZrO2及びCuOの参照パターンと共に図1に示す。CuO/ZrO2触媒OH−10、OH−7、及びCO3−7のXRDパターンでは、20°〜40°及び45°〜65°の2θの範囲に2つの非常に広いピークが観察され、必須成分の非晶質t−ZrO2の存在が示唆された。OH−7の2つの非常に広いピークに加えて、t−ZrO2の主な反射が弱く検出された。従って、OH−10及びCO3−7は本質的に、検出可能な結晶性のないX線非晶質であり、OH−7は結晶化されたt−ZrO2がいくらかある主に非晶質である。対照的に、CO3−10では、30.2°、35.3°、50.3°、及び60.2°の2θで、t−ZrO2の主な反射が明確に観察された。さらに、CO3−10の場合、CuOの主要な反射は、35.6°及び38.8°の2θで確認された。その結果、結晶化t−ZrO2及びCuOナノ粒子は、焼成した触媒前駆体CO3−10に存在し、一方で他の前駆体はすべてX線非晶質であった。
決定された表面積(BET法)、平均細孔直径(BJH法)、及びN2物理吸着の結果から得られた平均細孔容積を表2にまとめる。これらの結果は、複雑な細孔ネットワークのため、慎重に解釈する必要がある。X線非晶質触媒OH−10、OH−7、CO3−7の比表面積は、111〜119m2g−1の範囲であった。平均細孔直径は、約2.7nmに相当する。X線非晶質触媒と比較して、結晶触媒前駆体CO3−10の比表面積は2/3小さく、平均細孔直径6.7nmは大きさが約2倍であった。平均細孔容積は、4つすべてのサンプルで同等であった。
TPR実験から得られた還元の程度は約100%であり、還元温度、及び還元Cu/ZrO2触媒で行ったN2O反応性フロンタルクロマトグラフィー(RFC)から得られた特定の銅表面積と共に表3にまとめる。明らかに、CuOは完全に金属Cuに還元された。これらの触媒の還元温度は、酸化Cu前駆体の化学的性質に応じてシフトした。CO3−7では、399Kの最低還元温度が見出され、続いてOH−10では407Kの還元温度が続いた。OH−7の場合、415Kの還元温度が検出されたが、CO3−10の還元プロファイルは、429Kにピークを持つ広い温度範囲に及ぶことが見出された。よって還元温度は、CO3−7よりも30K高かった。この研究で示されていない純粋なCuOの還元温度は、526Kと推定される。Cuの比表面積は1.4m2gcat −1から5.2m2gcat −1の範囲であった。
水素化
実施例2及び比較例C4〜C6
マイクロ反応器装置:
酢酸エチルの水素化及びIR試験は、FT−IRと組み合わせたステンレス鋼製マイクロ反応器フロー装置で実施した。
実施例2及び比較例C4〜C6
マイクロ反応器装置:
酢酸エチルの水素化及びIR試験は、FT−IRと組み合わせたステンレス鋼製マイクロ反応器フロー装置で実施した。
装置は、ガス供給、反応チャンバー、四重極質量分析計(QMS)を使用したオンライン分析の3つの主要セクションを有していた。配管はステンレス鋼製で、結露を防ぐために383Kに加熱した。ガス流量は、較正された質量流量制御装置(MFC)及び空気圧及び手動のValco社製バルブの組み合わせによって調整した。流量、空気圧のValco社製バルブ、及び反応器の温度と加熱速度は、LabViewソフトウェアによって制御した。LabViewを介して、シーケンスはプログラムされる可能性がある。従って、前処理と水素化は各触媒に対して等しく行った。飽和器を使用すると、酢酸エチル、エタノール、アセトアルデヒドなどの液体を気相に蒸発させることができる。飽和器は、冷却液としてエチレングリコールを使用したLauda Ecoline RE112低温保持装置によって273Kに保った。QMSは、次のガスを使用して較正した:He(99.9999%)中3.2146%の酢酸エチル、He(99.9999%)中1.5710%のエタノール、He(99.9999%)中43.8451%のアセトアルデヒド、He(99.9999%)中10%のCO(99.997%)、He(99.9999%)中4%のCO2(99.9995%)及び1%のAr(99.9999%)、及びHe中2%のH2(両方とも99.9999%)。内径4mLのガラスで裏打ちされたU字型のステンレス鋼管は、最高温度850K及び最大加熱速度20Kで加熱するためのアルミニウムブロックオーブンに配置される反応器(MR)として使用した。250〜355μmのふるい画分の一貫した粒子径を有する100mgの触媒を、2つのグラスウールプラグの間の反応器に充填した。前処理及び反応中の温度は、触媒床に直接挿入された熱電対によって測定した。温度調節用の熱電対は、アルミブロックオーブンに設置した。温度調節は、Eurotherm制御器とLabViewによって行った。装置は、窒素冷却された水銀カドミウムテルライド(MCT)検出器及びZnSeウィンドウを備えたDRIFTSセルを含有するNicolet Nexus FT−IR分光計と組み合わせた。セルの温度と加熱速度は、Eurotherm及びLabViewによって制御した。FT−IRデータを収集し、Omnicソフトウェアを介して処理した。反応チャンバーは、高圧ユニット(HPU)及びポータブル反応器(PR)を装置に取り付けるための接続も含有するが、この試験では使用しなかった。時間分解定量オンラインガス分析用の四重極質量分析計(QMS、Balzers社製GAM422)は、クロスビームイオン源及び二次電子増倍管(SEM)から構成されていた。QMSを使用すると、転化率と収率を計算するためのQuadstarソフトウェアを使用することにより、すべての反応物と生成物を同時に検出できる。
水素化:酢酸エチルの水素化は、上記マイクロ反応器のフロー装置で行った。ガラスで裏打ちしたステンレス鋼製U字管反応器に、100mgの触媒を充填した。触媒は、焼結を避けるために、398Kの温度プラトーで、2%のH2/Heの流量で10mlずつ穏やかに還元させた。還元の間の最高温度は573Kに設定した。酢酸エチルの水素化では、還元触媒を室温から513Kまで0.5K/分で、1%の酢酸エチルと68%の水素を含有する50ml/分のガス流で加熱した。最高温度を1時間維持した後、触媒を0.5K/分で室温まで冷却した。
Cu/ZrO2触媒の触媒活性を、酢酸エチル(EtAc)からエタノール(EtOH)への水素化で評価した。513Kの反応温度での酢酸エチル転化率とエタノールの収率を、表4にまとめた。酢酸エチルの最高転化率は、CO3−7で50%、エタノール収率41%で観察された。さらに、OH−10も非常に活性が高く、転化率は42%であり、エタノール収率は35%であった。OH−7では、OH−10の半分しか転化が達成されなかった。最も低い活性は、CO3−10で、18%の転化率と15%の収率が得られた。
Claims (14)
- a) 水溶性の銅塩及びジルコニウム塩の水溶液を調製する工程、
b) この溶液から、塩基性沈殿剤の添加により固体を沈殿させ、任意に前記固体をエージングさせる工程、
c) 前記固体を分離し、洗浄する工程、
d) 前記固体を乾燥させる工程、
e) 前記固体を焼成する工程、
を含む酢酸エチルを水素化するための銅/ジルコニア触媒の調製方法であって、工程b)における前記固体の沈殿を7〜7.5の範囲のpHで行い、前記塩基性沈殿剤がNa2CO3及びNaOHの混合物を含有することを特徴とする方法。 - f) 工程e)で得られた前記固体を成形して、成形体を得る工程、又は
g) 工程c)、d)又はe)で得られた前記固体を変化させて、変化させた粒子の粉末を得る工程、及び
h) 任意に、工程g)で得られた前記粉末から成形体を形成する工程、
i) 任意に、工程f)、g)、又はh)で得られた前記成形体又は粉末をさらに焼成する工程、
を更に含み、成形工程f)を乾燥工程d)と焼成工程e)との間で行うこともできる、請求項1に記載の方法。 - 前記銅塩が硝酸銅Cu(NO3)2であり、前記ジルコニウム塩が硝酸ジルコニルZrO(NO3)2である、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記水溶液中のCu:Zrの原子比が1:3〜2:5の範囲である、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記沈殿剤中のNa2CO3:NaOHの比が2:1〜10:1の範囲である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記沈殿剤が、5〜30質量%のNa2CO3及びNaOHを含有する水溶液として用いられる、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 工程b)で、沈殿した前記固体を7.0〜7.5の範囲のpHでエージングさせる、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 工程c)で得られた前記固体を80〜160℃の温度で乾燥させる、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
- 工程d)で得られた乾燥させた前記固体を350〜650℃の温度で焼成する、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1から9のいずれか一項に記載の方法によって得ることができる、酢酸エチルを水素化するための銅/ジルコニア触媒の調製のための触媒。
- 18〜30質量%のCuO及び72〜80質量%のZrO2を含有する、請求項10に記載の触媒。
- 100〜130m2g−1の範囲の比表面積(BET)及び2.6〜3.6nmの範囲の平均細孔直径(BJH)を有する、請求項10又は11に記載の触媒。
- X線非晶質である、請求項10から12のいずれか一項に記載の触媒。
- 酢酸エチルをエタノールへ水素化するための、請求項10から13のいずれか一項で定義された触媒の使用方法。
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