JP2020506505A - 高電力イオンビーム発生器システムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
Description
中性子および陽子の低費用、高性能で、堅調な、一貫した、一様な、高効率、かつ高電流/高・中電圧の発生を提供する高エネルギーイオンビーム発生器システムおよび方法が、本明細書で提供される。そのようなシステムおよび方法は、多種多様な研究、医療、セキュリティ、および工業プロセスのための中性子および陽子の商業規模発生のための用途を見出す。
粒子加速器は、イオンを通電させ、それらを標的の中へ駆動するデバイスである。中性子発生器は、水素の同位体を融合することによって中性子を生成する粒子加速器の具体的用途である。核融合反応は、重水素、トリチウム、または2つの同位体の混合物のいずれかを、同様に重水素、トリチウム、または同位体の混合物を含む標的の中へ加速することによって、行われる。重水素原子の核融合は、3Heイオンおよび中性子の形成における半分の時間をもたらし、他方の半分は、3H(トリチウム)イオンおよび陽子の形成をもたらす。重水素およびトリチウム原子の核融合は、4Heイオンおよび中性子の形成をもたらす。
いくつかの実施形態では、本方法はさらに、薄膜ウエハから光起電(PV)ウエハを加工することを含む。いくつかの実施形態では、本方法はさらに、光起電ウエハを備えている、太陽電池パネルを加工することを含む。いくつかの実施形態では、本方法はさらに、光起電ウエハを備えている、発光ダイオード(LED)を加工することを含む。いくつかの実施形態では、本方法はさらに、薄膜ウエハから発光ダイオード(LED)を加工することを含む。
本明細書で提供されるイオン源は、プラズマチャンバマイクロ波導波路フィードと、動作パラメータ最適化技法と、源磁石搭載機構と、水冷ビームライン構成要素を製造するためのろう付けの使用とを含む、いくつかの構成要素を含む。これらの改良の各々が、順に議論されるであろう。
電磁波源(例えば、マイクロ波源)と(例えば、より大型の加速器システムの一部としての)プラズマチャンバとの間に位置付けられたとき、電子の逆流を防止することに役立つ、逆インピーダンス整合構成要素(例えば、階段状隆起が、外部構造に組み込まれるのではなく導波路の中心に搭載されるという意味で逆転される)を含む、導波路が、本明細書で提供される。逆インピーダンス整合構成要素は、逆構成要素が、ある実施形態では、導波路の中央平面からより広い壁に向かって次第に外向きに延びている(図4)ため、概して、従来の従来技術インピーダンス整合技法に対して「逆」または「裏返し」と見なされる。ある実施形態では、逆導波路は、a)i)電磁波入射点を備えている近位端と、ii)電磁波出射点を備えている遠位端と、iii)近位端と遠位端との間に延び、電磁波を伝搬するように構成された外壁とを備えている、導波路と、b)導波路構成要素の内側に位置している逆インピーダンス整合構成要素とを備えている、デバイスを備え、逆インピーダンス整合構成要素は、導波路の遠位端から導波路の近位端に向かって少なくとも途中まで延び、逆インピーダンス整合構成要素は、遠位端と近位端とを備え、インピーダンス整合構成要素の遠位端は、導波路の遠位端またはその近傍に位置し、逆インピーダンス整合構成要素の近位端よりも大きい断面積を有する。
ある実施形態では、本明細書に説明される加速器システムまたはサブシステムは、性能を改良するように最適化される。一般に、加速器システムは、多数の結合された非線形サブシステムから成る。これらは、限定されないが、イオン源磁石位置および電流と、イオン源マイクロ波電力と、イオン源ガス流と、ビーム抽出電圧と、加速器電圧と、集束ソレノイド電流と、操向磁石電流と、ガス標的圧力とを含む。システム全体は、概して、複雑すぎるため、先験的に直接モデル化または予測することができない。加えて、システムの個々のインスタンスの間のわずかな差異、例えば、ビームラインの整合は、システム性能に大きな影響を及ぼし得、予測モデルに組み込むことが困難である。したがって、最終システム最適化は、通常、経験的結果に依拠する。本プロセスは、概して、システムのピーク性能を取得するために熟練した経験豊富なオペレータを要求し、オペレータエラーに起因する構成要素の損傷の危険性を伴う。本開示の実施形態は、最適化のための自動および部分的自動プロセスを提供することによって、これらの問題に対処する。
イオン源における精密な磁場プロファイルが、プラズマの中へマイクロ波電力を適切に結合するための重要な因子であるため、イオン源磁石のわずかな物理的移動は、源性能の大きな変化を引き起こし得る。したがって、試験および最適化のために要求される通りに、これらの磁石の場所を調節および固定するため、ならびにシステムによる微妙な変動を考慮するための調節システムおよび構成要素が、本明細書で提供される。イオン源プラズマチャンバを包囲するソレノイド磁石を調節および固定するための調節システムの一例示的実施形態が、図8に示される。本実施形態では、各イオン源ソレノイド磁石は、磁石を1つ以上の取り付け構成要素(例えば、ねじ山付き金属特徴)に堅く結合するために使用される、エポキシに包み込まれる。磁石は、イオン源領域中で磁場を集中させ、任意の外部磁場からイオン源を遮蔽する、強磁性エンクロージャの内側に位置する。強磁性エンクロージャは、その側面に沿ってスロットを有し、エンクロージャの外側から各磁石アセンブリのねじ山付き金属特徴へのボルトの取り付けを可能にする。源軸の軸に沿った各磁石の場所は、したがって、スロットに沿ってボルトを移動させることによって調節され、エンクロージャに対してボルトを緊締することによって定位置で固定されることができる。したがって、定位置でイオン源ソレノイド磁石の位置付けおよび固定の両方を行うための信頼性のある比較的低費用の方法およびシステムが、本明細書で提供される。
ある実施形態では、加速器システムの中に位置付けられているとき、高エネルギーイオンビームを部分的にさえぎる、金属アセンブリ(例えば、低コンダクタンス金属から成る)が、本明細書で提供され、金属アセンブリは、i)少なくとも1つの水冷チャネルと、ii)第1の金属構成要素、第2の金属構成要素、および充填金属とを備え、該充填金属は、継手(例えば、ろう付け継手)において該第1の金属構成要素を該第2の金属構成要素に取り付ける。
ある実施形態では、イオン源インフラストラクチャは、その改良された挙動に寄与する、いくつかの改良を有する。これらは、例えば、高電圧における真空ポンプの実装、高電圧におけるある構成要素の動作のための入れ子式圧力容器、および高電圧における構成要素への電力伝送のためのVベルトの使用を含む。これらの改良の各々が、順に議論されるであろう。
プラズマチャンバの中へ送給されるガスの一部は、マイクロ波によってイオン化されず、強力な電場が印加される、抽出および加速領域の中へ偏流する。中性ガスの存在は、通常、高電圧アークの可能性を増加させ、これは、システムの動作を妨害し、高電圧電力供給源において故障状態を誘起し、ビームライン構成要素の寿命を低下させ得る。さらに、ビーム中のイオンは、ビーム品質を劣化させる、またはイオン電流を低減させる、散乱または電荷交換事象等の背景中性ガスを用いた原子および分子プロセスを受けることができる。
高電圧において保持される必要がある機器は、通常、破壊的で潜在的に損傷を与えるアーク放電事象を最小化するために、絶縁ガス充電圧力容器の内側の平滑な形状の高電圧ドームの中に封入される。しかしながら、いくつかの補助構成要素は、加圧環境では正しく動作することができない。したがって、高電圧における信頼性のある動作のために圧力容器の内側に位置する必要があるが、高圧力環境では動作することができない、構成要素(例えば、粗引ポンプ)が、公称大気圧まで加圧され、管を介してより大型の(外側)圧力容器の外部に接続される、より小型の(内側)圧力容器の中に設置される、解決策が、本明細書で提供される。
高電圧において保持される構成要素のための電力は、接地から電気的に分離される様式で供給される必要がある。本エネルギーを提供するための従来技術は、絶縁シャフトまたはベルトによって駆動される絶縁変圧器および発生器を含んでいる。電力伝達用途のために生産されている殆どのベルトは、それらの中に埋め込まれた鋼ケーブル、ポリマーに追加される大量の炭素、または両方のいずれかを有する。これらの特徴の両方は、それらがベルトを効果的な電気導体にするため、それらが電圧分離要件を維持することを防止する。他のベルトは、容易に電気を伝導しないが、それらは、通常、弱すぎるため、大量の伝送された電力を取り扱うことができないか、または経時的により伝導性になり、ベルトの破壊および故障につながることが観察されているかのいずれかである。
種々の実施形態では、高電圧システムは、その改良された挙動に寄与する、いくつかの改良を有する。これらは、直接イオン注入、能動的冷却水抵抗器、理想的な静電レンズ設計プロセス、電子抑制要素の電気的分離および整合のための精密絶縁ボールの使用を含む。これらの改良の各々が、順に議論されるであろう。
多くのビームラインは、イオン源と加速器との間に位置する構成要素を要求する。本低エネルギービーム輸送(LEBT)部分は、ビームがプラズマ源から出射すると受け入れ、要求されるビームパラメータを伴う加速器にそれを送達する。典型的には、LEBTは、限定されないが、分析磁石、集束要素、電子抑制要素、およびビームチョッパを含む。そのような構成要素は、プラズマ源から抽出されるビームが、加速器によって受け入れられるために十分に高い高品質ではない場合、必要である。そのようなLEBT構成要素は、システムのサイズ、費用、および複雑性を増加させる。増加した複雑性は、概して、より低い信頼性かつあまり堅調ではないシステムにつながる。加えて、ビーム中の空間電荷の増加に起因して、これらの問題は、概して、高電流DCビームラインに関して、より顕著になる。
高電圧電力供給源(HVPS)が、加速器システムの構成要素を起動するために使用される。そのようなHVPSを試験するとき、出力を試験負荷に接続し、HVPSが仕様を満たすことを確実にする必要がある。試験負荷は、最大300kV DCの電圧に耐え、最大30kW、または約3kW、もしくは約5kWの熱を除却する必要がある。そのような試験負荷を構築することは、異なる負荷において動作するために複数の高価な特殊抵抗器を購入することを要求する。
静電レンズスタックが、マイクロ波プラズマ源からイオンを抽出し、それらをビームに形成するために使用される。静電レンズスタックは、i)プラズマレンズ、ii)抽出レンズ、iii)抑制レンズ、およびiv)出射レンズから成る。レンズの精密な形状は、電流密度、スポットサイズ、発散、およびエミッタンスの観点から、所与の源パラメータおよび印加電圧におけるビーム性能に影響を及ぼす。これらは、システムの堅調性、全抽出電流、および高電圧要件に影響を及ぼす。プロセスが、最大印加電圧および電場等の動作制約を受ける下流構成要素(例えば、加速器カラム、集束ソレノイド、または低コンダクタンス開口)を通して伝搬するにつれて所望の性質のビームを取得するための適切なレンズを決定するために、要求される。
高エネルギーイオンビーム発生器は、抽出レンズに対して負にバイアスをかけられ、それから直接下流に位置する抑制電極を伴い、その後に抽出レンズと電気的に接触する出射電極が続く、抽出レンズスタックを採用してもよい。静電電位の結果として生じる低下は、(例えば、固体表面からのイオン化または二次電子放出によって)下流に作成される電子が高エネルギーまで加速され、源構成要素を損傷することを防止する。閉じ込められた電子はまた、イオンビームの空間電荷補償により効果的に寄与し、ビームサイズ、発散、およびエミッタンスを低減させ得る。そのようなレンズスタックは、したがって、システムの信頼性を増進し、ビーム品質を改良し、標的に輸送され得る全電流を増加させ、さらなる稼働時間およびスループットをもたらす。
いくつかの進歩が、その例示的性能に寄与する中性子生成標的システムに対して遂げられている。これらは、A)固体標的のための能動冷却、B)アルゴンスパッタ浄化プロセス、C)ガス状標的システム内の管開口上に熱負荷を分配するための機構、D)逆ガス噴射、およびE)ビームスクレーパの実装を含む。
加速器駆動中性子発生器システムに関して、イオンビームエネルギーの大部分は、核反応ではなく標的加熱をもたらす。高収率システムは、必然的に、高電力イオンビーム、および標的において生成される結果として生じる大きい熱負荷の除去を要求する。
中性子源は、ある時は、チタン金属でめっきされたビーム標的を使用する。チタンは、流入重水素が核融合反応を引き起こし、中性子を放出し得るように、有意量の重水素を吸着する。しかしながら、チタンは、酸素および窒素とも反応し、重水素ビームに対する障壁を形成し、中性子出力を低下させ得る、極めて活性の金属である。真空システム内の微量汚染物質は、本問題を生じさせるために十分に高くあり得る。
ガス状標的中性子発生器では、大きい圧力勾配が、全中性子収率を最大限にするために、標的と加速器との間で維持される必要がある。したがって、イオンビーム加速器から標的ガスを分離する開口は、必然的に小さい(例えば、直径が数ミリメートルである)。イオンビーム電力密度は、開口を通過するとき、それに対応して大きく(数百MW/m2)、定常状態動作においていかなる固体表面によっても耐えられない。加速器システムにおける熱/機械的または電気的変動に起因する、ビーム集束および操向のわずかな偏差が、標的入口開口への重大な損傷をもたらし得る。これは、圧力勾配が維持されることができない場合にシステム性能の劣化、またはさらに真空の損失および/または真空システムに進入する冷却水に起因する重大なシステム損傷につながり得る。
ガス状標的中性子発生器では、エネルギーが無駄にされず、中性子が効果的に使用されることができない面積中でそれらを生成するように、ビームが可能な限り小さい距離で完全に停止し、標的の直前の圧力が可能な限り低くあるべきであるように、標的内の圧力は、可能な限り高くあるべきである。
いくつかのシステムでは、ビームの恣意的な部分を遮断し得る、ビームの経路の中に固体標的を挿入する機構が、ある時は、標的に送達される全電流を精密に制御するために望ましい。そのようなビームスクレーパはまた、全体的なシステムの最適化中に有用な情報である、ビームプロファイルを決定するために使用されることもできる。
いくつかの実施形態では、システムおよび方法は、1つ以上の自動制御構成要素を採用する。そのような自動制御構成要素は、限定されないが、光ファイバインターロック、健全性監視システム、およびアーク放電事象後の自動復旧システム、ならびにビーム安定性を管理するための閉ループ制御を含む。
高エネルギーイオンビーム発生器は、1つ以上の、典型的には、いくつかの高電圧源を組み込む。安全性の理由により、ユーザ/コントローラステーションは、デバイス/システムの他の部分から電気的に分離されるべきであり、その上、ユーザステーションをデバイス/システムの他の部分のインターロックシステムに接続するための構成要素が、存在するべきである。
これは、安全性と動作性との間の有意な対立を生成する。2つのサブシステムの間の電気的分離を提供するための絶縁変圧器の使用等のアプローチは、最大数万ボルトの電圧の存在により、技術的または経済的に実用的ではない。
ビームによって搬送される高い電力を考慮すると、それがシステムの構成要素に熱損傷を引き起こさないことを確実にすることが重要である。損傷は、非正常状況でシステム構成要素と相互作用するビームによって引き起こされ得る。異なる保護方式が、各構成要素上に堆積され得るエネルギー密度に応じて実装されるように、具体的材料選択および冷却機構が、ビームと相互作用し得る構成要素のために実装されている。
電流が高電圧点から望ましくない経路を通して接地までの経路を見出す、時折の「アークダウン」事象は、高電圧加速器内で完全に回避可能ではない。システムがアークダウン後に望ましくない状態に留まらないように防止することは、最初に、制御システムへのユーザインターフェースに向き、常に作用する準備ができているように、訓練されたユーザに要求した。これは、リソース集約的である。アークダウンからの復旧は、オフにされ、次いで、復旧シーケンスの一部として、ある構成要素上に障害除去を伴うあるシーケンスでオンに戻されるように、いくつかの構成要素に要求した。
中性子発生器の特定の用途は、束設定値の1%最大振幅内で維持されるように中性子束出力に要求し、束設定値は、約5桁にわたる変数である。熟練のオペレータによる開ループ制御は、システム動態に影響を及ぼす複数の変数に起因して、束出力が要求される正確度内に留まることを確実にするためには不十分である。
イオン注入のための粒子加速器の特定の用途は、電流設定値の+/−1%以内で維持されるようにビーム電流に要求する。複数の信号が、高電圧電力供給源電流、抽出電力供給源抵抗器分割器ドレイン電流、および冷却水の漏出に起因する電流損失を含む、ビーム電流を計算するために要求される。これらの信号からのビーム電流のリアルタイム計算が、制御システムによって実施される。熟練のオペレータによる開ループ制御は、システム動的に影響を及ぼす複数の変数に起因して、ビーム電流出力が要求される正確度以内に留まることを確実にするためには不十分である。
(A.熱中性子ラジオグラフィ)
中性子ラジオグラフィおよびトモグラフィは、航空宇宙、エネルギー、および防衛部門における製造された構成要素の非破壊試験のための証明された技法である。これは、現在、アクセス可能な高流束中性子源の欠如により、十分に活用されていない。X線のように、中性子が物体を通過するとき、それらは、その物体の内部構造についての情報を提供する。X線は、低原子番号の元素(例えば、水素)と弱く、高原子番号の元素(例えば、金属)と強く相互作用する。その結果として、特に、より高い密度の材料の存在下にあるとき、低密度材料についての情報を提供するそれらの能力は、非常に不良である。中性子は、本限界を被らない。それらは、高密度金属を容易に通過し、内部の低密度材料についての詳細な情報を提供することができる。本性質は、エンジンタービンブレード、軍需物資、宇宙船構成要素、および風力タービン翼等の複合材料を含む、非破壊評価を要求する、いくつかの構成要素にとって極めて重要である。これらの用途の全てに関して、中性子ラジオグラフィは、X線が提供することができない決定的情報を提供する。中性子ラジオグラフィは、欠落した情報を提供することができる、相補的非破壊評価技法である。
本明細書に説明される(例えば、水素イオン粒子加速器を使用する)システムおよび方法は、半導体加工において用途を見出す。そのようなシステムは、例えば、バルク基板からの材料の薄膜の形成において用途を見出す。材料の薄膜は、水素イオン粒子ビームから埋め込まれる粒子によって形成される割断領域を生成し、次いで、割断領域において割断することによって、バルク基板から分離される。いくつかの実施形態では、薄膜は、太陽電池パネル(例えば、太陽光グレード光起電(PV)ウエハ)または発光ダイオード(LED)の生産で使用されるウエハである。ウエハは、任意の所望の形状(例えば、円形、正方形、または長方形)のうちのいずれかであり得る。ウエハは、100マイクロメートル未満の厚さであり得る。いくつかの実施形態では、ウエハは、2〜70ミクロンの厚さを有する。いくつかの実施形態では、ウエハは、4〜20ミクロンの厚さを有する。
Claims (171)
- デバイスであって、前記デバイスは、
a)導波路であって、前記導波路は、
i)電磁波入射点を備えている近位端と、
ii)電磁波出射点を備えている遠位端と、
iii)前記近位端と前記遠位端との間に延び、電磁波を伝搬するように構成された外壁と
を備えている、導波路と、
b)前記導波路構成要素の内側に位置している逆インピーダンス整合構成要素と
を備え、
前記逆インピーダンス整合構成要素は、前記導波路の前記遠位端から前記導波路の前記近位端に向かって少なくとも途中まで延び、
前記逆インピーダンス整合構成要素は、遠位端と近位端とを備え、前記インピーダンス整合構成要素の前記遠位端は、前記導波路の前記遠位端またはその近傍に位置し、前記逆インピーダンス整合構成要素の前記近位端よりも大きい断面積を有する、デバイス。 - 前記逆インピーダンス整合構成要素は、金属を備えている、請求項1に記載のデバイス。
- 前記逆インピーダンス整合構成要素は、水によって冷却されるように構成されている、請求項1に記載のデバイス。
- 前記逆インピーダンス整合構成要素は、前記導波路の中心線に沿って位置している、請求項1に記載のデバイス。
- 前記逆インピーダンス整合構成要素は、前記導波路の外壁に取り付けられた1つ以上の支持脚部によって支持されている、請求項4に記載のデバイス。
- 前記電磁波は、マイクロ波である、請求項1に記載のデバイス。
- 前記逆インピーダンス整合構成要素の前記遠位端における断面積は、前記逆インピーダンス整合構成要素の前記近位端における断面積の少なくとも2倍、3倍、または4倍大きい、請求項1に記載のデバイス。
- 前記逆インピーダンス整合構成要素は、前記断面積が前記逆インピーダンス整合構成要素の前記近位端から前記遠位端まで変化することを可能にする1つ以上の段階を備えている、請求項1に記載のデバイス。
- 前記逆インピーダンス整合構成要素は、前記逆インピーダンス整合構成要素の前記近位端から前記遠位端までのテーパを備え、それによって、前記断面積が変化することを可能にする、請求項1に記載のデバイス。
- 前記逆インピーダンス整合構成要素の前記遠位端における断面積は、前記デバイスが加速器システムの一部であるとき、全てまたはほぼ全ての逆流する電子を遮断するために十分に大きい、請求項1に記載のデバイス。
- a)電磁波源と、
b)プラズマチャンバと、
c)請求項1に記載のデバイスと
を備えているシステム。 - 前記導波路の前記近位端は、前記電磁波源に動作可能に取り付けられ、前記導波路の前記遠位端は、前記プラズマチャンバに動作可能に取り付けられている、請求項11に記載のシステム。
- 前記電磁波源は、マイクロ波源を備えている、請求項11に記載のシステム。
- システムであって、前記システムは、
a)コンピュータプロセッサと、
b)1つ以上のコンピュータプログラムとデータベースとを備えている非一過性のコンピュータメモリであって、前記1つ以上のコンピュータプログラムは、加速器システム監視および/または最適化ソフトウェアを備えている、非一過性のコンピュータメモリと、
c)高エネルギーイオンビームを発生させる加速器システムと
を備え、
前記加速器システムは、前記非一過性のコンピュータメモリと動作可能に通信し、前記加速器システム監視および/または最適化ソフトウェアによって自動的に調節されることが可能な以下のサブシステム:
i)イオン源およびイオン源監視構成要素と、
ii)集束ソレノイド磁石および集束ソレノイド磁石監視構成要素と、
iii)管開口および管開口監視構成要素と、
iv)固体またはガス標的、および、固体またはガス標的監視構成要素と、
v)抽出および抑制構成要素、および、抽出および抑制監視構成要素と、
vi)ビーム発生サブシステムおよびビーム発生サブシステム監視構成要素と、
vii)ビーム集束および操向サブシステム、および、ビーム集束および操向サブシステム監視構成要素と、
viii)加速器/抵抗器サブシステムおよび加速器/抵抗器サブシステム監視構成要素と、
ix)ビーム操向サブシステムおよびビーム操向サブシステム監視構成要素と、
x)加圧ガスサブシステム構成要素および加圧ガスサブシステム構成要素監視構成要素と
のうちの1つ以上を備えている、システム。 - 1)前記イオン源監視構成要素は、質量流量計、熱電対、冷却剤流量計、および/または圧力計を備え、2)前記集束ソレノイド監視構成要素は、熱電対、冷却剤流量計、電圧モニタ、および/または電流モニタを備え、3)前記管開口監視構成要素は、カメラ、熱電対、および/または、冷却剤流量計を備え、4)前記固体またはガス標的監視構成要素は、カメラ、熱電対、冷却剤流量計、および/または放射線検出器を備え、5)前記抽出および抑制監視構成要素は、圧力計、熱電対、電流モニタ、および/または電圧モニタを備え、6)前記ビーム発生サブシステム監視構成要素は、電流モニタおよび/またはエミッタンススキャナを備え、7)前記加圧ガスサブシステム構成要素監視構成要素は、圧力計および/またはガス分析器を備えている、請求項14に記載のシステム。
- 前記加速器システム監視および/または最適化ソフトウェアは、前記サブシステムの複数の異なる設定値を収集および分析し、そのようなサブシステムのための最適化された設定を計算するように構成されている、請求項14に記載のシステム。
- 前記加速器システム監視および/または最適化ソフトウェアは、前記サブシステムのうちの1つ以上のものにおける前記設定値を変更し、前記加速器システムの性能を少なくとも部分的に最適化するように構成されている、請求項16に記載のシステム。
- システムであって、前記システムは、
a)イオン源プラズマチャンバであって、前記イオン源プラズマチャンバは、前記プラズマチャンバから出射するビームの方向に沿った源軸を有する、プラズマチャンバと、
b)少なくとも1つのイオン源磁石であって、前記少なくとも1つのイオン源磁石は、開口部と、少なくとも1つの外壁とを備え、前記イオン源プラズマチャンバは、前記少なくとも1つのイオン源磁石の前記開口部を通して延びている、少なくとも1つのイオン源磁石と、
c)前記少なくとも1つのイオン源磁石の前記少なくとも1つの外壁に取り付けられているか、またはそれと一体的である少なくとも1つの受け取り構成要素と、
d)強磁性エンクロージャであって、前記少なくとも1つのイオン源磁石および前記イオン源プラズマチャンバは、前記強磁性エンクロージャの内側にあり、前記少なくとも1つのイオン源磁石は、前記プラズマチャンバの前記源軸に沿って前記強磁性エンクロージャの内側の複数の異なる位置に移動することができ、前記源軸の方向に沿って延び、前記受け取り構成要素と整列している少なくとも1つの縦開口部が存在する、強磁性エンクロージャと、
e)前記縦開口部を通して延び、前記受け取り構成要素に取り付くように構成された少なくとも1つの調節構成要素と
を備え、
前記少なくとも1つの調節構成要素は、前記強磁性エンクロージャの内側の前記複数の異なる位置において前記少なくとも1つのイオン源磁石を固定することができる、
システム。 - 前記受け取り構成要素は、ねじ山付き金属コネクタを備えている、請求項18に記載のシステム。
- 前記調節構成要素は、ねじ山付きボルトを備えている、請求項18に記載のシステム。
- 前記受け取り構成要素は、前記少なくとも1つのイオン源磁石と一体である、請求項18に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つのイオン源磁石は、少なくとも部分的にエポキシに包み込まれている、請求項18に記載のシステム。
- 少なくとも1つのイオン源磁石は、2つのイオン源磁石を備えている、請求項18に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの縦開口部は、少なくとも2つ、3つ、または4つの縦開口部を備えている、請求項18に記載のシステム。
- 方法であって、前記方法は、
a)請求項18−24のいずれかに記載のシステムを提供することと、
b)前記複数の位置の中の第1の位置から前記複数の位置の中の第2の位置に前記少なくとも1つのイオン源磁石を移動させることと、
c)前記少なくとも1つの縦開口部を通して前記少なくとも1つの受け取り構成要素の中に前記少なくとも1つの調節構成要素を挿入することと、
d)前記少なくとも1つの調節構成要素を前記少なくとも1つの受け取り構成要素に固定し、それによって、前記第2の位置において前記少なくとも1つのイオン源磁石を固定することと
を含む、方法。 - 前記少なくとも1つのイオン源磁石は、第1および第2のイオン源磁石を備え、前記第1および第2のイオン源磁石の両方は、第1の位置から第2の位置に移動させられ、前記第2の位置で固定される、請求項25に記載の方法。
- 高エネルギーイオンビームを発生させる加速器システムの金属アセンブリを備えている製造品であって、
前記金属アセンブリは、前記加速器システムの中に位置付けられているとき、i)前記高エネルギーイオンビームを部分的にさえぎり、ii)真空環境内にあり、
前記金属アセンブリは、i)少なくとも1つの水冷チャネルと、ii)第1の金属構成要素、第2の金属構成要素、および充填金属とを備え、前記充填金属は、継手において前記第1の金属構成要素を前記第2の金属構成要素に取り付ける、製造品。 - 前記第1および第2の金属構成要素は、高度に熱伝導性の金属を備えている、請求項27に記載の製造品。
- 前記充填金属は、前記第1および第2の金属構成要素よりも低い融点を有する、請求項27に記載の製造品。
- 前記第1の金属構成要素は、管板を備え、前記第2の金属構成要素は、板栓を備えている、請求項27に記載の製造品。
- 前記充填金属は、BNi−7合金を備えている、請求項27に記載の製造品。
- 前記第1の金属構成要素は、第1の管、管キャップ、異なる管板、および弁から成る群から選択される第1のアイテムを備え、前記第2の金属構成要素は、第2の管、管キャップ、異なる管板、および弁から成る群から選択される第2のアイテムを備えている、請求項27に記載の製造品。
- 前記少なくとも1つの水冷チャネルは、少なくとも2つの水冷チャネルを備えている、請求項27に記載の製造品。
- システムであって、前記システムは、
a)高エネルギーイオンビームを発生させる加速器システムと、
b)金属アセンブリと
を備え、
前記金属アセンブリは、前記加速器システムの中に位置付けられ、それによって、前記金属アセンブリは、i)前記高エネルギーイオンビームを部分的にさえぎり、ii)真空環境内にあり、
前記金属アセンブリは、i)少なくとも1つの水冷チャネルと、ii)第1の金属構成要素、第2の金属構成要素、および充填金属とを備え、前記充填金属は、継手において前記第1の金属構成要素を前記第2の金属構成要素に取り付ける、システム。 - 方法であって、前記方法は、
a)ろう付け技法を使用して、充填金属を用いて第1の金属構成要素を第2の金属構成要素に取り付け、金属アセンブリを生成することと、
b)高エネルギーイオンビームを発生させる加速器システムの中に前記金属アセンブリを挿入することと
を含み、
前記金属アセンブリは、前記高エネルギーイオンビームを部分的にさえぎるように位置付けられる、方法。 - 前記金属アセンブリは、少なくとも1つの水冷チャネルをさらに備えている、請求項35に記載の方法。
- 前記金属アセンブリは、真空環境内にあるようにさらに位置付けられる、請求項35に記載の方法。
- システムであって、前記システムは、
a)高電圧ドームと、
b)前記高電圧ドームの内側に位置しているイオン源プラズマチャンバと、
c)前記イオン源プラズマチャンバに動作可能に連結された抽出構成要素と、
d)ガス除去サブシステムであって、前記ガス除去サブシステムは、
i)前記高電圧ドームの内側に位置している排気構成要素と、
ii)絶縁ホースであって、前記絶縁ホースの第1の部分は、前記高電圧ドームの内側に位置し、前記絶縁ホースの第2の部分は、より低い電圧のエリアにおいて前記高電圧ドームの外側に位置している、絶縁ホースと、
iii)前記高電圧ドームの内側に位置し、前記排気構成要素および前記抽出構成要素に動作可能に連結された第1の真空ポンプであって、前記第1の真空ポンプは、前記抽出構成要素からガスを除去し、前記ガスを前記排気構成要素に送達するように構成されている、第1の真空ポンプと、
iv)前記高電圧ドームの内側に位置し、前記排気構成要素に動作可能に連結された第2の真空ポンプと
を備えている、ガス除去サブシステムと
を備え、
前記第2の真空ポンプは、第1の圧力において前記排気構成要素から前記ガスを受け取り、第2の圧力において前記ガスを前記絶縁ホースに送達するように構成され、前記第2の圧力は、前記第1の圧力よりも高い、システム。 - e)外側圧力容器をさらに備え、前記高電圧ドーム、前記イオン源プラズマチャンバ、前記抽出構成要素、前記排気構成要素、前記第1の真空ポンプ、前記第2のポンプ、および前記絶縁ホースの少なくとも一部は、前記圧力容器の中に位置している、請求項38に記載のシステム。
- 前記絶縁ホースは、前記ガスを大気に放出するように構成されている、請求項38に記載のシステム。
- 前記ガスは、非イオン化ガスである、請求項38に記載のシステム。
- 前記非イオン化ガスは、重水素ガスである、請求項41に記載のシステム。
- 前記ガスをさらに備えている、請求項38に記載のシステム。
- 前記ガスは、非イオン化ガスである、請求項43に記載のシステム。
- 前記絶縁ホースは、螺旋形状を有する、請求項38に記載のシステム。
- 前記絶縁ホースは、約20〜30の螺旋形状の巻きを有し、長さが約5〜15フィートである、請求項45に記載のシステム。
- 前記第1の真空ポンプは、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ、イオンポンプ、および高真空ポンプから選択されるポンプを備えている、請求項38に記載のシステム。
- 前記第2の真空ポンプは、粗引ポンプを備えている、請求項38に記載のシステム。
- e)前記高電圧ドームの内側に位置している内側圧力容器をさらに備え、前記第2の真空ポンプは、前記ポンプ圧力容器の中に位置し、以下の構成要素:前記高電圧ドーム、前記イオン源プラズマチャンバ、前記抽出構成要素、および前記第1の真空ポンプは、前記内側圧力容器の中に位置していない、請求項38に記載のシステム。
- 高電圧ドームおよび抽出構成要素を有する高エネルギーイオンビーム発生システムの中に導入されるように構成されたガス除去サブシステムであって、前記ガス除去サブシステムは、
a)前記高電圧ドームの内側に位置するように構成された排気構成要素と、
b)絶縁ホースであって、前記絶縁ホースの第1の部分は、前記高電圧ドーム内の開口部を通して延びているように構成されている、絶縁ホースと、
c)前記高電圧ドームの内側に位置するように構成され、前記排気構成要素および前記抽出構成要素に動作可能に連結されるように構成された第1の真空ポンプであって、前記第1の真空ポンプは、前記抽出構成要素からガスを除去し、前記ガスを前記排気構成要素に送達するように構成されている、第1の真空ポンプと、
d)前記高電圧ドームの内側に位置するように構成され、前記排気構成要素に動作可能に連結されるように構成された第2の真空ポンプと
を備え、
前記第2の真空ポンプは、第1の圧力において前記排気構成要素から前記ガスを受け取り、第2の圧力において前記ガスを前記絶縁ホースに送達するように構成され、前記第2の圧力は、前記第1の圧力よりも高い、ガス除去サブシステム。 - 方法であって、前記方法は、
a)請求項50に記載のシステムを提供することと、
b)前記ガス除去サブシステムをアクティブにすることと
を含み、
前記抽出構成要素の中に存在するガスは、
i)前記第1の真空ポンプによって前記排気構成要素へ除去され、
ii)前記第2の真空ポンプによって、第1の圧力において前記排気構成要素から受け取られ、前記第1の圧力よりも高い第2の圧力において前記絶縁ホースに送達され、
iii)前記絶縁ホースによって大気に送達される、
方法。 - 前記抽出構成要素内の前記ガスは、前記イオン源プラズマチャンバから前記抽出構成要素に進行した非イオン化ガスである、請求項51に記載の方法。
- システムであって、前記システムは、
a)外側圧力容器と、
b)前記外側圧力容器の内側に位置している内側圧力容器と、
c)前記外側圧力容器の内側に位置している排気構成要素であって、前記排気構成要素の一部は、前記内側圧力容器の中にも位置している、排気構成要素と、
d)前記外側圧力容器の内側に位置している絶縁ホースであって、前記絶縁ホースの一部は、前記内側圧力容器の中にも位置している、絶縁ホースと、
e)前記外側圧力容器の内側に位置し、前記排気構成要素に動作可能に連結された第1の真空ポンプと、
f)前記内側圧力容器の内側に位置し、前記排気構成要素に動作可能に連結された第2の真空ポンプと
を備えている、システム。 - 前記外側圧力容器は、前記内側圧力容器内のガスよりも高い圧力におけるガスを備えている、請求項53に記載のシステム。
- 前記内側圧力容器内の前記ガスは、ほぼ大気圧にある、請求項53に記載のシステム。
- 前記第1の真空ポンプは、高エネルギーイオンビームを発生させる加速器システムの抽出構成要素に動作可能に連結されるように構成され、前記第1の真空ポンプは、前記抽出構成要素からガスを除去し、前記ガスを前記排気構成要素に送達するように構成されている、請求項53に記載のシステム。
- 前記第2の真空ポンプは、第1の圧力において前記排気構成要素から前記ガスを受け取り、第2の圧力において前記ガスを前記絶縁ホースに送達するように構成され、前記第2の圧力は、前記第1の圧力よりも高い、請求項56に記載のシステム。
- 前記システムは、抽出構成要素をさらに備えている、請求項53に記載のシステム。
- 前記システムは、前記外側圧力容器の内側に位置しているイオン源プラズマチャンバをさらに備えている、請求項58に記載のシステム。
- 前記抽出構成要素は、前記イオン源プラズマチャンバに動作可能に連結されている、請求項59に記載のシステム。
- システムであって、前記システムは、
a)高エネルギーイオンビームを発生させる加速器システムの中で高電圧において保持された少なくとも1つの高電圧構成要素と、
b)前記少なくとも1つの高電圧構成要素に電気的に連結された電力構成要素と
を備え、
前記電力構成要素は、電力を前記少なくとも1つの高電圧構成要素に提供し、
前記電力構成要素は、Vベルトを備え、
前記Vベルトは、複数の区分を備え、i)不良な電気導体、または、ii)非電気導体である、システム。 - 前記Vベルトは、ポリエステル・ポリウレタン複合材料を備えている、請求項61に記載のシステム。
- 前記電力構成要素は、モータと、発電機とをさらに備えている、請求項61に記載のシステム。
- 前記電力構成要素は、前記モータに動作可能に取り付けられた第1のVベルトプーリと、前記発電機に動作可能に取り付けられた第2のVベルトプーリとをさらに備えている、請求項61に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの高電圧構成要素は、イオン源プラズマチャンバを備えている、請求項61に記載のシステム。
- システムであって、前記システムは、
a)高エネルギーイオンビームを発生させる加速器サブシステムであって、前記加速器サブシステムは、
i)イオン源プラズマチャンバと、
ii)マイクロ波を発生させるマイクロ波発生構成要素と、
iii)前記マイクロ波発生構成要素に動作可能に連結された電源と、
iv)前記マイクロ波を受け取り、それらを前記イオン源プラズマチャンバに送達するために位置付けられた導波路であって、前記マイクロ波が前記イオンプラズマチャンバ内のガスに接触すると、イオン源を発生させる、導波路と、
v)前記イオンプラズマチャンバから低エネルギーイオンビームを抽出するために前記イオン源プラズマチャンバに動作可能に連結されたイオンビーム抽出構成要素と、
iv)加速器カラムと、低エネルギーイオンビームを受け取るための加速器入口開口部と、高エネルギーイオンビームを送達するための加速器出口開口部とを備えている加速器構成要素と
を備えている、加速器サブシステムと、
b)前記電源に動作可能に連結された電力変調構成要素と
を備え、
前記電力変調構成要素は、前記電源から前記マイクロ波発生構成要素に流動する電力を変調するように構成され、それによって、前記導波路に入射する前記マイクロ波は、高速でパルス化され、および/または、消滅/発生させられ、それによって、前記高エネルギーイオンビームを高速でパルス化し、および/または、消滅/発生させる、システム。 - 前記加速器システムは、直接注入加速器システムである、請求項66に記載のシステム。
- 前記マイクロ波発生構成要素は、マグネトロンを備えている、請求項66に記載のシステム。
- 方法であって、前記方法は、
a)請求項66に記載のシステムを提供することと、
b)前記高エネルギーイオンビームが発生させられ、前記高エネルギーイオンビームが高速でパルス化され、および/または、消滅/発生させられるように、前記加速器サブシステムおよび前記電力変調構成要素をアクティブにすることと
を含む、方法。 - 方法であって、前記方法は、
a)高エネルギーイオンビームを発生させる直接注入加速器システムにおいて、加速器カラムの加速器入口から第1の距離にイオンビーム発生構成要素を位置付けることと、
b)加速器カラムの加速器入口から第2の距離に前記イオンビーム発生構成要素を位置付けることと
を含み、
前記第2の距離は、前記第1の距離と異なり、前記第2の距離は、前記直接注入加速器システムの性能を改良する、方法。 - 前記第1および第2の距離は、20〜500mmの範囲内である、請求項70に記載の方法。
- システムであって、前記システムは、
a)高エネルギーイオンビームを発生させる直接注入加速器サブシステムであって、前記加速器システムは、
i)イオン源プラズマチャンバと、
ii)マイクロ波を発生させるマイクロ波発生構成要素と、
iii)前記マイクロ波発生構成要素に動作可能に連結された電源と、
iv)前記マイクロ波を受け取り、それらを前記イオン源プラズマチャンバに送達するために位置付けられた導波路であって、前記マイクロ波が前記イオンプラズマチャンバ内のガスに接触すると、イオンビームが発生させられる、導波路と、
v)前記イオン源プラズマチャンバに動作可能に連結された抽出構成要素と、
iv)加速器カラムと、前記イオンビームを受け取るための加速器入口開口部とを備えている加速器構成要素と
を備えている、直接注入加速器サブシステムと、
b)真空構成要素と
を備え、
前記真空構成要素は、前記抽出構成要素および/または前記加速器構成要素に動作可能に連結され、前記真空構成要素は、前記抽出構成要素および/または前記加速器構成要素内の圧力を低減させるように構成されている、システム。 - 前記圧力の低減は、前記高エネルギーイオンビームの直径を低減させるレベルにある、請求項72に記載のシステム。
- 方法であって、前記方法は、
a)請求項72に記載のシステムを提供することと、
b)前記高エネルギーイオンビームが発生させられるように、前記直接注入加速器サブシステムおよび前記真空構成要素をアクティブにすることと
を含み、
前記高エネルギーイオンビームは、前記圧力の低減がない場合にそれが有するであろうよりも小さい直径を有する、方法。 - システムであって、前記システムは、
a)高エネルギーイオンビームを発生させる加速器サブシステムであって、前記加速器システムは、
i)高電圧ドームと、
ii)前記高電圧ドームの内側に位置しているイオンビーム発生構成要素と、
iii)加速器カラムを備えている加速器構成要素と
を備えている、加速器サブシステムと、
b)水抵抗器サブシステムと
を備え、
前記水抵抗器サブシステムは、
i)水配管と、水リザーバとを備えている水循環構成要素と、
ii)前記加速器カラムに沿って延びている水抵抗器要素と
を備え、
前記水抵抗器要素は、前記水配管に流体的に連結された、またはそれと一体である非導電性管類を備え、それによって、前記水循環構成要素内の制御伝導度水循環は、前記水抵抗器要素を通過する、システム。 - 前記制御伝導度水をさらに備え、前記制御伝導度水は、i)脱イオン水と、2)脱イオン化(DI)樹脂と、金属塩とを備えている、請求項75に記載のシステム。
- 前記加速器構成要素は、前記加速器カラムに沿って延びている複数のグレーディングリングをさらに備えている、請求項75に記載のシステム。
- 前記絶縁管類は、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、およびポリエチレンから成る群から選択される材料を備えている、請求項75に記載のシステム。
- 前記水循環構成要素は、水ポンプと、熱交換器とをさらに備えている、請求項75に記載のシステム。
- 前記制御伝導度水は、前記脱イオン水が15メガオーム−cm以上の抵抗率を有するように、十分な量の前記DI樹脂を含む、請求項75に記載のシステム。
- 前記金属塩は、硫酸銅、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、硫酸マグネシウム、およびチオ硫酸ナトリウムから成る群から選択される、請求項75に記載のシステム。
- 前記水抵抗器要素は、最大約300kV DCの電圧に耐え、最大約3kWの熱を除却することができる、請求項75に記載のシステム。
- 方法であって、前記方法は、
a)請求項75に記載のシステムを提供することと、
b)前記加速器サブシステムおよび前記水抵抗器サブシステムをアクティブにすることと
を含み、
前記高エネルギーイオンビームが発生させられている間、前記制御伝導度水は、前記水循環構成要素を通して循環し、前記水抵抗器要素は、前記加速器カラムに沿った電気抵抗器として機能する、方法。 - システムであって、前記システムは、
a)高エネルギーイオンビームを発生させる加速器サブシステムの構成要素に電力を送達するように構成された少なくとも1つの高電圧電力供給源(HVPS)と、
b)水抵抗器サブシステムと
を備え、
前記水抵抗器サブシステムは、
i)水配管と、水リザーバとを備えている水循環構成要素と、
ii)絶縁管類を備えている水抵抗器要素と
を備え、
前記絶縁管類は、前記水配管に流体的に連結され、またはそれと一体であり、それによって、前記水循環構成要素内の制御伝導度水循環は、前記水抵抗器要素を通過する、
システム。 - 方法であって、前記方法は、
a)請求項84に記載のシステムを提供することと、
b)試験負荷として前記水抵抗器サブシステムを使用して、前記少なくとも1つのHVPSを試験することと
を含む、方法。 - レンズを設計する方法であって、前記方法は、
a)加速器システムのプラズマレンズ開口における以下のパラメータ:ビーム電流、抽出電圧、イオン種比率、最大電場、およびイオン電流密度をソフトウェアアプリケーションに入力することと、
b)静電レンズスタックの中の少なくとも1つのレンズの設計のための前記ソフトウェアから出力を受信することであって、前記静電レンズスタックは、プラズマレンズと、抽出レンズと、抑制レンズと、出射レンズとを備えている、ことと、
c)前記出力に基づいて前記少なくとも1つのレンズを加工することと
を含む、方法。 - 前記ソフトウェアアプリケーションは、PBGUNSソフトウェアアプリケーションを備えている、請求項86に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのレンズは、前記静電レンズスタックの中の前記レンズのうちの少なくとも2つ、少なくとも3つ、または4つ全てを備えている、請求項86に記載の方法。
- グリッド精度、経験的に決定されたビーム中和因子、および、源プラズマ内の電子およびイオン温度のうちの少なくとも1つを前記ソフトウェアアプリケーションに入力することをさらに含む、請求項86に記載の方法。
- 抽出レンズスタックを備えている高エネルギーイオンビーム発生器システムであって、前記抽出レンズスタックは、前記抽出レンズスタックのレンズ間隙の間に位置付けられた複数の絶縁ボールを有している、高エネルギーイオンビーム発生器システム。
- 3つの絶縁ボールが、各レンズ間隙の間に位置付けられている、請求項90に記載のシステム。
- 前記3つの絶縁ボールは、方位座標において均等に間隔を置かれている、請求項91に記載のシステム。
- 前記レンズスタックは、金属ボルトを用いて一緒に保持されている、請求項90に記載のシステム。
- 前記絶縁ボールは、アルミナセラミックボールである、請求項90に記載のシステム。
- 請求項90−94のいずれかに記載のシステムを使用することを含む中性子または陽子を発生させる方法。
- 中性子発生器システムであって、前記中性子発生器システムは、
a)固体マトリクスに埋め込まれた反応性水素種を備えている高電力密度固体標的と、
b)冷却構成要素と
を備えている、中性子発生器システム。 - 前記固体マトリクスは、チタンを備えている、請求項96に記載のシステム。
- 前記反応性水素種は、重水素である、請求項96に記載のシステム。
- 前記反応性水素種は、トリチウムである、請求項96に記載のシステム。
- 前記冷却構成要素は、閉ループ構成要素である、請求項96に記載のシステム。
- 前記冷却構成要素は、冷却剤源を備えている、請求項96に記載のシステム。
- 前記冷却剤は、水である、請求項101に記載のシステム。
- 前記標的は、0.02インチ以下の壁厚を有する、請求項96に記載のシステム。
- 前記壁厚は、0.01インチ以下である、請求項103に記載のシステム。
- 前記壁は、銅、銀、金、ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素、またはそれらの組み合わせから成る群から選択される材料で構成されている、請求項103または104に記載のシステム。
- 前記標的は、渦巻きを備え、前記渦巻きは、前記渦巻きを欠いている標的に対して表面積を増加させる、請求項96に記載のシステム。
- 前記渦巻きは、フィンおよびリブ、またはそれらの組み合わせから成る群から選択される、請求項106に記載のシステム。
- 前記閉ループ構成要素は、脱イオン化サブ構成要素を備えている、請求項100に記載のシステム。
- 前記閉ループ構成要素は、濾過サブ構成要素を備えている、請求項100に記載のシステム。
- 前記冷却構成要素は、冷却剤の層流のために構成されている、請求項96に記載のシステム。
- 前記冷却構成要素は、不規則な表面特徴を有するチャネルを備えている、請求項96に記載のシステム。
- 前記不規則な表面特徴は、へこみおよび螺旋状くぼみ、またはそれらの組み合わせから成る群から選択される、請求項111に記載のシステム。
- 前記冷却剤構成要素は、前記標的との接触に先立って冷却剤を予冷するために位置付けられた冷却装置を備えている、請求項96に記載のシステム。
- 請求項96−113のいずれかに記載のシステムの使用を含む高電力密度固体標的を用いて中性子を発生させる方法。
- システムであって、前記システムは、中性子発生器システムの一部であるか、または中性子発生器システムでの使用のためであり、前記システムは、
a)固体標的と、b)真空システムと、c)前記真空システムと流体連通し、前記固体標的の近傍に希ガスを放出するように構成された希ガス源とを備えている、システム。 - 希ガスは、アルゴンである、請求項115に記載のシステム。
- 中性子発生器固体標的を浄化する方法であって、前記方法は、前記固体標的がイオンビームにさらされている間、前記固体標的を希ガスにさらすことを含む、方法。
- 前記希ガスは、アルゴンである、請求項117に記載の方法。
- 前記希ガスは、1〜10立方センチメートル/分で流動させられる、請求項117に記載の方法。
- 中性子発生器システムであって、前記中性子発生器システムは、
a)イオンビームを生成する加速器と、b)前記イオンビームによって接触されるように位置付けられたガス標的と、c)前記加速器および前記ガス標的を分離している標的開口と、d)前記イオンビームを前記開口に集束させる操向構成要素と、e)前記標的開口の上流に向いた表面の近傍に位置付けられた複数の熱センサとを備えている、中性子発生器システム。 - 前記複数の熱センサは、前記開口の軸の周りに90度の間隔で等しく間隔を置かれた4つの熱センサを備えている、請求項120に記載のシステム。
- 前記センサは、熱電対を備えている、請求項120に記載のシステム。
- 前記熱電対は、銅コンスタンタン熱電対である、請求項122に記載のシステム。
- 前記センサは、白金抵抗温度検出器(RTD)、サーミスタ、および半導体温度センサから成る群から選択される、請求項120に記載のシステム。
- 前記センサから温度信号を受信するプロセッサをさらに備えている、請求項120に記載のシステム。
- 前記プロセッサは、前記センサからの温度信号を合計し、平均標的開口温度を生成する、請求項125に記載のシステム。
- 前記プロセッサは、前記平均標的開口温度に基づいて前記イオンビーム位置を調節し、前記標的開口の温度を最小化する、請求項126に記載のシステム。
- 中性子発生器システムにおいてイオンビームを標的開口に操向する方法であって、前記方法は、a)前記標的開口の周囲の複数の場所において温度を測定することと、b)前記標的開口における温度を最小化するようにイオンビームを操向することとを含む、方法。
- 中性子発生器システムであって、前記中性子発生器システムは、a)イオンビームを生成する加速器と、b)前記イオンビームによって接触されるように位置付けられたガス標的と、c)前記加速器および前記ガス標的を分離している標的開口と、d)前記開口を横断する圧力差を増加させる逆ガス噴射とを備えている、中性子発生器システム。
- 前記逆ガス噴射は、ノズルを備え、前記ノズルは、それが収束した後、広がる、請求項129に記載のシステム。
- 前記逆ガス噴射は、約3/8インチのノズル開口を備えている、請求項129に記載のシステム。
- 前記逆ガス噴射は、0.01インチ未満の狭径部間隙を備えている、請求項131に記載のシステム。
- 前記逆ガス噴射は、12.5度のノズル角度を備えている、請求項132に記載のシステム。
- 中性子発生器の標的開口を横断する圧力差を増加させる方法であって、前記方法は、前記標的開口において逆ガス噴射を採用することを含む、方法。
- ビームスクレーパを備えている中性子発生器システムであって、前記ビームスクレーパは、モータを使用してイオンビームの経路の中へ移動可能であり、前記モータは、標的を含む真空容器の外側の前記発生器システムに搭載されている、システム。
- 前記モータは、磁気的に結合された真空フィードスルーを介して前記ビームスクレーパに接続されている、請求項135に記載のシステム。
- 前記モータ、ビームスクレーパ、およびそれらの間の接続は、ろう付け製造を伴う全金属である、請求項135に記載のシステム。
- 中性子発生器内の標的に衝打するイオンビームの一部を遮断する方法であって、前記方法は、モータを使用してイオンビームによって接触される位置にビームスクレーパを移動させることを含み、前記モータは、前記標的を含む真空容器の外側の前記発生器システムに搭載されている、方法。
- システムであって、前記システムは、
a)第1のインターロックを有する高エネルギーイオンビーム発生器デバイスと、
b)第2のインターロックを有するユーザ制御ステーションと
を備え、
前記高エネルギーイオンビーム発生器と前記ユーザ制御ステーションとは、光ファイバインターロックを介して接続され、前記光ファイバインターロックは、前記発生器が動作するために安全であることを示すために閉鎖されたままである直列ループ内の複数の通常閉スイッチ、前記発生器が動作するために安全であることを示すために開放したままである並列ループ内のいくつかの通常開スイッチ、または、前記直列ループおよび前記並列ループの両方を備えている、システム。 - 前記高エネルギーイオンビーム発生器および前記ユーザ制御ステーションは、互いから電気的に分離されている、請求項139に記載のシステム。
- 前記光ファイバインターロックは、周波数発生器を備えている、請求項139に記載のシステム。
- 前記周波数発生器は、光ファイバ伝送機をトリガし、設定された周波数において光が脈打つようにする、請求項141に記載のシステム。
- 前記システムは、前記光ファイバインターロックを管理する制御ソフトウェアを備えている、請求項139に記載のシステム。
- 前記制御ソフトウェアは、前記光ファイバインターロックの多重信号検証プロシージャを動作させる、請求項143に記載のシステム。
- 方法であって、前記方法は、請求項139−144のいずれかに記載のシステムを使用して、前記高エネルギーイオンビーム発生器から前記ユーザ制御ステーションに情報を伝送すること、または前記ユーザ制御ステーションから前記高エネルギーイオンビーム発生器に情報を伝送することを含む、方法。
- システムであって、前記システムは、
a)ビームを生成する高エネルギーイオンビーム発生器デバイスと、
b)損傷軽減構成要素と
を備え、
前記損傷軽減構成要素は、
i)前記デバイス上に位置付けられ、前記ビームと相互作用し得る前記デバイスの複数の領域を監視するように構成された複数のセンサと、
ii)前記複数のセンサと通信し、アラートまたはアラームを発生させ、前記アラートまたはアラームに応答して前記デバイスを調節するように構成された制御ソフトウェアと
を備えている、システム。 - 前記複数のセンサのうちの1つ以上のものは、前記デバイスの領域の温度を測定する、請求項146に記載のシステム。
- 前記複数のセンサのうちの1つ以上のものは、冷却剤流率を測定する、請求項146に記載のシステム。
- 前記センサは、連続感知モードである、請求項146に記載のシステム。
- 各センサは、それに関連付けられた閾値を有し、前記閾値を超えた場合、前記アラートまたはアラームを発生させる、請求項146に記載のシステム。
- 前記アラートは、ユーザ警告を備えている、請求項146に記載のシステム。
- 前記アラームは、デバイスシャットダウンをトリガする、請求項146に記載のシステム。
- 前記アラームは、さらなる動作に先立って前記デバイスをリセットすることをユーザに要求するラッチアームである、請求項146に記載のシステム。
- 前記制御ソフトウェアは、EMIを除外する、請求項146に記載のシステム。
- 前記除外されたEMIは、所定の閾値持続時間または周波数の下にある、請求項154に記載のシステム。
- 請求項146−155のいずれかに記載のシステムを使用して、高エネルギーイオンビーム発生器デバイスへの潜在的損傷事象を検出することを含む方法。
- システムであって、前記システムは、
a)高エネルギーイオンビーム発生器デバイスと、
b)アークダウン軽減構成要素と
を備え、
前記アークダウン軽減構成要素は、
i)前記デバイス上に位置付けられ、アークダウン事象と一致する条件を監視するように構成された複数のセンサと、
ii)前記複数のセンサと通信し、アラートまたはアラームを発生させ、前記アラートまたはアラームに応答して前記デバイスを調節するように構成された制御ソフトウェアと
を備えている、システム。 - 前記アラームは、ユーザ介入を伴わずに前記デバイスを正常動作に戻す自動復旧シーケンスをトリガする、請求項157に記載のシステム。
- 請求項157−158のいずれかに記載のシステムを使用して、アークダウン事象に応答することを含む方法。
- i)高電圧電力供給源(HVPS)設定値、および/または、ii)イオン源電流設定値を管理する閉ループ制御構成要素を備えている高エネルギーイオンビーム発生器システム。
- i)閉ループ制御構成要素を用いて高電圧電力供給源(HVPS)設定値を管理すること、および/または、ii)イオン源電流設定値を管理することを含む高エネルギーイオンビーム発生器における中性子束出力変動性を制御する方法。
- 中性子ラジオグラフィでの使用のための中性子コリメータであって、前記中性子コリメータは、高密度ポリエチレン(HDPE)層と、ホウ酸化ポリエチレン層と、金属層と、カドミウム層とを備えている、中性子コリメータ。
- a)中性子源と、b)請求項162に記載の中性子コリメータと、c)検出器とを備えている熱中性子ラジオグラフィのためのシステム。
- 前記コリメータは、それが高速中性子源とまっすぐに整列しないようにオフセットされている、請求項163に記載のシステム。
- サンプルを撮像する方法であって、前記方法は、請求項163または164に記載のシステムによって発生させられる中性子にサンプルをさらすことを含む、方法。
- 請求項1−165のいずれかに記載の高エネルギーイオンビームを発生させる加速器システムを備えている半導体製造システムまたは方法であって、前記加速器システムは、ビームを半導体材料を保持する構成要素に向かわせる、半導体製造システムまたは方法。
- 請求項1−165のいずれかに記載の高エネルギーイオンビーム発生器システムまたは方法から発生させられる陽子と半導体材料を接触させることを含む半導体ウエハを製造する方法。
- 前記半導体材料を割断することによって、薄膜ウエハを生成するステップをさらに含む、請求項167に記載の方法。
- 前記薄膜ウエハから光起電(PV)ウエハを加工するステップをさらに含む、請求項168に記載の方法。
- 前記光起電ウエハを備えている太陽電池パネルを加工するステップをさらに含む、請求項169に記載の方法。
- 前記薄膜ウエハから発光ダイオード(LED)を加工するステップをさらに含む、請求項168に記載の方法。
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