JP2020506295A - 微粒子ディスペンサを含む付加製造システム及びそのようなシステムの動作方法 - Google Patents
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Abstract
付加製造システムは、表面上に複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子を分配するよう構成された少なくとも1つのディスペンサを含む微粒子送達システムを含んでいる。微粒子送達システムは、少なくとも1つのディスペンサに結合された第1微粒子供給部と第2微粒子供給部とを含んでいる。少なくとも1つのディスペンサは、複数の第1微粒子と複数の第2微粒子とを互いに隣接して堆積させるよう構成されている。複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部は融着されている。
Description
関連出願の相互参照
本出願は、その全体が参照により本明細書に組み入れられる2017年1月3日に出願された米国仮特許出願番号第62/441,718号明細書に対する優先権を主張する。
本出願は、その全体が参照により本明細書に組み入れられる2017年1月3日に出願された米国仮特許出願番号第62/441,718号明細書に対する優先権を主張する。
本明細書に開示される主題は、一般に付加製造システムに関し、より詳細には、微粒子を表面上に分配するためのディスペンサを含む付加製造システムに関する。
付加製造システムは、部品を作るための材料の蓄積を伴う。これらのシステムは、高価な材料から複雑な部品を低コストで且つ製造効率を向上させて製造することができる。直接金属レーザ溶融(DMLM)、選択的レーザ焼結(SLS)、直接金属レーザ焼結(DMLS)、選択的レーザ溶融(SLM)、電子ビーム溶融(EBM)、及びLaserCusingシステムなどのいくつかの既知の付加製造システムは、レーザ装置又は電子ビーム発生装置などの集束エネルギー源及び粉末金属などの微粒子を使用して部品を製造する。そのような付加製造システムでは、部品の特性は、部品を形成するのに使用される微粒子の特性によって少なくとも部分的に決定される。しかしながら、変化及び局所的特性を有する部品を提供することが時に望ましいことがある。したがって、時には、異なる特性を有する2つ以上の部品が一緒に接合される。しかしながら、接合された部品は、部品間の接合部のために、単一の部品と比較して組み立てコストが高くなり、予想寿命が短くなる可能性がある。加えて、接合部品の設計可能性は、部品を接合するための既知の方法によって制限される。
一態様では、付加製造システムが提供される。付加製造システムは、表面上に複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子を分配するよう構成された少なくとも1つのディスペンサを含む微粒子送達システムを含んでいる。微粒子送達システムは、少なくとも1つのディスペンサに結合された第1微粒子供給部と第2微粒子供給部とを含んでいる。少なくとも1つのディスペンサは、複数の第1微粒子と複数の第2微粒子とを互いに隣接して堆積させるよう構成されている。複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部は融着されている。
別の態様では、付加製造システムを使用して部品を製造する方法が提供される。方法は、複数の第1微粒子を堆積させることを含んでいる。方法はまた、複数の第2微粒子を堆積させることを含んでいる。複数の第2微粒子は複数の第1微粒子に隣接して堆積される。方法は、第1集束エネルギー源を使用して、複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部を加熱することをさらに含んでいる。
さらに別の態様では、付加製造システムが提供される。付加製造システムは、複数の第1微粒子の少なくとも一部を変位させ、少なくとも部分的に凹部を形成するよう構成された変位アセンブリを含んでいる。付加製造システムは、複数の第2微粒子を分配するよう構成された少なくとも1つのディスペンサをさらに含んでいる。少なくとも1つのディスペンサは、複数の第2微粒子の少なくとも一部を少なくとも部分的に凹部内に分配するよう構成されている。付加製造システムはまた、複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部を加熱するよう構成された少なくとも1つの集束エネルギー源を含んでいる。
本開示のこれら及び他の特徴、態様及び利点は、図面を通して同様の文字は同様の部品を表す添付の図面を参照しながら以下の詳細な説明を読むと、よりよく理解されよう。
特記しない限り、本明細書に提供される図面は、本開示の実施形態の特徴を説明することを意図している。これらの特徴は、本開示の1又は複数の実施形態を含む多種多様なシステムに適用可能であると考えられる。したがって、図面は、本明細書に開示された実施形態の実施に必要な当業者に既知のすべての従来の特徴を含むことを意味しない。
以下の明細書及び特許請求の範囲において、以下の意味を有するように定義されるべきいくつかの用語が参照されるであろう。
単数形「a」、「an」、及び「the」は、文脈が明らかにそうでないことを示さない限り、複数の言及を含んでいる。
「所望による(Optional)」又は「所望により(optionally)」は、続いて説明される事象又は状況が発生してもしなくてもよく、その説明にはその事象が発生した場合と発生しなかった場合が含まれることを意味する。
本明細書及び特許請求の範囲を通して本明細書で使用されるような近似表現は、それが関連する基本機能に変化をもたらすことなく許容可能に変化し得る任意の定量的表現を修正するために適用され得る。したがって、「約」、「およそ」及び「実質的に」などの1又は複数の用語によって修飾された値は、指定された正確な値に限定されるべきではない。少なくともいくつかの事例では、近似表現は値を測定するための計測器の精度に対応し得る。本明細書及び特許請求の範囲を通して、範囲の制限は組み合わせ及び/又は交換することができ、文脈又は表現でそうでないことを示さない限り、そのような範囲は特定され、それに含まれるすべての部分範囲を含んでいる。
本明細書で使用されるとき、用語「プロセッサ」及び「コンピュータ」及び関連用語、例えば「処理装置」、「計算装置」及び「コントローラ」は、当技術分野でコンピュータと呼ばれる集積回路だけに限定されず、マイクロコントローラ、マイクロコンピュータ、プログラマブルロジックコントローラ(PLC)、特定用途向け集積回路及び他のプログラム可能な回路を広く指し、これらの用語は本明細書では互換的に使用される。本明細書に記載の実施形態では、メモリは、ランダムアクセスメモリ(RAM)などのコンピュータ可読媒体、及びフラッシュメモリなどのコンピュータ可読不揮発性媒体を含むことができるが、それらに限定されない。あるいは、フロッピーディスク、コンパクトディスク読み取り専用メモリ(CD−ROM)、光磁気ディスク(MOD)、及び/又はデジタル多用途ディスク(DVD)を使用することもできる。また、本明細書に記載の実施形態では、追加の入力チャネルは、マウス及びキーボードなどのオペレータインタフェースに関連するコンピュータ周辺機器であり得るが、それらに限定されない。あるいは、例えば、スキャナを含むがこれに限定されない他のコンピュータ周辺機器も使用することができる。さらに、例示的実施形態では、追加の出力チャネルは、オペレータインタフェースモニタを含むことができるが、これに限定されない。
さらに、本明細書で使用されるとき、用語「ソフトウェア」及び「ファームウェア」は交換可能であり、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、クライアント、及びサーバによる実行のためのメモリ内の任意のコンピュータプログラムストレージを含んでいる。
本明細書で使用されるとき、用語「非一時的コンピュータ可読媒体」は、コンピュータ可読命令、データ構造、プログラムモジュール及びサブモジュール、又は任意の装置内の他のデータなどの短期及び長期の情報記憶のための任意の技術の方法で実装される任意の有形コンピュータベースの装置を表すことを意図する。したがって、本明細書に記載の方法は、記憶装置及び/又はメモリ装置を含むがこれらに限定されない、有形の非一時的コンピュータ可読媒体に組み込まれた実行可能な命令として符号化することができる。そのような命令は、プロセッサによって実行されると、プロセッサに本明細書に記載された方法の少なくとも一部を実行させる。さらに、本明細書で使用されるとき、用語「非一時的コンピュータ可読媒体」は、非限定的に、非一時的コンピュータストレージ装置を含む、非限定的に、揮発性及び不揮発性媒体を含むすべての有形のコンピュータ可読媒体、並びにファームウェア、物理ストレージ及び仮想ストレージ、CD−ROM、DVDなどのリムーバブル及び非リムーバブル媒体、並びにネットワーク又はインターネット及び未開発のデジタル手段などの任意の他のデジタルソースを含み、唯一の例外は一時的な伝搬信号である。
さらに、本明細書で使用されるとき、用語「リアルタイム」は、関連するイベントの発生時間、所定のデータの測定及び収集の時間、データを処理する時間、並びにイベント及び環境にシステムが応答する時間のうちの少なくとも1つを指す。本明細書に記載の実施形態では、これらの活動及びイベントは実質的に瞬間的に発生する。
本明細書に記載のシステム及び方法は、直接金属レーザ溶融(DMLM)システムなどの付加製造システムに関する。本明細書に記載の実施形態は、集束エネルギー源及び微粒子送達システムを含んでいる。微粒子送達システムは、表面上に複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子を堆積させるよう構成されている。いくつかの実施形態では、微粒子送達システムは、第1微粒子及び第2微粒子を分配するよう構成された少なくとも1つのディスペンサを含んでいる。さらなる実施形態では、第1微粒子の少なくとも一部は、少なくとも部分的に凹部を形成するように移動され、第2微粒子の少なくとも一部は少なくとも部分的に凹部内に堆積される。したがって、記載された実施形態は、部品が局所化された特性を有することを可能にする。例えば、部品内での特性の局所化を容易にするために、部品の構築中に同じ層内に異なる微粒子が含まれる。
図1は、例示的な付加製造システム100の概略図である。例示的実施形態では、付加製造システム100は直接金属レーザ溶融(DMLM)システムである。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の付加製造プロセスに使用されるよう構成されている。例えば、いくつかの実施形態では、付加製造システム100は、選択的レーザ焼結(SLS)、直接金属レーザ焼結(DMLS)、選択的レーザ溶融(SLM)及びLaserCusingのいずれかのプロセスに使用される。
例示的実施形態では、付加製造システム100は、集束エネルギー源102、光学素子104、第1走査装置106、第2走査装置108、ハウジング110、光学システム112、変位装置114、微粒子送達システム116及びコントローラ118を含んでいる。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の部品を含んでいる。
また、例示的実施形態では、ハウジング110は、第1微粒子122及び第2微粒子124を保持するよう構成された表面又は構築プレート120を画定する。さらに、ハウジング110は、微粒子送達システム116などの付加製造システム100の部品を収容するための制御された環境を提供する。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意のハウジング110を含んでいる。
さらに、例示的実施形態では、第1微粒子122及び第2微粒子124は、固体部品を構築するための、付加製造プロセス中に溶融され且つ再固化される粉末構築材料である。例示的実施形態では、第1微粒子122及び第2微粒子124は、コバルト、鉄、アルミニウム、チタン、ニッケル及びそれらの組み合わせのうちのいずれかの粉末合金をそれぞれ含む。代替実施形態では、第1微粒子122及び第2微粒子124は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の材料を含んでいる。例えば、いくつかの実施形態では、第1微粒子122及び/又は第2微粒子124は、セラミック粉末、金属被覆セラミック粉末、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のいずれかを含むがこれらに限定されない。さらなる実施形態では、付加製造システム100は、例えば、第3微粒子、第4微粒子などの任意の数の微粒子を利用する。
図2は、微粒子送達システム116を含む付加製造システム100の一部の概略図である。微粒子送達システム116は、第1ディスペンサ126、第2ディスペンサ128、第1微粒子供給部130及び第2微粒子供給部132を含んでいる。微粒子送達システム116の少なくとも一部はハウジング110内に囲まれている。特に、第1ディスペンサ126、第2ディスペンサ128、第1微粒子供給部130及び第2微粒子供給部132は、第1微粒子122及び第2微粒子124が周囲環境に曝露されるのを防ぐためにハウジング110の制御環境内に配置される。代替の実施形態では、微粒子送達システム116は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする付加製造システム100内の任意の場所に配置される。
例示的実施形態では、第1ディスペンサ126及び第2ディスペンサ128は表面120の上方に配置され、表面120上に第1微粒子122及び第2微粒子124を堆積させるよう構成されている。特に、第1ディスペンサ126は、第1微粒子供給部130に結合され、第1微粒子供給部130から表面120上に第1微粒子122を供給するよう構成されている。第2ディスペンサ128は、第2微粒子供給部132に結合され、第2微粒子供給部132から表面120上に第2微粒子124を分配するよう構成されている。したがって、第1ディスペンサ126及び第2ディスペンサ128は、表面120への異なる微粒子122、124の堆積を容易にする。代替実施形態において、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意のディスペンサを含んでいる。例えば、いくつかの実施形態では、微粒子送達システム116は、第1微粒子122及び第2微粒子124のうちの少なくとも1つを表面120上に堆積させるための粉末ベッド及び移送機構を含んでいる。
また、例示的実施形態では、変位装置114は、第1微粒子122及び/又は第2微粒子124が表面120にあるときに、第1微粒子122及び第2微粒子124の少なくとも1つを変位させるよう構成されている。例えば、いくつかの実施形態では、変位装置114は、第1微粒子122及び第2微粒子124の少なくとも1つに接触し、それによって第1微粒子122及び第2微粒子124の少なくとも1つの一部を変位させるよう構成されているツールを含んでいる。さらなる実施形態では、変位装置114は、第1微粒子122及び第2微粒子124のうちの少なくとも1つの一部を表面120から除去するよう構成されている真空システムを含んでいる。いくつかの実施形態では、変位装置114は、加圧流体源と、加圧流体を第1微粒子122及び第2微粒子124のうちの少なくとも1つに向けるためのノズルとを含んでいる。例示的実施形態では、変位装置114は、第1微粒子122に凹部などの所望の形状を形成するために第1微粒子122を変位させる。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の変位装置114を含んでいる。
図3は、微粒子送達システム116を含む付加製造システム100の一部の概略平面図である。微粒子送達システム116の少なくとも一部は、表面120に対して移動するよう構成されている。特に、第1ディスペンサ126及び第2ディスペンサ128は、表面120に対して横方向に動くよう構成されている。さらに、第1ディスペンサ126及び第2ディスペンサ128は、表面120に向かって及び表面120から離れるように移動するよう構成されている。したがって、微粒子送達システム116は、表面120に任意のパターンで第1微粒子122及び第2微粒子124のうちの少なくとも1つを堆積させるよう構成されている。代替の実施形態では、微粒子送達システム16は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の方法で動くよう構成されている。
さらに、例示的実施形態では、変位装置114は表面120に対して移動するよう構成されている。特に、変位装置114は、表面120に対して横方向に移動するよう構成されている。さらに、変位装置114は、表面120に向かって及び表面120から離れるように移動するよう構成されている。したがって、変位装置114は、表面120の第1微粒子122及び第2微粒子124の任意の部分を任意の方向に変位させるよう構成されている。代替の実施形態では、変位装置114は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の方法で移動するよう構成されている。
図4は、付加製造システム100の表面120に堆積した第1微粒子122及び第2微粒子124の概略平面図である。第1微粒子122は表面120にU字形を形成する。変位装置114(図3に示す)は、第1微粒子122の一部を変位させて凹部又はトレンチ134を形成した。凹部134は、第1微粒子122の一部を通って延び、第2微粒子124を受けるよう構成されている。第2微粒子124の一部は、凹部134内に少なくとも部分的に堆積される。特に、第1微粒子122及び第2微粒子124が同じ平面に沿って延びるように、第2微粒子124は凹部134内に堆積される。したがって、変位装置114及び微粒子送達システム116は、同じ層内で第1微粒子122及び第2微粒子124から部品を構築するのを容易にする。代替実施形態では、第1微粒子122及び/又は第2微粒子124は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の方法で表面120に堆積される。
例示的実施形態では、凹部134は、第1微粒子122の形状に対応するU字形を有する。凹部134は、第1微粒子122の内部に画定されており、すなわち、凹部134は、第1微粒子122の周囲から内側に離間している。例示的実施形態では、変位装置114(図3に示す)は、凹部134が第1微粒子122の深さ全体に延びるように第1微粒子122を変位させる。代替実施形態では、変位装置114(図3に示す)は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の凹部134を形成する。例えば。いくつかの実施形態では、凹部134は、第1微粒子122とは異なる形状を有する。さらなる実施形態では、凹部134は第1微粒子122の一部のみを通って延びる。
また、例示的実施形態では、第1微粒子122及び第2微粒子は実質的に水平である。さらに、第2微粒子124は、第1微粒子122と実質的に同じ厚さで凹部134内に堆積される。したがって、第1微粒子122及び第2微粒子124のならし(screeding)又はレベリング(leveling)は必要とされない。第1微粒子122及び/又は第2微粒子124をならすプロセスを省略すると、ならし中に発生する混合が減少する。いくつかの実施形態では、第1微粒子122及び/又は第2微粒子124はならされるか又は水平にされる。例えば、いくつかの実施形態では、第1微粒子122は、第2微粒子124の堆積前にならされる。さらなる実施形態では、第1微粒子122は、表面120の適所に少なくとも部分的に固定されて、第2微粒子124のならしを可能にする。
図3及び図4を参照すると、第2ディスペンサ128は変位装置114に結合されて、第2微粒子124を少なくとも部分的に凹部134内に堆積させるのを容易にする。微粒子では、第2ディスペンサ128及び変位装置114は、第2ディスペンサ128が第2微粒子124を凹部134内に直接堆積させ、変位装置114と実質的に同時に凹部134を形成するよう構成されている。したがって、第2ディスペンサ128及び変位装置114の構成は、第2微粒子124が凹部134を充填し支持するのを容易にする。その結果、変位装置114が第1微粒子122を変位させた後に、第1微粒子122は凹部134内に移動するのを阻止される。代替実施形態では、凹部134は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の方法で形成される。例えば、いくつかの実施形態では、変位装置114と第2ディスペンサ128は分離している。
図1を参照すると、例示的実施形態では、集束エネルギー源102は、第1微粒子122及び第2微粒子124のうちの少なくとも1つを加熱するよう構成されている。集束エネルギー源102は、光学素子104及び第1走査装置106に光学的に結合されている。光学素子104及び第1走査装置106は集束エネルギー源102の走査の制御を容易にするよう構成されている。例示的実施形態では、集束エネルギー源102は、約1070ナノメートル(nm)の波長を有するレーザビーム136を放射するよう構成されたイットリウム系固体レーザなどのレーザ装置である。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の集束エネルギー源102を含んでいる。例えば、いくつかの実施形態では、付加製造システム100は、第1パワーを有する第1集束エネルギー源102と、第1パワーとは異なる第2パワーを有する第2集束エネルギー源102とを含んでいる。さらなる実施形態では、付加製造システム100は、実質的に同じパワー出力を有する少なくとも2つの集束エネルギー源102を含んでいる。さらなる実施形態では、付加製造システム100は、電子ビーム発生装置である少なくとも1つの集束エネルギー源102を含んでいる。いくつかの実施形態では、付加製造システム100は、複数のダイオードレーザと複数の光ファイバとを含むダイオードファイバレーザアレイを含んでいる。そのような実施形態では、ダイオードファイバアレイは、光ファイバからのレーザビームを表面120に同時に向けて、第1微粒子122及び第2微粒子124のうちの少なくとも1つを加熱する。
さらなる実施形態では、第1微粒子122及び/又は第2微粒子124は、システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の方法で融着される。例えば、いくつかの実施形態では、バインダを使用して第1微粒子122及び/又は第2微粒子124を融着させる。そのような実施形態では、集束エネルギー源102は省略されてもよい。
さらに、例示的実施形態では、光学素子104は表面120へのビーム136の集束を容易にする。例示的実施形態では、光学素子104は、集束エネルギー源102と第1走査装置106との間に配置されたビームコリメータ135と、第1走査装置106と表面120との間に配置されたFθレンズ137とを含んでいる。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の光学素子を含んでいる。
動作中、例示的実施形態では、第1走査装置106は表面120の選択部分にわたってビーム136を向けて、固体部品を作るよう構成されている。例示的実施形態では、第1走査装置106は、検流計制御モータ140(広義にはアクチュエータ)に動作可能に結合されたミラー138を含む検流計走査装置である。モータ140は、コントローラ118から受信した信号に応答してミラー138を移動(具体的には回転)させ、それによってビーム136を表面120の選択部分に向けて且つ選択部分にわたって偏向させるよう構成されている。いくつかの実施形態において、ミラー138は、ビーム136の波長に対応する反射スペクトルを有する反射コーティングを含んでいる。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の走査装置を含んでいる。例えば、いくつかの実施形態では、例えば、第1走査装置106は、2つのミラー及び2つの検流計制御モータを含み、それぞれがミラーの1つに動作可能に結合されている。さらなる実施形態では、第1走査装置106は、限定されないが、2次元(2D)走査検流計、3次元(3D)走査検流計及び動的集束検流計のいずれかを含んでいる。
また、例示的実施形態では、光学システム112は、ビーム136によって生成された溶融プール142の監視を容易にするよう構成されている。具体的には、光学システム112は、溶融プール142によって生成された電磁放射を検出し、溶融プール142についての情報をコントローラ118に送信するよう構成されている。より具体的には、光学システム112は、溶融プール142によって生成されたEM放射を受け取り、それに応答して電気信号を生成するよう構成されている。光学システム112は、コントローラ118と通信可能に結合されており、電気信号をコントローラ118に送信するよう構成されている。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の光学システム112を含んでいる。例えば、いくつかの実施形態では、光学システム112は、これらに限定されないが、光電子増倍管、フォトダイオード、赤外線カメラ、電荷結合素子(CCD)カメラ、CMOSカメラ、高温計又は高速可視光カメラを含んでいる。さらなる実施形態では、光学システム112は、赤外スペクトル内のEM放射及び可視光スペクトル内のEM放射を検出するよう構成されている。いくつかの実施形態では、光学システム112は、溶融プール142からのEM放射を分割して対応する光学検出器に偏向するよう構成されたビームスプリッタ(図示せず)を含んでいる。
光学システム112は溶融プール142によって生成されたEM放射用の「光学」検出器を含むものとして説明されているが、「光学」という用語の使用は「可視」という用語と同義ではないことに留意されたい。むしろ、光学システム112は、広いスペクトル範囲のEM放射を捕捉するよう構成されている。例えば、いくつかの実施形態では、光学システム112は、紫外スペクトル(約200〜400nm)、可視光スペクトル(約400〜700nm)、近赤外スペクトル(約700〜1,200nm)及び赤外スペクトル(約1,200〜10,000nm)の波長を有する光に敏感であり得る。さらに、溶融プール142によって放出されるEM放射の種類は溶融プール142の温度に依存するので、光学システム112は溶融プール142の大きさ及び温度の両方を監視し測定することができる。
また、例示的実施形態では、光学システム112は、溶融プール142によって生成されたEM放射を方向付けるよう構成されている第2走査装置108を含んでいる。例示的実施形態では、第2走査装置108は、第1検流計制御モータ146(概してアクチュエータ)に動作可能に結合された第1ミラー144と、第2検流計制御モータ150(概して、アクチュエータ)に動作可能に結合された第2ミラー148とを含む検流計走査装置である。第1モータ146及び第2モータ150は、コントローラ118から受信した信号に応答して、第1ミラー144及び第2ミラー148をそれぞれ移動(具体的には回転)させて、EM放射を溶融プール142から光学システム112に偏向するよう構成されている。いくつかの実施形態では、第1ミラー144及び第2ミラー148の一方又は両方は、光学システム112が検出するよう構成されているEM放射に対応する反射スペクトルを有する反射コーティングを含んでいる。代替実施形態では、付加製造システム100は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の走査装置を含んでいる。
付加製造システム100は、層ごとの製造プロセスによって部品を製造するように動作する。部品は、部品の3D幾何学形状の電子表現から製造される。いくつかの実施形態では、電子表現はコンピュータ支援設計(CAD)又は同様のファイルで作成される。代替の実施形態では、電子表現は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の電子表現である。例示的実施形態では、部品のCADファイルは、各層に対する複数の構築パラメータを含む層ごとのフォーマットに変換される。例示的実施形態では、部品は、付加製造システム100で使用される座標系の原点に対して所望の向きに電子的に配置される。部品の形状は、各層の形状がその特定の層位置における部品を通る断面の輪郭となるように、所望の厚さの層のスタックにスライスされる。1又は複数の「ツール経路」は、それぞれの層の形状全体にわたって生成される。部品を構成するのに使用される材料から部品のその層を製造するために、構築パラメータは1又は複数のツール経路に沿って適用される。工程は、部品形状の各層ごとに繰り返される。プロセスが完了すると、すべての層を含む電子計算機構築ファイル(単数又は複数)が生成される。構築ファイルは、各層の製造中にシステムを制御するために、付加製造システム100のコントローラ118にロードされる。
構築ファイルがコントローラ118にロードされた後、付加製造システム100は、DMLM法などの層ごとの製造プロセスを実装することによって部品を生成するために動作される。例示的な層ごとの付加製造プロセスは、最終部品の前駆体として既存の物品を使用せず、むしろプロセスは第1微粒子122及び第2微粒子124などの構成可能な形態で原材料から部品を製造する。例えば、限定されないが、鋼部品は鋼粉末を用いて付加製造される。付加製造システム100は、例えば、これらに限定されないが、金属、セラミック及びポリマーなど、広範囲の材料を使用して部品を製造することを可能にする。代替実施形態では、DMLMは、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の材料から部品を製造する。
本明細書で使用されるとき、用語「パラメータ」は、付加製造システム100内の集束エネルギー源102のパワー出力、集束エネルギー源102のベクトル走査速度、集束エネルギー源102のラスタパワー出力、集束エネルギー源102のラスタ走査速度、集束エネルギー源102のラスタツール経路、及び集束エネルギー源102の輪郭パワー出力など、付加製造システム100の動作条件を定義するために使用される特性を指す。いくつかの実施形態では、パラメータは最初にユーザによってコントローラ118に入力される。パラメータは、付加製造システム100の所与の動作状態を表す。一般に、ラスタ走査の間、ビーム136は互いに間隔を置いて平行な一連の実質的に直線に沿って順次走査される。ベクトル走査中に、ビーム136は、一般に、一連の実質的に直線又はベクトルに沿って順次走査され、互いに対するベクトルの向きは時々変わる。一般に、1つのベクトルの終点は次のベクトルの始点と一致する。ベクトル走査は一般に部品の外側輪郭を画定するために使用され、ラスタ走査は一般に、部品が中実である場合に輪郭によって囲まれる空間を「充填する」ために使用される。
例示的実施形態では、コントローラ118は、微粒子送達システム116及び集束エネルギー源102に結合されている。コントローラ118は、メモリ装置152と、メモリ装置152に結合されたプロセッサ154とを含んでいる。いくつかの実施形態において、プロセッサ154は、限定されないが、マルチコア構成などの1又は複数の処理装置を含んでいる。例示的実施形態では、プロセッサ154はフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)を含んでいる。代替として、プロセッサ154は、コントローラ118が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の種類のプロセッサである。いくつかの実施形態において、実行可能な命令はメモリ装置152に格納される。コントローラ118は、プロセッサ154をプログラミングすることによって本明細書に記載されている1又は複数の動作を実行するように構成可能である。例えば、プロセッサ154は、動作を1又は複数の実行可能な命令として符号化し、その実行可能な命令をメモリ装置152に提供することによってプログラムされる。例示的実施形態では、メモリ装置152は、実行可能な命令又は他のデータなどの情報の記憶及び検索を可能にする1又は複数の装置である。いくつかの実施形態では、メモリ装置152は、限定されないが、ランダムアクセスメモリ(RAM)、ダイナミックRAM、スタティックRAM、ソリッドステートディスク、ハードディスク、読み出し専用メモリ(ROM)、消去可能プログラマブルROM、電気的消去可能プログラマブルROM、又は不揮発性RAMメモリなどの1又は複数のコンピュータ可読媒体を含んでいる。上記のメモリ種類は例示的なものにすぎず、したがってコンピュータプログラムの記憶に使用可能なメモリの種類に関して限定するものではない。
いくつかの実施形態では、メモリ装置152は、限定されないが、リアルタイム及び履歴構築パラメータ値、又は任意の他の種類のデータを含む構築パラメータを格納するよう構成されている。代替実施形態では、メモリ装置152は、付加製造システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意のデータを記憶する。いくつかの実施形態では、プロセッサ154は、データの年齢に基づいてメモリ装置152からデータを削除又は「パージ」する。例えば、プロセッサ154は、後続の時間又はイベントに関連して以前に記録され格納されたデータを上書きする。それに加えて、又はその代わりに、プロセッサ154は、所定の時間間隔を超えるデータを削除する。さらに、メモリ装置152は、付加製造システム100によって製造された部品の構築パラメータ及び形状状態の監視及び測定を容易にするのに十分なデータ、アルゴリズム及びコマンドを含むが、これらに限定されない。
いくつかの実施形態において、コントローラ118は、プロセッサ154に結合された提示インタフェース156を含んでいる。提示インタフェース156は、画像などの情報をユーザに提示する。一実施形態では、提示インタフェース156は、陰極線管(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、有機LED(OLED)ディスプレイ、又は「電子インク」ディスプレイなどのディスプレイ装置(図示せず)に結合されたディスプレイアダプタ(図示せず)を含んでいる。いくつかの実施形態では、提示インタフェース156は1又は複数のディスプレイ装置を含んでいる。それに加えて、又はその代わりに、提示インタフェース156は、音声出力装置(図示せず)、例えば、限定されないが、音声アダプタ又はスピーカ(図示せず)を含んでいる。
いくつかの実施形態では、コントローラ118はユーザ入力インタフェース158を含んでいる。例示的実施形態では、ユーザ入力インタフェース158はプロセッサ154に結合されており、ユーザからの入力を受け取る。いくつかの実施形態では、ユーザ入力インタフェース158は、例えば、限定されないが、キーボード、ポインティング装置、マウス、スタイラス、限定されないが、タッチパッド又はタッチスクリーンなどのタッチパネル、及び/又は限定されないが、マイクロフォンなどの音声入力インタフェースを含んでいる。さらなる実施形態では、タッチスクリーンなどの単一の部品が、提示インタフェース156の表示装置及びユーザ入力インタフェース158の両方として機能する。
例示的実施形態では、通信インタフェース160はプロセッサ154に結合され、微粒子送達システム116などの1又は複数の他の装置と通信可能に結合して、入力チャネルとして実行しながら、そのような装置に関して入力及び出力動作を実行するよう構成されている。例えば、いくつかの実施形態では、通信インタフェース160は、有線ネットワークアダプタ、無線ネットワークアダプタ、移動体通信アダプタ、シリアル通信アダプタ、又はパラレル通信アダプタを含むが、これらに限定されない。通信インタフェース160は、1又は複数の遠隔装置からデータ信号を受信し、あるいは1又は複数の遠隔装置にデータ信号を送信する。
提示インタフェース156及び通信インタフェース160は両方とも、本明細書に記載の方法と共に使用するための情報を提供すること、例えば情報をユーザ及び/又はプロセッサ154に提供することができる。したがって、提示インタフェース156及び通信インタフェース160は出力装置と呼ばれる。同様に、ユーザ入力インタフェース158及び通信インタフェース160は、本明細書に記載の方法と共に使用するための情報を受け取ることができ、入力装置と呼ばれる。
図1〜図3を参照すると、付加製造システム100を使用して部品を製造する例示的な方法は、表面120に第1微粒子122を堆積することを含んでいる。いくつかの実施形態では、方法は第1微粒子122を変位させて凹部134を形成することを含んでいる。方法はまた、第1微粒子122に隣接する表面120上に第2微粒子124を堆積させることを含んでいる。いくつかの実施形態において、第2微粒子124は少なくとも部分的に凹部134内に堆積される。さらなる実施形態では、第2微粒子124は、第1微粒子122が変位すると同時に堆積される。第1微粒子122及び第2微粒子124の少なくとも1つは、集束エネルギー源102を用いて加熱される。いくつかの実施形態において、第1微粒子122は、表面120に第2微粒子124を堆積させる前に集束エネルギー源102を用いて加熱される。いくつかの実施形態では、集束エネルギー源102は、第2微粒子124が堆積されるときに第2微粒子124を加熱するように向けられる。さらなる実施形態では、第1微粒子122及び第2微粒子124から複数の層を有する部品を形成するために少なくともいくつかの工程が繰り返される。
図5は、付加製造システム100(図1に示す)と共に使用するための微粒子送達システム200の一実施形態の概略図である。微粒子送達システム200は、複数の微粒子供給部又はホッパー202、調整アセンブリ204、ディスペンサ206、及び複数の供給ライン208を含んでいる。微粒子送達システム200は、表面120上に少なくとも1種類の微粒子210を堆積させるよう構成されている。例示的実施形態では、微粒子送達システム200は、第1微粒子210、第2微粒子210及び第3微粒子210を堆積させる。代替の実施形態では、微粒子送達システム200は、微粒子送達システム200が、本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の方法で構成される。例えば、いくつかの実施形態では、微粒子送達システム200は第4微粒子210を堆積させる。さらなる実施形態では、微粒子送達システム200は任意の数の微粒子210を堆積させる。
例示的実施形態では、各微粒子供給部202は、対応する供給ライン208によってディスペンサ206に結合されている。したがって、微粒子供給部202は、ディスペンサ206が表面120上に異なる微粒子210を堆積させるのを容易にする。調整アセンブリ204は、供給ライン208に結合され、表面120上に堆積させるためにどの微粒子210がディスペンサ206に供給されるかを調整する。調整アセンブリ204は、各微粒子210がディスペンサ206に選択的に流れることができる開位置と、微粒子210がディスペンサ206に流れ込むのを阻止される閉位置との間で選択的に位置決め可能である。例示的実施形態では、調整アセンブリ204は、ディスペンサ206に隣接して供給ライン208に結合された弁212を含んでいる。調整アセンブリ204の構成は、調整アセンブリ204が開位置と閉位置との間で移動するときに、ディスペンサ206から流れる微粒子210の応答時間を最小にする。代替の実施形態では、微粒子送達システム200は、微粒子送達システム200が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の調整アセンブリ204を含んでいる。
また、例示の実施形態では、ディスペンサ206は、微粒子210を表面120上に分配するよう構成されたノズル234を含んでいる。ノズル214は本体216を含んでいる。本体216は、表面218と、微粒子210が通過するための表面218内の開口部220とを画定する。ノズル214は、ディスペンサ206から分配される微粒子210の量及び方向を調整する。代替の実施形態では、微粒子送達システム200は、微粒子送達システム200が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意のディスペンサ206を含んでいる。例えば、いくつかの実施形態において、微粒子送達システム200は複数のノズル214を含んでいる。
さらに、例示的実施形態では、ディスペンサ206は複数の微粒子210から部品を構築するのを容易にする。微粒子では、ディスペンサ206は特定の位置に異なる微粒子210を選択的に堆積させる。例えば、いくつかの実施形態では、ディスペンサ206は微粒子210を凹部134内に堆積させる(図4に示す)。さらなる実施形態では、異なる微粒子210が互いに隣接して堆積される。例えば、異なる微粒子210が同じ層内で互いに接触して堆積される。さらに、いくつかの実施形態では、異なる微粒子210が同時に堆積され、微粒子210の組成物を形成する。調整アセンブリ204は、表面120上に堆積される各微粒子210の適用量を規定する。したがって、微粒子送達システム200は、部品を構築するために微粒子210の任意の組成物の使用を可能にする。さらに、微粒子送達システム200は、部品内の特性の局所化を容易にする。
さらに、例示的実施形態では、微粒子210の融着を容易にするために融着装置222が設けられる。具体的には、融着装置222は、バインダ226を微粒子210上に堆積させるよう構成されたディスペンサ(例えば、プリントヘッド)224を含んでいる。代替実施形態では、システム100(図1に示す)は、システム100が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の融着装置222を含んでいる。
図6は、例示的な付加製造システム300の斜視図である。例示的実施形態では、付加製造システム300は、微粒子送達システム302及びハウジング304を含んでいる。ハウジング304は、第1微粒子308及び第2微粒子310を保持するよう構成された表面又は構築プレート306を画定する。加えて、付加製造システム300は、第1ディスペンサ312
(図7に示す)及び/又は第2ディスペンサ314(図7に示す)のシャフト330などの微粒子送達システム302の部品の洗浄を容易にするための加圧ガスの供給源334を含んでいる。別の実施形態では、付加製造システム300は、付加製造システム300が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の部品を含んでいる。
(図7に示す)及び/又は第2ディスペンサ314(図7に示す)のシャフト330などの微粒子送達システム302の部品の洗浄を容易にするための加圧ガスの供給源334を含んでいる。別の実施形態では、付加製造システム300は、付加製造システム300が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の部品を含んでいる。
さらに、例示的実施形態では、第1微粒子308及び第2微粒子310は、固体部品を構築するための、付加製造プロセス中に溶融され且つ再固化される粉末構築材料である。例示的実施形態では、第1微粒子308及び第2微粒子310は、コバルト、鉄、アルミニウム、チタン、ニッケル及びそれらの組み合わせのうちのいずれかのガス噴霧合金をそれぞれ含む。代替実施形態では、第1微粒子308及び第2微粒子310は、付加製造システム300が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の材料を含んでいる。例えば、いくつかの実施形態では、第1微粒子308及び/又は第2微粒子310は、セラミック粉末、金属被覆セラミック粉末、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のいずれかを含むがこれらに限定されない。さらなる実施形態では、付加製造システム300は、例えば、第3微粒子、第4微粒子などの任意の数の微粒子を利用する。
図7は、付加製造システム300の微粒子送達システム302の斜視図である。微粒子送達システム302は、第1ディスペンサ312、第2ディスペンサ314、第1微粒子供給部316及び第2微粒子供給部318を含んでいる。例示的実施形態では、第1ディスペンサ312及び第2ディスペンサ314は表面306(図6に示す)の上方に配置され、表面306上に第1微粒子308及び第2微粒子310を堆積させるよう構成されている。特に、第1ディスペンサ312は、第1微粒子供給部316に結合され、第1微粒子供給部316から表面306上に第1微粒子308を分配するよう構成されている。第2ディスペンサ314は、第2微粒子供給部318に結合され、第2微粒子供給部318から表面306上に第2微粒子310を分配するよう構成されている。したがって、第1ディスペンサ312及び第2ディスペンサ314は、異なる微粒子308、124を表面306上に堆積させるのを容易にする。代替の実施形態では、微粒子送達システム302は、付加製造システム300が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の構成を有する。例えば、いくつかの実施形態では、微粒子送達システム302は、第1微粒子308及び第2微粒子310のうちの少なくとも1つを表面306上に堆積させるための粉末ベッド及び移送機構を含んでいる。
さらに、例示的実施形態では、第1微粒子供給部316及び第2微粒子供給部318は、第1微粒子308及び第2微粒子310を内部空間326内に保持するよう構成されている。選別部324は、第1微粒子供給部316及び第2微粒子供給部318に回転可能に連結されており、内部空間326内に配置されている。選別部324は微粒子308、310と接触して回転し、選別された微粒子308、310をディスペンサ312、314に連続的に供給する。代替の実施形態では、微粒子送達システム302は、微粒子送達システム302が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の第1微粒子供給部316及び/又は第2微粒子供給部318を含んでいる。
また、例示的実施形態では、微粒子送達システム302は、第1微粒子308及び第2微粒子310の表面306への堆積を容易にするためのローラ320を含んでいる。ローラ320は、第1ディスペンサ312と第2ディスペンサ314との間に配置されている。代替の実施形態では、微粒子送達システム302は、微粒子送達システム302が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意のローラ320を含んでいる。いくつかの実施形態では、ローラ320は省かれる。
また、例示的実施形態では、第1ディスペンサ312及び第2ディスペンサ314はそれぞれ、軸を中心に回転するよう構成されたシャフト330を含んでいる。各シャフト330は複数の溝332を含んでいる。シャフト330が回転すると、微粒子308、310はそれぞれの溝332内に集められ、表面306に分配される。代替の実施形態では、微粒子送達システム302は、微粒子送達システム302が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意のディスペンサ312、314を含んでいる。例えば、いくつかの実施形態では、微粒子送達システム302は1又は複数のノズルを含んでいる。
さらに、例示的実施形態では、微粒子送達システム302は表面306に対して移動するよう構成されている。特に、第1ディスペンサ312及び第2ディスペンサ314は、表面306に対して横方向に動くよう構成されている。加えて、第1ディスペンサ312及び第2ディスペンサ314は、表面306に向かって及び表面306から離れるように移動するよう構成されている。したがって、微粒子送達システム302は、表面306に任意のパターンで第1微粒子308及び第2微粒子310のうちの少なくとも1つを堆積させるよう構成されている。第1微粒子供給部316及び第2微粒子供給部318は、第1ディスペンサ312及び第2ディスペンサ314に結合されており、第1ディスペンサ312及び第2ディスペンサ314と共に移動するよう構成されている。代替の実施形態では、微粒子送達システム302は、付加製造システム300が本明細書に記載のように動作することを可能にする任意の方法で移動するよう構成されている。
さらに、例示的実施形態では、微粒子送達システム302は、複数の微粒子308、310から部品を構築することを容易にする。微粒子では、微粒子送達システム302は特定の位置に異なる微粒子308、310を選択的に堆積させる。例えば、いくつかの実施形態において、微粒子送達システム302は微粒子308、310を凹部134(図4に示す)内に堆積させる。さらなる実施形態では、異なる微粒子308、310が互いに隣接して、例えば互いに接触して堆積される。微粒子送達システム302は、表面306上に堆積する各微粒子308、310の適用量を規定する。したがって、付加製造システム300は、部品を構築するための微粒子308、310の任意の組成物の使用を可能にする。さらに、付加製造システム300は、部品における特性の局所化を容易にする。
付加製造プロセス及びシステムは、例えば、限定されないが、液槽光重合、粉末ベッド融着、バインダ噴射、材料噴射、シート積層、材料押出、指向性エネルギー堆積及びハイブリッドシステムを含んでいる。これらのプロセス及びシステムは、例えば、限定されないが、SLA−ステレオリソグラフィ装置、DLP−デジタル光処理、3SP−スキャン、スピン、及び選択的光硬化、CLIP−連続液体界面製造、SLS−選択的レーザ焼結、DMLS−直接金属レーザ焼結、SLM−選択的レーザ溶融、EBM−電子ビーム溶融、SHS−選択的熱焼結、MJF−マルチジェット融着、3D印刷、Voxeljet、ポリジェット、SCP−スムーズ曲線印刷、MJM−マルチジェットモデリングProjet、LOM−積層オブジェクト製造、SDL−選択的堆積積層、UAM−超音波付加製造、FFF−溶融フィラメント製造、FDM−溶融堆積モデリング、LMD−レーザ金属堆積、LENS−レーザ金属堆積、DMD−直接金属堆積、ハイブリッドシステム、並びにこれらのプロセス及びシステムの組み合わせを含む。これらのプロセス及びシステムは、例えば、限定されないが、あらゆる形態の電磁放射、加熱、焼結、溶融、硬化、結合、固化、加圧、埋め込み、及びそれらの組み合わせを使用することができる。
付加製造プロセス及びシステムは、これらに限定されないが例えば、ポリマー、プラスチック、金属、セラミック、砂、ガラス、ワックス、繊維、生物学的物質、複合材料、及びこれらの材料のハイブリッドを含む材料を使用する。これらの材料は、これらに限定されないが例えば、液体、固体、粉末、シート、箔、テープ、フィラメント、ペレット、液体、スラリー、ワイヤ、噴霧、ペースト、及びこれらの形態の組み合わせを含む、所与の材料及びプロセス又はシステムに適した様々な形態でこれらのプロセス及びシステムで使用することができる。
上述したシステム及び方法は、直接金属レーザ溶融(DMLM)システムなどの付加製造システムに関する。本明細書に記載の実施形態は、集束エネルギー源及び微粒子送達システムを含んでいる。微粒子送達システムは、表面に複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子を堆積させるよう構成されている。いくつかの実施形態では、微粒子送達システムは、第1微粒子及び第2微粒子を分配するよう構成された少なくとも1つのディスペンサを含んでいる。さらなる実施形態では、第1微粒子の少なくとも一部は、少なくとも部分的に凹部を形成するように移動され、第2微粒子の少なくとも一部は少なくとも部分的に凹部内に堆積される。したがって、記載された実施形態は、部品が局所化された特性を有することを可能にする。例えば、部品内での特性の局所化を容易にするために、部品の構築中に同じ層内に異なる微粒子が含まれる。
本明細書に記載の方法及びシステムの例示的な技術的効果は、(a)局所化された特性を有する部品を提供することと、(b)部品を組み立てるのに必要な時間及び資源を削減ことと、(c)部品の故障リスクを減らすことと、(d)同じ層内に異なる微粒子を含む部品を提供することと、(e)複数の微粒子を表面に堆積させるための微粒子送達システムを提供することのうちの少なくとも1つを含む。
いくつかの実施形態は、1又は複数の電子装置又は計算装置の使用を含んでいる。そのような装置は、典型的に、汎用中央処理装置(CPU)、グラフィック処理装置(GPU)、マイクロコントローラ、縮小命令セットコンピュータ(RISC)プロセッサ、特定用途向け集積回路(ASIC)、プログラマブルロジック回路(PLC)、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、デジタル信号処理(DSP)装置、及び/又は本明細書に記載の機能を実行することができる任意の他の回路又は処理装置などの、プロセッサ、処理装置又はコントローラを含んでいる。本明細書に記載の方法は、記憶装置及び/又はメモリ装置を含むがこれらに限定されない、コンピュータ可読媒体に組み込まれた実行可能な命令として符号化することができる。そのような命令は、処理装置によって実行されると、し処理装置に本明細書に記載された方法の少なくとも一部を実行させる。上記の例は例示的なものにすぎず、したがって、プロセッサ及び処理装置という用語の定義及び/又は意味を決して限定することを意図するものではない。
本発明の様々な実施形態の特定の特徴は、いくつかの図面には示され、他の図面には示されないことがあるが、これは単に便宜上のものである。本初の原理に従って、図面の任意の特徴は、任意の他の図面の任意の特徴と組み合わせて参照又は特許請求され得る。
付加製造された部品を作製するための構築パラメータを向上させるための例示的実施形態は、上で詳細に説明されている。装置、システム及び方法は、本明細書に記載の特定の実施形態に限定されず、むしろ本方法の動作及びシステムの部品は、本明細書に記載の他の動作又は部品とは独立して別々に利用され得る。例えば、本明細書に記載のシステム、方法及び装置は、他の産業用途又は消費者用途を有してもよく、本明細書に記載の部品を用いた実施に限定されない。むしろ、1又は複数の実施形態を他の産業に関連して実装及び利用することができる。
この書面の説明は、最良の形態を含む実施形態を開示し、また任意の装置又はシステムの製造及び使用並びに任意の組み込まれた方法の実行を含む実施形態を当業者が実施できるように例を使用する。本開示の特許性のある範囲は特許請求の範囲によって定義され、当業者に思い浮かぶ他の例を含み得る。そのような他の例は、それらが請求項の文言通りの表現と異ならない構造要素を有する場合、又はそれらが請求項の文言通りの表現とはわずかに異なる同等の構造要素を含む場合、請求項の範囲内にあることが意図される。
Claims (20)
- 微粒子送達システムであって、
表面上に複数の第1微粒子及び複数の第2微粒子を分配するよう構成された少なくとも1つのディスペンサ、
前記少なくとも1つのディスペンサに結合された第1微粒子供給部、及び
前記少なくとも1つのディスペンサに結合された第2微粒子供給部、
を含む、微粒子送達システム
を備え、
前記少なくとも1つのディスペンサは、前記複数の第1微粒子と前記複数の第2微粒子とを互いに隣接して堆積させるよう構成され、前記複数の第1微粒子と前記複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの一部が融着している、付加製造システム。 - 前記微粒子送達システムが、前記第1微粒子供給部及び前記第2微粒子供給部に結合された調整アセンブリであって、前記調整アセンブリが前記第1微粒子供給部及び前記第2微粒子供給部を前記少なくとも1つのディスペンサに調整するよう構成された、調整アセンブリを備える、請求項1に記載の付加製造システム。
- 前記調整アセンブリが少なくとも1つの弁を備える、請求項2に記載の付加製造システム。
- 前記表面上の前記複数の第1微粒子の少なくとも一部を変位させ、少なくとも部分的に凹部を形成するよう構成された変位アセンブリをさらに備える、請求項1に記載の付加製造システム。
- 前記少なくとも1つのディスペンサがノズルを備える、請求項1に記載の付加製造システム。
- 前記少なくとも1つのディスペンサが第1ディスペンサ及び第2ディスペンサを備える、請求項1に記載の付加製造システム。
- 前記複数の第1微粒子及び前記複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部を加熱するよう構成された少なくとも1つの集束エネルギー源をさらに備える、請求項1に記載の付加製造システム。
- 前記複数の第1微粒子及び前記複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部の上にバインダを堆積させるよう構成されたバインダディスペンサをさらに備える、請求項1に記載の付加製造システム。
- 付加製造システムを使用して部品を製造する方法であって、前記方法は、
複数の第1微粒子を堆積させることと、
複数の第2微粒子を堆積させることであって、前記複数の第2微粒子は、前記複数の第1微粒子に隣接して堆積されることと、及び
第1集束エネルギー源を使用して、前記複数の第1微粒子及び前記複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部を加熱することと、
を含む、方法。 - 前記複数の第1微粒子の少なくとも一部を変位させて、少なくとも部分的に凹部を形成することをさらに含み、前記複数の第2微粒子は少なくとも部分的に前記凹部内に堆積される、請求項9に記載の方法。
- 複数の第2微粒子を堆積させることが、凹部を形成するために前記複数の第1微粒子を移動させることと同時に行われる、請求項10に記載の方法。
- 前記第1集束エネルギー源を使用して前記複数の第1微粒子及び前記複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部を加熱することは、前記複数の第2微粒子を堆積させる前に、前記第1集束エネルギー源を使用して、前記複数の第1微粒子の少なくとも一部を加熱することを含む、請求項9に記載の方法。
- 第2集束エネルギー源を使用して、前記複数の第2微粒子を加熱することをさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 表面に対して第1ディスペンサを移動させることをさらに含み、前記第1ディスペンサは前記表面上に前記複数の第1微粒子を分配するよう構成されている、請求項9に記載の方法。
- 前記表面に対して第2ディスペンサを移動させることをさらに含み、前記第2ディスペンサは前記表面上に前記複数の第2微粒子を分配するよう構成されている、請求項14に記載の方法。
- 複数の第1微粒子の少なくとも一部を変位させ、少なくとも部分的に凹部を形成するよう構成されている変位アセンブリと、
複数の第2粒子を分配するよう構成された少なくとも1つのディスペンサであって、前記少なくとも1つのディスペンサは前記複数の第2微粒子の少なくとも一部を少なくとも部分的に前記凹部内に分配するよう構成された、少なくとも1つのディスペンサと、及び、
前記複数の第1微粒子及び前記複数の第2微粒子のうちの少なくとも1つの少なくとも一部を加熱するよう構成された少なくとも1つの集束エネルギー源と、
を備える、付加製造システム。 - 前記少なくとも1つのディスペンサが前記変位アセンブリに結合され、前記変位アセンブリが前記複数の第1微粒子を変位させるときに、前記複数の第2微粒子を分配するよう構成された、請求項16に記載の付加製造システム。
- 前記変位アセンブリが、前記第1微粒子の少なくとも一部と接触するよう構成されたツールを備える、請求項16に記載の付加製造システム。
- 前記変位アセンブリが、前記複数の第1微粒子の一部を除去するよう構成された真空システムを備える、請求項16に記載の付加製造システム。
- 前記少なくとも1つのディスペンサが第1ディスペンサ及び第2ディスペンサを備える、請求項16に記載の付加製造システム。
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