JP2020503436A - スパッタ堆積源、スパッタ堆積装置、及び基板上に層を堆積させる方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- 2以上の電極の対を備えた電極アレイ(110)であって、前記電極アレイ(110)の各電極(112)が、それぞれの回転軸(A)の周りで回転可能であり、基板(10)上に堆積されるべきターゲット材料を供給するように構成されている、電極アレイ(110)、及び
前記2以上の電極の対に、それぞれ、両極性パルスDC電圧を供給するように構成された電源構成体(120)を備える、スパッタ堆積源(100、200)。 - 前記電極アレイ(110)が、本質的に直線的な配置で設けられた4つ、6つ、又はそれを上回る数の電極の対を備え、特に、前記電源構成体(120)が、前記電極の対に両極性パルスDC電圧を同期的に供給するように構成されている、請求項1に記載のスパッタ堆積源(200)。
- 前記電源構成体(120)が、前記2以上の電極の対の各々に対して矩形状又は正方形状波電圧を印加するように構成されており、特に、前記矩形状又は正方形状波電圧が、1kHzから100kHz、特に10kHzから80kHzの周波数を有する、請求項1又は2に記載のスパッタ堆積源。
- 前記電源構成体(120)が、前記2以上の電極の対に、それぞれ、対称両極性パルスDC電圧を供給するように構成されている、請求項1から3のいずれか一項に記載のスパッタ堆積源。
- 各電極(112)に、堆積されるべきターゲット材料を含む円筒形状ターゲットが設けられ、前記ターゲット材料が、特に、金属、金属合金、半導体、金属/非金属化合物、ITO、IGZO、及びアルミニウムのうちの少なくとも1つを含む、請求項1から4のいずれか一項に記載のスパッタ堆積源。
- 前記2以上の電極の対の各々が、パルスユニット(122)を介して前記電源構成体(120)のDC電源(125)に接続されている、請求項1から5のいずれか一項に記載のスパッタ堆積源。
- 前記DC電源(125)が、1kW以上且つ200kW以下の電力、及び/又は100V以上且つ1000V以下の最大電圧を供給するように構成されている、請求項6に記載のスパッタ堆積源。
- 真空チャンバ(402)、
請求項1から7の何れか一項に記載されたスパッタ堆積源(100、200)であって、前記スパッタ堆積源の前記電極アレイ(110)が、前記真空チャンバ(402)内に配置されている、スパッタ堆積源(100、200)、及び
前記真空チャンバ(402)内に配置され、堆積中に基板(10)を支持するように構成されている、基板支持体(406)を備える、スパッタ堆積装置(400)。 - 回転可能電極アレイを備えたスパッタ堆積源を用いて、特に、請求項1から7のいずれか一項に記載のスパッタ堆積源(100、200)を用いて、基板(10)上に層を堆積させる方法であって、
前記回転可能電極アレイの2以上の電極の対に、それぞれ、両極性パルスDC電圧を供給することを含む、方法。 - 前記2以上の電極の対に、それぞれ、矩形状波電圧、正方形状波電圧、及び対称両極性パルスDC電圧のうちの少なくとも1つが供給される、請求項9に記載の方法。
- 前記両極性パルスDC電圧の波形が、負の電圧部分と正の電圧部分を含み、前記負の電圧部分は、前記正の電圧部分と形状及び/又は振幅が本質的に一致している、請求項9又は10に記載の方法。
- 前記両極性パルスDC電圧が、1kHzから100kHz、特に、10kHzから80kHzの周波数で供給される、請求項9から11のいずれか一項に記載の方法。
- 本質的に直線的な配置で設けられた4以上の電極の対に、両極性パルスDC電圧が同期的に供給される、請求項9から12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記2以上の電極の対の各々に、1kW以上且つ200kW以下、特に、10kW以上且つ100kW以下の電力が供給される、請求項9から13のいずれか一項に記載の方法。
- 透明導電性酸化物層、ITO層、IGZO層、IZO層、AlOx層、SiO2層、又は金属層のうちの少なくとも1つが、前記基板上に堆積される、請求項9から14のいずれか一項に記載の方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009280890A (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Ulvac Japan Ltd | スパッタリング方法 |
JP2010206905A (ja) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Ulvac Japan Ltd | スパッタリング装置用の交流電源 |
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---|---|---|---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009280890A (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Ulvac Japan Ltd | スパッタリング方法 |
JP2010206905A (ja) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Ulvac Japan Ltd | スパッタリング装置用の交流電源 |
JP2015519477A (ja) * | 2012-06-01 | 2015-07-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 事前に安定させたプラズマによるプロセスのためのスパッタリング方法 |
WO2016180448A1 (en) * | 2015-05-08 | 2016-11-17 | Applied Materials, Inc. | Method of manufacturing a layer stack for display manufacturing and apparatus therefore |
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