JP2020200204A - 光学ガラス、光学ガラスを用いた光学素子、光学系、交換レンズ、及び光学装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高い屈折率を有する光学ガラスの提供。【解決手段】カチオン成分として、ランタンとニオブのみを含み、モル％基準で、Ｌａ２Ｏ３：２０〜７０％、ＬａＦ３：０〜３０％、Ｎｂ２Ｏ５：３０〜５５％、からなる、光学ガラス。【選択図】図１

Description

本発明は、光学ガラス、光学ガラスを用いた光学素子、光学系、交換レンズ、及び光学装置に関する。

光学ガラスは、様々な光学素子や光学装置に用いられており、例えば、特許文献１には紫外領域から赤外領域に用いられるハロゲン化物ガラスが開示されている。ところで、光学装置に用いられる光学系の設計の自由度を広げるために、高い屈折率を有する光学ガラスの開発が求められている。しかしながら、光学ガラスの屈折率が高くなるように組成を調整すると、ガラス化が困難になるという問題があった。

特開平０７−０８１９７３号公報

本発明の第一の態様は、カチオン成分として、ランタンとニオブのみを含み、モル％基準で、Ｌａ_２Ｏ_３：２０〜７０％、ＬａＦ_３：０〜３０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：３０〜５５％、からなる、光学ガラスである。

本発明の第二の態様は、上述した光学ガラスを用いた光学素子である。

本発明の第三の態様は、上述した光学素子を含む光学系である。

本発明の第四の態様は、上述した光学系を備える交換レンズである。

本発明の第五の態様は、上述した光学系を備える光学装置である。

図１は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える多光子顕微鏡の構成の例を示すブロック図である。 図２は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える撮像装置の斜視図である。 図３は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える撮像装置の別の例の正面図である。 図４は、図３の撮像装置の背面図である。 図５は、ガスジェット式の浮遊炉の全体構成の模式図である。 図６は、ガスジェット式の浮遊炉のステージ上の台座の拡大模式図である。

以下、本発明の実施形態（以下、「本実施形態」という。）について説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。

本実施形態における光学ガラスの各成分の組成範囲、及び特性範囲は以下の通りである。なお、本明細書中において、特に断らない場合は、各成分の含有量は全てカチオン、アニオン、酸化物換算又はフッ化物換算におけるモル％表示であるものとする。

＜光学ガラス＞
本実施形態に係る光学ガラスは、カチオン成分として、ランタンとニオブのみを含み、モル％基準で、Ｌａ_２Ｏ_３：２０〜７０％、ＬａＦ_３：０〜３０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：３０〜５５％、からなるものである。本実施形態に係る光学ガラスは、ＳｉＯ_２やＢ_２Ｏ_３等の網目形成酸化物を構成するカチオンを含有せずともガラス化することができる、新規な光学ガラスである。さらには、高屈折率であり紫外領域においても良好な透過率を有する光学ガラスとすることができる。一般に、光学ガラスに関して高屈折率と紫外〜可視域における透過率とを両立させることは困難であり、両者はトレードオフの傾向に陥りやすい。このようなことから、高屈折率でありながら、可視域で無色透明な光学ガラスとすることも困難であった。しかしながら、本実施形態に係る光学ガラスは、上述した組成を有することでこのような特性も付与することが可能となる。

Ｌａ^３＋は、酸化物換算でＬａ_２Ｏ_３として含まれ、Ｆ⁻を含有する場合にはＬａＦ_３としても含まれる。Ｌａ^３＋は屈折率を高くし、紫外透過性及び赤外透過率を向上させる成分として有効であるが、含有量が少ないと上記効果が十分でない。そして、Ｌａ_２Ｏ_３の含有量が７０％を超えるとガラスが失透しやすくなる。このような観点から、Ｌａ_２Ｏ_３の含有量は２０〜７０％である。そして、Ｌａ_２Ｏ_３の下限は、好ましくは２５％であり、より好ましくは３０％であり、その上限は、好ましくは６５％であり、より好ましくは６０％である。

Ｎｂ^５＋は、酸化物換算組成ではＮｂ_２Ｏ_５として含まれる。Ｎｂ^５＋はガラスの屈折率を高める効果が大きく、Ｌａ^３＋とともにガラス成分として導入することによって、ガラスの安定性を一層高めることができる。その一方で、Ｎｂ^５＋を過剰に導入すると紫外透過率が悪化する。このような観点から、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は３０〜５５％である。そして、Ｎｂ_２Ｏ_５の下限は、好ましくは３５％であり、より好ましくは４０％であり、その上限は、好ましくは５３％であり、より好ましくは５０％である。

また、本実施形態に係る光学ガラスは、アニオン成分としてＦ⁻を含んでもよい。Ｆ⁻を導入すると、紫外領域の透過率が向上するが、屈折率が低下する傾向にある。このような観点から、本実施形態に係る光学ガラスは、ＬａＦ_３としての含有量が０〜３０％である。ＬａＦ_３の含有量の下限は、好ましくは２％であり、より好ましくは５％であり、その上限は、好ましくは２７％であり、より好ましくは２５％である。

なお、本実施形態において、製造過程において不可避的に含有される不純物等は、本実施形態の目的達成に支障がない限り、許容されるものとする。例えば、製造過程における１００ｐｐｍ以下程度のコンタミネーションについては、許容されるものとする。また、ガラスの構成成分以外の添加剤等は、本実施形態に係る光学ガラスの目的達成に支障のない範囲であれば、含有されていてもよい。

次に、本実施形態の光学ガラスの物性値について説明する。

本実施形態に係る光学ガラスは、好適には高屈折率領域に関するものである。本実施形態の光学ガラスのｄ線（波長：５８７．５６２ｎｍ）における屈折率（ｎ_ｄ）は、好ましくは１．８５〜２．２５である。屈折率の下限は、より好ましくは１．９０であり、更に好ましくは１．９５である。

また、本実施形態に係る光学ガラスは、低分散な（アッベ数（ν_ｄ）が高い）ガラスである。本実施形態に係る光学ガラスのアッベ数（ν_ｄ）は、好ましくは２２〜３５である。アッベ数の下限は、より好ましくは２３であり、更に好ましくは２６である。

紫外領域における実用性のため、ガラスの紫外吸収端波長はできるだけ短波長側にあることが望ましい。

この点について、本実施形態に係る光学ガラスは、その好適な態様として、１ｍｍ厚における表面反射損失を含む紫外透過率値が５％になる波長（ＵＶλ_５）を、３７０ｎｍ以下とすることができる。ＵＶλ_５の上限は、より好ましくは３５０ｎｍであり、更に好ましくは３３０ｎｍである。

なお、本明細書でいう吸収端波長とは、特に断りがない限り、上記のＵＶλ_５を意味する。

本実施形態に係る光学ガラスは、紫外領域においても良好な透過率を示す高屈折率ガラスである。例えば、このような光学ガラスを他の光学ガラスと併用した光学系は、従来よりも光学設計の自由度を広げることが可能となる。

本実施形態に係る光学ガラスは、カメラや顕微鏡等の光学装置の備えるレンズ等の光学素子として好適である。このような光学素子の具体例としては、ミラー、レンズ、プリズム、フィルタ等が含まれる。これら光学素子を含む光学系としては、例えば、対物レンズ、集光レンズ、結像レンズ、カメラ用交換レンズ等が挙げられる。そして、これらは、レンズ交換式カメラ、レンズ非交換式カメラ等の撮像装置、多光子顕微鏡等の顕微鏡に用いることができる。なお、光学装置としては、上述した撮像装置や顕微鏡に限られず、ビデオカメラ、テレコンバーター、望遠鏡、双眼鏡、単眼鏡、レーザ距離計、プロジェクタ等も含まれる。以下に、光学装置の例を説明する。

＜多光子顕微鏡＞
図１は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える多光子顕微鏡の構成の例を示すブロック図である。

多光子顕微鏡１は、対物レンズ１０６、集光レンズ１０８、結像レンズ１１０を備える。対物レンズ１０６、集光レンズ１０８、結像レンズ１１０のうち少なくとも１つは、本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。以下、多光子顕微鏡１の光学系を中心に説明する。

パルスレーザ装置１０１は、例えば、近赤外波長（約１０００ｎｍ）であって、パルス幅がフェムト秒単位の（例えば、１００フェムト秒の）超短パルス光を射出する。パルスレーザ装置１０１から射出された直後の超短パルス光は、一般に所定の方向に偏光された直線偏光となっている。

パルス分割装置１０２は、超短パルス光を分割し、超短パルス光の繰り返し周波数を高くして射出する。

ビーム調整部１０３は、パルス分割装置１０２から入射される超短パルス光のビーム径を、対物レンズ１０６の瞳径に合わせて調整する機能、試料Ｓから発せられる多光子励起光の波長と超短パルス光の波長との軸上の色収差（ピント差）を補正するために超短パルス光の集光及び発散角度を調整する機能、超短パルス光のパルス幅が光学系を通過する間に群速度分散により広がってしまうのを補正するために、逆の群速度分散を超短パルス光に与えるプリチャープ機能（群速度分散補償機能）等を有する。

パルスレーザ装置１０１から射出された超短パルス光は、パルス分割装置１０２によりその繰り返し周波数が大きくされ、ビーム調整部１０３により上述した調整が行われる。そして、ビーム調整部１０３から射出された超短パルス光は、ダイクロイックミラー１０４によりダイクロイックミラー１０５の方向に反射され、ダイクロイックミラー１０５を通過し、対物レンズ１０６により集光されて試料Ｓに照射される。このとき、走査手段（不図示）を用いることにより、超短パルス光を試料Ｓの観察面上に走査させてもよい。

例えば、試料Ｓを蛍光観察する場合には、試料Ｓの超短パルス光の被照射領域及びその近傍では、試料Ｓが染色されている蛍光色素が多光子励起され、赤外波長である超短パルス光より波長が短い蛍光（以下、「観察光」という。）が発せられる。

試料Ｓから対物レンズ１０６の方向に発せられた観察光は、対物レンズ１０６によりコリメートされ、その波長に応じて、ダイクロイックミラー１０５により反射されたり、あるいは、ダイクロイックミラー１０５を透過したりする。

ダイクロイックミラー１０５により反射された観察光は、蛍光検出部１０７に入射する。蛍光検出部１０７は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ（ｐｈｏｔｏ ｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ ｔｕｂｅ：光電子増倍管）等により構成され、ダイクロイックミラー１０５により反射された観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部１０７は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。

一方、ダイクロイックミラー１０５を透過した観察光は、走査手段（不図示）によりデスキャンされ、ダイクロイックミラー１０４を透過し、集光レンズ１０８により集光され、対物レンズ１０６の焦点位置とほぼ共役な位置に設けられているピンホール１０９を通過し、結像レンズ１１０を透過して、蛍光検出部１１１に入射する。

蛍光検出部１１１は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ等により構成され、結像レンズ１１０により蛍光検出部１１１の受光面において結像した観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部１１１は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。

なお、ダイクロイックミラー１０５を光路から外すことにより、試料Ｓから対物レンズ１０６の方向に発せられた全ての観察光を蛍光検出部１１１で検出するようにしてもよい。

また、試料Ｓから対物レンズ１０６と逆の方向に発せられた観察光は、ダイクロイックミラー１１２により反射され、蛍光検出部１１３に入射する。蛍光検出部１１３は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ等により構成され、ダイクロイックミラー１１２により反射された観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部１１３は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。

蛍光検出部１０７、１１１、１１３からそれぞれ出力された電気信号は、例えば、コンピュータ（不図示）に入力され、そのコンピュータは、入力された電気信号に基づいて、観察画像を生成し、生成した観察画像を表示したり、観察画像のデータを記憶したりすることができる。

＜撮像装置＞
図２は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える撮像装置の斜視図である。

撮像装置２はいわゆるデジタル一眼レフカメラ（レンズ交換式カメラ）であり、レンズ２０３（光学系）は本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。カメラボディ２０１のレンズマウント（不図示）にレンズ鏡筒２０２が着脱自在に取り付けられる。そして、当該レンズ鏡筒２０２のレンズ２０３を通した光がカメラボディ２０１の背面側に配置されたマルチチップモジュール２０６のセンサチップ（固体撮像素子）２０４上に結像される。このセンサチップ２０４は、いわゆるＣＭＯＳイメージセンサー等のベアチップであり、マルチチップモジュール２０６は、例えばセンサチップ２０４がガラス基板２０５上にベアチップ実装されたＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）タイプのモジュールである。

図３は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える撮像装置の別の例の正面図であり、図４は、図３の撮像装置の背面図である。

この撮像装置ＣＡＭはいわゆるデジタルスチルカメラ（レンズ非交換式カメラ）であり、撮影レンズＷＬ（光学系）は本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。

撮像装置ＣＡＭは、不図示の電源ボタンを押すと、撮影レンズＷＬのシャッタ（不図示）が開放されて、撮影レンズＷＬで被写体（物体）からの光が集光され、像面に配置された撮像素子に結像される。撮像素子に結像された被写体像は、撮像装置ＣＡＭの背後に配置された液晶モニタＬＭに表示される。撮影者は、液晶モニタＬＭを見ながら被写体像の構図を決めた後、レリーズボタンＢ１を押し下げて被写体像を撮像素子で撮像し、メモリ（不図示）に記録保存する。

撮像装置ＣＡＭには、被写体が暗い場合に補助光を発光する補助光発光部ＥＦ、撮像装置ＣＡＭの種々の条件設定等に使用するファンクションボタンＢ２等が配置されている。

このようなデジタルカメラ等に用いられる光学系には、より高い解像度、軽量化、小型化が求められる。これらを実現するには光学系に高屈折率なガラスを用いることが有効である。かかる観点から、本実施形態に係る光学ガラスは、かかる光学機器の部材として好適である。なお、本実施形態において適用可能な光学機器としては、上述した撮像装置に限らず、例えばプロジェクタ等も挙げられる。光学素子についても、レンズに限らず、例えばプリズム等も挙げられる。

＜光学ガラスの製造方法＞
本実施形態の光学ガラスは、例えば、上述した各原料に対応する酸化物、フッ化物、水酸化物、硫酸塩、炭酸塩及び硝酸塩等から選ばれる１種をガラス原料として選択して、浮遊炉を用いて製造することができる。浮遊炉には、静電式、電磁式、音波式、磁気式、及びガスジェット式等があり、特に限定されるものではないが、酸化物の浮遊熔解にはガスジェット式の浮遊炉を用いることが好ましい。以下、ガスジェット式の浮遊炉を用いる製造方法を一例として説明する。

図５は、ガスジェット式の浮遊炉の全体構成の模式図であり、図６は、ガスジェット式の浮遊炉のステージ上の台座の拡大模式図である。

ガスジェット式の浮遊炉３では、原料Ｍは、ステージ３０１上の台座３０２に配置される。そして、レーザ光源３０３から出射されたレーザ光Ｌは、ミラー３０４とミラー３０５を介して原料Ｍへ照射される。レーザ光Ｌの照射により加熱される原料Ｍの温度は、放射温度計３０６でモニタされる。放射温度計３０６がモニタする原料Ｍの温度情報に基づき、レーザ光源３０３の出力がコンピュータ３０７によって制御される。また、原料Ｍの状態はＣＣＤカメラ３０８によって撮像され、それがモニタ３０９へ出力される（図５参照）。なお、レーザ光源としては、例えば、炭酸ガスレーザを使用できる。

ガスジェット式の浮遊炉３では、台座に送り込まれるガスによって原料Ｍが浮遊する状態にある（図６参照）。台座に送り込まれるガスの流量は、ガス流量調節器３１０によって制御される。例えば、円錐状の孔を設けたノズルからガスを噴射し、原料Ｍを浮遊させた状態でレーザ光Ｌによる非接触加熱を行うことができる。原料Ｍが熔解すると自身の表面張力によって球形、又は楕円体形状となりその状態で浮遊する。その後、レーザ光Ｌを遮断すると融液状態となった原料は冷却され、透明なガラスが得られる。なお、ガスの種類は特に限定されず、公知のものを適宜採用することができ、例えば、酸素、窒素、二酸化炭素、アルゴン、空気等が挙げられる。また、ノズルの形状や加熱方式は特に限定されず、公知の方法を適宜採用することができる。

本実施形態に係る光学ガラスの基本組成であるＬａ^３＋−Ｎｂ^５＋系は、これまでガラス化させることが困難であった。例えば、通常使用されているるつぼ等の容器を用いて光学ガラスを製造する場合、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、Ｐ_２Ｏ_５、ＧｅＯ_２等の網目形成酸化物を多く含ませてガラス形成能を高める必要がある。かかる網目形成酸化物の含有量が少なくガラス形成能が低い組成の場合、容器−融液界面を起点とした結晶化（不均一核生成）が発生して、ガラス化できないことが多い。

しかし、上述した浮遊炉を用いる方法によって光学ガラスを製造する場合、容器と融液の接触がないため、不均一核生成を最大限抑制することができる。その結果、融液のガラス形成を大きく促進し、るつぼ熔解では製造不可能な、上述した網目形成酸化物を含まない組成であってもガラス化することが可能になる。すなわち、本実施形態に係る光学ガラスは、Ｓｉ^４＋、Ｂ^３＋、Ｐ^５＋、Ｇｅ^４＋を実質的に含まない光学ガラスであるといえる。このように、上述した製造方法を採用することで、従来ではガラス化させることができなかったＬａ^３＋−Ｎｂ^５＋の二成分系の光学ガラスを製造することができる。さらには、かかるＬａ^３＋−Ｎｂ^５＋の二成分系の光学ガラスに、上述した含有量のＦ⁻をＬａＦ_３として導入することもできる。

かかる新規な組成を有する本実施形態に係る光学ガラスは、高屈折率であり、かつ、高アッベ数であり、また紫外領域においても高い光透過性を有する。そのため、高屈低分散硝材や広帯域透過材料としての応用が可能である。

次に、以下の実施例の説明をするが、本発明は以下の実施例により何ら限定されるものではない。

（光学ガラスの作製）
図５及び図６に示されるガスジェット式の浮遊炉３を用い、以下の手順に準拠して、光学ガラスを作製した。まず、酸化物、フッ化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩等から選ばれる原料を所定の化学組成となるよう可秤量した後、アルミナ製乳鉢で混合した。この原料を２０ＭＰａで一軸加圧し円柱形のペレットに成形した。得られたペレットを電気炉で８００〜１１００℃、窒素雰囲気中で６〜１２時間焼成し、焼結体を作製した。得られた焼結体を粗く砕き、数十ｍｇを採取して台座のノズルに設置した。そして、酸素ガスを噴射しながら炭酸ガスレーザを上方から照射することで原料を熔解させた。熔解した原料は、自身の表面張力で球形又は楕円体形状になり、ガスの圧力で浮遊状態とした。原料が完全に熔解した状態でレーザ出力を遮断することで、原料を冷却してガラスを得た。なお、各実施例では直径２〜３ｍｍの透明なガラス球を得た。また、各実施例のガラスについては、いずれも熔解中に視認できる揮発は見られず、泡や失透のないものが得られた。

（屈折率及びアッベ数の測定）
ガラスの屈折率測定は、プリズムカプラ（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ製、モデル「２０１０／Ｍ」）を用いて測定した。上記した透過率測定で用いた試料の研磨面を単結晶ルチルプリズムに密着させ、測定波長の光を入射させた際の全反射角を測定して屈折率を求めた。４７３ｎｍ、５９４．１ｎｍ、６５６ｎｍの３波長で各５回測定し、平均値を測定値とした。さらに、得られた実測値に対し、以下の式（１）のＤｒｕｄｅ−Ｖｏｉｇｔの分散式を用いて最小二乗法によるフィッティングを行い、ｄ線（５８７．５６２ｎｍ）、Ｆ線（４８６．１３３ｎｍ）、Ｃ線（６５６．２７３ｎｍ）における屈折率（ｎ_ｄ）と、アッベ数（ν_ｄ）を算出した。

（ｎ：屈折率、ｍ：電子質量、ｃ：光速度、ｅ：電荷素量、Ｎ：単位体積当たりの分子数、ｆ：振動子強度、λ_０：固有共鳴波長、λ：波長）

また、アッベ数（ν_ｄ）は、以下の式（２）で定義される。

（紫外−可視透過率の測定）
紫外から可視域の透過率測定には紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製、「ＵＨ４１５０」）を用いた。ガラス球を厚さ１ｍｍの平行板状になるよう２面研磨し、加工した試料を直径２．０ｍｍの穴を設けたアパーチャに固定して、２５０〜７００ｎｍの範囲で透過率を測定した。

このようにして測定された透過率から、１ｍｍ厚における表面反射損失を含む紫外透過率値が５％になる波長（ＵＶλ_５）を算出した。

表１に、各実施例の光学ガラスの組成及び物性値を示す。

以上より、各実施例の光学ガラスは、いずれも屈折率（ｎ_ｄ）が１．８５〜２．２５、紫外吸収端波長（ＵＶλ_５）が３７０ｎｍ以下であり、高い屈折率を有しつつ紫外領域における良好な透過率を有していることが確認された。

１…多光子顕微鏡、１０１…パルスレーザ装置、１０２…パルス分割装置、１０３…ビーム調整部、１０４，１０５，１１２…ダイクロイックミラー、１０６…対物レンズ、１０７，１１１，１１３…蛍光検出部、１０８…集光レンズ、１０９…ピンホール、１１０…結像レンズ、Ｓ…試料、２…撮像装置、２０１…カメラボディ、２０２…レンズ鏡筒、２０３…レンズ、２０４…センサチップ、２０５…ガラス基板、２０６…マルチチップモジュール、ＣＡＭ…撮像装置、ＷＬ…撮影レンズ、ＬＭ…液晶モニタ、ＥＦ…補助光発光部、Ｂ１…レリーズボタン、Ｂ２…ファンクションボタン、３…浮遊炉、３０１…ステージ、３０２…台座、３０３…レーザ光源、３０４，３０５…ミラー、３０６…放射温度計、３０７…コンピュータ、３０８…ＣＣＤカメラ、３０９…モニタ、３１０…ガス流量調節器、Ｌ…レーザ光、Ｍ…原料

Claims (8)

1. カチオン成分として、ランタンとニオブのみを含み、
   モル％基準で、
   Ｌａ_２Ｏ_３：２０〜７０％、
   ＬａＦ_３：０〜３０％、
   Ｎｂ_２Ｏ_５：３０〜５５％、
   からなる、光学ガラス。
2. ｄ線における屈折率（ｎ_ｄ）が、１．８５〜２．２５である、
   請求項１に記載の光学ガラス。
3. アッベ数（ν_ｄ）が、２２〜３５である、
   請求項１又は２に記載の光学ガラス。
4. １ｍｍ厚における表面反射損失を含む紫外透過率値が５％になる波長（ＵＶλ_５）が、３７０ｎｍ以下である、
   請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学ガラス。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学ガラスを用いた光学素子。
6. 請求項５に記載の光学素子を含む光学系。
7. 請求項６に記載の光学系を備える交換レンズ。
8. 請求項６に記載の光学系を備える光学装置。

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