JP2020193981A - Manufacturing method of holding member - Google Patents

Manufacturing method of holding member Download PDF

Info

Publication number
JP2020193981A
JP2020193981A JP2020132999A JP2020132999A JP2020193981A JP 2020193981 A JP2020193981 A JP 2020193981A JP 2020132999 A JP2020132999 A JP 2020132999A JP 2020132999 A JP2020132999 A JP 2020132999A JP 2020193981 A JP2020193981 A JP 2020193981A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
holding member
manufacturing
curing
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020132999A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6968949B2 (en
Inventor
早織 礒野
Saori Isono
早織 礒野
根鍋 昔
Kunho Sok
根鍋 昔
和志 宮田
Kazushi Miyata
和志 宮田
雄大 高森
Takehiro Takamori
雄大 高森
幹司 石橋
Kanji Ishibashi
幹司 石橋
善夏 黄
Zenka Ko
善夏 黄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Towa Corp
Original Assignee
Towa Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2019098125A external-priority patent/JP6952737B2/en
Application filed by Towa Corp filed Critical Towa Corp
Priority to JP2020132999A priority Critical patent/JP6968949B2/en
Publication of JP2020193981A publication Critical patent/JP2020193981A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6968949B2 publication Critical patent/JP6968949B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

To provide a manufacturing method of a holding member capable of precisely detecting the edges of objects to be held which are sucked and held by a plurality of suction holes, respectively.SOLUTION: The manufacturing method of a holding member that holds a plurality of objects to be held and is used for optical inspection, includes: a resin filling step of filling, with a resin, the entire of grooves in a holding unit in which the grooves are arranged between a plurality of suction holes for sucking and holding the objects to be held; and a resin curing step of curing the resin.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、保持対象物を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材の製造方法の技術に関する。 The present invention relates to a technique for manufacturing a holding member that holds an object to be held and is used for an optical inspection.

特許文献1には、電子部品の外観検査装置が開示されている。この電子部品の外観検査装置は、電子部品における被検査部位のエッジを検出し、このエッジの位置に基づき被検査部位の寸法計測及びその良否判定を行うものである。この電子部品の外観検査装置は、検査部品を所定方向から撮像する画像入力手段と、検査部品に対し撮像方向と鋭角を成す少なくとも2方向から別々に光を照射可能な照明手段と、照明手段による方向別の光照射毎に画像入力手段を作動させて撮像を行う撮像制御手段と、光照射毎に得られた画像信号に基づいて電極部のエッジ位置を検出するエッジ位置検出手段とを具備したことを特徴としている。 Patent Document 1 discloses an appearance inspection device for electronic components. This visual inspection device for electronic components detects an edge of an inspected portion of an electronic component, measures the dimensions of the inspected portion based on the position of the edge, and determines the quality thereof. This visual inspection device for electronic components includes an image input means for imaging the inspection component from a predetermined direction, a lighting means capable of separately irradiating the inspection component with light from at least two directions forming a sharp angle with the imaging direction, and a lighting means. It is provided with an image pickup control means for activating an image input means for each direction-specific light irradiation to perform imaging, and an edge position detection means for detecting the edge position of an electrode portion based on an image signal obtained for each light irradiation. It is characterized by that.

特開平8−184410号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-184410

特許文献1に開示された電子部品の外観検査装置では、カメラの撮像中心を挟んで照明器が左右対称に配置され、左側の照明器から一方向の光を検査部品に照射し、右側の照明器から他方向の光を検査部品に照射する。2方向からの照明で得られた各画像データの輝度値を比較し、影及び発色部の有無によって明暗の差が現れる部分を探索して検査部品のエッジ位置を検出する。しかしながら、特許文献1には、保持部材の複数の吸着穴のそれぞれに吸着保持された保持対象物のエッジ検出に用いることは記載されていない。 In the visual inspection device for electronic components disclosed in Patent Document 1, illuminators are arranged symmetrically with the imaging center of the camera in between, and the inspection component is irradiated with light in one direction from the illuminator on the left side to illuminate the inspection component on the right side. The inspection component is irradiated with light from the vessel in the other direction. The brightness values of each image data obtained by illumination from two directions are compared, and the edge position of the inspection component is detected by searching for a portion where a difference in brightness appears depending on the presence or absence of a shadow and a coloring portion. However, Patent Document 1 does not describe that it is used for edge detection of a holding object held by suction in each of a plurality of suction holes of the holding member.

本発明は以上の如き状況に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、複数の吸着穴のそれぞれに吸着保持された保持対象物のエッジ検出を精度よく行うことができる保持部材の製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and the problem to be solved is a holding member capable of accurately detecting the edge of a holding object held by suction in each of a plurality of suction holes. Is to provide a manufacturing method of.

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、この課題を解決するため、本発明に係る保持部材の製造方法は、複数の保持対象物を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材の製造方法であって、前記保持対象物を保持するように吸着する複数の吸着穴の間に配置された溝が設けられた保持部に対して、前記溝の全体に樹脂を充填する樹脂充填工程と、前記樹脂を硬化させる樹脂硬化工程と、を含むものである。 The problem to be solved by the present invention is as described above, and in order to solve this problem, the method for manufacturing a holding member according to the present invention holds a plurality of holding objects and is used for optical inspection. A resin for manufacturing a member, in which a holding portion provided with grooves arranged between a plurality of suction holes for sucking the object to be held is filled with resin in the entire groove. It includes a filling step and a resin curing step of curing the resin.

本発明によれば、複数の吸着穴のそれぞれに吸着保持された保持対象物のエッジ検出を精度よく行うことができる。 According to the present invention, it is possible to accurately detect the edge of a holding object held by suction in each of a plurality of suction holes.

本発明の一実施形態に係る切断装置の全体的な構成を示した平面模式図。The plan view which showed the overall structure of the cutting apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. (a)保持部材の平面模式図。(b)X−X断面図。(A) Schematic diagram of the holding member. (B) XX sectional view. 樹脂反射部の表面の形状を示した断面模式図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the shape of the surface of the resin reflective portion. 実施例1に係る保持部材の製造方法を示した図。The figure which showed the manufacturing method of the holding member which concerns on Example 1. 実施例1において、保持部材を製造する様子を順に示した断面模式図。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which holding members are manufactured in order in Example 1. 実施例2に係る保持部材の製造方法を示した図。The figure which showed the manufacturing method of the holding member which concerns on Example 2. 実施例2において、保持部材を製造する様子を順に示した断面模式図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which holding members are manufactured in order in Example 2. 図7の続きを示した断面模式図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the continuation of FIG. 7.

まず、図1を用いて、本実施形態に係る切断装置1の構成について説明する。本実施形態においては、例えば、切断装置1による切断対象物として、半導体チップが装着された基板を樹脂封止したパッケージ基板Pを用いる場合の、切断装置1の構成について説明する。 First, the configuration of the cutting device 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, for example, the configuration of the cutting device 1 in the case where the package substrate P in which the substrate on which the semiconductor chip is mounted is resin-sealed is used as the object to be cut by the cutting device 1 will be described.

パッケージ基板Pとしては、例えば、BGA(Ball grid array)パッケージ基板、CSP(Chip size package)パッケージ基板、LED(Light emitting diode)パッケージ基板等が使用される。また、切断対象物としては、パッケージ基板Pだけでなく、半導体チップが装着されたリードフレームを樹脂封止した封止済みリードフレームが使用されることもある。 As the package substrate P, for example, a BGA (Ball grid array) package substrate, a CSP (Chip size package) package substrate, an LED (Light emitting dimension) package substrate, or the like is used. Further, as the object to be cut, not only the package substrate P but also a sealed lead frame in which a lead frame on which a semiconductor chip is mounted is sealed with a resin may be used.

なお、以下では、パッケージ基板Pの両面のうち、樹脂封止される側の面をモールド面、モールド面と反対側の面をボール/リード面と、それぞれ称する。 In the following, of both sides of the package substrate P, the surface on the resin-sealed side is referred to as a mold surface, and the surface opposite to the mold surface is referred to as a ball / lead surface.

切断装置1は、構成要素として、切断モジュールA及び検査モジュールBを具備する。各構成要素は、他の構成要素に対して着脱可能かつ交換可能である。 The cutting device 1 includes a cutting module A and an inspection module B as components. Each component is removable and interchangeable with respect to other components.

切断モジュールAは、主にパッケージ基板Pの切断を行う構成要素である。切断モジュールAは、主として基板供給部3、位置決め部4、切断テーブル5、スピンドル6、搬送部7及び制御部8を具備する。 The cutting module A is a component that mainly cuts the package substrate P. The cutting module A mainly includes a substrate supply unit 3, a positioning unit 4, a cutting table 5, a spindle 6, a transport unit 7, and a control unit 8.

基板供給部3は、パッケージ基板Pを供給するものである。基板供給部3は、複数のパッケージ基板Pが収容されたマガジンMから、パッケージ基板Pを1つずつ押し出して後述する位置決め部4へと供給する。パッケージ基板Pは、ボール/リード面を上に向けて配置されている。 The substrate supply unit 3 supplies the package substrate P. The substrate supply unit 3 pushes out the package substrates P one by one from the magazine M containing the plurality of package substrates P and supplies them to the positioning unit 4 described later. The package substrate P is arranged with the ball / lead surface facing up.

位置決め部4は、基板供給部3によって供給されたパッケージ基板Pの位置決めを行うものである。位置決め部4は、基板供給部3から押し出されたパッケージ基板Pをレール部4aに配置し、位置決めを行う。その後、位置決め部4は、位置決めされたパッケージ基板Pを、後述する切断テーブル5へと搬送する。 The positioning unit 4 positions the package substrate P supplied by the substrate supply unit 3. The positioning unit 4 arranges the package substrate P extruded from the substrate supply unit 3 on the rail unit 4a and performs positioning. After that, the positioning unit 4 conveys the positioned package substrate P to the cutting table 5 described later.

切断テーブル5は、切断されるパッケージ基板Pを保持するものである。本実施形態では、2個の切断テーブル5を有するツインカットテーブル構成の切断装置1を例示している。切断テーブル5には、位置決め部4によって搬送されたパッケージ基板Pを下方から吸着して保持する保持部材5aが設けられる。また、切断テーブル5には、保持部材5aを図のθ方向に回転させることが可能な回転機構5bと、保持部材5aを図のY方向に移動させることが可能な移動機構5cと、が設けられる。 The cutting table 5 holds the package substrate P to be cut. In this embodiment, a cutting device 1 having a twin cut table configuration having two cutting tables 5 is illustrated. The cutting table 5 is provided with a holding member 5a that attracts and holds the package substrate P conveyed by the positioning unit 4 from below. Further, the cutting table 5 is provided with a rotation mechanism 5b capable of rotating the holding member 5a in the θ direction in the drawing and a moving mechanism 5c capable of moving the holding member 5a in the Y direction in the drawing. Be done.

スピンドル6は、パッケージ基板Pを切断して複数の半導体パッケージS(図2参照)に個片化するものである。本実施形態では、2個のスピンドル6を有するツインスピンドル構成の切断装置1を例示している。スピンドル6は、図のX方向及びZ方向に移動することができる。スピンドル6には、パッケージ基板Pを切断するための回転刃6aが装着される。 The spindle 6 cuts the package substrate P and separates it into a plurality of semiconductor packages S (see FIG. 2). In this embodiment, a cutting device 1 having a twin spindle configuration having two spindles 6 is illustrated. The spindle 6 can move in the X and Z directions in the figure. A rotary blade 6a for cutting the package substrate P is mounted on the spindle 6.

スピンドル6には、高速回転する回転刃6aに向かって切削水を噴射する切削水用ノズル、冷却水を噴射する冷却水用ノズル、切断屑などを洗浄する洗浄水を噴射する洗浄水用ノズル(いずれも図示なし)等が設けられる。 The spindle 6 has a cutting water nozzle that injects cutting water toward a rotary blade 6a that rotates at high speed, a cooling water nozzle that injects cooling water, and a cleaning water nozzle that injects cleaning water for cleaning cutting debris. Neither is shown) and the like are provided.

切断テーブル5がパッケージ基板Pを吸着した後、第一位置確認カメラ5dによって、パッケージ基板Pの位置が確認される。その後、切断テーブル5は、図のY方向に沿ってスピンドル6に近づくように移動する。切断テーブル5がスピンドル6の下方に移動した後、切断テーブル5とスピンドル6とを相対的に移動させることによって、パッケージ基板Pが切断される。スピンドル6によってパッケージ基板Pが切断される度に、第二位置確認カメラ6bによって、パッケージ基板Pの位置等が確認される。
ここで、第一位置確認カメラ5dによる確認は、例えば、パッケージ基板Pに設けられた切断位置を示すマークの位置を確認することができる。第二位置確認カメラ6bによる確認は、例えば、パッケージ基板Pの切断された位置、切断された幅等を確認することができる。
なお、上記確認カメラによる確認は、第一位置確認カメラ5dを使用せずに、第二位置確認カメラ6bのみで確認を行ってもよい。
After the cutting table 5 attracts the package substrate P, the position of the package substrate P is confirmed by the first position confirmation camera 5d. After that, the cutting table 5 moves so as to approach the spindle 6 along the Y direction in the figure. After the cutting table 5 moves below the spindle 6, the package substrate P is cut by relatively moving the cutting table 5 and the spindle 6. Every time the package substrate P is cut by the spindle 6, the position of the package substrate P and the like are confirmed by the second position confirmation camera 6b.
Here, in the confirmation by the first position confirmation camera 5d, for example, the position of the mark indicating the cutting position provided on the package substrate P can be confirmed. The confirmation by the second position confirmation camera 6b can confirm, for example, the cut position, the cut width, and the like of the package substrate P.
The confirmation by the confirmation camera may be performed only by the second position confirmation camera 6b without using the first position confirmation camera 5d.

切断テーブル5は、パッケージ基板Pの切断が完了した後、個片化された複数の半導体パッケージSを吸着したまま図のY方向に沿ってスピンドル6から離れるように移動する。この際、第一クリーナ5eによって半導体パッケージSの上面(ボール/リード面面)の洗浄及び乾燥が行われる。 After the cutting of the package substrate P is completed, the cutting table 5 moves away from the spindle 6 along the Y direction in the drawing while adsorbing the plurality of fragmented semiconductor packages S. At this time, the upper surface (ball / lead surface) of the semiconductor package S is cleaned and dried by the first cleaner 5e.

搬送部7は、半導体パッケージSを検査モジュールBの検査テーブル11へと搬送するものである。搬送部7は、切断テーブル5に保持された半導体パッケージSを上方から吸着し、検査モジュールBへと搬送する。この際、第二クリーナ7aによって半導体パッケージSの下面(モールド面)の洗浄及び乾燥が行われる。 The transport unit 7 transports the semiconductor package S to the inspection table 11 of the inspection module B. The transport unit 7 sucks the semiconductor package S held on the cutting table 5 from above and transports it to the inspection module B. At this time, the lower surface (mold surface) of the semiconductor package S is cleaned and dried by the second cleaner 7a.

制御部8は、切断モジュールAの各部の動作を制御するものである。制御部8によって、基板供給部3、位置決め部4、切断テーブル5、スピンドル6及び搬送部7等の動作が制御される。また制御部8を用いて、切断モジュールAの各部の動作を任意に変更(調整)することができる。 The control unit 8 controls the operation of each part of the cutting module A. The control unit 8 controls the operations of the substrate supply unit 3, the positioning unit 4, the cutting table 5, the spindle 6, the transport unit 7, and the like. Further, the operation of each part of the cutting module A can be arbitrarily changed (adjusted) by using the control unit 8.

検査モジュールBは、主に半導体パッケージSの検査を行う構成要素である。検査モジュールBは、主として検査テーブル11、第一光学検査カメラ12、第二光学検査カメラ13、配置部14、抽出部15及び制御部16を具備する。 The inspection module B is a component that mainly inspects the semiconductor package S. The inspection module B mainly includes an inspection table 11, a first optical inspection camera 12, a second optical inspection camera 13, an arrangement unit 14, an extraction unit 15, and a control unit 16.

検査テーブル11は、半導体パッケージSを光学的に検査するために保持するものである。検査テーブル11は、図のX方向に沿って移動可能である。また検査テーブル11は、上下反転することができる。検査テーブル11には、半導体パッケージSを吸着して保持する保持部材100が設けられる。 The inspection table 11 holds the semiconductor package S for optically inspecting it. The inspection table 11 can be moved along the X direction in the figure. The inspection table 11 can be turned upside down. The inspection table 11 is provided with a holding member 100 that attracts and holds the semiconductor package S.

第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13は、半導体パッケージSの表面(ボール/リード面及びモールド面)を光学的に検査するものである。第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13は、検査テーブル11の近傍に、上に向けて配置される。第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13には、検査の際に光を照射可能な照明装置(図示なし)がそれぞれ設けられる。 The first optical inspection camera 12 and the second optical inspection camera 13 optically inspect the surfaces (ball / lead surface and mold surface) of the semiconductor package S. The first optical inspection camera 12 and the second optical inspection camera 13 are arranged in the vicinity of the inspection table 11 so as to face upward. The first optical inspection camera 12 and the second optical inspection camera 13 are each provided with a lighting device (not shown) capable of irradiating light during inspection.

第一光学検査カメラ12は、搬送部7によって検査テーブル11へと搬送される半導体パッケージSのモールド面を検査する。その後、搬送部7は、検査テーブル11の保持部材100に半導体パッケージSを載置する。保持部材100が半導体パッケージSを吸着して保持した後、検査テーブル11は上下反転する。検査テーブル11は第二光学検査カメラ13の上方へと移動し、半導体パッケージSのボール/リード面が第二光学検査カメラ13によって検査される。
例えば、第一光学検査カメラ12は、半導体パッケージSの欠けや半導体パッケージSにマーキングされた文字等を検査することができる。また、例えば、第二光学検査カメラ13は、半導体パッケージSのサイズや形状、ボール/リードの位置等を検査することができる。
The first optical inspection camera 12 inspects the molded surface of the semiconductor package S transported to the inspection table 11 by the transport unit 7. After that, the transport unit 7 places the semiconductor package S on the holding member 100 of the inspection table 11. After the holding member 100 sucks and holds the semiconductor package S, the inspection table 11 is turned upside down. The inspection table 11 moves above the second optical inspection camera 13, and the ball / lead surface of the semiconductor package S is inspected by the second optical inspection camera 13.
For example, the first optical inspection camera 12 can inspect a chip in the semiconductor package S, characters marked on the semiconductor package S, and the like. Further, for example, the second optical inspection camera 13 can inspect the size and shape of the semiconductor package S, the position of the ball / lead, and the like.

配置部14は、検査が完了した半導体パッケージSを配置するためのものである。配置部14は、図のY方向に沿って移動可能である。検査テーブル11は、第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13による検査が完了した半導体パッケージSを配置部14に配置する。 The arranging unit 14 is for arranging the semiconductor package S for which the inspection has been completed. The arrangement unit 14 can be moved along the Y direction in the figure. In the inspection table 11, the semiconductor package S that has been inspected by the first optical inspection camera 12 and the second optical inspection camera 13 is arranged in the arrangement unit 14.

抽出部15は、配置部14に配置された半導体パッケージSをトレイに移送して収納するものである。第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13による検査結果に基づいて、良品と不良品とに区別された半導体パッケージSは、抽出部15によってトレイに収納される。この際、抽出部15は、半導体パッケージSのうち、良品を良品用トレイ15aに、不良品を不良品トレイ15bに、それぞれ収納する。トレイが半導体パッケージSで満たされると、別の空のトレイが適宜供給される。 The extraction unit 15 transfers the semiconductor package S arranged in the arrangement unit 14 to a tray and stores it. The semiconductor package S, which is classified into a non-defective product and a defective product based on the inspection results by the first optical inspection camera 12 and the second optical inspection camera 13, is stored in the tray by the extraction unit 15. At this time, the extraction unit 15 stores the non-defective product in the non-defective product tray 15a and the defective product in the defective product tray 15b in the semiconductor package S, respectively. When the tray is filled with the semiconductor package S, another empty tray is appropriately supplied.

制御部16は、検査モジュールBの各部の動作を制御するものである。制御部16によって、検査テーブル11、第一光学検査カメラ12、第二光学検査カメラ13、配置部14及び抽出部15等の動作が制御される。また制御部16を用いて、検査モジュールBの各部の動作を任意に変更(調整)することができる。 The control unit 16 controls the operation of each part of the inspection module B. The control unit 16 controls the operations of the inspection table 11, the first optical inspection camera 12, the second optical inspection camera 13, the arrangement unit 14, the extraction unit 15, and the like. Further, the operation of each part of the inspection module B can be arbitrarily changed (adjusted) by using the control unit 16.

以上のように、本実施形態に係る切断装置1は、パッケージ基板Pを切断して、複数の半導体パッケージSに個片化することができる。 As described above, the cutting device 1 according to the present embodiment can cut the package substrate P and separate it into a plurality of semiconductor packages S.

次に、図2を用いて、検査テーブル11に設けられる保持部材100の構成について説明する。なお以下では、図中に示した矢印U、矢印D、矢印L、矢印R、矢印F及び矢印Bで示した方向を、それぞれ上方向、下方向、左方向、右方向、前方向及び後方向と定義して説明を行う。また、図に示す保持部材100は、説明の便宜上、適宜簡略化して図示されたものである。実際の保持部材100の構成(例えば、後述する吸着穴111や吸着面113の個数や配置等)は、図に示すものに限らない。 Next, the configuration of the holding member 100 provided on the inspection table 11 will be described with reference to FIG. In the following, the directions indicated by the arrows U, D, L, R, F and B in the figure are upward, downward, left, right, forward and backward, respectively. It is defined as and explained. Further, the holding member 100 shown in the figure is shown in an appropriately simplified manner for convenience of explanation. The actual configuration of the holding member 100 (for example, the number and arrangement of the suction holes 111 and the suction surfaces 113 described later) is not limited to those shown in the figure.

保持部材100は、前述のように、複数の半導体パッケージSを光学的に検査する際に保持するものである。保持部材100は、主として保持部である樹脂シート110及び反射部である樹脂反射部120を備える。なお、図2(a)においては、樹脂シート110と樹脂反射部120を区別するため、樹脂反射部120を斜線で示している。 As described above, the holding member 100 holds the plurality of semiconductor packages S when optically inspecting them. The holding member 100 mainly includes a resin sheet 110 which is a holding portion and a resin reflecting portion 120 which is a reflecting portion. In FIG. 2A, the resin reflecting portion 120 is shaded in order to distinguish the resin sheet 110 from the resin reflecting portion 120.

樹脂シート110は、矩形板状に形成される部材である。樹脂シート110の素材としては、例えば、シリコーン系の樹脂やフッ素系の樹脂等が用いられる。本実施形態では、保持する半導体パッケージSの静電気を拡散させるために、樹脂シート110にカーボンを含ませて導電性(静電気拡散性)を向上させている。これにより樹脂シート110は、黒っぽい色になるように形成される。樹脂シート110には、主として吸着穴111及び溝112が形成される。 The resin sheet 110 is a member formed in the shape of a rectangular plate. As the material of the resin sheet 110, for example, a silicone-based resin, a fluorine-based resin, or the like is used. In the present embodiment, in order to diffuse the static electricity of the semiconductor package S to be held, the resin sheet 110 contains carbon to improve the conductivity (static electricity diffusivity). As a result, the resin sheet 110 is formed so as to have a blackish color. The resin sheet 110 is mainly formed with suction holes 111 and grooves 112.

吸着穴111は、半導体パッケージSを吸着するための穴である。吸着穴111は、樹脂シート110を上下方向(厚み方向)に貫通するように形成される。吸着穴111は、前後及び左右に一定の間隔をあけて複数形成される。 The suction hole 111 is a hole for sucking the semiconductor package S. The suction hole 111 is formed so as to penetrate the resin sheet 110 in the vertical direction (thickness direction). A plurality of suction holes 111 are formed at regular intervals in the front-rear and left-right directions.

溝112は、樹脂シート110の表面(上面)を窪ませるようにして形成される部分である。溝112は、隣接する吸着穴111同士を前後及び左右に区画するような格子状に形成される。このように溝112を形成することにより、樹脂シート110の上面には、各吸着穴111の周辺に矩形状(正方形状)の吸着面113が形成される。吸着面113は、吸着する半導体パッケージSの外形(矩形状)と概ね同一の形状となるように形成される。 The groove 112 is a portion formed so as to dent the surface (upper surface) of the resin sheet 110. The grooves 112 are formed in a grid pattern so as to partition adjacent suction holes 111 from each other in the front-rear and left-right directions. By forming the groove 112 in this way, a rectangular (square) suction surface 113 is formed on the upper surface of the resin sheet 110 around each suction hole 111. The suction surface 113 is formed so as to have substantially the same shape as the outer shape (rectangular shape) of the semiconductor package S to be sucked.

樹脂反射部120は、樹脂シート110の溝112を埋めるように設けられるものである。樹脂反射部120の素材としては、例えば、シリコーン系の樹脂やフッ素系の樹脂等が用いられる。本実施形態では、樹脂反射部120に酸化チタンを含ませている。これにより樹脂反射部120は、白っぽい色になるように形成される。またこれにより、樹脂反射部120は、樹脂シート110に比べて高い反射率(入射する光束に対する、はね返る光束の比)を有する。 The resin reflecting portion 120 is provided so as to fill the groove 112 of the resin sheet 110. As the material of the resin reflective portion 120, for example, a silicone-based resin, a fluorine-based resin, or the like is used. In the present embodiment, the resin reflective portion 120 contains titanium oxide. As a result, the resin reflective portion 120 is formed so as to have a whitish color. Further, as a result, the resin reflecting portion 120 has a higher reflectance (ratio of the rebounding luminous flux to the incident luminous flux) than that of the resin sheet 110.

なお、樹脂反射部120を着色するための材料としては、上記酸化チタンに限るものではなく、樹脂反射部120が樹脂シート110に比べて高い反射率を有することができるものであればよい。例えば、メタリック顔料(鉛を除く各種金属フレーク、めっき用合金、アルミニウム、スズ、亜鉛、クロム、金、銀、プラチナ等)、フレーク状アルミナ、白色顔料(酸化チタン、酸化亜鉛等)、パール顔料(マイカ、シリカ、ガラス等)、再帰反射材(ガラスビーズ等)、並びに希釈剤及び増量剤(炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム等)等を用いることができる。 The material for coloring the resin reflective portion 120 is not limited to the titanium oxide, as long as the resin reflective portion 120 can have a higher reflectance than the resin sheet 110. For example, metallic pigments (various metal flakes other than lead, plating alloys, aluminum, tin, zinc, chromium, gold, silver, platinum, etc.), flake-like alumina, white pigments (titanium oxide, zinc oxide, etc.), pearl pigments (titanium oxide, zinc oxide, etc.) Mica, silica, glass, etc.), retroreflecting material (glass beads, etc.), and diluents and bulking agents (calcium carbonate, aluminum hydroxide, barium sulfate, etc.) and the like can be used.

樹脂反射部120は、樹脂シート110の溝112全体に充填されるように設けられる。樹脂反射部120は、平坦な表面(すなわち、溝112から露出している上側面)を有するように形成されている。このように樹脂反射部120の表面を平坦に形成することで、光の乱反射を抑制することができる。 The resin reflecting portion 120 is provided so as to fill the entire groove 112 of the resin sheet 110. The resin reflective portion 120 is formed so as to have a flat surface (that is, an upper side surface exposed from the groove 112). By forming the surface of the resin reflecting portion 120 flat in this way, diffused reflection of light can be suppressed.

図3を用いて、樹脂反射部120の平坦な表面について具体的に説明する。図3に示すように、保持部材100を溝112の深さ方向(上下方向)に対して平行に切断した断面視において、樹脂反射部120の表面は、高低差Lが所定値以下となるように形成されている。ここで、樹脂反射部120の表面の高低差Lとは、樹脂シート110の表面(吸着面113)に対して垂直な方向(図例では、上下方向)における、樹脂反射部120の表面の最も高い位置と最も低い位置の差を意味する。なお、図3においては、樹脂シート110の上面の位置と樹脂反射部120の最も高い位置が一致している例を示している。 The flat surface of the resin reflective portion 120 will be specifically described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, in a cross-sectional view in which the holding member 100 is cut in parallel with the depth direction (vertical direction) of the groove 112, the height difference L of the surface of the resin reflecting portion 120 is set to a predetermined value or less. Is formed in. Here, the height difference L on the surface of the resin reflecting portion 120 is the most of the surface of the resin reflecting portion 120 in the direction perpendicular to the surface (adsorption surface 113) of the resin sheet 110 (vertical direction in the figure). It means the difference between the highest position and the lowest position. Note that FIG. 3 shows an example in which the position of the upper surface of the resin sheet 110 and the highest position of the resin reflecting portion 120 coincide with each other.

ここで、具体的な測定方法について説明する。まず、樹脂シート110の上面を2点指定し、この2点を通る直線aを引く。樹脂シート110の上面の位置と樹脂反射部120の最も高い位置が一致するので、直線aは、樹脂反射部120の最も高い位置を示すことになる。次に、直線aに対して平行な直線bを作成し、樹脂反射部120の表面の最も低い部分に直線bを移動する。直線aと直線bとの距離に基づき樹脂反射部120の表面の高低差Lを測定する。なお、樹脂反射部120の最も高い位置が、樹脂シート110の上面の位置と一致していない場合には、樹脂反射部120の最も高い位置と最も低い位置(直線b)との距離に基づいて高低差Lを測定する。
樹脂反射部120の表面の測定には、キーエンス社製のデジタルマイクロスコープ(型式:VHX−5000)を用いた。
Here, a specific measurement method will be described. First, two points are designated on the upper surface of the resin sheet 110, and a straight line a passing through these two points is drawn. Since the position of the upper surface of the resin sheet 110 and the highest position of the resin reflecting portion 120 coincide with each other, the straight line a indicates the highest position of the resin reflecting portion 120. Next, a straight line b parallel to the straight line a is created, and the straight line b is moved to the lowest portion of the surface of the resin reflecting portion 120. The height difference L on the surface of the resin reflecting portion 120 is measured based on the distance between the straight line a and the straight line b. When the highest position of the resin reflecting portion 120 does not match the position of the upper surface of the resin sheet 110, it is based on the distance between the highest position and the lowest position (straight line b) of the resin reflecting portion 120. The height difference L is measured.
A digital microscope (model: VHX-5000) manufactured by KEYENCE Corporation was used to measure the surface of the resin reflective portion 120.

本実施形態においては、樹脂反射部120の表面は、高低差Lが50μm以下となるように形成されている。このように、高低差Lが50μm以下である場合、樹脂反射部120の表面は平坦であるものとする。なお、樹脂反射部120の表面の高低差Lが小さいほど光の乱反射を抑制し易い。このため樹脂反射部120の表面は、高低差Lが45μm以下、40μm以下、35μm以下、30μm以下、25μm以下、又は20μm以下となるように形成されることがより好ましい。 In the present embodiment, the surface of the resin reflecting portion 120 is formed so that the height difference L is 50 μm or less. As described above, when the height difference L is 50 μm or less, the surface of the resin reflecting portion 120 is assumed to be flat. The smaller the height difference L on the surface of the resin reflecting portion 120, the easier it is to suppress diffused reflection of light. Therefore, it is more preferable that the surface of the resin reflective portion 120 is formed so that the height difference L is 45 μm or less, 40 μm or less, 35 μm or less, 30 μm or less, 25 μm or less, or 20 μm or less.

このように構成された保持部材100を用いて、検査される半導体パッケージSが保持される。具体的には、図2に示すように、各吸着面113に半導体パッケージSが1つずつ載置された状態で、吸着穴111を介して保持部材100の下方から空気が吸引されることによって、半導体パッケージSが吸着面113に吸着されて保持される。保持部材100によって保持された半導体パッケージSは、第二光学検査カメラ13(図1参照)によって撮影され、外形部分のサイズ等が検査される。 The semiconductor package S to be inspected is held by using the holding member 100 configured in this way. Specifically, as shown in FIG. 2, air is sucked from below the holding member 100 through the suction holes 111 in a state where one semiconductor package S is placed on each suction surface 113. , The semiconductor package S is sucked and held on the suction surface 113. The semiconductor package S held by the holding member 100 is photographed by the second optical inspection camera 13 (see FIG. 1), and the size and the like of the outer shape portion are inspected.

ここで、上方から保持部材100を見ると、半導体パッケージSの周囲には比較的反射率の高い樹脂反射部120が配置されることになる。このように樹脂反射部120を配置することで、第二光学検査カメラ13によって撮影した際の、半導体パッケージSのエッジ部分(半導体パッケージSと、樹脂反射部120と、の境界部分)のコントラストを明確にすることができる。これによって、第二光学検査カメラ13による半導体パッケージSのエッジの検出を、容易にかつ精度よく行うことができる。これに伴い、半導体パッケージSのエッジを検出するための時間を短縮することもできる。 Here, when the holding member 100 is viewed from above, the resin reflective portion 120 having a relatively high reflectance is arranged around the semiconductor package S. By arranging the resin reflecting portion 120 in this way, the contrast of the edge portion (the boundary portion between the semiconductor package S and the resin reflecting portion 120) of the semiconductor package S when photographed by the second optical inspection camera 13 can be obtained. Can be clarified. As a result, the edge of the semiconductor package S can be detected easily and accurately by the second optical inspection camera 13. Along with this, the time for detecting the edge of the semiconductor package S can be shortened.

さらに本実施形態では、樹脂反射部120の表面が平坦になるように(高低差Lが50μm以下となるように)形成されている。樹脂反射部120の表面を平坦に形成することで、光の乱反射を抑制することができる。これによって、第二光学検査カメラ13によって撮影した際の、半導体パッケージSのエッジ部分のコントラストを明確にすることができる。 Further, in the present embodiment, the surface of the resin reflecting portion 120 is formed to be flat (so that the height difference L is 50 μm or less). By forming the surface of the resin reflecting portion 120 flat, diffused reflection of light can be suppressed. Thereby, the contrast of the edge portion of the semiconductor package S when photographed by the second optical inspection camera 13 can be clarified.

<実施例1>
次に、図4及び図5を用いて、ディスペンサDを用いた保持部材100の製造方法について説明する。
<Example 1>
Next, a method of manufacturing the holding member 100 using the dispenser D will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

図4に示すように、実施例1に係る保持部材100の製造方法は、主として、プラズマ照射工程S11、樹脂充填工程S12及び樹脂硬化工程S13を含む。 As shown in FIG. 4, the method for manufacturing the holding member 100 according to the first embodiment mainly includes a plasma irradiation step S11, a resin filling step S12, and a resin curing step S13.

プラズマ照射工程S11は、樹脂シート110に対してプラズマ照射を行う工程である。プラズマ照射工程S11において、まず吸着穴111及び溝112が形成された樹脂シート110を準備する。次に、樹脂シート110(特に、溝112)に対してプラズマを照射する(図5(a)参照)。樹脂シートの特に溝112に対してプラズマ照射(プラズマ処理)を行うことで、樹脂シート110の表面張力を制御(樹脂シート110の濡れ性を向上)し、後述する樹脂反射部120の表面を平坦に形成することができる。プラズマ照射には、例えば、アルゴンを用いることができる。 The plasma irradiation step S11 is a step of irradiating the resin sheet 110 with plasma. In the plasma irradiation step S11, first, the resin sheet 110 on which the suction holes 111 and the grooves 112 are formed is prepared. Next, the resin sheet 110 (particularly, the groove 112) is irradiated with plasma (see FIG. 5A). By irradiating the groove 112 of the resin sheet with plasma (plasma treatment), the surface tension of the resin sheet 110 is controlled (wetting property of the resin sheet 110 is improved), and the surface of the resin reflecting portion 120 described later is flattened. Can be formed into. For example, argon can be used for plasma irradiation.

プラズマ照射工程S11の後、樹脂充填工程S12が行われる。樹脂充填工程S21は、樹脂シート110の溝112に樹脂反射部120の素材となる樹脂Rを充填する工程である。樹脂充填工程S21において、ディスペンサDにより樹脂Rを吐出して、樹脂シート110の溝112に樹脂Rを供給する(図5(b)参照)。ディスペンサDは、長手方向の溝112に樹脂Rを充填した後、短手方向の溝112に樹脂Rを充填する。この際、溝112が樹脂Rで満たされるように、十分な量の樹脂Rが供給される。樹脂Rの充填は、上述の順番に限らず、短手方向の溝112に樹脂Rを充填した後、長手方向の溝112に樹脂Rを充填してもよい。 After the plasma irradiation step S11, the resin filling step S12 is performed. The resin filling step S21 is a step of filling the groove 112 of the resin sheet 110 with the resin R as the material of the resin reflecting portion 120. In the resin filling step S21, the resin R is discharged by the dispenser D, and the resin R is supplied to the groove 112 of the resin sheet 110 (see FIG. 5B). The dispenser D fills the groove 112 in the longitudinal direction with the resin R, and then fills the groove 112 in the lateral direction with the resin R. At this time, a sufficient amount of resin R is supplied so that the groove 112 is filled with the resin R. The filling of the resin R is not limited to the above-mentioned order, and the groove 112 in the lateral direction may be filled with the resin R, and then the groove 112 in the longitudinal direction may be filled with the resin R.

ディスペンサDは、例えば、ジェットディスペンサを用いることが好ましく、ピエゾジェットディスペンサを用いることができる。ピエゾジェットディスペンサは、電圧を加えると微細な変形をするピエゾ素子を用いたディスペンサで、ピエゾ素子による微細な変位により、連結したロッドが往復運動を繰り返し、バルブを高速で開閉することによって、適切な量の樹脂Rを吐出することができる。また、高粘度の樹脂Rを使用した場合でも、ピエゾジェットディスペンサであれば、吐出後の樹脂Rの糸引きの発生を低減することができる。 As the dispenser D, for example, it is preferable to use a jet dispenser, and a piezo jet dispenser can be used. The piezo jet dispenser is a dispenser that uses a piezo element that deforms minutely when a voltage is applied. Due to the minute displacement caused by the piezo element, the connected rods repeatedly reciprocate and open and close the valve at high speed, which is appropriate. A large amount of resin R can be discharged. Further, even when the high-viscosity resin R is used, the piezo jet dispenser can reduce the occurrence of stringing of the resin R after discharge.

樹脂充填工程S12の後、樹脂硬化工程S13が行われる。樹脂硬化工程S13は、樹脂Rを硬化させる工程である。例えば樹脂シート110等は、60℃のオーブンで1時間加熱される。加熱方法としては、オーブンを用いた加熱に限られず、例えば、ホットプレートを用いて加熱してもよい。これによって、溝112に充填された樹脂Rが硬化し、樹脂反射部120が形成される(図5(c)参照)。 After the resin filling step S12, the resin curing step S13 is performed. The resin curing step S13 is a step of curing the resin R. For example, the resin sheet 110 and the like are heated in an oven at 60 ° C. for 1 hour. The heating method is not limited to heating using an oven, and for example, heating may be performed using a hot plate. As a result, the resin R filled in the groove 112 is cured, and the resin reflecting portion 120 is formed (see FIG. 5C).

<実施例2>
次に、図6から図8までを用いて、他の保持部材100の製造方法について説明する。
<Example 2>
Next, a method of manufacturing the other holding member 100 will be described with reference to FIGS. 6 to 8.

図6に示すように、実施例2に係る保持部材100の製造方法は、主として樹脂充填工程S21、樹脂脱泡工程S22、平坦部材配置工程S23、樹脂硬化工程S24、平坦部材取り外し工程S25、樹脂除去工程S26及び2次硬化工程S27を含む。 As shown in FIG. 6, the manufacturing method of the holding member 100 according to the second embodiment is mainly a resin filling step S21, a resin defoaming step S22, a flat member arranging step S23, a resin curing step S24, a flat member removing step S25, and a resin. The removal step S26 and the secondary curing step S27 are included.

樹脂充填工程S21は、樹脂シート110の溝112に樹脂反射部120の素材となる樹脂Rを充填する工程である。樹脂充填工程S21において、まず吸着穴111及び溝112が形成された樹脂シート110を準備する(図7(a)参照)。次に、樹脂シート110の上側面(溝112が形成された面)に樹脂Rを供給する(図7(b)参照)。この際、溝112が樹脂Rで満たされるように、十分な量の樹脂Rが供給される。樹脂シート110の上側面に樹脂Rが供給されることで、溝112の内部だけでなく、吸着穴111の内部に樹脂Rが浸入したり、樹脂シート110の表面にも樹脂Rが付着したりすることになる。 The resin filling step S21 is a step of filling the groove 112 of the resin sheet 110 with the resin R as the material of the resin reflecting portion 120. In the resin filling step S21, first, the resin sheet 110 on which the suction holes 111 and the grooves 112 are formed is prepared (see FIG. 7A). Next, the resin R is supplied to the upper side surface (the surface on which the groove 112 is formed) of the resin sheet 110 (see FIG. 7B). At this time, a sufficient amount of resin R is supplied so that the groove 112 is filled with the resin R. By supplying the resin R to the upper side surface of the resin sheet 110, the resin R penetrates not only inside the groove 112 but also inside the suction hole 111, and the resin R adheres to the surface of the resin sheet 110. Will be done.

樹脂充填工程S21の後、樹脂脱泡工程S22が行われる。樹脂脱泡工程S22は、樹脂Rの脱泡を行う工程である。具体的には、樹脂Rが供給された樹脂シート110を所定の容器内に配置し、真空ポンプを用いてその容器を真空状態とする。これによって、樹脂Rに含まれる空気(気泡)が除去される。 After the resin filling step S21, the resin defoaming step S22 is performed. The resin defoaming step S22 is a step of defoaming the resin R. Specifically, the resin sheet 110 to which the resin R is supplied is placed in a predetermined container, and the container is evacuated by using a vacuum pump. As a result, the air (air bubbles) contained in the resin R is removed.

樹脂脱泡工程S22の後、平坦部材配置工程S23が行われる。平坦部材配置工程S23は、樹脂シート110の上側面に平坦部材Fを配置する工程である。平坦部材配置工程S23において、まず樹脂シート110の上側面に供給された樹脂Rの上から、平坦部材Fが載置される(図7(c)参照)。 After the resin defoaming step S22, the flat member arranging step S23 is performed. The flat member arranging step S23 is a step of arranging the flat member F on the upper side surface of the resin sheet 110. In the flat member arranging step S23, the flat member F is first placed on the resin R supplied to the upper side surface of the resin sheet 110 (see FIG. 7C).

ここで、平坦部材Fとしては、平坦な表面を有する部材が用いられる。本実施形態では、平坦部材Fとして、鏡面(光の反射によって物が映るように仕上げられた表面)を有するフィルム状の部材(鏡面フィルム)を用いている。 Here, as the flat member F, a member having a flat surface is used. In the present embodiment, as the flat member F, a film-like member (mirror surface film) having a mirror surface (a surface finished so that an object is reflected by reflection of light) is used.

次に、平坦部材Fが、樹脂シート110(樹脂R)に対して押し付けられる(図7(d)参照)。例えば、ヘラなどの道具を用いて、平坦部材Fの中央側から外側に向かって順に力が加えられることにより、平坦部材Fが樹脂シート110に押し付けられる。これによって、平坦部材Fと樹脂Rとの間の空気(気泡)が除去される。また平坦部材Fが樹脂Rに押し付けられることによって、平坦部材Fの表面形状(鏡面)が樹脂Rの表面に転写され、樹脂Rの表面が平坦になる。 Next, the flat member F is pressed against the resin sheet 110 (resin R) (see FIG. 7D). For example, the flat member F is pressed against the resin sheet 110 by applying a force in order from the center side to the outside of the flat member F using a tool such as a spatula. As a result, air (air bubbles) between the flat member F and the resin R is removed. Further, when the flat member F is pressed against the resin R, the surface shape (mirror surface) of the flat member F is transferred to the surface of the resin R, and the surface of the resin R becomes flat.

なお、平坦部材Fを樹脂シート110に対して押し付けることで、平坦部材Fと樹脂シート110との間の樹脂Rは外部へと押し出される。しかし、平坦部材Fと樹脂シート110との間の樹脂Rは完全に排出されるわけではなく、樹脂シート110の上側面に堆積している樹脂Rの厚さが小さくなり、樹脂シート110の上側面(吸着面113)には樹脂Rの薄膜が残る。 By pressing the flat member F against the resin sheet 110, the resin R between the flat member F and the resin sheet 110 is pushed out. However, the resin R between the flat member F and the resin sheet 110 is not completely discharged, and the thickness of the resin R deposited on the upper side surface of the resin sheet 110 becomes smaller, so that the resin R is on the resin sheet 110. A thin film of resin R remains on the side surface (adsorption surface 113).

平坦部材配置工程S23の後、樹脂硬化工程S24が行われる。樹脂硬化工程S24は、樹脂Rを硬化(1次硬化)させる工程である。樹脂硬化工程S24において、平坦部材Fが配置された樹脂シート110が上下反転される(図8(a)参照)。次に、所定の成形型を用いて、樹脂シート110及び平坦部材Fを上下から挟むように力が加えられる(プレスされる)。次に、樹脂シート110等がプレスされた状態のまま、適宜加熱される。例えば樹脂シート110等は、60℃のオーブンで1時間加熱される。これによって、樹脂Rがある程度硬化(1次硬化)される。このように、樹脂シート110等をプレスして、平坦部材Fによって樹脂シート110の樹脂Rに対して圧力を加えた状態を維持したまま硬化させることで、加熱による樹脂Rの表面の変形を抑制し、樹脂Rの表面を平坦に保つことができる。 After the flat member arranging step S23, the resin curing step S24 is performed. The resin curing step S24 is a step of curing the resin R (primary curing). In the resin curing step S24, the resin sheet 110 on which the flat member F is arranged is turned upside down (see FIG. 8A). Next, a force is applied (pressed) so as to sandwich the resin sheet 110 and the flat member F from above and below using a predetermined molding die. Next, the resin sheet 110 or the like is appropriately heated while being pressed. For example, the resin sheet 110 and the like are heated in an oven at 60 ° C. for 1 hour. As a result, the resin R is cured to some extent (primary curing). In this way, the resin sheet 110 or the like is pressed and cured while maintaining the state in which pressure is applied to the resin R of the resin sheet 110 by the flat member F, thereby suppressing deformation of the surface of the resin R due to heating. However, the surface of the resin R can be kept flat.

なお、樹脂硬化工程S24では樹脂シート110を上下反転させて1次硬化を行うものとしたが、必ずしも樹脂シート110を上下反転させる必要はない。 In the resin curing step S24, the resin sheet 110 is turned upside down to perform primary curing, but it is not always necessary to turn the resin sheet 110 upside down.

樹脂硬化工程S24の後、平坦部材取り外し工程S25が行われる。平坦部材取り外し工程S25は、平坦部材Fを樹脂シート110から取り外す工程である。平坦部材取り外し工程S25において、樹脂シート110は再び上下反転される。次に、平坦部材Fが、樹脂シート110(より詳細には、1次硬化された樹脂R)から取り外される(図8(b)参照)。 After the resin curing step S24, the flat member removing step S25 is performed. The flat member removing step S25 is a step of removing the flat member F from the resin sheet 110. In the flat member removing step S25, the resin sheet 110 is turned upside down again. Next, the flat member F is removed from the resin sheet 110 (more specifically, the primary cured resin R) (see FIG. 8B).

平坦部材取り外し工程S25の後、樹脂除去工程S26が行われる。樹脂除去工程S26は、樹脂シート110から、不要な樹脂Rを除去する工程である。樹脂除去工程S26において、樹脂シート110の溝112に充填された樹脂R以外の樹脂Rが除去される(図8(c)参照)。具体的には、樹脂シート110の上側面(吸着面113)に残った樹脂Rの薄膜が除去される。また、樹脂シート110の吸着穴111の内部に浸入した樹脂Rが除去される。また、樹脂シート110のその他の部分(例えば、外側面等)に付着した樹脂Rがあれば、その樹脂Rも除去される。 After the flat member removing step S25, the resin removing step S26 is performed. The resin removing step S26 is a step of removing unnecessary resin R from the resin sheet 110. In the resin removing step S26, the resin R other than the resin R filled in the groove 112 of the resin sheet 110 is removed (see FIG. 8C). Specifically, the thin film of resin R remaining on the upper side surface (adsorption surface 113) of the resin sheet 110 is removed. Further, the resin R that has penetrated into the suction hole 111 of the resin sheet 110 is removed. Further, if there is resin R adhering to other parts (for example, the outer surface or the like) of the resin sheet 110, the resin R is also removed.

なお、樹脂Rを除去する方法は特に限定するものではない。樹脂Rは、作業者が手で除去してもよく、また適宜の工具や装置を用いて除去してもよい。例えば、グラインダー等の研削装置を用いて樹脂Rを除去することや、レーザー等を用いて樹脂Rを除去することが可能である。 The method for removing the resin R is not particularly limited. The resin R may be removed by hand by an operator, or may be removed by using an appropriate tool or device. For example, it is possible to remove the resin R using a grinding device such as a grinder, or to remove the resin R using a laser or the like.

樹脂除去工程S26の後、2次硬化工程S27が行われる。2次硬化工程S27は、樹脂シート110の溝112に充填された樹脂Rをさらに硬化(2次硬化)させる工程である。2次硬化工程S27において、樹脂シート110等は適宜加熱される。例えば樹脂シート110等は、60℃のオーブンで4時間、又は、150度のオーブンで1時間加熱される。これによって、溝112に充填された樹脂Rがさらに硬化(2次硬化)され、樹脂反射部120が形成される。 After the resin removing step S26, a secondary curing step S27 is performed. The secondary curing step S27 is a step of further curing (secondary curing) the resin R filled in the groove 112 of the resin sheet 110. In the secondary curing step S27, the resin sheet 110 and the like are appropriately heated. For example, the resin sheet 110 or the like is heated in an oven at 60 ° C. for 4 hours or in an oven at 150 ° C. for 1 hour. As a result, the resin R filled in the groove 112 is further cured (secondary curing) to form the resin reflecting portion 120.

以上の如く、本実施形態に係る保持部材100は、
複数の半導体パッケージS(保持対象物)を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材100であって、
前記半導体パッケージSを保持するように吸着する複数の吸着穴111、及び複数の前記吸着穴111の間に配置された溝112が設けられた樹脂シート110(保持部)と、
前記溝112に設けられ、前記樹脂シート110より反射率が高い樹脂反射部120(反射部)と、を備え、
前記樹脂反射部120は平坦な表面を有するものである。
As described above, the holding member 100 according to the present embodiment is
A holding member 100 that holds a plurality of semiconductor packages S (holding objects) and is used for optical inspection.
A resin sheet 110 (holding portion) provided with a plurality of suction holes 111 for sucking the semiconductor package S so as to hold the semiconductor package S, and a groove 112 arranged between the plurality of suction holes 111.
A resin reflecting portion 120 (reflecting portion) provided in the groove 112 and having a higher reflectance than the resin sheet 110 is provided.
The resin reflective portion 120 has a flat surface.

このように構成することにより、複数の吸着穴111のそれぞれに吸着保持された半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。すなわち、比較的反射率の高い樹脂反射部120を設けることで、樹脂反射部120と、吸着穴111に吸着された半導体パッケージSと、の境界部分のコントラストを明確にすることができる。また、樹脂反射部120の表面が平坦になるように形成されているため、光の乱反射を抑制し、コントラストをより明確にすることができる。 With this configuration, it is possible to accurately detect the edge of the semiconductor package S which is suction-held in each of the plurality of suction holes 111. That is, by providing the resin reflecting portion 120 having a relatively high reflectance, the contrast between the resin reflecting portion 120 and the semiconductor package S adsorbed on the suction hole 111 can be clarified. Further, since the surface of the resin reflecting portion 120 is formed to be flat, diffused reflection of light can be suppressed and the contrast can be made clearer.

また、樹脂反射部120の表面は、前記溝112の深さ方向に対して平行に切断した断面視において、高低差が50μm以下である。 Further, the surface of the resin reflecting portion 120 has a height difference of 50 μm or less in a cross-sectional view cut in parallel with the depth direction of the groove 112.

このように構成することにより、半導体パッケージSのエッジ検出をより精度よく行うことができる。すなわち、樹脂反射部120の表面の高低差を所定値以下に抑えることで、光の乱反射を効果的に抑制することができる。 With this configuration, edge detection of the semiconductor package S can be performed more accurately. That is, by suppressing the height difference of the surface of the resin reflecting portion 120 to a predetermined value or less, diffused reflection of light can be effectively suppressed.

また、本実施形態に係る検査モジュールB(検査機構)は、保持部材100に保持された半導体パッケージSの検査を行うものである。 Further, the inspection module B (inspection mechanism) according to the present embodiment inspects the semiconductor package S held by the holding member 100.

このように構成することにより、簡単な構成で半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。 With such a configuration, the edge detection of the semiconductor package S can be performed accurately with a simple configuration.

また、本実施形態に係る切断装置1は、
パッケージ基板P(切断対象物)を切断し、複数の前記半導体パッケージSを得る切断モジュールA(切断機構)と、
検査モジュールBと、を備え、
前記検査モジュールBによって、前記切断モジュールAにより得られた前記半導体パッケージSの検査を行うものである。
Further, the cutting device 1 according to the present embodiment is
A cutting module A (cutting mechanism) that cuts a package substrate P (object to be cut) to obtain a plurality of the semiconductor packages S,
With inspection module B,
The inspection module B inspects the semiconductor package S obtained by the cutting module A.

このように構成することにより、簡単な構成で半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。 With such a configuration, the edge detection of the semiconductor package S can be performed accurately with a simple configuration.

また、本実施形態に係る半導体パッケージSの製造方法は、切断装置1を用いて半導体パッケージSを製造するものである。 Further, the method for manufacturing the semiconductor package S according to the present embodiment is to manufacture the semiconductor package S by using the cutting device 1.

このように構成することにより、簡単な構成で半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。ひいては、半導体パッケージSの生産性を向上させることができる。 With such a configuration, the edge detection of the semiconductor package S can be performed accurately with a simple configuration. As a result, the productivity of the semiconductor package S can be improved.

また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
複数の半導体パッケージS(保持対象物)を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材100の製造方法であって、
前記半導体パッケージSを保持するように吸着する複数の吸着穴111の間に配置された溝112が設けられた樹脂シート110(保持部)に対して、前記溝112に樹脂Rを充填する樹脂充填工程S12(樹脂充填工程S21)と、
前記樹脂Rを硬化させる樹脂硬化工程S13(樹脂硬化工程S24)と、を含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding member 100 according to the present embodiment is as follows.
A method for manufacturing a holding member 100 that holds a plurality of semiconductor packages S (holding objects) and is used for optical inspection.
A resin sheet 110 (holding portion) provided with grooves 112 arranged between a plurality of suction holes 111 for sucking the semiconductor package S is filled with resin R to fill the grooves 112. Step S12 (resin filling step S21) and
It includes a resin curing step S13 (resin curing step S24) for curing the resin R.

このように構成することにより、保持部材100を容易に製造することができる。また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法により得られた保持部材100を用いることで、簡単な構成で半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。 With such a configuration, the holding member 100 can be easily manufactured. Further, by using the holding member 100 obtained by the method for manufacturing the holding member 100 according to the present embodiment, the edge detection of the semiconductor package S can be performed accurately with a simple configuration.

また、前記樹脂充填工程S12は、ディスペンサDにより前記樹脂Rを吐出して、前記溝112に前記樹脂Rを充填するものである。 Further, in the resin filling step S12, the resin R is discharged by the dispenser D, and the groove 112 is filled with the resin R.

このように構成することにより、保持部材100を容易に製造することができる。すなわち、比較的樹脂Rの吐出精度の高いディスペンサDにより溝112に樹脂Rを充填することで、容易かつ精度よく溝112に樹脂Rを充填することができる。 With such a configuration, the holding member 100 can be easily manufactured. That is, by filling the groove 112 with the resin R by the dispenser D having a relatively high discharge accuracy of the resin R, the groove 112 can be filled with the resin R easily and accurately.

また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂充填工程S12の前に、前記樹脂シート110に対してプラズマ照射を行うプラズマ照射工程S11をさらに含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding member 100 according to the present embodiment is as follows.
Prior to the resin filling step S12, a plasma irradiation step S11 for irradiating the resin sheet 110 with plasma is further included.

このように構成することにより、樹脂反射部120の表面を容易に平坦に形成することができる。すなわち、樹脂シート110(特に溝112)の濡れ性を向上させることで、溝112に充填される樹脂Rの表面を平坦にすることができ、ひいては樹脂Rを硬化させることで形成される樹脂反射部120の表面を平坦にすることができる。 With this configuration, the surface of the resin reflective portion 120 can be easily formed flat. That is, by improving the wettability of the resin sheet 110 (particularly the groove 112), the surface of the resin R filled in the groove 112 can be flattened, and by extension, the resin reflection formed by curing the resin R. The surface of the portion 120 can be flattened.

また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂充填工程S21の後に、前記樹脂Rの脱泡を行う樹脂脱泡工程S22をさらに含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding member 100 according to the present embodiment is as follows.
After the resin filling step S21, a resin defoaming step S22 for defoaming the resin R is further included.

このように構成することにより、樹脂R(樹脂反射部120)の表面を、より平坦に形成し易くすることができる。すなわち、樹脂Rに含まれる空気(気泡)を除去することで、気泡に起因する樹脂Rの表面の凹凸や変形を抑制することができる。 With this configuration, the surface of the resin R (resin reflecting portion 120) can be easily formed more flat. That is, by removing the air (bubbles) contained in the resin R, it is possible to suppress the unevenness and deformation of the surface of the resin R caused by the bubbles.

また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂充填工程S21の後に、前記樹脂シート110の表面に平坦部材Fを配置する平坦部材配置工程S23をさらに含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding member 100 according to the present embodiment is as follows.
After the resin filling step S21, a flat member arranging step S23 for arranging the flat member F on the surface of the resin sheet 110 is further included.

このように構成することにより、樹脂R(樹脂反射部120)の表面を、より平坦に形成し易くすることができる。すなわち、樹脂シート110の表面に平坦部材Fを配置することで、溝112に充填された樹脂Rの表面を平坦に形成することができる。 With this configuration, the surface of the resin R (resin reflecting portion 120) can be easily formed more flat. That is, by arranging the flat member F on the surface of the resin sheet 110, the surface of the resin R filled in the groove 112 can be formed flat.

また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂硬化工程S24において、前記溝112に充填された前記樹脂Rに対して、前記平坦部材Fによって圧力が加えられた状態で、前記樹脂Rを硬化させるものである。
Further, the method for manufacturing the holding member 100 according to the present embodiment is as follows.
In the resin curing step S24, the resin R is cured in a state where pressure is applied to the resin R filled in the groove 112 by the flat member F.

このように構成することにより、樹脂R(樹脂反射部120)の表面を、より平坦に形成し易くすることができる。すなわち、硬化に伴う樹脂Rの表面の変形を抑制することができる。 With this configuration, the surface of the resin R (resin reflecting portion 120) can be easily formed more flat. That is, the deformation of the surface of the resin R due to curing can be suppressed.

また、前記樹脂充填工程21では、複数の前記吸着穴111にも前記樹脂Rを充填し、
前記樹脂硬化工程S24の後に、前記樹脂シート110の表面から前記平坦部材Fを取り外す平坦部材取り外し工程S25と、
前記平坦部材取り外し工程S25の後に、前記樹脂シート110の前記溝112以外に付着した前記樹脂Rを除去する樹脂除去工程S26と、をさらに含むものである。
Further, in the resin filling step 21, the resin R is also filled in the plurality of suction holes 111.
After the resin curing step S24, a flat member removing step S25 for removing the flat member F from the surface of the resin sheet 110,
After the flat member removing step S25, a resin removing step S26 for removing the resin R adhering to other than the groove 112 of the resin sheet 110 is further included.

このように構成することにより、不要な樹脂Rを除去した保持部材100を得ることができる。すなわち、溝112に配置された樹脂R(樹脂反射部120)以外の樹脂Rは、半導体パッケージSのエッジ検出の精度向上のために必要なものではないため、その樹脂Rを除去することで、不要な樹脂Rが残留することによる不都合(例えば、半導体パッケージSの吸着を阻害する等)の発生を抑制することができる。 With this configuration, the holding member 100 from which unnecessary resin R has been removed can be obtained. That is, since the resin R other than the resin R (resin reflecting portion 120) arranged in the groove 112 is not necessary for improving the accuracy of edge detection of the semiconductor package S, the resin R can be removed by removing the resin R. It is possible to suppress the occurrence of inconvenience (for example, inhibiting the adsorption of the semiconductor package S) due to the remaining unnecessary resin R.

また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂硬化工程S24の後に、前記樹脂Rをさらに硬化させる2次硬化工程S27をさらに含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding member 100 according to the present embodiment is as follows.
After the resin curing step S24, a secondary curing step S27 for further curing the resin R is further included.

このように構成することにより、保持部材100の変形を抑制することができる。すなわち、複数回に分けて樹脂Rを硬化させることにより、保持部材100の変形(反り等)を抑制することができる。 With this configuration, deformation of the holding member 100 can be suppressed. That is, by curing the resin R in a plurality of times, deformation (warpage, etc.) of the holding member 100 can be suppressed.

また、前記樹脂充填工程21では、複数の前記吸着穴111にも前記樹脂Rを充填し、
前記樹脂硬化工程S24の後に、前記樹脂シート110の表面から前記平坦部材Fを取り外す平坦部材取り外し工程S25と、
前記平坦部材取り外し工程S25の後に、前記樹脂シート110の前記溝112以外に付着した前記樹脂Rを除去する樹脂除去工程S26と、
前記樹脂除去工程S26の後に、前記樹脂Rをさらに硬化させる2次硬化工程S27と、をさらに含むものである。
Further, in the resin filling step 21, the resin R is also filled in the plurality of suction holes 111.
After the resin curing step S24, a flat member removing step S25 for removing the flat member F from the surface of the resin sheet 110,
After the flat member removing step S25, a resin removing step S26 for removing the resin R adhering to other than the groove 112 of the resin sheet 110,
After the resin removing step S26, a secondary curing step S27 for further curing the resin R is further included.

このように構成することにより、不要な樹脂Rを容易に除去することができる。すなわち、樹脂Rを硬化させる途中(樹脂硬化工程S24の後、かつ2次硬化工程S27の前)で樹脂Rを除去することができるため、樹脂Rを容易に除去することができる。 With such a configuration, unnecessary resin R can be easily removed. That is, since the resin R can be removed during the curing of the resin R (after the resin curing step S24 and before the secondary curing step S27), the resin R can be easily removed.

なお、本実施形態に係る半導体パッケージSは、本発明に係る保持対象物の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る樹脂シート110は、本発明に係る保持部の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る樹脂反射部120は、本発明に係る反射部の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る切断モジュールAは、本発明に係る切断機構の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る検査モジュールBは、本発明に係る検査機構の実施の一形態である。
また、本実施形態に係るパッケージ基板Pは、本発明に係る切断対象物の実施の一形態である。
The semiconductor package S according to the present embodiment is an embodiment of the object to be retained according to the present invention.
Further, the resin sheet 110 according to the present embodiment is an embodiment of the holding portion according to the present invention.
Further, the resin reflective portion 120 according to the present embodiment is an embodiment of the reflective portion according to the present invention.
Further, the cutting module A according to the present embodiment is an embodiment of the cutting mechanism according to the present invention.
Further, the inspection module B according to the present embodiment is an embodiment of the inspection mechanism according to the present invention.
Further, the package substrate P according to the present embodiment is an embodiment of the object to be cut according to the present invention.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の技術的思想の範囲内で適宜の変更が可能である。 Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and appropriate modifications can be made within the scope of the technical idea of the invention described in the claims. is there.

例えば、本実施形態で例示した切断装置1の構成は一例であり、具体的な構成は適宜変更することが可能である。 For example, the configuration of the cutting device 1 illustrated in this embodiment is an example, and the specific configuration can be changed as appropriate.

例えば、本実施形態では、切断モジュールA及び検査モジュールBのそれぞれが制御部(制御部8及び制御部16)を備えるものとしたが、本発明はこれに限るものではなく、それぞれの制御部を1つの制御部にまとめることや、3つ以上の制御部に分割することも可能である。また、本実施形態の切断装置1は、2個の切断テーブル5を有するツインカットテーブル構成であるものとしたが、本発明はこれに限るものではなく、切断テーブル5を1つだけ有するものであってもよい。また、本実施形態の切断装置1は、2個のスピンドル6を有するツインスピンドル構成であるものとしたが、本発明はこれに限るものではなく、スピンドル6を1つだけ有するものであってもよい。 For example, in the present embodiment, each of the cutting module A and the inspection module B is provided with a control unit (control unit 8 and control unit 16), but the present invention is not limited to this, and each control unit is provided. It is also possible to combine them into one control unit or divide them into three or more control units. Further, the cutting device 1 of the present embodiment has a twin cut table configuration having two cutting tables 5, but the present invention is not limited to this, and the cutting device 1 has only one cutting table 5. There may be. Further, the cutting device 1 of the present embodiment has a twin spindle configuration having two spindles 6, but the present invention is not limited to this, and even if the cutting device 1 has only one spindle 6. Good.

また、本実施形態では、保持部材100を検査テーブル11に設ける構成としたが、本発明はこれに限るものではなく、保持部材100を搬送部7に設けてもよく、検査テーブル11及び搬送部7の両方に保持部材100を設けてもよい。切断装置1は、保持部材100を設けた搬送部7に対応する第一光学検査カメラ12、又は保持部材100を設けた検査テーブル11に対応する第二光学検査カメラ13のいずれか一方のみを備えた構成としてもよい。 Further, in the present embodiment, the holding member 100 is provided on the inspection table 11, but the present invention is not limited to this, and the holding member 100 may be provided on the transport unit 7, and the inspection table 11 and the transport unit are provided. The holding member 100 may be provided on both of the 7. The cutting device 1 includes only one of the first optical inspection camera 12 corresponding to the transport unit 7 provided with the holding member 100 and the second optical inspection camera 13 corresponding to the inspection table 11 provided with the holding member 100. It may be configured as an optical device.

また、本実施形態では、樹脂反射部120は樹脂シート110に比べて高い反射率を有するものとしたが、必ずしも全波長の光の反射率が高い必要はない。すなわち、保持部材100は、カメラ(本実施形態においては、第二光学検査カメラ13)による光学的な検査に用いられるものであるため、少なくともこのカメラの特性(取得できる波長情報)に応じた波長の光について、樹脂反射部120の方が樹脂シート110よりも高い反射率を有していればよい。 Further, in the present embodiment, the resin reflecting portion 120 has a higher reflectance than the resin sheet 110, but the reflectance of light of all wavelengths does not necessarily have to be high. That is, since the holding member 100 is used for optical inspection by a camera (second optical inspection camera 13 in this embodiment), at least a wavelength corresponding to the characteristics (acquirable wavelength information) of this camera. It suffices that the resin reflecting portion 120 has a higher reflectance than the resin sheet 110.

また、反射率は検査に用いられる光源に対する反射率であり、光源としては、単一の光源を用いても、出射光(照明光)の波長領域が同じ複数の光源を用いても、出射光(照明光)の波長領域が異なる複数の光源を用いてもよい。また、反射率はカメラによる検出に基づくが、カメラによる検出は、単一又は複数の光源の全波長領域での検出であっても、複数の光源のうちの一部の光源の波長領域での検出であっても、単一の光源の一部の波長領域の検出であってもよい。 Further, the reflectance is the reflectance with respect to the light source used for the inspection, and the emitted light may be a single light source or a plurality of light sources having the same wavelength range of the emitted light (illumination light). A plurality of light sources having different wavelength regions of (illumination light) may be used. Further, the reflectance is based on the detection by the camera, but the detection by the camera is the detection in the wavelength region of some of the multiple light sources even if the detection is in the entire wavelength region of a single light source or a plurality of light sources. It may be detection or detection of a part of a wavelength region of a single light source.

また、本実施形態の保持部材100の製造方法は一例であり、工程の順序や具体的内容は、任意に変更することができる。 Further, the manufacturing method of the holding member 100 of the present embodiment is an example, and the order and specific contents of the steps can be arbitrarily changed.

例えば、本実施形態では、2次硬化工程S27よりも前に平坦部材取り外し工程S25及び樹脂除去工程S26を行うものを例示したが、2次硬化工程S27の後で平坦部材取り外し工程S25及び樹脂除去工程S26を行うことも可能である。具体的には、樹脂硬化工程S24、平坦部材取り外し工程S25、樹脂除去工程S26、2次硬化工程S27の順、樹脂硬化工程S24、平坦部材取り外し工程S25、2次硬化工程S27、樹脂除去工程S26の順、又は樹脂硬化工程S24、2次硬化工程S27、平坦部材取り外し工程S25、樹脂除去工程S26の順とすることができる。 For example, in the present embodiment, the flat member removing step S25 and the resin removing step S26 are performed before the secondary curing step S27, but the flat member removing step S25 and the resin removing are performed after the secondary curing step S27. It is also possible to carry out step S26. Specifically, the resin curing step S24, the flat member removing step S25, the resin removing step S26, the secondary curing step S27, the resin curing step S24, the flat member removing step S25, the secondary curing step S27, and the resin removing step S26. Or the resin curing step S24, the secondary curing step S27, the flat member removing step S25, and the resin removing step S26.

また、実施例1(図4参照)において、実施例2(図6参照)と同様に、樹脂脱泡工程S22、平坦部材配置工程S23、平坦部材取り外し工程S25、樹脂除去工程S26、2次硬化工程S27を行うことも可能である。この場合も、工程の順序や具体的内容は、任意に変更することができる。 Further, in Example 1 (see FIG. 4), as in Example 2 (see FIG. 6), the resin defoaming step S22, the flat member arranging step S23, the flat member removing step S25, the resin removing step S26, and the secondary curing It is also possible to carry out step S27. In this case as well, the order of the processes and the specific contents can be arbitrarily changed.

また、本実施形態では、保持部材100を製造する場合、2度(樹脂硬化工程S24及び2次硬化工程S27)に分けて樹脂Rを硬化させるものとしたが、本発明はこれに限るものではない。例えば、樹脂硬化工程S24のみで(すなわち、1度の工程のみで)、樹脂Rを最終硬化させることも可能である。これによって、保持部材100を製造する工程の簡略化を図ることができる。この場合、樹脂硬化工程S24において樹脂Rを十分硬化させることができるように、60℃のオーブンで5時間加熱するなど、加熱温度や加熱時間が適宜調整される。またこの場合、2次硬化工程S27は不要となるため、樹脂硬化工程S24の後で、平坦部材取り外し工程S25及び樹脂除去工程S26を行うことで、保持部材100の製造が完了する。 Further, in the present embodiment, when the holding member 100 is manufactured, the resin R is cured by dividing it into two steps (resin curing step S24 and secondary curing step S27), but the present invention is not limited to this. Absent. For example, it is possible to finally cure the resin R only in the resin curing step S24 (that is, only in one step). This makes it possible to simplify the process of manufacturing the holding member 100. In this case, the heating temperature and the heating time are appropriately adjusted, such as heating in an oven at 60 ° C. for 5 hours so that the resin R can be sufficiently cured in the resin curing step S24. Further, in this case, since the secondary curing step S27 becomes unnecessary, the manufacturing of the holding member 100 is completed by performing the flat member removing step S25 and the resin removing step S26 after the resin curing step S24.

また、本実施形態では、樹脂Rに押し付ける平坦部材Fとして鏡面シートを用いるものとしたが、本発明はこれに限るものではない。すなわち、樹脂Rを硬化させた後に(保持部材100の製造が完了した時点で)、平坦な表面を有する樹脂反射部120を得られるものであれば、平坦部材Fは限定するものではない。例えば、平坦部材Fは鏡面を有するものでなくてもよい。また、平坦部材Fはシート状のものに限らない。 Further, in the present embodiment, the mirror surface sheet is used as the flat member F pressed against the resin R, but the present invention is not limited to this. That is, the flat member F is not limited as long as the resin reflective portion 120 having a flat surface can be obtained after the resin R is cured (when the production of the holding member 100 is completed). For example, the flat member F does not have to have a mirror surface. Further, the flat member F is not limited to a sheet shape.

1 切断装置
P パッケージ基板
S 半導体パッケージ
100 保持部材
110 樹脂シート
111 吸着穴
112 溝
120 樹脂反射部
A 切断モジュール
B 検査モジュール
1 Cutting device P Package substrate S Semiconductor package 100 Holding member 110 Resin sheet 111 Adsorption hole 112 Groove 120 Resin reflector A Cutting module B Inspection module

Claims (9)

複数の保持対象物を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材の製造方法であって、
前記保持対象物を保持するように吸着する複数の吸着穴の間に配置された溝が設けられた保持部に対して、前記溝の全体に樹脂を充填する樹脂充填工程と、
前記樹脂を硬化させる樹脂硬化工程と、を含む保持部材の製造方法。
A method for manufacturing a holding member that holds a plurality of holding objects and is used for optical inspection.
A resin filling step of filling the entire groove with a resin for a holding portion provided with a groove arranged between a plurality of suction holes for sucking the object to be held.
A method for manufacturing a holding member, which comprises a resin curing step of curing the resin.
前記樹脂充填工程は、ディスペンサにより前記樹脂を吐出して、前記溝に前記樹脂を充填する、
請求項1に記載の保持部材の製造方法。
In the resin filling step, the resin is discharged by a dispenser, and the groove is filled with the resin.
The method for manufacturing a holding member according to claim 1.
前記樹脂充填工程の前に、前記保持部に対してプラズマ照射を行うプラズマ照射工程をさらに含む、
請求項2に記載の保持部材の製造方法。
Prior to the resin filling step, a plasma irradiation step of irradiating the holding portion with plasma is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 2.
前記樹脂充填工程の後に、前記樹脂の脱泡を行う樹脂脱泡工程をさらに含む、
請求項1又は請求項2に記載の保持部材の製造方法。
After the resin filling step, a resin defoaming step of defoaming the resin is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 1 or 2.
前記樹脂充填工程の後に、前記保持部の表面に平坦部材を配置する平坦部材配置工程をさらに含む、
請求項1又は請求項4に記載の保持部材の製造方法。
After the resin filling step, a flat member arranging step of arranging the flat member on the surface of the holding portion is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 1 or 4.
前記樹脂硬化工程において、前記溝に充填された前記樹脂に対して、前記平坦部材によって圧力が加えられた状態で、前記樹脂を硬化させる、
請求項5に記載の保持部材の製造方法。
In the resin curing step, the resin is cured in a state where pressure is applied to the resin filled in the groove by the flat member.
The method for manufacturing a holding member according to claim 5.
前記樹脂充填工程では、複数の前記吸着穴にも前記樹脂を充填し、
前記樹脂硬化工程の後に、前記保持部の表面から前記平坦部材を取り外す平坦部材取り外し工程と、
前記平坦部材取り外し工程の後に、前記保持部の前記溝以外に付着した前記樹脂を除去する樹脂除去工程と、をさらに含む、
請求項5又は請求項6に記載の保持部材の製造方法。
In the resin filling step, the resin is also filled in the plurality of suction holes.
After the resin curing step, a flat member removing step of removing the flat member from the surface of the holding portion,
After the flat member removing step, a resin removing step of removing the resin adhering to other than the groove of the holding portion is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 5 or 6.
前記樹脂硬化工程の後に、前記樹脂をさらに硬化させる2次硬化工程をさらに含む、
請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の保持部材の製造方法。
After the resin curing step, a secondary curing step of further curing the resin is further included.
The method for manufacturing a holding member according to any one of claims 1 to 7.
前記樹脂充填工程では、複数の前記吸着穴にも前記樹脂を充填し、
前記樹脂硬化工程の後に、前記保持部の表面から前記平坦部材を取り外す平坦部材取り外し工程と、
前記平坦部材取り外し工程の後に、前記保持部の前記溝以外に付着した前記樹脂を除去する樹脂除去工程と、
前記樹脂除去工程の後に、前記樹脂をさらに硬化させる2次硬化工程と、をさらに含む、
請求項5又は請求項6に記載の保持部材の製造方法。
In the resin filling step, the resin is also filled in the plurality of suction holes.
After the resin curing step, a flat member removing step of removing the flat member from the surface of the holding portion,
After the flat member removing step, a resin removing step of removing the resin adhering to other than the groove of the holding portion, and a resin removing step.
After the resin removing step, a secondary curing step of further curing the resin is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 5 or 6.
JP2020132999A 2019-05-24 2020-08-05 Manufacturing method of holding member Active JP6968949B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020132999A JP6968949B2 (en) 2019-05-24 2020-08-05 Manufacturing method of holding member

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019098125A JP6952737B2 (en) 2019-05-24 2019-05-24 Holding member, inspection mechanism, cutting device, manufacturing method of holding object and manufacturing method of holding member
JP2020132999A JP6968949B2 (en) 2019-05-24 2020-08-05 Manufacturing method of holding member

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019098125A Division JP6952737B2 (en) 2019-05-24 2019-05-24 Holding member, inspection mechanism, cutting device, manufacturing method of holding object and manufacturing method of holding member

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020193981A true JP2020193981A (en) 2020-12-03
JP6968949B2 JP6968949B2 (en) 2021-11-24

Family

ID=73547873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020132999A Active JP6968949B2 (en) 2019-05-24 2020-08-05 Manufacturing method of holding member

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6968949B2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5803797A (en) * 1996-11-26 1998-09-08 Micron Technology, Inc. Method and apparatus to hold intergrated circuit chips onto a chuck and to simultaneously remove multiple intergrated circuit chips from a cutting chuck
JP2006317984A (en) * 2002-09-20 2006-11-24 Seiko Epson Corp Optical device, manufacturing method therefor, inspection apparatus
JP2015015343A (en) * 2013-07-04 2015-01-22 Tdk株式会社 Piezoelectric element and method of manufacturing piezoelectric element
JP2019066188A (en) * 2017-09-28 2019-04-25 Towa株式会社 Holding member, manufacturing method of holding member, inspection apparatus and cut-off apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5803797A (en) * 1996-11-26 1998-09-08 Micron Technology, Inc. Method and apparatus to hold intergrated circuit chips onto a chuck and to simultaneously remove multiple intergrated circuit chips from a cutting chuck
JP2006317984A (en) * 2002-09-20 2006-11-24 Seiko Epson Corp Optical device, manufacturing method therefor, inspection apparatus
JP2015015343A (en) * 2013-07-04 2015-01-22 Tdk株式会社 Piezoelectric element and method of manufacturing piezoelectric element
JP2019066188A (en) * 2017-09-28 2019-04-25 Towa株式会社 Holding member, manufacturing method of holding member, inspection apparatus and cut-off apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP6968949B2 (en) 2021-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101739199B1 (en) Work suction plate, work cutting device, work cutting method and method of manufacturing work suction plate
KR102285101B1 (en) Inspection method, inspection apparatus, laser machining apparatus and expansion apparatus of workpiece
TWI624887B (en) Semiconductor manufacturing device and method for manufacturing semiconductor device
CN102047456B (en) Launch tuning methods and the device of Application way manufacture
JP6886379B2 (en) Holding member, manufacturing method of holding member, inspection device and cutting device
JP6952737B2 (en) Holding member, inspection mechanism, cutting device, manufacturing method of holding object and manufacturing method of holding member
TWI533367B (en) Semiconductor device manufacturing apparatus and semiconductor device manufacturing method
JP2019016700A (en) Holding member, method for manufacturing holding member, holding device, conveyance device, and device for manufacturing electronic component
TWI597164B (en) Sheet-type resin body, resin molding apparatus, resin molding method and molding product manufacturing method
JP5558073B2 (en) Bonding equipment
US9831381B2 (en) Package substrate machining method
JP5899485B2 (en) Resin coating apparatus and resin coating method
WO2021117753A1 (en) Collection lens height adjusting method, chip transfer method, collection lens height adjusting device, and chip transfer device
JP2002368289A (en) Resin forming element, image display, and illumination equipment, and method of manufacturing the same
JP6968949B2 (en) Manufacturing method of holding member
JP4990611B2 (en) Method and apparatus for processing side of transparent substrate
JP5497418B2 (en) Identification code marking device and method, and semiconductor device with identification code marked
JP2020102510A (en) Removal method of sealing member, removal method of light emitting element, and removal jig
JP7068409B2 (en) Cutting equipment and manufacturing method of cut products
WO2020129487A1 (en) Light-emitting device and manufacturing method therefor
TWI808864B (en) Calibration method, and manufacturing method of electronic component
JP2024017960A (en) Die bonding equipment, die bonding method, and semiconductor device manufacturing method
JP2017181836A (en) Manufacturing apparatus and manufacturing method for member for display device
JP7028650B2 (en) Peeling device
KR101757943B1 (en) Faulty chip marking method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200805

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210825

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210928

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211027

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6968949

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150