JP2020193981A - Manufacturing method of holding member - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、保持対象物を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材の製造方法の技術に関する。 The present invention relates to a technique for manufacturing a holding member that holds an object to be held and is used for an optical inspection.
特許文献1には、電子部品の外観検査装置が開示されている。この電子部品の外観検査装置は、電子部品における被検査部位のエッジを検出し、このエッジの位置に基づき被検査部位の寸法計測及びその良否判定を行うものである。この電子部品の外観検査装置は、検査部品を所定方向から撮像する画像入力手段と、検査部品に対し撮像方向と鋭角を成す少なくとも2方向から別々に光を照射可能な照明手段と、照明手段による方向別の光照射毎に画像入力手段を作動させて撮像を行う撮像制御手段と、光照射毎に得られた画像信号に基づいて電極部のエッジ位置を検出するエッジ位置検出手段とを具備したことを特徴としている。 Patent Document 1 discloses an appearance inspection device for electronic components. This visual inspection device for electronic components detects an edge of an inspected portion of an electronic component, measures the dimensions of the inspected portion based on the position of the edge, and determines the quality thereof. This visual inspection device for electronic components includes an image input means for imaging the inspection component from a predetermined direction, a lighting means capable of separately irradiating the inspection component with light from at least two directions forming a sharp angle with the imaging direction, and a lighting means. It is provided with an image pickup control means for activating an image input means for each direction-specific light irradiation to perform imaging, and an edge position detection means for detecting the edge position of an electrode portion based on an image signal obtained for each light irradiation. It is characterized by that.
特許文献1に開示された電子部品の外観検査装置では、カメラの撮像中心を挟んで照明器が左右対称に配置され、左側の照明器から一方向の光を検査部品に照射し、右側の照明器から他方向の光を検査部品に照射する。2方向からの照明で得られた各画像データの輝度値を比較し、影及び発色部の有無によって明暗の差が現れる部分を探索して検査部品のエッジ位置を検出する。しかしながら、特許文献1には、保持部材の複数の吸着穴のそれぞれに吸着保持された保持対象物のエッジ検出に用いることは記載されていない。 In the visual inspection device for electronic components disclosed in Patent Document 1, illuminators are arranged symmetrically with the imaging center of the camera in between, and the inspection component is irradiated with light in one direction from the illuminator on the left side to illuminate the inspection component on the right side. The inspection component is irradiated with light from the vessel in the other direction. The brightness values of each image data obtained by illumination from two directions are compared, and the edge position of the inspection component is detected by searching for a portion where a difference in brightness appears depending on the presence or absence of a shadow and a coloring portion. However, Patent Document 1 does not describe that it is used for edge detection of a holding object held by suction in each of a plurality of suction holes of the holding member.
本発明は以上の如き状況に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、複数の吸着穴のそれぞれに吸着保持された保持対象物のエッジ検出を精度よく行うことができる保持部材の製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and the problem to be solved is a holding member capable of accurately detecting the edge of a holding object held by suction in each of a plurality of suction holes. Is to provide a manufacturing method of.
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、この課題を解決するため、本発明に係る保持部材の製造方法は、複数の保持対象物を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材の製造方法であって、前記保持対象物を保持するように吸着する複数の吸着穴の間に配置された溝が設けられた保持部に対して、前記溝の全体に樹脂を充填する樹脂充填工程と、前記樹脂を硬化させる樹脂硬化工程と、を含むものである。 The problem to be solved by the present invention is as described above, and in order to solve this problem, the method for manufacturing a holding member according to the present invention holds a plurality of holding objects and is used for optical inspection. A resin for manufacturing a member, in which a holding portion provided with grooves arranged between a plurality of suction holes for sucking the object to be held is filled with resin in the entire groove. It includes a filling step and a resin curing step of curing the resin.
本発明によれば、複数の吸着穴のそれぞれに吸着保持された保持対象物のエッジ検出を精度よく行うことができる。 According to the present invention, it is possible to accurately detect the edge of a holding object held by suction in each of a plurality of suction holes.
まず、図1を用いて、本実施形態に係る切断装置1の構成について説明する。本実施形態においては、例えば、切断装置1による切断対象物として、半導体チップが装着された基板を樹脂封止したパッケージ基板Pを用いる場合の、切断装置1の構成について説明する。 First, the configuration of the cutting device 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, for example, the configuration of the cutting device 1 in the case where the package substrate P in which the substrate on which the semiconductor chip is mounted is resin-sealed is used as the object to be cut by the cutting device 1 will be described.
パッケージ基板Pとしては、例えば、BGA(Ball grid array)パッケージ基板、CSP(Chip size package)パッケージ基板、LED(Light emitting diode)パッケージ基板等が使用される。また、切断対象物としては、パッケージ基板Pだけでなく、半導体チップが装着されたリードフレームを樹脂封止した封止済みリードフレームが使用されることもある。 As the package substrate P, for example, a BGA (Ball grid array) package substrate, a CSP (Chip size package) package substrate, an LED (Light emitting dimension) package substrate, or the like is used. Further, as the object to be cut, not only the package substrate P but also a sealed lead frame in which a lead frame on which a semiconductor chip is mounted is sealed with a resin may be used.
なお、以下では、パッケージ基板Pの両面のうち、樹脂封止される側の面をモールド面、モールド面と反対側の面をボール/リード面と、それぞれ称する。 In the following, of both sides of the package substrate P, the surface on the resin-sealed side is referred to as a mold surface, and the surface opposite to the mold surface is referred to as a ball / lead surface.
切断装置1は、構成要素として、切断モジュールA及び検査モジュールBを具備する。各構成要素は、他の構成要素に対して着脱可能かつ交換可能である。 The cutting device 1 includes a cutting module A and an inspection module B as components. Each component is removable and interchangeable with respect to other components.
切断モジュールAは、主にパッケージ基板Pの切断を行う構成要素である。切断モジュールAは、主として基板供給部3、位置決め部4、切断テーブル5、スピンドル6、搬送部7及び制御部8を具備する。
The cutting module A is a component that mainly cuts the package substrate P. The cutting module A mainly includes a substrate supply unit 3, a positioning unit 4, a cutting table 5, a
基板供給部3は、パッケージ基板Pを供給するものである。基板供給部3は、複数のパッケージ基板Pが収容されたマガジンMから、パッケージ基板Pを1つずつ押し出して後述する位置決め部4へと供給する。パッケージ基板Pは、ボール/リード面を上に向けて配置されている。 The substrate supply unit 3 supplies the package substrate P. The substrate supply unit 3 pushes out the package substrates P one by one from the magazine M containing the plurality of package substrates P and supplies them to the positioning unit 4 described later. The package substrate P is arranged with the ball / lead surface facing up.
位置決め部4は、基板供給部3によって供給されたパッケージ基板Pの位置決めを行うものである。位置決め部4は、基板供給部3から押し出されたパッケージ基板Pをレール部4aに配置し、位置決めを行う。その後、位置決め部4は、位置決めされたパッケージ基板Pを、後述する切断テーブル5へと搬送する。
The positioning unit 4 positions the package substrate P supplied by the substrate supply unit 3. The positioning unit 4 arranges the package substrate P extruded from the substrate supply unit 3 on the
切断テーブル5は、切断されるパッケージ基板Pを保持するものである。本実施形態では、2個の切断テーブル5を有するツインカットテーブル構成の切断装置1を例示している。切断テーブル5には、位置決め部4によって搬送されたパッケージ基板Pを下方から吸着して保持する保持部材5aが設けられる。また、切断テーブル5には、保持部材5aを図のθ方向に回転させることが可能な回転機構5bと、保持部材5aを図のY方向に移動させることが可能な移動機構5cと、が設けられる。
The cutting table 5 holds the package substrate P to be cut. In this embodiment, a cutting device 1 having a twin cut table configuration having two cutting tables 5 is illustrated. The cutting table 5 is provided with a holding member 5a that attracts and holds the package substrate P conveyed by the positioning unit 4 from below. Further, the cutting table 5 is provided with a
スピンドル6は、パッケージ基板Pを切断して複数の半導体パッケージS(図2参照)に個片化するものである。本実施形態では、2個のスピンドル6を有するツインスピンドル構成の切断装置1を例示している。スピンドル6は、図のX方向及びZ方向に移動することができる。スピンドル6には、パッケージ基板Pを切断するための回転刃6aが装着される。
The
スピンドル6には、高速回転する回転刃6aに向かって切削水を噴射する切削水用ノズル、冷却水を噴射する冷却水用ノズル、切断屑などを洗浄する洗浄水を噴射する洗浄水用ノズル(いずれも図示なし)等が設けられる。
The
切断テーブル5がパッケージ基板Pを吸着した後、第一位置確認カメラ5dによって、パッケージ基板Pの位置が確認される。その後、切断テーブル5は、図のY方向に沿ってスピンドル6に近づくように移動する。切断テーブル5がスピンドル6の下方に移動した後、切断テーブル5とスピンドル6とを相対的に移動させることによって、パッケージ基板Pが切断される。スピンドル6によってパッケージ基板Pが切断される度に、第二位置確認カメラ6bによって、パッケージ基板Pの位置等が確認される。
ここで、第一位置確認カメラ5dによる確認は、例えば、パッケージ基板Pに設けられた切断位置を示すマークの位置を確認することができる。第二位置確認カメラ6bによる確認は、例えば、パッケージ基板Pの切断された位置、切断された幅等を確認することができる。
なお、上記確認カメラによる確認は、第一位置確認カメラ5dを使用せずに、第二位置確認カメラ6bのみで確認を行ってもよい。
After the cutting table 5 attracts the package substrate P, the position of the package substrate P is confirmed by the first
Here, in the confirmation by the first
The confirmation by the confirmation camera may be performed only by the second
切断テーブル5は、パッケージ基板Pの切断が完了した後、個片化された複数の半導体パッケージSを吸着したまま図のY方向に沿ってスピンドル6から離れるように移動する。この際、第一クリーナ5eによって半導体パッケージSの上面(ボール/リード面面)の洗浄及び乾燥が行われる。
After the cutting of the package substrate P is completed, the cutting table 5 moves away from the
搬送部7は、半導体パッケージSを検査モジュールBの検査テーブル11へと搬送するものである。搬送部7は、切断テーブル5に保持された半導体パッケージSを上方から吸着し、検査モジュールBへと搬送する。この際、第二クリーナ7aによって半導体パッケージSの下面(モールド面)の洗浄及び乾燥が行われる。
The transport unit 7 transports the semiconductor package S to the inspection table 11 of the inspection module B. The transport unit 7 sucks the semiconductor package S held on the cutting table 5 from above and transports it to the inspection module B. At this time, the lower surface (mold surface) of the semiconductor package S is cleaned and dried by the
制御部8は、切断モジュールAの各部の動作を制御するものである。制御部8によって、基板供給部3、位置決め部4、切断テーブル5、スピンドル6及び搬送部7等の動作が制御される。また制御部8を用いて、切断モジュールAの各部の動作を任意に変更(調整)することができる。
The control unit 8 controls the operation of each part of the cutting module A. The control unit 8 controls the operations of the substrate supply unit 3, the positioning unit 4, the cutting table 5, the
検査モジュールBは、主に半導体パッケージSの検査を行う構成要素である。検査モジュールBは、主として検査テーブル11、第一光学検査カメラ12、第二光学検査カメラ13、配置部14、抽出部15及び制御部16を具備する。
The inspection module B is a component that mainly inspects the semiconductor package S. The inspection module B mainly includes an inspection table 11, a first
検査テーブル11は、半導体パッケージSを光学的に検査するために保持するものである。検査テーブル11は、図のX方向に沿って移動可能である。また検査テーブル11は、上下反転することができる。検査テーブル11には、半導体パッケージSを吸着して保持する保持部材100が設けられる。
The inspection table 11 holds the semiconductor package S for optically inspecting it. The inspection table 11 can be moved along the X direction in the figure. The inspection table 11 can be turned upside down. The inspection table 11 is provided with a holding
第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13は、半導体パッケージSの表面(ボール/リード面及びモールド面)を光学的に検査するものである。第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13は、検査テーブル11の近傍に、上に向けて配置される。第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13には、検査の際に光を照射可能な照明装置(図示なし)がそれぞれ設けられる。
The first
第一光学検査カメラ12は、搬送部7によって検査テーブル11へと搬送される半導体パッケージSのモールド面を検査する。その後、搬送部7は、検査テーブル11の保持部材100に半導体パッケージSを載置する。保持部材100が半導体パッケージSを吸着して保持した後、検査テーブル11は上下反転する。検査テーブル11は第二光学検査カメラ13の上方へと移動し、半導体パッケージSのボール/リード面が第二光学検査カメラ13によって検査される。
例えば、第一光学検査カメラ12は、半導体パッケージSの欠けや半導体パッケージSにマーキングされた文字等を検査することができる。また、例えば、第二光学検査カメラ13は、半導体パッケージSのサイズや形状、ボール/リードの位置等を検査することができる。
The first
For example, the first
配置部14は、検査が完了した半導体パッケージSを配置するためのものである。配置部14は、図のY方向に沿って移動可能である。検査テーブル11は、第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13による検査が完了した半導体パッケージSを配置部14に配置する。
The arranging
抽出部15は、配置部14に配置された半導体パッケージSをトレイに移送して収納するものである。第一光学検査カメラ12及び第二光学検査カメラ13による検査結果に基づいて、良品と不良品とに区別された半導体パッケージSは、抽出部15によってトレイに収納される。この際、抽出部15は、半導体パッケージSのうち、良品を良品用トレイ15aに、不良品を不良品トレイ15bに、それぞれ収納する。トレイが半導体パッケージSで満たされると、別の空のトレイが適宜供給される。
The
制御部16は、検査モジュールBの各部の動作を制御するものである。制御部16によって、検査テーブル11、第一光学検査カメラ12、第二光学検査カメラ13、配置部14及び抽出部15等の動作が制御される。また制御部16を用いて、検査モジュールBの各部の動作を任意に変更(調整)することができる。
The
以上のように、本実施形態に係る切断装置1は、パッケージ基板Pを切断して、複数の半導体パッケージSに個片化することができる。 As described above, the cutting device 1 according to the present embodiment can cut the package substrate P and separate it into a plurality of semiconductor packages S.
次に、図2を用いて、検査テーブル11に設けられる保持部材100の構成について説明する。なお以下では、図中に示した矢印U、矢印D、矢印L、矢印R、矢印F及び矢印Bで示した方向を、それぞれ上方向、下方向、左方向、右方向、前方向及び後方向と定義して説明を行う。また、図に示す保持部材100は、説明の便宜上、適宜簡略化して図示されたものである。実際の保持部材100の構成(例えば、後述する吸着穴111や吸着面113の個数や配置等)は、図に示すものに限らない。
Next, the configuration of the holding
保持部材100は、前述のように、複数の半導体パッケージSを光学的に検査する際に保持するものである。保持部材100は、主として保持部である樹脂シート110及び反射部である樹脂反射部120を備える。なお、図2(a)においては、樹脂シート110と樹脂反射部120を区別するため、樹脂反射部120を斜線で示している。
As described above, the holding
樹脂シート110は、矩形板状に形成される部材である。樹脂シート110の素材としては、例えば、シリコーン系の樹脂やフッ素系の樹脂等が用いられる。本実施形態では、保持する半導体パッケージSの静電気を拡散させるために、樹脂シート110にカーボンを含ませて導電性(静電気拡散性)を向上させている。これにより樹脂シート110は、黒っぽい色になるように形成される。樹脂シート110には、主として吸着穴111及び溝112が形成される。
The
吸着穴111は、半導体パッケージSを吸着するための穴である。吸着穴111は、樹脂シート110を上下方向(厚み方向)に貫通するように形成される。吸着穴111は、前後及び左右に一定の間隔をあけて複数形成される。
The
溝112は、樹脂シート110の表面(上面)を窪ませるようにして形成される部分である。溝112は、隣接する吸着穴111同士を前後及び左右に区画するような格子状に形成される。このように溝112を形成することにより、樹脂シート110の上面には、各吸着穴111の周辺に矩形状(正方形状)の吸着面113が形成される。吸着面113は、吸着する半導体パッケージSの外形(矩形状)と概ね同一の形状となるように形成される。
The
樹脂反射部120は、樹脂シート110の溝112を埋めるように設けられるものである。樹脂反射部120の素材としては、例えば、シリコーン系の樹脂やフッ素系の樹脂等が用いられる。本実施形態では、樹脂反射部120に酸化チタンを含ませている。これにより樹脂反射部120は、白っぽい色になるように形成される。またこれにより、樹脂反射部120は、樹脂シート110に比べて高い反射率(入射する光束に対する、はね返る光束の比)を有する。
The
なお、樹脂反射部120を着色するための材料としては、上記酸化チタンに限るものではなく、樹脂反射部120が樹脂シート110に比べて高い反射率を有することができるものであればよい。例えば、メタリック顔料(鉛を除く各種金属フレーク、めっき用合金、アルミニウム、スズ、亜鉛、クロム、金、銀、プラチナ等)、フレーク状アルミナ、白色顔料(酸化チタン、酸化亜鉛等)、パール顔料(マイカ、シリカ、ガラス等)、再帰反射材(ガラスビーズ等)、並びに希釈剤及び増量剤(炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム等)等を用いることができる。
The material for coloring the resin
樹脂反射部120は、樹脂シート110の溝112全体に充填されるように設けられる。樹脂反射部120は、平坦な表面(すなわち、溝112から露出している上側面)を有するように形成されている。このように樹脂反射部120の表面を平坦に形成することで、光の乱反射を抑制することができる。
The
図3を用いて、樹脂反射部120の平坦な表面について具体的に説明する。図3に示すように、保持部材100を溝112の深さ方向(上下方向)に対して平行に切断した断面視において、樹脂反射部120の表面は、高低差Lが所定値以下となるように形成されている。ここで、樹脂反射部120の表面の高低差Lとは、樹脂シート110の表面(吸着面113)に対して垂直な方向(図例では、上下方向)における、樹脂反射部120の表面の最も高い位置と最も低い位置の差を意味する。なお、図3においては、樹脂シート110の上面の位置と樹脂反射部120の最も高い位置が一致している例を示している。
The flat surface of the resin
ここで、具体的な測定方法について説明する。まず、樹脂シート110の上面を2点指定し、この2点を通る直線aを引く。樹脂シート110の上面の位置と樹脂反射部120の最も高い位置が一致するので、直線aは、樹脂反射部120の最も高い位置を示すことになる。次に、直線aに対して平行な直線bを作成し、樹脂反射部120の表面の最も低い部分に直線bを移動する。直線aと直線bとの距離に基づき樹脂反射部120の表面の高低差Lを測定する。なお、樹脂反射部120の最も高い位置が、樹脂シート110の上面の位置と一致していない場合には、樹脂反射部120の最も高い位置と最も低い位置(直線b)との距離に基づいて高低差Lを測定する。
樹脂反射部120の表面の測定には、キーエンス社製のデジタルマイクロスコープ(型式:VHX−5000)を用いた。
Here, a specific measurement method will be described. First, two points are designated on the upper surface of the
A digital microscope (model: VHX-5000) manufactured by KEYENCE Corporation was used to measure the surface of the resin
本実施形態においては、樹脂反射部120の表面は、高低差Lが50μm以下となるように形成されている。このように、高低差Lが50μm以下である場合、樹脂反射部120の表面は平坦であるものとする。なお、樹脂反射部120の表面の高低差Lが小さいほど光の乱反射を抑制し易い。このため樹脂反射部120の表面は、高低差Lが45μm以下、40μm以下、35μm以下、30μm以下、25μm以下、又は20μm以下となるように形成されることがより好ましい。
In the present embodiment, the surface of the
このように構成された保持部材100を用いて、検査される半導体パッケージSが保持される。具体的には、図2に示すように、各吸着面113に半導体パッケージSが1つずつ載置された状態で、吸着穴111を介して保持部材100の下方から空気が吸引されることによって、半導体パッケージSが吸着面113に吸着されて保持される。保持部材100によって保持された半導体パッケージSは、第二光学検査カメラ13(図1参照)によって撮影され、外形部分のサイズ等が検査される。
The semiconductor package S to be inspected is held by using the holding
ここで、上方から保持部材100を見ると、半導体パッケージSの周囲には比較的反射率の高い樹脂反射部120が配置されることになる。このように樹脂反射部120を配置することで、第二光学検査カメラ13によって撮影した際の、半導体パッケージSのエッジ部分(半導体パッケージSと、樹脂反射部120と、の境界部分)のコントラストを明確にすることができる。これによって、第二光学検査カメラ13による半導体パッケージSのエッジの検出を、容易にかつ精度よく行うことができる。これに伴い、半導体パッケージSのエッジを検出するための時間を短縮することもできる。
Here, when the holding
さらに本実施形態では、樹脂反射部120の表面が平坦になるように(高低差Lが50μm以下となるように)形成されている。樹脂反射部120の表面を平坦に形成することで、光の乱反射を抑制することができる。これによって、第二光学検査カメラ13によって撮影した際の、半導体パッケージSのエッジ部分のコントラストを明確にすることができる。
Further, in the present embodiment, the surface of the
<実施例1>
次に、図4及び図5を用いて、ディスペンサDを用いた保持部材100の製造方法について説明する。
<Example 1>
Next, a method of manufacturing the holding
図4に示すように、実施例1に係る保持部材100の製造方法は、主として、プラズマ照射工程S11、樹脂充填工程S12及び樹脂硬化工程S13を含む。
As shown in FIG. 4, the method for manufacturing the holding
プラズマ照射工程S11は、樹脂シート110に対してプラズマ照射を行う工程である。プラズマ照射工程S11において、まず吸着穴111及び溝112が形成された樹脂シート110を準備する。次に、樹脂シート110(特に、溝112)に対してプラズマを照射する(図5(a)参照)。樹脂シートの特に溝112に対してプラズマ照射(プラズマ処理)を行うことで、樹脂シート110の表面張力を制御(樹脂シート110の濡れ性を向上)し、後述する樹脂反射部120の表面を平坦に形成することができる。プラズマ照射には、例えば、アルゴンを用いることができる。
The plasma irradiation step S11 is a step of irradiating the
プラズマ照射工程S11の後、樹脂充填工程S12が行われる。樹脂充填工程S21は、樹脂シート110の溝112に樹脂反射部120の素材となる樹脂Rを充填する工程である。樹脂充填工程S21において、ディスペンサDにより樹脂Rを吐出して、樹脂シート110の溝112に樹脂Rを供給する(図5(b)参照)。ディスペンサDは、長手方向の溝112に樹脂Rを充填した後、短手方向の溝112に樹脂Rを充填する。この際、溝112が樹脂Rで満たされるように、十分な量の樹脂Rが供給される。樹脂Rの充填は、上述の順番に限らず、短手方向の溝112に樹脂Rを充填した後、長手方向の溝112に樹脂Rを充填してもよい。
After the plasma irradiation step S11, the resin filling step S12 is performed. The resin filling step S21 is a step of filling the
ディスペンサDは、例えば、ジェットディスペンサを用いることが好ましく、ピエゾジェットディスペンサを用いることができる。ピエゾジェットディスペンサは、電圧を加えると微細な変形をするピエゾ素子を用いたディスペンサで、ピエゾ素子による微細な変位により、連結したロッドが往復運動を繰り返し、バルブを高速で開閉することによって、適切な量の樹脂Rを吐出することができる。また、高粘度の樹脂Rを使用した場合でも、ピエゾジェットディスペンサであれば、吐出後の樹脂Rの糸引きの発生を低減することができる。 As the dispenser D, for example, it is preferable to use a jet dispenser, and a piezo jet dispenser can be used. The piezo jet dispenser is a dispenser that uses a piezo element that deforms minutely when a voltage is applied. Due to the minute displacement caused by the piezo element, the connected rods repeatedly reciprocate and open and close the valve at high speed, which is appropriate. A large amount of resin R can be discharged. Further, even when the high-viscosity resin R is used, the piezo jet dispenser can reduce the occurrence of stringing of the resin R after discharge.
樹脂充填工程S12の後、樹脂硬化工程S13が行われる。樹脂硬化工程S13は、樹脂Rを硬化させる工程である。例えば樹脂シート110等は、60℃のオーブンで1時間加熱される。加熱方法としては、オーブンを用いた加熱に限られず、例えば、ホットプレートを用いて加熱してもよい。これによって、溝112に充填された樹脂Rが硬化し、樹脂反射部120が形成される(図5(c)参照)。
After the resin filling step S12, the resin curing step S13 is performed. The resin curing step S13 is a step of curing the resin R. For example, the
<実施例2>
次に、図6から図8までを用いて、他の保持部材100の製造方法について説明する。
<Example 2>
Next, a method of manufacturing the other holding
図6に示すように、実施例2に係る保持部材100の製造方法は、主として樹脂充填工程S21、樹脂脱泡工程S22、平坦部材配置工程S23、樹脂硬化工程S24、平坦部材取り外し工程S25、樹脂除去工程S26及び2次硬化工程S27を含む。
As shown in FIG. 6, the manufacturing method of the holding
樹脂充填工程S21は、樹脂シート110の溝112に樹脂反射部120の素材となる樹脂Rを充填する工程である。樹脂充填工程S21において、まず吸着穴111及び溝112が形成された樹脂シート110を準備する(図7(a)参照)。次に、樹脂シート110の上側面(溝112が形成された面)に樹脂Rを供給する(図7(b)参照)。この際、溝112が樹脂Rで満たされるように、十分な量の樹脂Rが供給される。樹脂シート110の上側面に樹脂Rが供給されることで、溝112の内部だけでなく、吸着穴111の内部に樹脂Rが浸入したり、樹脂シート110の表面にも樹脂Rが付着したりすることになる。
The resin filling step S21 is a step of filling the
樹脂充填工程S21の後、樹脂脱泡工程S22が行われる。樹脂脱泡工程S22は、樹脂Rの脱泡を行う工程である。具体的には、樹脂Rが供給された樹脂シート110を所定の容器内に配置し、真空ポンプを用いてその容器を真空状態とする。これによって、樹脂Rに含まれる空気(気泡)が除去される。
After the resin filling step S21, the resin defoaming step S22 is performed. The resin defoaming step S22 is a step of defoaming the resin R. Specifically, the
樹脂脱泡工程S22の後、平坦部材配置工程S23が行われる。平坦部材配置工程S23は、樹脂シート110の上側面に平坦部材Fを配置する工程である。平坦部材配置工程S23において、まず樹脂シート110の上側面に供給された樹脂Rの上から、平坦部材Fが載置される(図7(c)参照)。
After the resin defoaming step S22, the flat member arranging step S23 is performed. The flat member arranging step S23 is a step of arranging the flat member F on the upper side surface of the
ここで、平坦部材Fとしては、平坦な表面を有する部材が用いられる。本実施形態では、平坦部材Fとして、鏡面(光の反射によって物が映るように仕上げられた表面)を有するフィルム状の部材(鏡面フィルム)を用いている。 Here, as the flat member F, a member having a flat surface is used. In the present embodiment, as the flat member F, a film-like member (mirror surface film) having a mirror surface (a surface finished so that an object is reflected by reflection of light) is used.
次に、平坦部材Fが、樹脂シート110(樹脂R)に対して押し付けられる(図7(d)参照)。例えば、ヘラなどの道具を用いて、平坦部材Fの中央側から外側に向かって順に力が加えられることにより、平坦部材Fが樹脂シート110に押し付けられる。これによって、平坦部材Fと樹脂Rとの間の空気(気泡)が除去される。また平坦部材Fが樹脂Rに押し付けられることによって、平坦部材Fの表面形状(鏡面)が樹脂Rの表面に転写され、樹脂Rの表面が平坦になる。
Next, the flat member F is pressed against the resin sheet 110 (resin R) (see FIG. 7D). For example, the flat member F is pressed against the
なお、平坦部材Fを樹脂シート110に対して押し付けることで、平坦部材Fと樹脂シート110との間の樹脂Rは外部へと押し出される。しかし、平坦部材Fと樹脂シート110との間の樹脂Rは完全に排出されるわけではなく、樹脂シート110の上側面に堆積している樹脂Rの厚さが小さくなり、樹脂シート110の上側面(吸着面113)には樹脂Rの薄膜が残る。
By pressing the flat member F against the
平坦部材配置工程S23の後、樹脂硬化工程S24が行われる。樹脂硬化工程S24は、樹脂Rを硬化(1次硬化)させる工程である。樹脂硬化工程S24において、平坦部材Fが配置された樹脂シート110が上下反転される(図8(a)参照)。次に、所定の成形型を用いて、樹脂シート110及び平坦部材Fを上下から挟むように力が加えられる(プレスされる)。次に、樹脂シート110等がプレスされた状態のまま、適宜加熱される。例えば樹脂シート110等は、60℃のオーブンで1時間加熱される。これによって、樹脂Rがある程度硬化(1次硬化)される。このように、樹脂シート110等をプレスして、平坦部材Fによって樹脂シート110の樹脂Rに対して圧力を加えた状態を維持したまま硬化させることで、加熱による樹脂Rの表面の変形を抑制し、樹脂Rの表面を平坦に保つことができる。
After the flat member arranging step S23, the resin curing step S24 is performed. The resin curing step S24 is a step of curing the resin R (primary curing). In the resin curing step S24, the
なお、樹脂硬化工程S24では樹脂シート110を上下反転させて1次硬化を行うものとしたが、必ずしも樹脂シート110を上下反転させる必要はない。
In the resin curing step S24, the
樹脂硬化工程S24の後、平坦部材取り外し工程S25が行われる。平坦部材取り外し工程S25は、平坦部材Fを樹脂シート110から取り外す工程である。平坦部材取り外し工程S25において、樹脂シート110は再び上下反転される。次に、平坦部材Fが、樹脂シート110(より詳細には、1次硬化された樹脂R)から取り外される(図8(b)参照)。
After the resin curing step S24, the flat member removing step S25 is performed. The flat member removing step S25 is a step of removing the flat member F from the
平坦部材取り外し工程S25の後、樹脂除去工程S26が行われる。樹脂除去工程S26は、樹脂シート110から、不要な樹脂Rを除去する工程である。樹脂除去工程S26において、樹脂シート110の溝112に充填された樹脂R以外の樹脂Rが除去される(図8(c)参照)。具体的には、樹脂シート110の上側面(吸着面113)に残った樹脂Rの薄膜が除去される。また、樹脂シート110の吸着穴111の内部に浸入した樹脂Rが除去される。また、樹脂シート110のその他の部分(例えば、外側面等)に付着した樹脂Rがあれば、その樹脂Rも除去される。
After the flat member removing step S25, the resin removing step S26 is performed. The resin removing step S26 is a step of removing unnecessary resin R from the
なお、樹脂Rを除去する方法は特に限定するものではない。樹脂Rは、作業者が手で除去してもよく、また適宜の工具や装置を用いて除去してもよい。例えば、グラインダー等の研削装置を用いて樹脂Rを除去することや、レーザー等を用いて樹脂Rを除去することが可能である。 The method for removing the resin R is not particularly limited. The resin R may be removed by hand by an operator, or may be removed by using an appropriate tool or device. For example, it is possible to remove the resin R using a grinding device such as a grinder, or to remove the resin R using a laser or the like.
樹脂除去工程S26の後、2次硬化工程S27が行われる。2次硬化工程S27は、樹脂シート110の溝112に充填された樹脂Rをさらに硬化(2次硬化)させる工程である。2次硬化工程S27において、樹脂シート110等は適宜加熱される。例えば樹脂シート110等は、60℃のオーブンで4時間、又は、150度のオーブンで1時間加熱される。これによって、溝112に充填された樹脂Rがさらに硬化(2次硬化)され、樹脂反射部120が形成される。
After the resin removing step S26, a secondary curing step S27 is performed. The secondary curing step S27 is a step of further curing (secondary curing) the resin R filled in the
以上の如く、本実施形態に係る保持部材100は、
複数の半導体パッケージS(保持対象物)を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材100であって、
前記半導体パッケージSを保持するように吸着する複数の吸着穴111、及び複数の前記吸着穴111の間に配置された溝112が設けられた樹脂シート110(保持部)と、
前記溝112に設けられ、前記樹脂シート110より反射率が高い樹脂反射部120(反射部)と、を備え、
前記樹脂反射部120は平坦な表面を有するものである。
As described above, the holding
A holding
A resin sheet 110 (holding portion) provided with a plurality of suction holes 111 for sucking the semiconductor package S so as to hold the semiconductor package S, and a
A resin reflecting portion 120 (reflecting portion) provided in the
The resin
このように構成することにより、複数の吸着穴111のそれぞれに吸着保持された半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。すなわち、比較的反射率の高い樹脂反射部120を設けることで、樹脂反射部120と、吸着穴111に吸着された半導体パッケージSと、の境界部分のコントラストを明確にすることができる。また、樹脂反射部120の表面が平坦になるように形成されているため、光の乱反射を抑制し、コントラストをより明確にすることができる。
With this configuration, it is possible to accurately detect the edge of the semiconductor package S which is suction-held in each of the plurality of suction holes 111. That is, by providing the
また、樹脂反射部120の表面は、前記溝112の深さ方向に対して平行に切断した断面視において、高低差が50μm以下である。
Further, the surface of the
このように構成することにより、半導体パッケージSのエッジ検出をより精度よく行うことができる。すなわち、樹脂反射部120の表面の高低差を所定値以下に抑えることで、光の乱反射を効果的に抑制することができる。
With this configuration, edge detection of the semiconductor package S can be performed more accurately. That is, by suppressing the height difference of the surface of the
また、本実施形態に係る検査モジュールB(検査機構)は、保持部材100に保持された半導体パッケージSの検査を行うものである。
Further, the inspection module B (inspection mechanism) according to the present embodiment inspects the semiconductor package S held by the holding
このように構成することにより、簡単な構成で半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。 With such a configuration, the edge detection of the semiconductor package S can be performed accurately with a simple configuration.
また、本実施形態に係る切断装置1は、
パッケージ基板P(切断対象物)を切断し、複数の前記半導体パッケージSを得る切断モジュールA(切断機構)と、
検査モジュールBと、を備え、
前記検査モジュールBによって、前記切断モジュールAにより得られた前記半導体パッケージSの検査を行うものである。
Further, the cutting device 1 according to the present embodiment is
A cutting module A (cutting mechanism) that cuts a package substrate P (object to be cut) to obtain a plurality of the semiconductor packages S,
With inspection module B,
The inspection module B inspects the semiconductor package S obtained by the cutting module A.
このように構成することにより、簡単な構成で半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。 With such a configuration, the edge detection of the semiconductor package S can be performed accurately with a simple configuration.
また、本実施形態に係る半導体パッケージSの製造方法は、切断装置1を用いて半導体パッケージSを製造するものである。 Further, the method for manufacturing the semiconductor package S according to the present embodiment is to manufacture the semiconductor package S by using the cutting device 1.
このように構成することにより、簡単な構成で半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。ひいては、半導体パッケージSの生産性を向上させることができる。 With such a configuration, the edge detection of the semiconductor package S can be performed accurately with a simple configuration. As a result, the productivity of the semiconductor package S can be improved.
また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
複数の半導体パッケージS(保持対象物)を保持し、光学的な検査に用いられる保持部材100の製造方法であって、
前記半導体パッケージSを保持するように吸着する複数の吸着穴111の間に配置された溝112が設けられた樹脂シート110(保持部)に対して、前記溝112に樹脂Rを充填する樹脂充填工程S12(樹脂充填工程S21)と、
前記樹脂Rを硬化させる樹脂硬化工程S13(樹脂硬化工程S24)と、を含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding
A method for manufacturing a holding
A resin sheet 110 (holding portion) provided with
It includes a resin curing step S13 (resin curing step S24) for curing the resin R.
このように構成することにより、保持部材100を容易に製造することができる。また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法により得られた保持部材100を用いることで、簡単な構成で半導体パッケージSのエッジ検出を精度よく行うことができる。
With such a configuration, the holding
また、前記樹脂充填工程S12は、ディスペンサDにより前記樹脂Rを吐出して、前記溝112に前記樹脂Rを充填するものである。
Further, in the resin filling step S12, the resin R is discharged by the dispenser D, and the
このように構成することにより、保持部材100を容易に製造することができる。すなわち、比較的樹脂Rの吐出精度の高いディスペンサDにより溝112に樹脂Rを充填することで、容易かつ精度よく溝112に樹脂Rを充填することができる。
With such a configuration, the holding
また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂充填工程S12の前に、前記樹脂シート110に対してプラズマ照射を行うプラズマ照射工程S11をさらに含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding
Prior to the resin filling step S12, a plasma irradiation step S11 for irradiating the
このように構成することにより、樹脂反射部120の表面を容易に平坦に形成することができる。すなわち、樹脂シート110(特に溝112)の濡れ性を向上させることで、溝112に充填される樹脂Rの表面を平坦にすることができ、ひいては樹脂Rを硬化させることで形成される樹脂反射部120の表面を平坦にすることができる。
With this configuration, the surface of the resin
また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂充填工程S21の後に、前記樹脂Rの脱泡を行う樹脂脱泡工程S22をさらに含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding
After the resin filling step S21, a resin defoaming step S22 for defoaming the resin R is further included.
このように構成することにより、樹脂R(樹脂反射部120)の表面を、より平坦に形成し易くすることができる。すなわち、樹脂Rに含まれる空気(気泡)を除去することで、気泡に起因する樹脂Rの表面の凹凸や変形を抑制することができる。 With this configuration, the surface of the resin R (resin reflecting portion 120) can be easily formed more flat. That is, by removing the air (bubbles) contained in the resin R, it is possible to suppress the unevenness and deformation of the surface of the resin R caused by the bubbles.
また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂充填工程S21の後に、前記樹脂シート110の表面に平坦部材Fを配置する平坦部材配置工程S23をさらに含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding
After the resin filling step S21, a flat member arranging step S23 for arranging the flat member F on the surface of the
このように構成することにより、樹脂R(樹脂反射部120)の表面を、より平坦に形成し易くすることができる。すなわち、樹脂シート110の表面に平坦部材Fを配置することで、溝112に充填された樹脂Rの表面を平坦に形成することができる。
With this configuration, the surface of the resin R (resin reflecting portion 120) can be easily formed more flat. That is, by arranging the flat member F on the surface of the
また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂硬化工程S24において、前記溝112に充填された前記樹脂Rに対して、前記平坦部材Fによって圧力が加えられた状態で、前記樹脂Rを硬化させるものである。
Further, the method for manufacturing the holding
In the resin curing step S24, the resin R is cured in a state where pressure is applied to the resin R filled in the
このように構成することにより、樹脂R(樹脂反射部120)の表面を、より平坦に形成し易くすることができる。すなわち、硬化に伴う樹脂Rの表面の変形を抑制することができる。 With this configuration, the surface of the resin R (resin reflecting portion 120) can be easily formed more flat. That is, the deformation of the surface of the resin R due to curing can be suppressed.
また、前記樹脂充填工程21では、複数の前記吸着穴111にも前記樹脂Rを充填し、
前記樹脂硬化工程S24の後に、前記樹脂シート110の表面から前記平坦部材Fを取り外す平坦部材取り外し工程S25と、
前記平坦部材取り外し工程S25の後に、前記樹脂シート110の前記溝112以外に付着した前記樹脂Rを除去する樹脂除去工程S26と、をさらに含むものである。
Further, in the resin filling step 21, the resin R is also filled in the plurality of suction holes 111.
After the resin curing step S24, a flat member removing step S25 for removing the flat member F from the surface of the
After the flat member removing step S25, a resin removing step S26 for removing the resin R adhering to other than the
このように構成することにより、不要な樹脂Rを除去した保持部材100を得ることができる。すなわち、溝112に配置された樹脂R(樹脂反射部120)以外の樹脂Rは、半導体パッケージSのエッジ検出の精度向上のために必要なものではないため、その樹脂Rを除去することで、不要な樹脂Rが残留することによる不都合(例えば、半導体パッケージSの吸着を阻害する等)の発生を抑制することができる。
With this configuration, the holding
また、本実施形態に係る保持部材100の製造方法は、
前記樹脂硬化工程S24の後に、前記樹脂Rをさらに硬化させる2次硬化工程S27をさらに含むものである。
Further, the method for manufacturing the holding
After the resin curing step S24, a secondary curing step S27 for further curing the resin R is further included.
このように構成することにより、保持部材100の変形を抑制することができる。すなわち、複数回に分けて樹脂Rを硬化させることにより、保持部材100の変形(反り等)を抑制することができる。
With this configuration, deformation of the holding
また、前記樹脂充填工程21では、複数の前記吸着穴111にも前記樹脂Rを充填し、
前記樹脂硬化工程S24の後に、前記樹脂シート110の表面から前記平坦部材Fを取り外す平坦部材取り外し工程S25と、
前記平坦部材取り外し工程S25の後に、前記樹脂シート110の前記溝112以外に付着した前記樹脂Rを除去する樹脂除去工程S26と、
前記樹脂除去工程S26の後に、前記樹脂Rをさらに硬化させる2次硬化工程S27と、をさらに含むものである。
Further, in the resin filling step 21, the resin R is also filled in the plurality of suction holes 111.
After the resin curing step S24, a flat member removing step S25 for removing the flat member F from the surface of the
After the flat member removing step S25, a resin removing step S26 for removing the resin R adhering to other than the
After the resin removing step S26, a secondary curing step S27 for further curing the resin R is further included.
このように構成することにより、不要な樹脂Rを容易に除去することができる。すなわち、樹脂Rを硬化させる途中(樹脂硬化工程S24の後、かつ2次硬化工程S27の前)で樹脂Rを除去することができるため、樹脂Rを容易に除去することができる。 With such a configuration, unnecessary resin R can be easily removed. That is, since the resin R can be removed during the curing of the resin R (after the resin curing step S24 and before the secondary curing step S27), the resin R can be easily removed.
なお、本実施形態に係る半導体パッケージSは、本発明に係る保持対象物の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る樹脂シート110は、本発明に係る保持部の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る樹脂反射部120は、本発明に係る反射部の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る切断モジュールAは、本発明に係る切断機構の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る検査モジュールBは、本発明に係る検査機構の実施の一形態である。
また、本実施形態に係るパッケージ基板Pは、本発明に係る切断対象物の実施の一形態である。
The semiconductor package S according to the present embodiment is an embodiment of the object to be retained according to the present invention.
Further, the
Further, the resin
Further, the cutting module A according to the present embodiment is an embodiment of the cutting mechanism according to the present invention.
Further, the inspection module B according to the present embodiment is an embodiment of the inspection mechanism according to the present invention.
Further, the package substrate P according to the present embodiment is an embodiment of the object to be cut according to the present invention.
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の技術的思想の範囲内で適宜の変更が可能である。 Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and appropriate modifications can be made within the scope of the technical idea of the invention described in the claims. is there.
例えば、本実施形態で例示した切断装置1の構成は一例であり、具体的な構成は適宜変更することが可能である。 For example, the configuration of the cutting device 1 illustrated in this embodiment is an example, and the specific configuration can be changed as appropriate.
例えば、本実施形態では、切断モジュールA及び検査モジュールBのそれぞれが制御部(制御部8及び制御部16)を備えるものとしたが、本発明はこれに限るものではなく、それぞれの制御部を1つの制御部にまとめることや、3つ以上の制御部に分割することも可能である。また、本実施形態の切断装置1は、2個の切断テーブル5を有するツインカットテーブル構成であるものとしたが、本発明はこれに限るものではなく、切断テーブル5を1つだけ有するものであってもよい。また、本実施形態の切断装置1は、2個のスピンドル6を有するツインスピンドル構成であるものとしたが、本発明はこれに限るものではなく、スピンドル6を1つだけ有するものであってもよい。
For example, in the present embodiment, each of the cutting module A and the inspection module B is provided with a control unit (control unit 8 and control unit 16), but the present invention is not limited to this, and each control unit is provided. It is also possible to combine them into one control unit or divide them into three or more control units. Further, the cutting device 1 of the present embodiment has a twin cut table configuration having two cutting tables 5, but the present invention is not limited to this, and the cutting device 1 has only one cutting table 5. There may be. Further, the cutting device 1 of the present embodiment has a twin spindle configuration having two
また、本実施形態では、保持部材100を検査テーブル11に設ける構成としたが、本発明はこれに限るものではなく、保持部材100を搬送部7に設けてもよく、検査テーブル11及び搬送部7の両方に保持部材100を設けてもよい。切断装置1は、保持部材100を設けた搬送部7に対応する第一光学検査カメラ12、又は保持部材100を設けた検査テーブル11に対応する第二光学検査カメラ13のいずれか一方のみを備えた構成としてもよい。
Further, in the present embodiment, the holding
また、本実施形態では、樹脂反射部120は樹脂シート110に比べて高い反射率を有するものとしたが、必ずしも全波長の光の反射率が高い必要はない。すなわち、保持部材100は、カメラ(本実施形態においては、第二光学検査カメラ13)による光学的な検査に用いられるものであるため、少なくともこのカメラの特性(取得できる波長情報)に応じた波長の光について、樹脂反射部120の方が樹脂シート110よりも高い反射率を有していればよい。
Further, in the present embodiment, the
また、反射率は検査に用いられる光源に対する反射率であり、光源としては、単一の光源を用いても、出射光(照明光)の波長領域が同じ複数の光源を用いても、出射光(照明光)の波長領域が異なる複数の光源を用いてもよい。また、反射率はカメラによる検出に基づくが、カメラによる検出は、単一又は複数の光源の全波長領域での検出であっても、複数の光源のうちの一部の光源の波長領域での検出であっても、単一の光源の一部の波長領域の検出であってもよい。 Further, the reflectance is the reflectance with respect to the light source used for the inspection, and the emitted light may be a single light source or a plurality of light sources having the same wavelength range of the emitted light (illumination light). A plurality of light sources having different wavelength regions of (illumination light) may be used. Further, the reflectance is based on the detection by the camera, but the detection by the camera is the detection in the wavelength region of some of the multiple light sources even if the detection is in the entire wavelength region of a single light source or a plurality of light sources. It may be detection or detection of a part of a wavelength region of a single light source.
また、本実施形態の保持部材100の製造方法は一例であり、工程の順序や具体的内容は、任意に変更することができる。
Further, the manufacturing method of the holding
例えば、本実施形態では、2次硬化工程S27よりも前に平坦部材取り外し工程S25及び樹脂除去工程S26を行うものを例示したが、2次硬化工程S27の後で平坦部材取り外し工程S25及び樹脂除去工程S26を行うことも可能である。具体的には、樹脂硬化工程S24、平坦部材取り外し工程S25、樹脂除去工程S26、2次硬化工程S27の順、樹脂硬化工程S24、平坦部材取り外し工程S25、2次硬化工程S27、樹脂除去工程S26の順、又は樹脂硬化工程S24、2次硬化工程S27、平坦部材取り外し工程S25、樹脂除去工程S26の順とすることができる。 For example, in the present embodiment, the flat member removing step S25 and the resin removing step S26 are performed before the secondary curing step S27, but the flat member removing step S25 and the resin removing are performed after the secondary curing step S27. It is also possible to carry out step S26. Specifically, the resin curing step S24, the flat member removing step S25, the resin removing step S26, the secondary curing step S27, the resin curing step S24, the flat member removing step S25, the secondary curing step S27, and the resin removing step S26. Or the resin curing step S24, the secondary curing step S27, the flat member removing step S25, and the resin removing step S26.
また、実施例1(図4参照)において、実施例2(図6参照)と同様に、樹脂脱泡工程S22、平坦部材配置工程S23、平坦部材取り外し工程S25、樹脂除去工程S26、2次硬化工程S27を行うことも可能である。この場合も、工程の順序や具体的内容は、任意に変更することができる。 Further, in Example 1 (see FIG. 4), as in Example 2 (see FIG. 6), the resin defoaming step S22, the flat member arranging step S23, the flat member removing step S25, the resin removing step S26, and the secondary curing It is also possible to carry out step S27. In this case as well, the order of the processes and the specific contents can be arbitrarily changed.
また、本実施形態では、保持部材100を製造する場合、2度(樹脂硬化工程S24及び2次硬化工程S27)に分けて樹脂Rを硬化させるものとしたが、本発明はこれに限るものではない。例えば、樹脂硬化工程S24のみで(すなわち、1度の工程のみで)、樹脂Rを最終硬化させることも可能である。これによって、保持部材100を製造する工程の簡略化を図ることができる。この場合、樹脂硬化工程S24において樹脂Rを十分硬化させることができるように、60℃のオーブンで5時間加熱するなど、加熱温度や加熱時間が適宜調整される。またこの場合、2次硬化工程S27は不要となるため、樹脂硬化工程S24の後で、平坦部材取り外し工程S25及び樹脂除去工程S26を行うことで、保持部材100の製造が完了する。
Further, in the present embodiment, when the holding
また、本実施形態では、樹脂Rに押し付ける平坦部材Fとして鏡面シートを用いるものとしたが、本発明はこれに限るものではない。すなわち、樹脂Rを硬化させた後に(保持部材100の製造が完了した時点で)、平坦な表面を有する樹脂反射部120を得られるものであれば、平坦部材Fは限定するものではない。例えば、平坦部材Fは鏡面を有するものでなくてもよい。また、平坦部材Fはシート状のものに限らない。
Further, in the present embodiment, the mirror surface sheet is used as the flat member F pressed against the resin R, but the present invention is not limited to this. That is, the flat member F is not limited as long as the resin
1 切断装置
P パッケージ基板
S 半導体パッケージ
100 保持部材
110 樹脂シート
111 吸着穴
112 溝
120 樹脂反射部
A 切断モジュール
B 検査モジュール
1 Cutting device P Package substrate
Claims (9)
前記保持対象物を保持するように吸着する複数の吸着穴の間に配置された溝が設けられた保持部に対して、前記溝の全体に樹脂を充填する樹脂充填工程と、
前記樹脂を硬化させる樹脂硬化工程と、を含む保持部材の製造方法。 A method for manufacturing a holding member that holds a plurality of holding objects and is used for optical inspection.
A resin filling step of filling the entire groove with a resin for a holding portion provided with a groove arranged between a plurality of suction holes for sucking the object to be held.
A method for manufacturing a holding member, which comprises a resin curing step of curing the resin.
請求項1に記載の保持部材の製造方法。 In the resin filling step, the resin is discharged by a dispenser, and the groove is filled with the resin.
The method for manufacturing a holding member according to claim 1.
請求項2に記載の保持部材の製造方法。 Prior to the resin filling step, a plasma irradiation step of irradiating the holding portion with plasma is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 2.
請求項1又は請求項2に記載の保持部材の製造方法。 After the resin filling step, a resin defoaming step of defoaming the resin is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 1 or 2.
請求項1又は請求項4に記載の保持部材の製造方法。 After the resin filling step, a flat member arranging step of arranging the flat member on the surface of the holding portion is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 1 or 4.
請求項5に記載の保持部材の製造方法。 In the resin curing step, the resin is cured in a state where pressure is applied to the resin filled in the groove by the flat member.
The method for manufacturing a holding member according to claim 5.
前記樹脂硬化工程の後に、前記保持部の表面から前記平坦部材を取り外す平坦部材取り外し工程と、
前記平坦部材取り外し工程の後に、前記保持部の前記溝以外に付着した前記樹脂を除去する樹脂除去工程と、をさらに含む、
請求項5又は請求項6に記載の保持部材の製造方法。 In the resin filling step, the resin is also filled in the plurality of suction holes.
After the resin curing step, a flat member removing step of removing the flat member from the surface of the holding portion,
After the flat member removing step, a resin removing step of removing the resin adhering to other than the groove of the holding portion is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 5 or 6.
請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の保持部材の製造方法。 After the resin curing step, a secondary curing step of further curing the resin is further included.
The method for manufacturing a holding member according to any one of claims 1 to 7.
前記樹脂硬化工程の後に、前記保持部の表面から前記平坦部材を取り外す平坦部材取り外し工程と、
前記平坦部材取り外し工程の後に、前記保持部の前記溝以外に付着した前記樹脂を除去する樹脂除去工程と、
前記樹脂除去工程の後に、前記樹脂をさらに硬化させる2次硬化工程と、をさらに含む、
請求項5又は請求項6に記載の保持部材の製造方法。 In the resin filling step, the resin is also filled in the plurality of suction holes.
After the resin curing step, a flat member removing step of removing the flat member from the surface of the holding portion,
After the flat member removing step, a resin removing step of removing the resin adhering to other than the groove of the holding portion, and a resin removing step.
After the resin removing step, a secondary curing step of further curing the resin is further included.
The method for manufacturing a holding member according to claim 5 or 6.
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