JP2020189256A - 廃液処理方法及びそれに用いる廃液処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】被処理液に含まれるオゾン気泡の排出を促進させ、気液分離を容易にし、浄水として再利用する廃液処理装置の提供。【解決手段】第１処理槽１２の被処理液にオゾンガスを投入する工程と、被処理液を仕切板Ａの下方開口部Ａ１を通過させて第２処理槽１３に移行させる工程と、被処理液を第２処理槽に設けた仕切板Ｂの上端部Ｂ１を乗り越えさせて仕切板Ｂに対向させて設けられ補助板１３ａを伝わらせて落下させる工程と、被処理液の流れを補助板の下方に設置した水流変更板１３ｂによって仕切板Ｃ方向に変える工程と、被処理液の流れを仕切板Ｃの下方開口部Ｃ１を通過させて第３処理槽１４に設けられた傾斜板１４ａに当接させて上昇させる工程と、被処理液に含有されたオゾン気泡を分離して第３処理槽の上方から排出ガス貯留槽２０に排出する工程と、を備え、オゾン気泡が分離された被処理液を第３処理槽から排出して浄水として再利用できる排水処理装置。【選択図】図１

Description

本発明は、廃液をオゾンガスで浄化処理して浄水として再利用する技術に関し、特に、被処理液に含まれたオゾン含有エアー（オゾン気泡）を分離して、浄水として再利用する廃液処理方法及び廃液処理装置に関する。

従来、廃液処理などにおいては、オゾンガスを用いて廃液を浄化して再利用する技術が知られている。
オゾンガスを用いた廃液処理は、解離して酸素分子と発生期の酸素になるオゾンの酸化力を用いて、消毒、脱臭、脱色等を目的として行なう技術であり、無機塩濃度の増加や汚泥の発生がないことや、有機塩素化合物類等の有害生成物も生じないこと、難分解性有機物の分解除去も可能である等の利点があることから広く用いられている。
例えば、塗装ブースなどにおける塗装作業で発生する余剰分の塗料（スプレーガンからの飛散塗料）の処理は、洗浄水循環ポンプによって廃液槽中の水を吸引して、ワークの後部に設置された飛散塗料受けの上部から滝のように落下させる洗浄水とともに回収するようにしている。
この廃液槽の中では塗料粒子同士がくっつきスラッジ状やヘドロ状になっており、定期的に除去しなければならず、除去作業は相当の負担になっている。
そして、使用する洗浄水は循環使用しているため、廃液槽の貯水は汚れたり、腐敗したりして異臭を放ち、作業環境を悪化させる要因となっていた。
このような洗浄水を循環使用するには洗浄水中の有機物を分解処理する必要があり、洗浄水中にオゾンガスを散気し、溶解したオゾンに触れた有機物を酸化分解させ、殺菌浄化する技術が提案されている。
オゾンを用いた廃液処理に関連するものとして、例えば、特許文献１記載の「廃液の処理装置」や特許文献２記載の「流体浄化装置」がある。

特許文献１記載の「廃液の処理装置」は、オゾン発生装置で生成されたオゾンガスと、オゾン処理槽内からポンプで抜き出された廃液とをマイクロバブル発生装置へ供給して生成されたオゾンマイクロバブルを、当該オゾン処理槽内に配置されたガス吹き出しパイプの開口部から廃液中へ通気することによって廃液中の有機物を酸化分解するものである。
また、特許文献２記載の「流体浄化装置」は、反応容器を構成する外筒と内筒との間の密閉空間に酸素を供給するとともに、外筒と内筒との間で放電することによって発生させたオゾンを内筒に流入する流体に混合させるものである。

特開２００４−３２１９５９号公報 特開２００４−２２３３４５号公報

特許文献１では、微細なマイクロバブルとなったオゾンガスがオゾン処理槽に吹き込まれるので、突発的な気泡発生による吹き出しが避けられず工程管理上のトラブルが発生しやすいという問題があった。
また、特許文献２では、外筒と内筒との間で放電によって発生させたオゾンを反応ガスとして用いるので、処理システム自体の安全性が懸念されるとともにシステムの構成が複雑化してメンテナンスコストが増大しがちになるという問題もあった。

また、前記従来技術による廃液の処理方法では、オゾン処理によって発生するオゾン気泡がオゾン処理槽中に充満して、オゾン処理槽から処理液が溢れることがあった。
特に、汚水処理において活性剤を添加する場合は、オゾン処理槽中にオゾンガスを投入すると、活性剤が添加された被処理液においてオゾンを含有した気泡が大量に発生し、被処理液中にもオゾンガスが残留し、外部に浄水として排出できない。

本発明は、上記従来の技術の問題点に鑑みてなされたもので、被処理液に含まれるオゾン残存エアー（オゾン気泡）の排出を促進させ、容易に気液分離を行い、再利用可能な浄水とすることができる、廃液処理方法及び廃液処理装置を提供することを目的とする。
また、オゾンガスは分解して外部に排出しオゾン汚染が発生しない廃液処理方法及び廃液処理装置を提供することを他の目的とする。

（１）前記課題を解決するためになされた本発明の廃液処理方法は、廃液にオゾンガスを投入して浄化する廃液処理方法であって、第１処理槽に供給された被処理液にオゾンガスを投入する工程と、前記オゾンガスを供給された被処理液を仕切板Ａの下方開口部を通過させて第２処理槽に移行させる工程と、前記被処理液を第２処理槽に設けた仕切板Ｂの上端部を乗り越えさせて前記仕切板Ｂに対向させて設けられ補助板を伝わらせて落下させる工程と、前記被処理液の流れを前記補助板の下方に設置した水流変更板によって仕切板Ｃ方向に変える工程と、前記被処理液の流れを仕切板Ｃの下方開口部を通過させて第３処理槽に設けられた傾斜板に当接させて上昇させる工程と、前記被処理液に含有されたオゾン気泡を分離して前記第３処理槽の上方から排出ガス貯留槽に排出する工程と、を備え、
前記オゾン気泡が分離された被処理液を前記第３処理槽から排出して浄水として再利用するようにしたことを特徴とする。
（２）本発明の廃液処理装置は、上記した廃液処理方法に用いるオゾン処理槽を備えたオゾン処理措置であって、オゾン処理槽には、その内部に仕切板Ａ、仕切板Ｂ及び仕切板Ｃが設けられており、仕切板Ａ及び仕切板Ｃによって第１処理槽、第２処理槽、第３処理槽に分割され、第１処理槽には、被処理液が供給される供給口及び被処理液にオゾンガスが投入するための散気管が設けられ、
第２処理槽には、第１処理槽から受け入れた被処理液をその上端部を乗り越えさせて混合撹拌するための仕切板Ｂと、仕切板Ｂを乗り越えた被処理液を伝わらせて落下させるため仕切板Ｂに対向させて配置された補助板と、補助板に取り付けられ、補助板を伝って落下する流れの方向を前記仕切板Ｃ方向に変更させるための水流変更板が設けられ、
第３処理槽には、仕切板Ｃの下方開口部を通過させて第３処理槽に流入した被処理液を上昇させるための傾斜板と、被処理液から分離されたオゾン気泡を上方から排出ガス貯留槽に排出するオゾン排出口と、オゾン気泡が分離された被処理液を排出する浄水排水口とが設けられていることを特徴とする。
（３）また、本発明の廃液処理装置は、上記（２）の廃液処理装置において、
さらに、第３処理槽にレベルセンサを設け、第３処理槽に貯留された被処理液のレベルを所定の範囲に維持するため、第３処理槽に貯留された被処理液を排出する排出ポンプを設けたことを特徴とする。
（４）また、本発明の廃液処理装置は、上記（３）の廃液処理装置において、
さらに、第３処理槽に気泡センサを設け、第３処理槽におけるオゾン気泡の上昇を検知して、第３処理槽に貯留させる被処理液のレベルを所定の範囲に維持することを特徴とする。

本発明によれば、オゾン処理された処理液からのオゾン含有エアー（オゾン気泡）の分離を容易にし、処理液をオゾンガスが分離された浄水として再利用することができる。
また、余剰オゾンは分解して排気しているので環境に優しい。

本発明の実施形態に係る廃液処理装置の概略全体構成図である。 実施形態１に係るオゾン処理槽の概略構成図である。 オゾン処理槽の第３処理槽において、被処理液からオゾン気泡が分離される、気液分離の様子を示す模式的説明図である。 オゾン処理槽の第３処理槽において、分離されたオゾン気泡の増加による気泡センサの動作の状態を示す模式的説明図である。 実施形態２に係る廃液処理装置の概略全体構成図である。 実施形態３に係る廃液処理装置の概略全体構成図である。（ａ）は装置平面図、（ｂ）は装置正面図である。 実施例の塗装廃液処理装置の概略全体構成図である。

＜実施形態１＞
本発明の実施形態１の廃液処理装置１０を、概略全体構成を示す図１、オゾン処理槽の概略構成を示す図２を用いて説明する。
＜オゾン処理槽＞
図示するように、実施形態に係る廃液処理装置１０は、オゾン処理槽１１の内部に仕切板Ａ、仕切板Ｂ、仕切板Ｃを設け、オゾン処理槽１１を、第１処理槽１２、第２処理槽１３、第３処理槽１４に３分割している。
オゾン処理槽１１は、供給される廃液中に、オゾン発生器１７で生成した規定濃度のオゾンガスを接触反応させて廃液を浄化するための方形状の槽である。
オゾン処理槽１１は、その内部に、上下に隙間が設けられた仕切板Ａと、上に隙間が設けられた仕切板Ｂと、上下に隙間が設けられた仕切板Ｃとが設けられている。
次に、オゾン処理槽１１を分割した第１処理槽１２、第２処理槽１３、第３処理槽１４について説明する。

＜第１処理槽＞
第１処理槽１２には、上方に被処理液投入口１２ａ、下方にオゾンガス投入用の散気管１２ｂが設けられており、被処理液中にオゾンガスが投入され、被処理液の殺菌や有機物の分解がされる。
被処理液は、仕切板Ａの下方に設けられた下方開口部Ａ１を通り抜け第２処理槽１３に移行する。
なお、第１処理槽１２においては、供給された廃液の飛び散りなどで汚染された壁面を洗浄するため、上部にシャワーヘッド１２ｄが設けられ、適宜な間隔でシャワーを散水するようにしている。

＜オゾンガス発生＞
オゾン処理に用いるオゾンガスは、放電法や、紫外線ランプ法などの方法を用いたオゾン発生器１７により発生させることができる。
放電法によるオゾンの生産コストは最も安価であり、紫外線ランプ法ではオゾン濃度は低いものの簡易にオゾンが発生できる。
また、発生オゾンの原料源となるガスとしては大気の他、ＰＳＡ酸素濃縮器を用いて大気を濃縮して得られる高濃度の酸素を利用することもできる。

＜第２処理槽＞
第１処理槽１２においてオゾンガスを投入された被処理液は、仕切板Ａの下方開口部Ａ１を通過して第２処理槽１３に移行される。
第２処理槽１３では、被処理液のオゾン処理を十分行わせるため、被処理液を混合撹拌する。
この混合撹拌のため、第２処理槽１３内に堰（仕切板Ｂ）を設けている。
すなわち、被処理液を、第２処理槽１３に設けた仕切板Ｂの上端部Ｂ１を乗り越えさせて仕切板Ｂに対向させて設けられ補助板１３ａを伝わらせて落下させるようにしている。
これにより、被処理液とオゾンガスとが十分に混合撹拌され、被処理液のオゾン反応を進行させ、被処理液の消臭処理や有機物分解などを行うことができる。

＜補助板＞
なお、被処理液が仕切板Ｂの上端部Ｂ１を乗り越えて落下する際に、空気を巻き込んで泡が発生するおそれがあるので、空気を巻き込まないように、落下する被処理液を補助板１３ａに当接させるとともに、この補助板１３ａの表面を伝って流れ落ちるようにして流れの整流化を図るようにする。
これにより、被処理液中への気泡の巻き込みを抑制することができる。

＜水流変更板＞
さらに、被処理液の流れを補助板１３ａの下方に設置した水流変更板１３ｂによって仕切板Ｃ方向に変え、仕切板Ｃの下方開口部Ｃ１を通過させて第３処理槽１４に設けられた傾斜板１４ａに当接させて上昇させる。

＜第３処理槽＞
第３処理槽１４には、仕切板Ｃの下方開口部Ｃ１を通過して第３処理槽１４に流入した被処理液を上昇させるための傾斜板１４ａと、被処理液から分離されたオゾン気泡を上方から排出ガス貯留槽２０に排出するオゾン排出口１４ｂと、オゾン気泡が分離された被処理液を排出する浄水排水口１４ｃとが設けられている。
これにより、被処理液に含有されたオゾン気泡を分離して第３処理槽１４の上方から排出ガス貯留槽２０に排出させる。
一方、オゾン気泡が分離された被処理液を第３処理槽１４から排出して浄水として再利用するようにする。すなわち、気液分離を行うことができる。

＜オゾン処理＞
なお、本発明の、廃液にオゾンガスを投入して浄化する廃液処理方法は、解離して酸素分子と発生期の酸素になるオゾンの酸化力を用いて、廃液の消毒、脱臭、脱色等を目的として行なう処理方法である。
オゾンガスを用いた廃液処理方法は、無機塩濃度の増加や汚泥の発生がないことや、有機塩素化合物類等の有害生成物も生じないこと、難分解性有機物の分解除去も可能である等の利点がある。

＜レベルセンサ＞
さらに、第３処理槽１４には、レベルセンサ１４ｄを設け、第３処理槽１４に貯留された被処理液のレベルを所定の範囲に維持するため、第３処理槽１４に貯留された被処理液を排出する排出ポンプ１４ｅを設けている。
図３は、第３処理槽１４において、被処理液からオゾン気泡が分離される、気液分離の様子を示す模式的説明図である。
レベルセンサ１４ｄにより、第３処理槽１４内の被処理液が上レベルに達したら排出ポンプ１４ｅをＯＮにし、被処理液が下レベルに達したら排出ポンプ１４ｅをＯＦＦとするよう制御することができる。
これによって、第３処理槽１４内の処理液のレベルを所定範囲に維持して、オゾン処理の工程を円滑に行なうことを可能としている。

＜気泡センサ＞
また、第３処理槽１４に気泡センサ１４ｆを設け、第３処理槽１４におけるオゾン気泡の上昇を検知して、第３処理槽１４の下部に貯留した被処理液を排出する排出ポンプ１４ｅを作動させることができる。
図４に、第３処理槽１４において、分離されたオゾン気泡の増加による気泡センサ１４ｆの動作の状態を示す模式的説明図を示す。
気泡センサ１４ｆとは、２枚の電極を対向して設置し、この電極間に気泡が接触したときの導通状態を検知するものである。
第３処理槽１４おいてオゾン気泡の発生が多い場合、気泡センサ１４ｆによって排出ポンプ１４ｅを作動させて第３処理槽１４に貯留されている被処理液を排出し、オゾン気泡がオゾン処理槽１１から溢れ出ないようにしている。
これによって、第３処理槽１４に貯留させる被処理液のレベルを所定の範囲に維持することができる。

＜水抜きバルブ＞
なお、メンテナンスのため、オゾン処理槽内の水を抜くための水抜きバルブ１１ａ、１１ｂを設けている。

＜第３処理槽＞
第３処理槽においては、仕切板Ｃを伝って下降した被処理液は、仕切板Ｃの下部の下方開口部Ｃ１から流入するとともに、第３処理槽の底部に設けられた傾斜板１４ａに当接してその流れを上方向に変更させられる。

＜傾斜板＞
傾斜板１４ａは、その一端が第３処理槽１４の底部に固定され、他端が上方に傾斜した板状の部材であり、仕切板Ｃの下部に設けられた下方開口部Ｃ１を通り抜けた水流を当接させて、その流れを上方向に変更させる機能を有している。
これによって、第２処理槽で混合撹拌された被処理液の流れを上昇方向に変え、被処理液に含まれたオゾン気泡が分離され上方に浮上しやすくなる。

＜気液分離＞
被処理液をオゾン処理槽内に一定の時間留め置くことにより、第３処理槽１４内でオゾン気泡を浮上させる。
これにより、排出ポンプ１４ｅからはオゾン気泡が分離された浄水が排出される（気液分離）。

＜排出ガス貯留槽＞
また、第３処理槽１４の上部にはオゾン排出口１４ｂが設けられており、第３処理槽１４においてオゾン気泡が万が一オーバーフローした場合に、排出ガス貯留槽２０に貯留するようにしている。
なお、メンテナンスのため、排出ガス貯留槽２０内の水を抜くための水抜きバルブ２０ａを設けている。

＜排出ガス分解槽＞
排出ガス分解槽２１は、排出ガス貯留槽２０から外部に放出されるオゾンガスを分解する槽であって、オゾンガスを無害化する。
すなわち、排出ガス分解槽２１にはオゾン分解剤が内包されており、流入したオゾンガスは分解され外部に放出されるためオゾン汚染が生じないようになっている。
これによって、大気中に放出するオゾンガスを完全に分解し無害化することができ、環境に優しい廃液処理装置を提供することができる。

＜処理液の排出ポンプ＞
一方、オゾン気泡が分離された被処理液は、浄水として、排出ポンプ１４ｅの作動によって下部の浄水排出口から排出される。
第３処理槽１４の下部には、気液分離された被処理液を浄水を排出するための排出ポンプ１４ｅが設けられており、被処理液を浄水として再利用するようにしている。

次に、実施形態２に係る廃液処理装置について説明する。
図５は、廃液処理装置の概略全体構成図である。

＜Ｗの変更＞
実施形態２に係る廃液処理装置では間隔Ｗを変更可能とした。その他の部分は実施形態１と同様である。
実施形態１では補助板１３ａは垂直に立設されているが、実施形態２ではその角度を変えられるように設定した。
例えば、多量の被処理液が流れ込む場合などにおいては、補助板１３ａの下端を回転軸芯として上端を開くようにして、仕切板Ｂとの間隔Ｗを広く設定する。
これにより、仕切板Ｂの上端部Ｂ１を乗り越えて落下する際の被処理液の流れ込みを容易にすることができる。

＜水流変更板＞
また、補助板１３ａを伝って落下する被処理液の流れを水流変更板１３ｂで仕切板Ｃ方向に変更させる。
これにより、被処理液は仕切板Ｃを伝って下降する。
水流変更板１３ｂは、その一端が仕切板Ｂに上下方向移動可能に取り付けられている板状の片持ち部材であり、補助板１３ａを伝って下降する被処理液の流れ受け止め、その流れを仕切板Ｃ方向へ変える役割を有する。
被処理液は、水流変更板１３ｂの先端と仕切板Ｃとの隙間１３ｃから下方へ流れる。

＜水流変更板の上下位置を調節＞
また、水流変更板１３ｂの上下位置を調節できる機構を設け流水量を調節をすることができる。
すなわち、第２処理槽中では、気泡発生を抑制しつつ補助板１３ａを伝って落下させ、被処理液を水流変更板１３ｂに当接させて仕切板Ｃ方向に流れを変更し、仕切板Ｃを伝って被処理液を落下させるが、仕切板Ｂを越える流水量が多い場合は、水流変更板１３ｂの上下位置を調節して、補助板１３ａと水流変更板１３ｂの隙間１３ｃを大きくして、水流変更板１３ｂに当接した流水の流れをよくすることができる。

＜仕切板Ｃの上部にオゾン気泡抜きのための隙間Ｃ２＞
なお、第２処理槽１３においては、上部に溜まったオゾン含有エアー（オゾン気泡）で、オゾン処理槽１１が破壊されないように、仕切板Ｃの上部にオゾン気泡抜きのための隙間Ｃ２を設け、隣接する第３処理槽に流入させるようにしている。

＜実施形態３＞
次に、実施形態３に係る廃液処理装置について説明する。
図６は、廃液処理装置の概略全体構成図である。（ａ）は装置平面図、（ｂ）は装置正面図である。

実施形態３に係る廃液処理装置は、実施形態１の第１処理槽に２枚の仕切板を追加設置した例であり、その他の部分は実施形態１と同様である。
第１処理槽でのオゾンガスとの混合撹拌を行うためである。
このため、第１処理槽に仕切り板Ｄ、Ｅ、Ｆを追加し、第１混合槽１２ｅ、第２混合槽１２ｆ、第３混合槽１２ｇに分割した。
これにより、被処理水は、まず第１混合槽１２ｅに上方から供給され、第１混合槽１２ｅの下部に設けられた散気管１２ｂから供給されるオゾンガスと混合され、仕切板Ｄの下方開口部を通過させて第２混合槽１２ｆに移行させ、仕切板Ｅの上端部を乗り越えさせて第３混合槽１２ｇに移行させる。
そして、第３混合槽１２ｇと第２処理槽１３との間の仕切板Ｆ２の下方開口部を通過させて第２処理槽１３に移行させる。
なお、第１混合槽１２ｅ及び第２混合槽１２ｆと、第２処理槽１３との間の仕切板Ｆ１は、
上下とも開口部は設けられていない。

＜実施例＞
以下、本発明の実施例として、塗装ブース３０から排出される洗浄廃液の浄化に適用する場合を説明する。図７はその概略構成図である。

例えば、ワーク３１にスプレー塗装を行なう塗装ブース３０では、飛散塗料の処理は、洗浄水循環ポンプ３２によって廃液槽３３の貯水を吸引して、ワーク３１の後部に設置された飛散塗料受け３４の上部から滝のように落下させる洗浄水とともに回収している。

塗装ブース３０の廃液槽３３に貯留された廃液をオゾン処理槽１１内でオゾンガスと接触させ、このオゾン処理によって浄化された処理液を塗装ブース３０に循環させて再利用するようにしている。

塗装ブース３０には、ワーク３１に塗料液を散布するためのスプレーガン３５と、塗装ブース３０の下部に配置された廃液槽３３と、洗浄水循環ポンプ３２が備えられている。

さらに、塗装ブース３０には、廃液槽３３に貯留される塗装廃液を吸引するための廃液回収ポンプ３６と、廃液中のスラッジなどの固形分を回収するためのスラッジ回収器３７とが備えられ、スラッジが除去された塗装廃液（廃液）が被処理液としてオゾン処理槽１１に投入されるようにしている。

そして、オゾン処理槽１１の第１処理槽１２において、塗装廃液（被処理液）にオゾン発生器１７で発生されたオゾンガスが散気管から供給され、塗装廃液を浄化する。
なお、オゾン発生器１７へは、ＰＳＡ装置によって生成した濃縮酸素ガス（オゾンガスの原料）が供給されるようになっている。
本実施例ではオゾン発生器１７は、例えば、時間当たり２０ｇのオゾン含有大気を毎分約４リットルの流量で供給する能力を有している。
なお、オゾン発生量と供給量は、適宜変更可能である。

第２処理槽１３では、第１処理槽１２でオゾンガスが投入された被処理液が、仕切板Ａの下方に設けられてる下方開口部Ｃ１を介して供給される。
第２処理槽１３には、仕切板Ｂ、補助板１３ａ、水流変更板１３ｂが設けられており、これらにより、被処理液をオゾンガスとの反応を促進させる。
第３処理槽１４には、仕切板Ｃ、傾斜板１４ａが設けられており、傾斜板１４ａにより上昇させられた被処理液は気液が分離される。
また、第３処理槽１４は、排出ポンプ１４ｅを作動させて廃液槽１２に戻すまでの槽内の被処理液を一時的に貯留する機能を有している。

さらに、第３処理槽１４内の被処理液の液面レベルを検知するためのレベルセンサ１４ｄが配置されており、これらレベルセンサ１４ｄの測定値信号を受けて、コントローラ１４ｇが排出ポンプ１４ｅの作動を制御して被処理液を廃液槽１２に戻すように構成されている。

さらに、第３処理槽１４には、槽内におけるオゾン気泡の上部到達位置を検知するための気泡センサ１４ｆが備えられており、第３処理槽１４内のオゾン気泡がオーバーフローするおそれがある場合は、この気泡センサ１４ｆからコントローラ１４ｇに信号を送り、第３処理槽１４の底部に設けられた排出ポンプ１４ｅを作動させ、被処理液を廃液槽３３に還流させて再利用するようになっている。
また、排出ガス貯留槽２０の上部には、オゾン分解器２１が設けられており、オゾン気泡中の残留オゾンを分解して、大気中に放出している。
被処理液からオゾン気泡を分離した浄水は、排出ポンプ１４ｅによって廃液槽３３に戻すようにしている。

以上説明したように、従来の塗装廃液処理装置では、廃液槽の処理水は定期的に交換して産廃として処理しているが、本発明の塗装廃液処理装置ではリサイクル使用が可能となる。
また、廃液槽の処理水は腐敗して悪臭が発生していたが、本発明の塗装廃液処理装置ではオゾンで殺菌脱臭するので、作業環境が改善される。

１０ 廃液処理装置
１１ オゾン処理槽
１１ａ、１ｂ 水抜きバルブ
１２ 第１処理槽
１２ａ 上方に被処理液投入口
１２ｂ 下方にオゾンガス投入用の散気管
１２ｄ シャワーヘッド
１２ｅ 第１混合槽
１２ｆ 第２混合槽
１２ｇ 第３混合槽
１３ 第２処理槽
１３ａ 補助板
１３ｂ 水流変更板
１３ｃ 水流変更板１３ｂの先端と仕切板Ｃとの隙間
１４ 第３処理槽
１４ａ 傾斜板
１４ｂ オゾン排出口
１４ｃ 浄水排水口
１４ｄ レベルセンサ
１４ｅ 排出ポンプ
１４ｆ 気泡センサ
１４ｇ コントローラ
１７ オゾン発生器
１８ 気泡貯留槽
１９ コントローラ
２０ 排出ガス貯留槽
２０ａ 水抜きバルブ
２１ 排出ガス分解槽
２３ レベルセンサ
２５ 処理液還流パイプ
２７ 洗浄廃液タンク
３０ 塗装ブース
３１ ワーク
３２ 洗浄水循環ポンプ
３３ 廃液槽
３４ 飛散塗料受け
３５ スプレーガン
３６ 廃液回収ポンプ
３７ スラッジ回収器
Ａ，Ｂ，Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ 仕切り板
Ａ１ 仕切板Ａの下方に設けられた下方開口部
Ｂ１ 仕切板Ｂの上端部
Ｃ１ 仕切板Ｃの下方に設けられた下方開口部
Ｗ 仕切板Ｂと補助板１３ａとの間隔

Claims (4)

1. 廃液にオゾンガスを投入して浄化する廃液処理方法であって、
   第１処理槽に供給された被処理液にオゾンガスを投入する工程と、
   前記オゾンガスを投入された被処理液を仕切板Ａの下方開口部を通過させて第２処理槽に移行させる工程と、
   前記被処理液を第２処理槽に設けた仕切板Ｂの上端部を乗り越えさせて前記仕切板Ｂに対向させて設けられ補助板を伝わらせて落下させる工程と、
   前記被処理液の流れを前記補助板の下方に設置した水流変更板によって仕切板Ｃ方向に変える工程と、
   前記被処理液の流れを仕切板Ｃの下方開口部を通過させて第３処理槽に設けられた傾斜板に当接させて上昇させる工程と、
   前記被処理液に含有されたオゾン気泡を分離して前記第３処理槽の上方から排出ガス貯留槽に排出する工程と、を備え、
   前記オゾン気泡が分離された被処理液を前記第３処理槽から排出して浄水として再利用するようにしたことを特徴とする廃液処理方法。
2. 請求項１の廃液処理方法に用いるオゾン処理槽を備えたオゾン処理措置であって、
   前記オゾン処理槽には、
   その内部に仕切板Ａ、仕切板Ｂ及び仕切板Ｃが設けられており、
   前記仕切板Ａ及び仕切板Ｃによって第１処理槽、第２処理槽、第３処理槽に分割され、
   前記第１処理槽には、
   被処理液が供給される供給口及び被処理液にオゾンガスが投入するための散気管が設けられ、
   前記第２処理槽には、
   前記第１処理槽から受け入れた被処理液をその上端部を乗り越えさせて混合撹拌するための仕切板Ｂと、
   前記仕切板Ｂを乗り越えた被処理液を伝わらせて落下させるため前記仕切板Ｂに対向させて配置された補助板と、
   前記補助板に取り付けられ、補助板を伝って落下する流れの方向を前記仕切板Ｃ方向に変更させるための水流変更板が設けられ、
   前記第３処理槽には、
   仕切板Ｃの下方開口部を通過させて第３処理槽に流入した被処理液を上昇させるための傾斜板と、
   被処理液から分離されたオゾン気泡を上方から排出ガス貯留槽に排出するオゾン排出口と、
   前記オゾン気泡が分離された被処理液を排出する浄水排水口とが設けられていることを特徴とする廃液処理装置。
3. さらに、第３処理槽にレベルセンサを設け、
   第３処理槽に貯留された被処理液のレベルを所定の範囲に維持するため、
   第３処理槽に貯留された被処理液を排出する排出ポンプを設けたことを特徴とする請求項２に記載の廃液処理装置。
4. さらに、前記第３処理槽に気泡センサを設け、
   第３処理槽におけるオゾン気泡の上昇を検知して、
   第３処理槽に貯留させる被処理液のレベルを所定の範囲に維持することを特徴とする請求項３に記載の廃液処理装置。